JPH02179909A - 磁気ヘッド用磁性体膜 - Google Patents
磁気ヘッド用磁性体膜Info
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- JPH02179909A JPH02179909A JP33340688A JP33340688A JPH02179909A JP H02179909 A JPH02179909 A JP H02179909A JP 33340688 A JP33340688 A JP 33340688A JP 33340688 A JP33340688 A JP 33340688A JP H02179909 A JPH02179909 A JP H02179909A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、高密度磁気記録用の磁気ヘッド材料に関する
。
。
［従来の技術］
最近の磁気記録技術においては記録媒体の高保磁力化や
垂直磁気記録の開発が進められ、それらに対応するため
磁気ヘッドに高飽和磁化が要求されている。
垂直磁気記録の開発が進められ、それらに対応するため
磁気ヘッドに高飽和磁化が要求されている。
従来よく使われている磁気ヘッド材料は、フェライト、
パーマロイ、センダスト＋Ｃｏ系アモルファス合金等で
ある。これらの材料の飽和磁束密度は上記の順に高いこ
とから、センダスト＋ Ｃ。
パーマロイ、センダスト＋Ｃｏ系アモルファス合金等で
ある。これらの材料の飽和磁束密度は上記の順に高いこ
とから、センダスト＋ Ｃ。
系アモルファス合金等の金属磁性材料が将来有望なヘッ
ド材料とされている。
ド材料とされている。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、センダスト系もアモルファス系も飽和磁
化は１０ｋＧぐらいが限度で、これからの高密度記録に
対応していくのは難しい。
化は１０ｋＧぐらいが限度で、これからの高密度記録に
対応していくのは難しい。
また、従来の磁気ヘッドでは、大気または媒体に触れる
面から磁性体（コア）が経時的に腐食しそれによって飽
和磁化が低下するという問題があったＯ 本発明は、上述したような従来の磁気ヘッド材料におけ
る問題点を解決するもので、優れた軟磁気特性（高飽和
磁化・低保磁力）を示すとともに優れた耐蝕性を有する
磁気ヘッド用磁性体膜を提供することを目的とする。
面から磁性体（コア）が経時的に腐食しそれによって飽
和磁化が低下するという問題があったＯ 本発明は、上述したような従来の磁気ヘッド材料におけ
る問題点を解決するもので、優れた軟磁気特性（高飽和
磁化・低保磁力）を示すとともに優れた耐蝕性を有する
磁気ヘッド用磁性体膜を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
上記の目的を達成するため、本発明の磁気ヘッド用磁性
体膜は、（１００）面が膜面に対して平行に配向したＦ
ｅを母材とする主磁性層を中間層を介して多層化してな
る構成とした。
体膜は、（１００）面が膜面に対して平行に配向したＦ
ｅを母材とする主磁性層を中間層を介して多層化してな
る構成とした。
主磁性層として、特に低い保磁力が得られるのは、Ｆｅ
１ｌあるいはＳｉ＋ ＡＩ＋ Ｇｅ、Ｇａのうちの少な
くとも１つを成分とする鉄基合金膜であり、各主磁性層
がそれらの膜のいずれかであれば互いに異なる材質でも
よい。
１ｌあるいはＳｉ＋ ＡＩ＋ Ｇｅ、Ｇａのうちの少な
くとも１つを成分とする鉄基合金膜であり、各主磁性層
がそれらの膜のいずれかであれば互いに異なる材質でも
よい。
中間層として、特に大きな耐蝕性が得られる金属膜は、
Ｎｉ＋ Ｃｏｔ Ｃｒ＋ Ｎｂ、Ｔａ＋ Ｚｒ＋Ｗ、
Ｐｔのうちの少なくとも１つを含む金属膜である。
Ｎｉ＋ Ｃｏｔ Ｃｒ＋ Ｎｂ、Ｔａ＋ Ｚｒ＋Ｗ、
Ｐｔのうちの少なくとも１つを含む金属膜である。
中間層として、特に大きな耐蝕性が得られる絶縁膜はＳ
ｉＯ２、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３膜であり、それらの膜のい
ずれかであれば各中間層間で異なっていてもよい。
ｉＯ２、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３膜であり、それらの膜のい
ずれかであれば各中間層間で異なっていてもよい。
また、カーボン膜を中間層に用いても、大きな耐蝕性が
得られる。
得られる。
また、良好な軟磁気特性を確保するには主磁性層の各々
の膜厚は３０００Ａ以下とし、良好な耐蝕性を確保する
には中間層の各々の膜厚を１０００Ａ以下とするのが好
ましい。
の膜厚は３０００Ａ以下とし、良好な耐蝕性を確保する
には中間層の各々の膜厚を１０００Ａ以下とするのが好
ましい。
［作用コ
本発明の磁気ヘッド用磁性体膜では、主磁性層がＦｅを
母材とするために高い飽和磁化が得られ主磁性体膜の（
１００）面が膜面に対して平行に配向しているために結
晶磁気異方性エネルギが最小となり低い保磁力が得られ
る。さらに、各主磁性層間に中間層が介在するために錆
に＜＜、太きな耐蝕性が得られる。
母材とするために高い飽和磁化が得られ主磁性体膜の（
１００）面が膜面に対して平行に配向しているために結
晶磁気異方性エネルギが最小となり低い保磁力が得られ
る。さらに、各主磁性層間に中間層が介在するために錆
に＜＜、太きな耐蝕性が得られる。
［実施例コ
第１図は、本発明の一実施例による磁気ヘッド用磁性体
膜の構造を示す。この磁性体膜１０は、ガラスまたはセ
ラミック製の基板１２の上に、Ｆｅを母材とする例えば
ＦｅＳｉ膜からなる主磁性層１４．１４．・・・・と例
えば５ｉ０２１ｉからなる中間層１６．１８．・・・・
とを交互に積層したものである。本発明にしたがい、各
主磁性層１４の（１００）面は膜面に対して平行に配向
している。磁気記録または再生用の磁界は、膜面に対し
て平行に通される。
膜の構造を示す。この磁性体膜１０は、ガラスまたはセ
ラミック製の基板１２の上に、Ｆｅを母材とする例えば
ＦｅＳｉ膜からなる主磁性層１４．１４．・・・・と例
えば５ｉ０２１ｉからなる中間層１６．１８．・・・・
とを交互に積層したものである。本発明にしたがい、各
主磁性層１４の（１００）面は膜面に対して平行に配向
している。磁気記録または再生用の磁界は、膜面に対し
て平行に通される。
かかる構造の磁性体膜１０は、例えば次のような製造方
法によって作製される。先ず、イオンビーム・スパッタ
法により基板１２上にＦｅＳｉと５ｉ０２とをそれぞれ
１００ＯＡ、５００Ａの厚さで交互に堆積させて、図示
のようなＦｅＳｉ／５ｉ０２多層膜を形成する。次に、
１０００エルステツド（Ｏｅ）の回転磁界を印加しなが
ら高真空中（例えば＜ｌＸ１０Ｔｏｒｒ）１’８００’
Ｃ・５時間のアニールを施す。これによって、ＦｅＳ
ｉ層（主磁性層）１４においては各結晶の（１００）面
が膜面に対して平行に配向するような結晶構造となる。
法によって作製される。先ず、イオンビーム・スパッタ
法により基板１２上にＦｅＳｉと５ｉ０２とをそれぞれ
１００ＯＡ、５００Ａの厚さで交互に堆積させて、図示
のようなＦｅＳｉ／５ｉ０２多層膜を形成する。次に、
１０００エルステツド（Ｏｅ）の回転磁界を印加しなが
ら高真空中（例えば＜ｌＸ１０Ｔｏｒｒ）１’８００’
Ｃ・５時間のアニールを施す。これによって、ＦｅＳ
ｉ層（主磁性層）１４においては各結晶の（１００）面
が膜面に対して平行に配向するような結晶構造となる。
上記のようにして作製された磁性体膜１０は、飽和磁化
４πＭｓ≧１３ｋＧ、保磁力ＨＣ＜１゜０エルステツド
（Ｏｅ）という優れた軟磁気特性を示す。このような非
常に大きい飽和磁化が得られるのは各主磁性層１４がＦ
ｅを母材とするからであり、また非常に低い保磁力が得
られるのは各主磁性体膜１４の（１００）面が膜面に対
して平行に配向することによって結晶磁気異方性エネル
ギが最小となるからである。
４πＭｓ≧１３ｋＧ、保磁力ＨＣ＜１゜０エルステツド
（Ｏｅ）という優れた軟磁気特性を示す。このような非
常に大きい飽和磁化が得られるのは各主磁性層１４がＦ
ｅを母材とするからであり、また非常に低い保磁力が得
られるのは各主磁性体膜１４の（１００）面が膜面に対
して平行に配向することによって結晶磁気異方性エネル
ギが最小となるからである。
さらに、第２図に示すように、この磁性体膜１０は、５
ｉ０２膜を中間層とする多層膜構造を有することによっ
て優れた耐蝕性を示す。この耐蝕試験は６０″ｃ、ｅｏ
％ＲＨの環境下で行われたものであるが、長時間（１０
００時間）経過しても磁性体膜１０ （ＦｅＳｉ／５ｉ
０２ ）の飽和磁化４πＭｓはほとんど低下しない。ま
た、ＮｉＦｅ膜を中間層とした場合（ＦｅＳｉ／Ｎ１Ｆ
ｅ）も、同様な耐蝕性が得られる。一方、中間層を介さ
ずに主磁性層（ＦｅＳｉ）１４だけからなる磁性体Ｍ（
参考例）の場合は、時間が経過するにつれて飽和磁化４
πＭｓが著しく低下する。
ｉ０２膜を中間層とする多層膜構造を有することによっ
て優れた耐蝕性を示す。この耐蝕試験は６０″ｃ、ｅｏ
％ＲＨの環境下で行われたものであるが、長時間（１０
００時間）経過しても磁性体膜１０ （ＦｅＳｉ／５ｉ
０２ ）の飽和磁化４πＭｓはほとんど低下しない。ま
た、ＮｉＦｅ膜を中間層とした場合（ＦｅＳｉ／Ｎ１Ｆ
ｅ）も、同様な耐蝕性が得られる。一方、中間層を介さ
ずに主磁性層（ＦｅＳｉ）１４だけからなる磁性体Ｍ（
参考例）の場合は、時間が経過するにつれて飽和磁化４
πＭｓが著しく低下する。
なお、本発明の主磁性層は、Ｆｅ５ｉ膜に限らず、Ｆｅ
膜あるいはＳ ｉｔ Ａ ｌ＋ Ｇ ｅｌ Ｇ ａのう
ちの少なくとも１つを成分とする鉄基合金膜であればよ
く、それらの膜でも上記実施例と同等な低保磁力が得ら
れる。また、本発明の多層構造において各主磁性層は上
記の膜のいずれかであればよく、同一のものでなくても
よい。例えば、ある主磁性層がＦｅＳｉ膜で、他の主磁
性層がＦｅＧｅ膜であってもよい。
膜あるいはＳ ｉｔ Ａ ｌ＋ Ｇ ｅｌ Ｇ ａのう
ちの少なくとも１つを成分とする鉄基合金膜であればよ
く、それらの膜でも上記実施例と同等な低保磁力が得ら
れる。また、本発明の多層構造において各主磁性層は上
記の膜のいずれかであればよく、同一のものでなくても
よい。例えば、ある主磁性層がＦｅＳｉ膜で、他の主磁
性層がＦｅＧｅ膜であってもよい。
また、中間層は、Ｓ ｉ ０２ Ｍ以外に、Ｚ ｎ Ｏ
＋Ａｌ２Ｏ３膜等の絶縁膜であっても上記実施例と同等
な耐蝕性が得られる。また、金属膜も可能であり、例え
ばＮｉ＋ Ｃｏｓ Ｃｒ、 Ｎｂ、Ｔａ＋ Ｚｒ、Ｗ＋
Ｐｔのうちの少なくとも１つを含む金属膜が好適である
。また、カーボン膜であっても、大きな耐蝕性が得られ
る。
＋Ａｌ２Ｏ３膜等の絶縁膜であっても上記実施例と同等
な耐蝕性が得られる。また、金属膜も可能であり、例え
ばＮｉ＋ Ｃｏｓ Ｃｒ、 Ｎｂ、Ｔａ＋ Ｚｒ、Ｗ＋
Ｐｔのうちの少なくとも１つを含む金属膜が好適である
。また、カーボン膜であっても、大きな耐蝕性が得られ
る。
なお、膜厚に関しては、主磁性体は３０００λ以下、中
間層は１０００Å以下とするのが好ましい。それ以上厚
くすると、耐蝕性効果が弱まってしまう。
間層は１０００Å以下とするのが好ましい。それ以上厚
くすると、耐蝕性効果が弱まってしまう。
［発明の効果］
本発明は、上述したような構成を有することにより、次
のような効果を奏する。
のような効果を奏する。
請求項１の磁気ヘッド用磁性体膜によれば、Ｆｅを主磁
性層の母材とし、かつ主磁性層の（１００）面を膜面に
対して平行に配向させるようにしたので、優れた軟磁気
特性（高飽和磁化・低保磁力）が得られる。また、中間
層を介して多層化したので、優れた耐蝕性が得られる。
性層の母材とし、かつ主磁性層の（１００）面を膜面に
対して平行に配向させるようにしたので、優れた軟磁気
特性（高飽和磁化・低保磁力）が得られる。また、中間
層を介して多層化したので、優れた耐蝕性が得られる。
したがって、これからの高性能・高密度記録にも十分に
対応できる。
対応できる。
請求項２の磁気ヘッド用磁性体膜によれば、主磁性層膜
の各々をＦｅ膜、あるいはＳｉ、ＡＩ。
の各々をＦｅ膜、あるいはＳｉ、ＡＩ。
Ｇａ＋ Ｇｅのうちの少なくとも１つを成分とする鉄基
合金膜とすることで、特に優れた低保磁力が得られる。
合金膜とすることで、特に優れた低保磁力が得られる。
請求項３の磁気ヘッド用磁性体膜によれば、中間層の各
々をＮｉ、Ｃｏ、Ｃｒ＋ Ｎｂ、Ｔａ＋ Ｚｒ＋Ｗ＋
Ｐｔのうちの少なくとも１つを含む金属膜とすることで
、特に優れた耐蝕性が得られる。
々をＮｉ、Ｃｏ、Ｃｒ＋ Ｎｂ、Ｔａ＋ Ｚｒ＋Ｗ＋
Ｐｔのうちの少なくとも１つを含む金属膜とすることで
、特に優れた耐蝕性が得られる。
請求項４の磁気ヘッド用磁性体膜によれば、中間層の各
々をＳ ｉ・０２ 、ＺｎＯ，Ａ １２０３のいずれか
の絶縁膜とすることで、特に優れた耐蝕性が得られる。
々をＳ ｉ・０２ 、ＺｎＯ，Ａ １２０３のいずれか
の絶縁膜とすることで、特に優れた耐蝕性が得られる。
請求項５の磁気ヘッド用磁性体膜によれば、中間層をカ
ーボンとすることで、特に優れた耐蝕性が得られる。
ーボンとすることで、特に優れた耐蝕性が得られる。
請求項６の磁気ヘッド用磁性体膜によれば、中間層を金
属膜、絶縁膜、カーボン膜のうちの１つまたは２つ以上
の組み合わせとすることで、特に優れた耐蝕性が得られ
る。
属膜、絶縁膜、カーボン膜のうちの１つまたは２つ以上
の組み合わせとすることで、特に優れた耐蝕性が得られ
る。
請求項７の磁気ヘッド用磁性体膜によれば 主磁性層の
各々の膜厚を３０００Ａ以下とすることで、良好な軟磁
気特性が確保される。
各々の膜厚を３０００Ａ以下とすることで、良好な軟磁
気特性が確保される。
請求項８の磁気ヘッド用磁性体膜によれば 中間層の各
々の膜厚を１０００Å以下とすることで良好な耐蝕性が
確保される。
々の膜厚を１０００Å以下とすることで良好な耐蝕性が
確保される。
第１図は、本発明の一実施例による磁気ヘッド用磁性体
膜の構造を示す一部断面側面図、および第２図は、実施
例による磁性体膜と参考例のそれぞれの耐蝕度を示す図
である。 ｌＯ・・・・磁性体膜、 １２・・・・基板、 １４．１４．・・・・主磁性層、 ｔｅ、ｔｅ、・・・・中間層。
膜の構造を示す一部断面側面図、および第２図は、実施
例による磁性体膜と参考例のそれぞれの耐蝕度を示す図
である。 ｌＯ・・・・磁性体膜、 １２・・・・基板、 １４．１４．・・・・主磁性層、 ｔｅ、ｔｅ、・・・・中間層。
Claims (8)
- （１）（１００）面が膜面に対して平行に配向したＦｅ
を母材とする主磁性層を中間層を介して多層化してなる
ことを特徴とする磁気ヘッド用磁性体膜。 - （２）前記主磁性層膜はＦｅ膜、もしくはＦｅを主成分
としＳｉ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅのうちの少なくとも１つ以
上を含む合金膜であることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の磁気ヘッド用磁性体膜。 - （３）前記中間層はＮｉ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｎｂ、ＴａＺｒ
、Ｗ、Ｐｔのうちの少なくとも１つ以上を含む金属膜で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気
ヘッド用磁性体膜。 - （４）前記中間層はＳｉＯ＿２、ＺｎＯ、Ａｌ＿２Ｏ＿
３のうちの少なくとも１つ以上からなる絶縁膜であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド
用磁性体膜。 - （５）前記中間層はカーボン（Ｃ）膜であることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド用磁性体
膜。 - （６）前記中間層は金属膜、絶縁膜、カーボン膜のうち
の１つまたは２つ以上の組み合わせからなることを特徴
とする特許請求の範囲第１、３、４、または５項記載の
磁気ヘッド用磁性体膜。 - （７）前記主磁性層膜の各々の膜厚は３０００Å以下で
ある特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド用磁性体膜
。 - （８）前記中間層の各々の膜厚は１０００Å以下である
特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド用磁性体膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63333406A JP2639719B2 (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 磁気ヘッド用磁性体膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63333406A JP2639719B2 (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 磁気ヘッド用磁性体膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02179909A true JPH02179909A (ja) | 1990-07-12 |
| JP2639719B2 JP2639719B2 (ja) | 1997-08-13 |
Family
ID=18265756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63333406A Expired - Lifetime JP2639719B2 (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 磁気ヘッド用磁性体膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2639719B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63113908A (ja) * | 1986-10-31 | 1988-05-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁性合金膜 |
| JPS63254709A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-21 | Hitachi Ltd | 積層磁性薄膜およびこれを用いた磁気ヘツド |
| JPS63293707A (ja) * | 1987-05-27 | 1988-11-30 | Hitachi Ltd | Ｆｅ−Ｃｏ磁性多層膜及び磁気ヘッド |
-
1988
- 1988-12-29 JP JP63333406A patent/JP2639719B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63113908A (ja) * | 1986-10-31 | 1988-05-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁性合金膜 |
| JPS63254709A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-21 | Hitachi Ltd | 積層磁性薄膜およびこれを用いた磁気ヘツド |
| JPS63293707A (ja) * | 1987-05-27 | 1988-11-30 | Hitachi Ltd | Ｆｅ−Ｃｏ磁性多層膜及び磁気ヘッド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2639719B2 (ja) | 1997-08-13 |
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