JPH02160395A - 高周波加熱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、例えば電子レンジの如き高周波加熱装置に係
り、さらに詳しくは加熱ムラを改善した高周波加熱装置
に関するものである。

［従来の技術］ 第５図は従来の高周波加熱装置を利用した電子レンジの
一例を模式的に示した縦断面図である。

第５図（ａ）において、（１）は加熱室、（２）は加熱
室（１）の下部に設けられ、被加熱物（６）を載置する
ターンテーブルである。（３）はマイクロ波を発生する
マグネトロン、（４）は加熱室（１）の天井外壁に取付
けられ、マグネトロン（３）から発射されたマイクロ波
を加熱室（１）の天井に設けた給電口（５）に導く導波
管である。

上記のような構成の電子レンジにおいては、ターンテー
ブル（２）に被加熱物（６）を記載し、ドアを閉じて電
源スィッチ（図示せず）を投入すると、ターンテーブル
（２）が回転すると共に、マグネトロン（３）からマイ
クロ波を発射する。このマイクロ波は導波管（４）から
給電口（５）を経て加熱室に給電され、被加熱物（６）
を加熱する。

第５図（ｂ）は他の従来技術を示すもので、本例では加
熱室（１）の側壁上方に給電口（５）を設け、側壁の外
側に取付けられた導波管（４）から給電口（５）を経て
加熱室（１）内にマイクロ波を給電するようにしたもの
で、その作用は第１図（ａ＞の場合と同じである。

［発明が解決しようとする課題］ 上記のような従来の高周波加熱装置は、加熱室（１）内
にマイクロ波を給電する給電口（５）が、天井又は側壁
に１か所設けられているだけなので、矢印で示すように
被加熱物（６）にマイクロ波が均一に給電されず、加熱
ムラを生じる場合が多かった。また、このため被加熱物
（６）を置く場所によっては加熱に時間がかかり、多く
の電力を消費するなどの問題があった。

本発明は、上記の課題を解決するべくなされたもので加
熱ムラが少なく、加熱時間を短縮できる高周波加熱装置
を得ることを目的としたものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明に係る高周波加熱装置は、加熱室の側壁の上方又
は天井に上部給電口を、また側壁の下方又は底面に下部
給電口を設け、１台のマグネトロンによりこれら両給電
口から加熱内にマイクロ波を給電するようにしたもので
ある。

また、下部給電口を被加熱物の下方又はターンテーブル
の近傍に設け、あねいは上下の給電口を加熱室後方の隅
部に設けたものである。

［作　用］ マグネトロンから発射されたマイクロ波を導波管から上
下の給電口に導き、加熱室に給電する。

これにより、被加熱物の上下からマイクロ波が給電され
、被加熱物をムラが少なく短時間で加熱する。

また、加熱室後部の隅部に上下給電口を設けた場合は、
ターンテーブルに干渉されない隅部の底板上に被加熱物
を置くことにより、加熱ムラなくより短時間でこれを加
熱することができる。

［発明の実施例コ 第１図は本発明の実施例を模式的に示した説明図で、（
ａ）は平面図、（ｂ）は縦断面図である。なお、第５図
で説明した従来例と同−又は相当部分には同じ符号を付
し、説明を省略する。本発明においては、加熱室（１）
の側壁の上方に上部給電口（５）を、また下方に下部給
電口（５ａ）を設けると共に、マグネトロン（３）が取
付けられた導波管（４）を上下の給電口（５）　、　（
５ａ）と連通ずるように加熱室（１）の側壁の外側に装
着したものである。なお、実施例では、下部給電口（５
ａ）は被加熱物（６）より下方に設けられており、また
、給電口の上下方向の大きさ（高さ）を上部給電口（５
）は１．５　ｍｒｓ　、下部給電口（５ａ）は３５ｍｍ
とし、上部給電口（５）に比べて下部給電口（５ａ）を
大きく構成した。

上記のように構成した本実施例においては、上下２個所
の給電口（５）　、（５ａ）から加熱室（１）内にマイ
クロ波が給電されるので、被加熱物（６）の加熱ムラが
少なくなり、加熱時間を短縮することができる。なお、
下部給電口（５ａ）を被加熱物り６）の下方に設けた場
合は、被加熱物（６）の上下からマイクロ波が給電され
るので、加熱時間をさらに短縮することができる。

第２図は本発明の他の実施例の説明図である。

本実施例においては、加熱室（１）の側壁の隅部（実施
例では後方）に上部給電口（５）と下部給電口（５ａ）
を設けると共に、マグネトロン（３）が装着された導波
管（４）を加熱室（１）の側壁外側の隅部に取付けたも
のである。本実施例によれば、例えば銚子、コツプ等に
入れられた酒、牛乳等の如き水分の多い被加熱物（６）
を、ターンテーブル（２）に干渉されない隅部の底板上
に直接置くことにより、被加熱物（６）を上方と側方か
ら加熱することができるので加熱ムラを少なくし、加熱
時間を短縮することができる。この場合、必要に応じて
ターンテーブル（２）の回転を停止できるようにしても
よい。

第３図の実施例は上部給電口（５）を側壁の上方に設け
ると共に、下部給電口（５ａ）をターンテーブル（２）
の近傍に設けて導波管（４）を取付けたものである。こ
のように構成したことにより、例えば水分の多い被加熱
物（６）を下部給電口（５ａ）に近接してターンテーブ
ル（２）上に置けき、ターンテーブル（２）を停止して
加熱すれば、被加熱物（６）には上方及び側方からマイ
クロ波が給電され、加熱ムラが少なくかつ短時間で加熱
することができる。

第４図の実施例は上部給電口（５）を側壁の上方でかつ
隅部に設けると共に、下部給電口（５ａ）を加熱室（１
）の底面に設けて導波管（４）を取付けたもので、例え
ば水分の多い被加熱物（６）をこの下部給電口（５ａ）
上に直接配設することにより、被加熱物（６）に上方及
び下方からマイクロ波が給電される。このため、被加熱
物（６）は上下方向の温度差がきわめて少なく、かつ短
時間で加熱される。

上記の説明では上部給電口を加熱室の側壁上方に、また
下部給電口を側壁下方若しくは底面に設けた場合を示し
たが、上部給電口を加熱室の天井に設けてもよい。

［発明の効果］ 以上の説明から明らかなように、本発明は加熱室の側壁
（又は天井若しくは底面）の上下２か所に給電口を設け
、両給電口から加熱室にマイクロ波を給電するようにし
たので、被加熱物を上方、側方又は下方からムラなく加
熱することができ、その上加熱時間を短縮することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図はそれぞれ本発明実施例の模式図で、（
ａ）は平断面図、（ｂ）は縦断面図である。 第５図（ａ）　、（ｂ）はそれぞれ従来の高周波加熱装
置を模式的に示した縦断面図である。 図において、（１）は加熱室、（２）はターンテーブル
、（３）マグネトロン、（４）は導波管、（５）は上部
給電口、（５ａ）は下部給電口、（８）は被加熱物であ
る。なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人　弁理士　佐々木　宗　治 第 図 第２図 （ｂ） ど ４４卓トシＢξ循「 第 （ｂ） 図 第 図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）マグネトロンから発射されたマイクロ波を導波管
   及び給電口を経て加熱室に給電し、該加熱室内の被加熱
   物を加熱する装置において、 上記加熱室の側壁の上方又は天井に上部給電口を設ける
   と共に、該側壁の下方又は底面に下部給電口を設け、１
   台のマグネトロンによりこれら両給電口から上記加熱室
   にマイクロ波を給電することを特徴とする高周波加熱装
   置。
2. （２）下部強電口を被加熱物の下方に設けてなる請求項
   （１）記載の高周波加熱装置。
3. （３）上部給電口と下部給電口を加熱室後方の隅部に設
   けてなる請求項（１）記載の高周波加熱装置。
4. （４）下部給電口をターンテーブルの近傍に設けてなる
   請求項（１）記載の高周波加熱装置。