JPH02205433A - 精密微少移動装置 - Google Patents

精密微少移動装置

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JPH02205433A
JPH02205433A JP1026153A JP2615389A JPH02205433A JP H02205433 A JPH02205433 A JP H02205433A JP 1026153 A JP1026153 A JP 1026153A JP 2615389 A JP2615389 A JP 2615389A JP H02205433 A JPH02205433 A JP H02205433A
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JP
Japan
Prior art keywords
axis
axes
sample stage
mechanisms
thetay
Prior art date
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Pending
Application number
JP1026153A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuuki Yoshikawa
勇希 吉川
Hideo Ichimura
英男 市村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP1026153A priority Critical patent/JPH02205433A/ja
Publication of JPH02205433A publication Critical patent/JPH02205433A/ja
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  • Indicating Or Recording The Presence, Absence, Or Direction Of Movement (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ウェハ欠陥検査装置またはX線露光装置等
に係わり、特に試料台の一部として用いるのに好適な精
密微少移動装置に関するものである。
〔従来の技術〕
第3図は例えば昭和63年度精密工学会学術講演会論文
集p943〜944に示された従来の精密微少移動装置
を示す平面囚、第4図は第3図の線■−■の断面図であ
る。図において、(1)は土台、(2)は試料台、(3
)はウェハ、(4)は試料台(2)の案内の板ばね、(
5)は土台(1)の一部で板はね(4)の固定部分、(
6)は試料台(2)を上下に押し上げるてこ、(7)は
文こ(6)の一部で試料台(2)に接触するビン、(8
)はてこ(6)の支点、(9)は土台(すの−部でてこ
(6)の支点(8)となるハウジング%(10)はX軸
方向に移動するスライドテーブルS  (O)はてこ(
6)を駆動する直進型モータでスライドテ−プル(10
)に取付けられている。(12)はスライドテーブル(
10)の一部で【こ(6)をスライドテーブル(10)
が移動することにより駆動する突起部、(13)はスラ
イドテーブル(10)を案内する直線案内機構%(14
)はスライドテーブル(10)を駆動するDCモータ、
(15)はボールネジ、(16)はボールネジ(15)
の移動を減速してスライドテーブル(10)に伝えるく
さび、(17)はスライドテーブル(10)の一部でく
さび(16)との接触部、(18)はくさび(16)の
直線案内機構、(19)はくさび(16)の直線案内機
構(18)の取付台%(20)はスライドテーブル(1
0)を一方向に押し付けておくプランジャー (21)
はプランジャー(20)の取付台である。
次に動作について説明する。試料台(2)をZ軸方向に
のみ移動させる場合には、DCモータ(14)とボール
ネジ(15)とにより直線案内機構(18)に案内され
たくさび(16)を駆動し、このくさび(16)を介し
て直線案内機構(13)に案内されたスライドテープ/
l/(10)を移動させてスライドテーブル(10)に
取付けられている2個の直進型モータ(11)と1個の
突起部(12)とにより3個のてこ(6)を同時に駆動
して板ばね(4)により案内された試料台(2)を2軸
方向に押し上げる。またθX軸またはθy軸に駆動する
場合は、直進型モータ(11)により2個のてこ(6)
を駆動して行う。
〔発明が解決りようとする課題〕
従来の精密微少移動装置は以上のように構成されている
ので、試料台(2)に2軸方向変位、θX軸変位、θy
軸変位を与えた場合に板ばね(4)が変形するが、板ば
ね(4)は平面状でありかつ一端は土台(1)の固定部
分(5)にもう一端は試料台(2)に取付けられ【いる
ため、板ばね(4)は複雑に変形して、さらにその時の
θχ軸θγ軸の回転中心がウェハ(3)の表面と一致し
ないため、XY二次元方向に干渉変位が生じるという問
題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、XY平面に対するあおり2軸すなわちθχ軸
とθγ軸の回転中心をウニ八表面と一致させるかあるい
は極力近づけることによIIJZ軸、θχ軸、およびθ
γ軸を駆動した場合に発生するXY二次元方向の干渉変
位を極少にすることができる精密微少移動装置を得るこ
とを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
この発明に係る精密微少移動装置は、高さ方向1軸とX
Y平面に対するあおり2軸に移動する試料台と少なくと
も3個の直線上下案内機構との間に蝶番機構を設けると
ともに、この蝶番機構を所望のθχ軸とθγ軸の回転中
心を含む平面内に配置し、なおかつ前記所望のθX軸と
θγ軸の回転中心を中心に回転するように直線駆動機構
を駆動するものである。
〔作用〕
この発明における試料台と少なくとも3個の直線上下案
内機構との間に設けられた蝶番機構は、所望のθX軸と
θγ軸の回転中心を含む平面内に配置され【いる。この
ため、前記試料台をZ軸、θX軸、θy軸方向に移動さ
せたとき、前記所望のθχ軸とθγ軸の回転中心を中心
に回転するように直線駆動機構を駆動することが可能で
ある。
また、この時前記試料台はXY二次元方向への干渉変位
が極少となるようなZ軸方向、θχ軸方向、θγ軸方向
の移動をする。
1〔実施例〕 以下、この発明の一実施例を第1図、第2図多こついて
説明する。第1図は平面図、第2図は第1図の線■−■
の断面図であり、前記従来装置と同一部分には同一符号
を付して説明を省略する。図にふいて、(22A )t
  (22B L(22C)は土台(1)の上に直線上
下案内機構として取付けられた弾性体からなる平行リン
ク機構で、弾性変形部分(22b)、(22c)。
(22aは図示省略する)を有している。(23a)。
(23b)、(23c)は平行リンク機構(22A)〜
(22C)と試料台(2)との間に設けた弾性体からな
る蝶番機構である。この蝶番機構(23a)〜(23c
)は試料台(2)の所望のθχ軸とθγ軸との回転中心
を含む平面内に、その中立軸がθχ軸とθγ軸との回転
中心を中心とする円の法線方向と一致するように配置す
る。(24畠L(ztb)t(24c)は第1の圧電素
子アクチュエータ、(25b)、(250)、(25a
は図示省略する)は第2の圧電素子アクチエエータs 
(26a)。
(26b)、(26c)は第3の圧電素子アクチュエー
タ、(27m )*  (27b L  (27c)は
第1〜第3の圧電素子アクチエエータ(24m)〜(2
6c)の両端部に取付ける弾性変形支持端子で、第1〜
第3の圧電素子アクチュエータ(24m)〜(26c)
の傾き変位を吸収する・(28m)、(28b)、(2
8c)は平行リンク機構(22A)〜(22G)の一端
に取付けられた圧電素子アクチュエータ摩擦板、 (2
9a)。
(29b)、(290)は第1〜第3の圧電素子アクチ
ュエータ(24m)〜(26c)のハウジング、(30
m)、(30b)、(30c)はハウジング(29m)
〜(29c)に形成された第1の接触部で、第1の圧電
素子アクチュエータ(24m)〜(24c)に電圧を印
加して伸ばした時に圧電素子7クチユエータ摩擦板(2
8a)〜(28c)に接触する6(31b)@(31c
)、(31mは図示省略する)はハウジング(29g)
〜(29c)に形成された第2の接触部で、第2の圧電
素子アクチュエータ(25m)〜(25c)に電圧を印
加して伸ばした時に圧電素子アクチュエータ摩擦板(2
8a)〜(28c)に接触する。 (32a)、(32
b)。
(32c)はハウジング(29m) 〜(29c)に形
成された弾性ヒンジ部で、第3の圧電素子アクチュエー
タ(267k)〜(26C)に電圧を印加して伸ばした
時に曲がる。
次に動作について説明する。上記の構成におい【、平行
リンク機構(22B)の一端を上方向に移動させる場合
について説明する。平行リンク機構(22B)は、移動
させない場合は第2の圧電素子アクチュエータ(25b
)に電圧を印加して伸ばして第2の接触部(31b)と
圧電素子アクチュエータ摩擦板(28b)との摩擦によ
り固定しておく。まず第1の圧電素子アクチュエータ(
24b)に電圧を印加して伸ばして第1の接触部(30
b)と圧電素子アクチュエータ摩擦板(28b)との摩
擦で平行リンク機構(22B)を固定する。次に第2の
圧電素子アクチュエータ(25b)に電圧を印加するの
をやめて縮める。そして、第3の圧電素子アクチュエー
タ(26b)に電圧を印加して伸ばすことにより弾性ヒ
ンジ部(32b)が変形して第1の接触部(30b)と
第1の圧電素子アクチュエータ(24b)と共に摩擦に
より固定されている圧電素子アクチュエータ摩擦板(2
8b)と平行リンク機構(22B)の一端が上方向に移
動する。次に第2の圧電素子アクチュエータ(25b)
に電圧を印加して伸ばして第2の接触部(31b)と圧
電素子アクチュエータ摩擦板(28b)との摩擦で平行
リンク機構(22B)を固定する。次に第1の圧電素子
アクチュエータ(24b)に電圧を印加するのをやめて
縮める。上記の動作を繰り返すことにより平行リンク機
構(22B)の一端を上方向へ尺取虫方式で移動させる
ことができる。下方向へ平行リンク機構(22B)の一
端を移動させる場合には、前記した上方向へ尺取虫方式
で移動させる動作の逆゛の動作を行えばよい。平行リン
ク機構(22B)の一端が上方向あるいは下方向に移動
する移動量は第3の圧電素子7クチエエータ(26b)
に印加する電圧により制御することが可能である。以上
、平行リンク機構(22B)の一端を上下方向に移動さ
せる場合について説明したが、平行リンク機構(22C
)と平行リンク機構(22A)との一端を上下方向に移
動させる場合に、ついても前記した平行リンク機構(2
2B)の場合と全く同様である。
試料台(2)を2軸方向に移動させる場合には、3個の
平行リンク機構(22A)〜(22G)を同方向に同量
移動させることで蝶番機構(23m)〜(23c)が同
方向に同量移動するので試料台(2)が2軸方向に移動
する。また試料台(2)をθX軸方向に移動させる場合
には、平行リンク機構(22A)を上方向または下方向
に移動させて平行リンク機構(22B)を平行リンク機
構(22A)と逆方向に移動させることにより平行リン
ク機構(22C)が移動しないことで、蝶番機構(23
a)が上方向または下方向に移動して、蝶番機構(23
b)が蝶番機構(23m)と逆方向に移動して蝶番機構
(23c)が移動しない。移動する量は、蝶番機構(2
3a)。
(23b)と所望のθχ軸の回転中心とのX軸方向の距
離に比例した量である。さらに試料台(2)をθγ軸方
向に移動させる場合は、2個の平行リンク機構(22A
)、(22B)を同方向に移動させて平行リンク機構(
22C)を平行リンク機構(22A)、(22B)と逆
方向に移動させることにより、蝶番機構(23a)、(
23b)が同方向に移動して、蝶番機構(23c)が蝶
番機構(23Jl)、(23b)と逆方向に移動する。
移動する量は、蝶番機構(23m)。
(23b)と所望のθy軸の回転中心とのY軸方向の距
離に比例した量である。
以上、試料台(2)を2軸方向、θX軸方向、θγ軸方
向の3自由度に独立に移動する場合について述べたが2
自由度あるいは3自由度を同時に移動することは当然可
能である。
上記実施例において、蝶番機構(23a)〜(23c)
は弾性体の板ばねで構成しているが、試料台(2)が2
軸方向、oX軸方向、θγ軸方向に移動すると、この弾
性体の板ばねは曲げとねじりと圧縮を受けて変形する。
しかし、2軸方向、θX軸方向、θγ軸方向の移動量が
微少の範囲(例えばZ軸方向は数十μm〜数百μ溝、θ
χX軸方向θγ軸方向は数秒〜数分)ではその変形量は
極めて少ないので、Z軸方向、θX軸方向、θγ軸方向
の移動に伴うXY二次元方向への干渉変位は極めて少な
い。
また、上記実施例では直線上下案内機構として弾性体か
らなる平行リンク機構(22A)〜(22C)を示した
が、クロスローラガイドや他の直線案内機構であっても
よく、上記実施例と同様の効果を奏する。
さらに、上記実施例では直線駆動機構として圧電素子ア
クチュエータを用いた尺取虫機構の場合について説明し
たが、モータとマイクロメータヘッドで構成した直線駆
動機構や他の直線駆動機構であってもよく、上記実施例
と同様の効果を奏する。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば高さ方向1軸とXY平
面に対するあおり方向2軸を駆動した場合にXY二次元
方向への干渉変位が極少にすることができるため精度の
高い位置決めが行えるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による精密微少移動装置を
示す平面図、第2図は第1図の線■−■の断面図、第3
図は従来の精密微少移動装置を示す平面図、第4図は第
3図の線■−■の断面図である。 図において、(11は土台、(2)は試料台、(22A
)〜(22C)は直線上下案内機構、(23m)〜(2
3c)は蝶番機構、(24m)〜(24c)。 (25烏)〜(25c)、(26m)〜(26c)は直
線駆動機構を示す。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 弁理士  大  岩  増  雄書(自発)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)高さ方向1軸とXY平面に対するあおり2軸を駆
    動する試料台を少なくとも3箇所で支持し、この支持点
    を上下させることによりz、θx、θyの3自由度に移
    動可能とする装置において、基準となる土台に設けた少
    なくとも3個の直線上下案内機構と、この直線上下案内
    機構と前記試料台との間に設けた蝶番機構と、前記土台
    と前記試料台との間かあるいは前記土台と前記直線上下
    案内機構との間に設けた少なくとも3個の直線駆動機構
    とからなり、前記蝶番機構を所望のθx、θy各軸の回
    転中心を含む水平面に配置するとともに、前記直線駆動
    機構を前記所望のθx、θy各軸回りに回転するように
    駆動することによりz、θx、θyの3自由度を駆動し
    たときに発生するXY二次元方向への干渉変位を原理的
    に極少としたことを特徴とする精密微少移動装置。
JP1026153A 1989-02-03 1989-02-03 精密微少移動装置 Pending JPH02205433A (ja)

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JP1026153A JPH02205433A (ja) 1989-02-03 1989-02-03 精密微少移動装置

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JP1026153A JPH02205433A (ja) 1989-02-03 1989-02-03 精密微少移動装置

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JPH02205433A true JPH02205433A (ja) 1990-08-15

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ID=12185590

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JP1026153A Pending JPH02205433A (ja) 1989-02-03 1989-02-03 精密微少移動装置

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