JPH02157287A - ベンジルトリフェニルホスホニウム塩誘導体 - Google Patents
ベンジルトリフェニルホスホニウム塩誘導体Info
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- JPH02157287A JPH02157287A JP31073588A JP31073588A JPH02157287A JP H02157287 A JPH02157287 A JP H02157287A JP 31073588 A JP31073588 A JP 31073588A JP 31073588 A JP31073588 A JP 31073588A JP H02157287 A JPH02157287 A JP H02157287A
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Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規ベンジルトリフェニルホスホニラ(式中、
Rは低級アルキル基であり、Xはハロゲン原子であり、
またベンズチアゾリル基の置換位置は3位または4位で
ある。) で表わされるベンジルトリフェニルホスホニウム塩誘導
体に関する。
Rは低級アルキル基であり、Xはハロゲン原子であり、
またベンズチアゾリル基の置換位置は3位または4位で
ある。) で表わされるベンジルトリフェニルホスホニウム塩誘導
体に関する。
(従来の技術)
従来、種々のベンジルトリフェニルホスホニウム塩誘導
体が知られている。なかでも米国特許4.039,53
1(1977)には、蛍光増白剤の製造中間体としてベ
ンズオキサゾール基を有する4−(ベンズオキサゾール
−2−イル)ペンジルトリフェニルホスホニウムブロミ
ド(化合物A)が記載されている。
体が知られている。なかでも米国特許4.039,53
1(1977)には、蛍光増白剤の製造中間体としてベ
ンズオキサゾール基を有する4−(ベンズオキサゾール
−2−イル)ペンジルトリフェニルホスホニウムブロミ
ド(化合物A)が記載されている。
ところで、皮膚、口腔、腟等の表在性真菌感染症には、
細菌による混合感染または何らかの病因的関与が推定さ
れているものがある。ロ角ロ唇炎はその典型的な例であ
り、患部からはCandidaalbicansに加え
て5taphylococcusおよびβ−溶血性レし
サ球菌(Streptococcus pyogene
s)が高率に分離される。また、白罫等の皮膚糸状菌症
に続発して5taphylococcusまたは5tr
eptococcus等に起因する二次感染症が起こる
ことも知られている(CHEMOTHERAPY 、3
2.825(1984)、TOKYO参照)。
細菌による混合感染または何らかの病因的関与が推定さ
れているものがある。ロ角ロ唇炎はその典型的な例であ
り、患部からはCandidaalbicansに加え
て5taphylococcusおよびβ−溶血性レし
サ球菌(Streptococcus pyogene
s)が高率に分離される。また、白罫等の皮膚糸状菌症
に続発して5taphylococcusまたは5tr
eptococcus等に起因する二次感染症が起こる
ことも知られている(CHEMOTHERAPY 、3
2.825(1984)、TOKYO参照)。
従って、局所的抗真菌剤としては、真菌のみならず上記
の如き細菌に対しても優れた抗菌活性を有することが望
まれる。
の如き細菌に対しても優れた抗菌活性を有することが望
まれる。
このような状況下において、本発明者らは多数の化合物
について抗菌活性を検討したところ、前記−最大(I)
で表わされる新規なベンジルトリフェニルホスホニウム
塩誘導体が、かかる要請を満足することを見い出し、本
発明を完成した。
について抗菌活性を検討したところ、前記−最大(I)
で表わされる新規なベンジルトリフェニルホスホニウム
塩誘導体が、かかる要請を満足することを見い出し、本
発明を完成した。
−最大(I)において、低級アルキル基としてはC1C
4の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基が挙げられる
。また、ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子等が挙げられる。
4の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基が挙げられる
。また、ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子等が挙げられる。
本発明化合物(I)は、例えば次の方法によって製造す
ることができる。
ることができる。
(以下余白)
に
(式中、R,Xおよびベンズチアゾリル基の皿換位置は
前記に同じである。) 即ち、化合物(II)に、化合物(II)に対して1当
量の化合物(m)をベンゼン、トルエン等の不活性有機
溶媒中室温から溶媒の還流温度条件下に1〜50時間反
応させることによって本発明化合物(I)を製造するこ
とができる。
前記に同じである。) 即ち、化合物(II)に、化合物(II)に対して1当
量の化合物(m)をベンゼン、トルエン等の不活性有機
溶媒中室温から溶媒の還流温度条件下に1〜50時間反
応させることによって本発明化合物(I)を製造するこ
とができる。
以上のようにして得られた本発明化合物(I)はカラム
クロマトグラフィー、再結晶等によって単離精製するこ
とができる。
クロマトグラフィー、再結晶等によって単離精製するこ
とができる。
上記製造法において原料として用いられる化合物(II
)は例えばJ、Med、Chem、、1971,14.
1223−1225に記載の方法によって製造すること
ができる。
)は例えばJ、Med、Chem、、1971,14.
1223−1225に記載の方法によって製造すること
ができる。
なお、化合物(II)においてXがヨウ素原子の化合物
は、化合物(II)においてXが臭素原子の化合物にヨ
ウ化ナトリウムを作用させることによって製造すること
ができる(後記製造側参照)。
は、化合物(II)においてXが臭素原子の化合物にヨ
ウ化ナトリウムを作用させることによって製造すること
ができる(後記製造側参照)。
また、化合物(III)は例えばJustus Lie
bLgsAnn、 Chem、1973.1494−1
504、J、Chem、Soc、Perkinl、 1
980 、 (10) 、2233−2237に記載の
方法によって製造することができる。
bLgsAnn、 Chem、1973.1494−1
504、J、Chem、Soc、Perkinl、 1
980 、 (10) 、2233−2237に記載の
方法によって製造することができる。
以下の試験例1および2に示すように、本発明化合物(
I)はCandida albicansおよびTri
cho−phyton ruburm(自首菌)等の真
菌のみならず、5taphylococcusおよびβ
−溶血性レしサ球菌(St−reptococcus
pyogenes)等の細菌に対しても非常に侵れた抗
菌活性を有することから、局所的抗真菌剤として特に有
用である。
I)はCandida albicansおよびTri
cho−phyton ruburm(自首菌)等の真
菌のみならず、5taphylococcusおよびβ
−溶血性レしサ球菌(St−reptococcus
pyogenes)等の細菌に対しても非常に侵れた抗
菌活性を有することから、局所的抗真菌剤として特に有
用である。
なお、前記化合物Aは上記細菌に対しては抗菌活性を示
したものの、真菌に対する抗菌活性は弱かった。
したものの、真菌に対する抗菌活性は弱かった。
試験例1
真菌に対する最小発育阻止濃度(MIC)の測定:[試
験化合物] (1) 4− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−トルイル)ホスホニウムプロミド・1水和
物(実施例1の化合物) (2) 4− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−トルイル)ホスホニウムクロリド・1水和
物(実施例2の化合物) (3) 4− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−トルイル)ホスホニウムヨーシト(実施例
3の化合物) (4) 4− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−エチルフェニル)ホスホニウムプロミド(
実施例4の化合物) (5) 3− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−トルイル)ホスホニウムプロミド(実施例
5の化合物) (6) 3− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−エチルフェニル)ホスホニウムプロミド(
実施例6の化合物) (7) 3− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−イソプロピルフェニル)ホスホニウムプロ
ミド・1/2水和物(実施例7の化合物) (8) 4− (ベンズオキサゾール−2−イル)ベン
ジルトリフェニルホスホニウムプロミド(化合1勿A) [試験方法] 試験化合物を最小容量のジメチルスルホキシドに溶解し
たのち、エタノールを少量加え、滅菌精製水で1000
μg/ffLQの濃度に調製して標準液とした。
験化合物] (1) 4− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−トルイル)ホスホニウムプロミド・1水和
物(実施例1の化合物) (2) 4− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−トルイル)ホスホニウムクロリド・1水和
物(実施例2の化合物) (3) 4− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−トルイル)ホスホニウムヨーシト(実施例
3の化合物) (4) 4− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−エチルフェニル)ホスホニウムプロミド(
実施例4の化合物) (5) 3− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−トルイル)ホスホニウムプロミド(実施例
5の化合物) (6) 3− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−エチルフェニル)ホスホニウムプロミド(
実施例6の化合物) (7) 3− (ベンズチアゾール−2−イル)ベンジ
ルトリ(4−イソプロピルフェニル)ホスホニウムプロ
ミド・1/2水和物(実施例7の化合物) (8) 4− (ベンズオキサゾール−2−イル)ベン
ジルトリフェニルホスホニウムプロミド(化合1勿A) [試験方法] 試験化合物を最小容量のジメチルスルホキシドに溶解し
たのち、エタノールを少量加え、滅菌精製水で1000
μg/ffLQの濃度に調製して標準液とした。
接種菌液の調製は次のようにして行った。即ち、酵母状
真菌についてはポテトデキストロース寒天培地(日永)
の平板に菌を前培養後菌塊を集め、0.1%(w/v)
Tween 80加リン酸緩衝生理食塩液に懸濁し、
約106CFU/ITLQに調製したものを用いた。ま
た、糸状菌については上記と同様にして得られた懸濁液
をガーゼで濾過し、濾液である胞子原液(約107CF
U/d)、を用いた。
真菌についてはポテトデキストロース寒天培地(日永)
の平板に菌を前培養後菌塊を集め、0.1%(w/v)
Tween 80加リン酸緩衝生理食塩液に懸濁し、
約106CFU/ITLQに調製したものを用いた。ま
た、糸状菌については上記と同様にして得られた懸濁液
をガーゼで濾過し、濾液である胞子原液(約107CF
U/d)、を用いた。
感受性測定は寒天平板希釈法によって行った。即ち、ポ
テトデキストロース寒天培地(日永)に最終濃度0.0
5−100μg/−の範囲の試験化合物を含む2倍希釈
系列の培地を作成した。なお、試験化合物溶液は寒天培
地の1710容を添加した。次いで、上記の方法で調製
した接種菌液約0.005 m!:lをとり、各平板培
地に直径的4mmのスポット状に接種した。判定は酵母
状真菌の場合には30°C148時間培養後、また糸状
菌の場合には27°C,3週間培養後に行った。
テトデキストロース寒天培地(日永)に最終濃度0.0
5−100μg/−の範囲の試験化合物を含む2倍希釈
系列の培地を作成した。なお、試験化合物溶液は寒天培
地の1710容を添加した。次いで、上記の方法で調製
した接種菌液約0.005 m!:lをとり、各平板培
地に直径的4mmのスポット状に接種した。判定は酵母
状真菌の場合には30°C148時間培養後、また糸状
菌の場合には27°C,3週間培養後に行った。
[試験結果]
試験結果を第1表に示した。
試験例2
細菌に対する最小発育阻止濃度(MIC)の測定=[試
験化合物コ 試験例1の場合に同じ。
験化合物コ 試験例1の場合に同じ。
[試験方法]
試験例1の場合と同様にして1000μg/ITLQの
標準液を調製した。その後は日本化学療法学会指の方法
(CHEMOTHERAPY 29.76−79(19
81)、TOKYO参照)に従って行った。
標準液を調製した。その後は日本化学療法学会指の方法
(CHEMOTHERAPY 29.76−79(19
81)、TOKYO参照)に従って行った。
[試験結果]
試験結果を第2表に示した。
以下に製造例および実施例を挙げて本発明を更に具体的
に説明する。
に説明する。
製造例1
2− (4−(ヨードメチル)フェニル〕ベンズチアゾ
ール: ヨウ化ナトリウム1.5gをアセトン6dに溶解し、こ
れにアセトン30dとテトラヒドロフラン10dの混合
溶媒に溶解した2−(4−(ブロモメチル)フェニル〕
ベンズチアゾール3.0gを加えて室温下に15時間放
置した。反応後反応液を濾過して不溶物を除去したのち
、溶媒を減圧下に留去した。得られた残渣にベンゼン2
50 miを加えて攪拌し、不溶物を濾別した。濾液を
1zチオ硫酸ナトリウム水溶液300−で洗浄後水洗し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー[ベンゼンで溶出]に付し、2−(4−(ヨードメ
チル)フェニル〕ベンズチアゾール1.2gを得た。な
お、この一部をとってシクロヘキサン−ベンゼンの混合
溶媒から再結晶したものは以下の物性値を示した。
ール: ヨウ化ナトリウム1.5gをアセトン6dに溶解し、こ
れにアセトン30dとテトラヒドロフラン10dの混合
溶媒に溶解した2−(4−(ブロモメチル)フェニル〕
ベンズチアゾール3.0gを加えて室温下に15時間放
置した。反応後反応液を濾過して不溶物を除去したのち
、溶媒を減圧下に留去した。得られた残渣にベンゼン2
50 miを加えて攪拌し、不溶物を濾別した。濾液を
1zチオ硫酸ナトリウム水溶液300−で洗浄後水洗し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー[ベンゼンで溶出]に付し、2−(4−(ヨードメ
チル)フェニル〕ベンズチアゾール1.2gを得た。な
お、この一部をとってシクロヘキサン−ベンゼンの混合
溶媒から再結晶したものは以下の物性値を示した。
mp 148.0°C(分解)
NMR(CDC:13.δppm) :4.50(2H
,s) 、7.3−7.6(4H。
,s) 、7.3−7.6(4H。
m) 、7.8−8.2(4H,m) 。
元素分析値(C14HI。INSとして):計算値(%
) C,47,88,H,2,87,N、3.99実測
値(%) C,47,90;H,2,90;N、3.9
8実施例1 2− (4−(ブロモメチル)フェニル〕ベンズチアゾ
ール3.0gをベンゼン60dに溶解し、これにトリー
p−トルイルホスフィン3.0gを加えて3時間還流し
た。反応後析出した結晶を熱時濾取し、乾燥したのちシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー[クロロホルム−メ
タノール(20/1 、v/v)で溶出]に付し、4−
(ベンズチアゾール−2−イル)ベンジルトリ(4−ト
ルイル)ホスホニウムプロミド5.4gを得た。なお、
この一部をとってエタノールから再結晶したものは以下
の物性値を示した。
) C,47,88,H,2,87,N、3.99実測
値(%) C,47,90;H,2,90;N、3.9
8実施例1 2− (4−(ブロモメチル)フェニル〕ベンズチアゾ
ール3.0gをベンゼン60dに溶解し、これにトリー
p−トルイルホスフィン3.0gを加えて3時間還流し
た。反応後析出した結晶を熱時濾取し、乾燥したのちシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー[クロロホルム−メ
タノール(20/1 、v/v)で溶出]に付し、4−
(ベンズチアゾール−2−イル)ベンジルトリ(4−ト
ルイル)ホスホニウムプロミド5.4gを得た。なお、
この一部をとってエタノールから再結晶したものは以下
の物性値を示した。
mp 290.0°C(分解)
NMR(CDC13,δppm) :2.45(9H,
s) 、5.41(2H,d) 。
s) 、5.41(2H,d) 。
7.2−8.0(20H,m) 。
元素分析値(C35H3□BrNPS−H2Oとして)
−計算値(%) C,67,03;H,5,31;N、
2.24実測値(%) C,67,15,H,5,25
;N、2.24実施例2 2− (4−(クロロメチル)フェニル〕ベンズチアゾ
ール140.0gをベンゼン1500dに溶解し、これ
にトリp−トルイルホスフィン164.0gを加えて4
2時間還流した。反応後析出した結晶を熱時濾取し、乾
燥したのちクロロホルム1600−に溶解し、活性炭6
.0gを加えて0.5時間攪拌後活性炭を濾別した。
−計算値(%) C,67,03;H,5,31;N、
2.24実測値(%) C,67,15,H,5,25
;N、2.24実施例2 2− (4−(クロロメチル)フェニル〕ベンズチアゾ
ール140.0gをベンゼン1500dに溶解し、これ
にトリp−トルイルホスフィン164.0gを加えて4
2時間還流した。反応後析出した結晶を熱時濾取し、乾
燥したのちクロロホルム1600−に溶解し、活性炭6
.0gを加えて0.5時間攪拌後活性炭を濾別した。
濾液に酢酸エチル300 dを加え、室温で16時間攪
拌後析出する結晶を濾取し、4−(ベンズチアゾール−
2−イル)ベンジルトリ(4−トルイル)ホスホニウム
クロリド185.0gを得た。
拌後析出する結晶を濾取し、4−(ベンズチアゾール−
2−イル)ベンジルトリ(4−トルイル)ホスホニウム
クロリド185.0gを得た。
mp 305.0°C(分解)
NMR(CDCI:+、δppm) :2.45(9H
,s) 、5.53(2H,d) 。
,s) 、5.53(2H,d) 。
7.2−8.0(20H,m) 。
元素分析値(C+sH+□CINPS−H2Oとして)
:計算値(%) C,72,21;H,5,71;N、
2.41実測値(%) C,72,10;H,5,64
;N、2.50実施例3 2− (4−(ヨードメチル)フェニル)ベンズチアゾ
ール(製造例1参照) 1.2gをベンゼン30dに溶
解し、これにトリーp−)ルイルホスフィン1.1gを
加えて1時間還流した。反応後析出した結晶を熱時濾取
し、少量のベンゼンで洗浄後乾燥して4(ベンズチアゾ
ール−2−イル)ベンジルトリ(4−トルイル)ホスホ
ニウムヨーシト1.9gを得た。なお、この一部をとっ
てエタノールから再結晶したものは以下の物性値を示し
た。
:計算値(%) C,72,21;H,5,71;N、
2.41実測値(%) C,72,10;H,5,64
;N、2.50実施例3 2− (4−(ヨードメチル)フェニル)ベンズチアゾ
ール(製造例1参照) 1.2gをベンゼン30dに溶
解し、これにトリーp−)ルイルホスフィン1.1gを
加えて1時間還流した。反応後析出した結晶を熱時濾取
し、少量のベンゼンで洗浄後乾燥して4(ベンズチアゾ
ール−2−イル)ベンジルトリ(4−トルイル)ホスホ
ニウムヨーシト1.9gを得た。なお、この一部をとっ
てエタノールから再結晶したものは以下の物性値を示し
た。
mp 293.0℃(分解)
NMR(DMSO−d6.δppm) :2.47(9
H,s) 、5.21(2H。
H,s) 、5.21(2H。
d) 、7.1−7.7(16H,m)、7.9−8.
2(4H,m)。
2(4H,m)。
元素分析値(635H3□TNPSとして):計算値(
%) C,64,12;H,4,77;N、2.14実
測値(%) C,64,09,H,4゜77;N、2.
13実施例4 2− (4−(ソロモメチル)フェニル〕ベンズチアゾ
ール1.2gをベンゼン50dに溶解し、これにトリ(
4−エチルフェニル)ホスフィン1.4gを加えて3時
間還流した。反応後析出した結晶を熱時濾取し、少量の
ベンゼンで洗浄後乾燥して4−(ベンズチアゾール−2
−イル)ベンジルトリ(4−エチルフェニル)ホスホニ
ウムプロミド2.1gを得た。なお、この一部をとって
イソプロピルアルコールから再結晶したものは以下の物
性値を示した。
%) C,64,12;H,4,77;N、2.14実
測値(%) C,64,09,H,4゜77;N、2.
13実施例4 2− (4−(ソロモメチル)フェニル〕ベンズチアゾ
ール1.2gをベンゼン50dに溶解し、これにトリ(
4−エチルフェニル)ホスフィン1.4gを加えて3時
間還流した。反応後析出した結晶を熱時濾取し、少量の
ベンゼンで洗浄後乾燥して4−(ベンズチアゾール−2
−イル)ベンジルトリ(4−エチルフェニル)ホスホニ
ウムプロミド2.1gを得た。なお、この一部をとって
イソプロピルアルコールから再結晶したものは以下の物
性値を示した。
mp 282.0°C(分解)
NMR(CDC13,δppm) :1.27(9H,
t) 、2.74(6H,q) 。
t) 、2.74(6H,q) 。
5、53(2H,d) 、7.2−8.0(20H,m
)。
)。
元素分析値(C36H3JrNPSとして):計算値(
%) C,70,14;H,5,73;N、2.15実
測値(%) C,70,11;H,5,73;N、2.
22実施例5 2− (3−(ツ七モメチル)フェニル)ベンズチアゾ
ール1.5gをベンゼン30ITLQに溶解し、これに
トリーp−トルイルホスフィン1.5gを加えて2時間
還流した。反応後析出した結晶を熱時癌取し、少量のベ
ンゼンで洗浄後乾燥して3−(ベンズチアゾール−2−
イル)ベンジルトリ(4−トルイル)ホスホニウムプロ
ミド2.6gを得た。なお、この一部をとってエタノー
ルから再結晶したものは以下の物性値を示した。
%) C,70,14;H,5,73;N、2.15実
測値(%) C,70,11;H,5,73;N、2.
22実施例5 2− (3−(ツ七モメチル)フェニル)ベンズチアゾ
ール1.5gをベンゼン30ITLQに溶解し、これに
トリーp−トルイルホスフィン1.5gを加えて2時間
還流した。反応後析出した結晶を熱時癌取し、少量のベ
ンゼンで洗浄後乾燥して3−(ベンズチアゾール−2−
イル)ベンジルトリ(4−トルイル)ホスホニウムプロ
ミド2.6gを得た。なお、この一部をとってエタノー
ルから再結晶したものは以下の物性値を示した。
mp 311.0°C(分解)
NMR(CDC13,δppm) :2.42(9H,
s) 、5.33(2H,d) 。
s) 、5.33(2H,d) 。
7.2−8.0(208,m) 。
元素分析値(C35H3□BrNPSとして):計算値
(%) C,69,07;H,5,13;N、2.30
実測値(%) C,69,01;H,5,04,N、2
.25実施例6 2− (3−(ブロモメチル)フェニル)ベンズチアゾ
ール0.45gをベンゼン20ITLQに溶解し、これ
にトリ(4−エチルフェニル)ホスフィン0.39gを
加えて4時間還流した。反応後析出した結晶を熱時濾取
し、少量のベンゼンで洗浄後乾燥して3−(ベンズチア
ゾール−2−イル)ベンジルトリ(4−エチルフェニル
)ホスホニウムプロミド0.52gを得た。なお、この
一部をとってイソプロピルアルコールから再結晶したも
のは以下の物性値を示した。
(%) C,69,07;H,5,13;N、2.30
実測値(%) C,69,01;H,5,04,N、2
.25実施例6 2− (3−(ブロモメチル)フェニル)ベンズチアゾ
ール0.45gをベンゼン20ITLQに溶解し、これ
にトリ(4−エチルフェニル)ホスフィン0.39gを
加えて4時間還流した。反応後析出した結晶を熱時濾取
し、少量のベンゼンで洗浄後乾燥して3−(ベンズチア
ゾール−2−イル)ベンジルトリ(4−エチルフェニル
)ホスホニウムプロミド0.52gを得た。なお、この
一部をとってイソプロピルアルコールから再結晶したも
のは以下の物性値を示した。
mp 281.0°C(分解)
NMR(CDC13,δppm) :1.23(9H,
t) 、2.72(6H,q) 。
t) 、2.72(6H,q) 。
5.43(2H,d) 、7.2−8.1(20H,m
) 。
) 。
元素分析値(C+aH+JrNPSとして):計算値(
%) C,70,14;H,5,73;N、2.15実
測値(%) C,70,01;H,5,68,N、2.
23実施例7 3−(ベンズチアゾール−2−イル)ベンジルトリ(4
−イソプロピルフェニル)ホスホニウムプロミド: 2− (3−(ブロモメチル)フェニル〕ベンズチアゾ
ール0.23gをベンゼン5dに溶解し、これにトリ(
4−イソプロピルフェニル)ホスフィン0.3gを加え
て5時間還流した。反応後減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[クロ
ロホルム−メタノール(10/1゜v/v)で溶出]に
付し、3−(ベンズチアゾール−2−イル)ベンジルト
リ(4−イソプロピルフェニル)ホスホニウムプロミド
0.28gを得た。なお、この一部をとって酢酸エチル
−シクロヘキサンの混合溶媒から再結晶したものは以下
の物性値を示した。
%) C,70,14;H,5,73;N、2.15実
測値(%) C,70,01;H,5,68,N、2.
23実施例7 3−(ベンズチアゾール−2−イル)ベンジルトリ(4
−イソプロピルフェニル)ホスホニウムプロミド: 2− (3−(ブロモメチル)フェニル〕ベンズチアゾ
ール0.23gをベンゼン5dに溶解し、これにトリ(
4−イソプロピルフェニル)ホスフィン0.3gを加え
て5時間還流した。反応後減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[クロ
ロホルム−メタノール(10/1゜v/v)で溶出]に
付し、3−(ベンズチアゾール−2−イル)ベンジルト
リ(4−イソプロピルフェニル)ホスホニウムプロミド
0.28gを得た。なお、この一部をとって酢酸エチル
−シクロヘキサンの混合溶媒から再結晶したものは以下
の物性値を示した。
mp 174.0°C(分解)
NMR(CDCI+、δppm):1.24(18H,
d)、2.3−3.1(3H。
d)、2.3−3.1(3H。
m) 、5.44(2H,d) 、 7.2−8.1(
20H,m) 。
20H,m) 。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは低級アルキル基であり、Xはハロゲン原子
であり、またベンズチアゾリル基の置換位置は3位また
は4位である。) で表わされるベンジルトリフェニルホスホニウム塩誘導
体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31073588A JPH02157287A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | ベンジルトリフェニルホスホニウム塩誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31073588A JPH02157287A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | ベンジルトリフェニルホスホニウム塩誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02157287A true JPH02157287A (ja) | 1990-06-18 |
Family
ID=18008855
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31073588A Pending JPH02157287A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | ベンジルトリフェニルホスホニウム塩誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02157287A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090258841A1 (en) * | 2008-04-01 | 2009-10-15 | Michael Patrick Murphy | Compositions and methods for skin care |
-
1988
- 1988-12-07 JP JP31073588A patent/JPH02157287A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090258841A1 (en) * | 2008-04-01 | 2009-10-15 | Michael Patrick Murphy | Compositions and methods for skin care |
US10085966B2 (en) | 2008-04-01 | 2018-10-02 | Antipodean Pharmaceuticals, Inc. | Compositions and methods for skin care |
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