JPS6026786B2 - 新規なフタラゾン誘導体 - Google Patents
新規なフタラゾン誘導体Info
- Publication number
- JPS6026786B2 JPS6026786B2 JP5334276A JP5334276A JPS6026786B2 JP S6026786 B2 JPS6026786 B2 JP S6026786B2 JP 5334276 A JP5334276 A JP 5334276A JP 5334276 A JP5334276 A JP 5334276A JP S6026786 B2 JPS6026786 B2 JP S6026786B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- phthalazone
- novel
- compound
- dimethyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式
（式中Ｒ，及びＲ２は低級アルキル基、Ｒ３は直鎖状も
しくは分岐状のアルキル基、Ｘはハロゲン原子を意味す
る）で表わされる新規なフタラゾン誘導体に関する。
しくは分岐状のアルキル基、Ｘはハロゲン原子を意味す
る）で表わされる新規なフタラゾン誘導体に関する。
式１の化合物は、一般式
（式中Ｒ，，Ｒ２及びＲ３は前記の意味を有する）で表
わされる化合物（ロ）にハロゲン化剤を作用させること
により製造される。
わされる化合物（ロ）にハロゲン化剤を作用させること
により製造される。
式ロの化合物は、特関昭５０−７０３８０号及び特関昭
４８一１２１２６０号明細書（特開昭５０−７０３７８
号公報）に記載の方法により製造できる。その例として
は７−ェトキシカルボニルー６，８ージメチルー４ーヒ
ドロキシメチル−１ーフタラゾン、７ープロポキシカル
ボニルー６，８−ジメチルー４ーヒドロキシメチル−１
ーフタラゾンなどがあげられる。式１の化合物を製造す
るに際しては、アルコール性水酸基をハロゲン化する際
用いられる一般の方法が用いられ、たとえば塩化チオニ
ルを式０の化合物に添加して５０〜１００００で加熱す
る。
４８一１２１２６０号明細書（特開昭５０−７０３７８
号公報）に記載の方法により製造できる。その例として
は７−ェトキシカルボニルー６，８ージメチルー４ーヒ
ドロキシメチル−１ーフタラゾン、７ープロポキシカル
ボニルー６，８−ジメチルー４ーヒドロキシメチル−１
ーフタラゾンなどがあげられる。式１の化合物を製造す
るに際しては、アルコール性水酸基をハロゲン化する際
用いられる一般の方法が用いられ、たとえば塩化チオニ
ルを式０の化合物に添加して５０〜１００００で加熱す
る。
反応生成物は常法により容易に単離精製できる。式１の
化合物は、新規化合物であって、循環系疾患に有用な化
合物、たとえば７ーェトキシカルボニル一６，８ージメ
チルー４ーアミノメチルー１ーフタラゾンなどを合成す
るための中間体として有用である。
化合物は、新規化合物であって、循環系疾患に有用な化
合物、たとえば７ーェトキシカルボニル一６，８ージメ
チルー４ーアミノメチルー１ーフタラゾンなどを合成す
るための中間体として有用である。
実施例
７ーエトキシカルボニル一６，８ージメチルー４ークロ
ロメチルー１ーフタラゾン。
ロメチルー１ーフタラゾン。
この化合物は下記の方法により製造される。
７ーエトキシカルボニル−６，８−ジメチル−４ーヒド
ロキシメチルー１ーフタラゾン３のこ塩化チオニル１０
の‘を滴下し、反応混合物を室温で３０分間燈拝したの
ち、７０〜８０ｑｏで１時間加熱する。
ロキシメチルー１ーフタラゾン３のこ塩化チオニル１０
の‘を滴下し、反応混合物を室温で３０分間燈拝したの
ち、７０〜８０ｑｏで１時間加熱する。
次いで減圧下に過剰の塩化チオニルを留去し、残留物を
アセトンから再結晶すると、融点１８９〜１９１℃の結
晶３夕（理論量の９３．８％）が得られる。マススベク
トル：２９４（Ｍ＋）、２６５，２４９ＮＭＲスペクト
ル：（ＤＭＳＯ−な）６：１２．２５（ｓ、ＩＨ）、７
．６５（ｓ、ＩＨ）、４．８０（ｓ、が）、 ４．４５（ｄ、１！ ７Ｈｚ、 ＩＨ）、４．２０（ｄ、１＝７ ＨＺ、ＩＨ）、２．６５（ ｓ、 ９Ｈ）、２．３０（ｓ、母日）、 １．２５（ｔ、１ ＝７ＨＺ、 汎）
アセトンから再結晶すると、融点１８９〜１９１℃の結
晶３夕（理論量の９３．８％）が得られる。マススベク
トル：２９４（Ｍ＋）、２６５，２４９ＮＭＲスペクト
ル：（ＤＭＳＯ−な）６：１２．２５（ｓ、ＩＨ）、７
．６５（ｓ、ＩＨ）、４．８０（ｓ、が）、 ４．４５（ｄ、１！ ７Ｈｚ、 ＩＨ）、４．２０（ｄ、１＝７ ＨＺ、ＩＨ）、２．６５（ ｓ、 ９Ｈ）、２．３０（ｓ、母日）、 １．２５（ｔ、１ ＝７ＨＺ、 汎）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１及びＲ＿２は低級アルキル基、Ｒ＿３は直
鎖状もしくは分岐状のアルキル基、Ｘはハロゲン原子を
意味する）で表わされるフタラゾン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5334276A JPS6026786B2 (ja) | 1976-05-12 | 1976-05-12 | 新規なフタラゾン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5334276A JPS6026786B2 (ja) | 1976-05-12 | 1976-05-12 | 新規なフタラゾン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52136185A JPS52136185A (en) | 1977-11-14 |
| JPS6026786B2 true JPS6026786B2 (ja) | 1985-06-25 |
Family
ID=12940082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5334276A Expired JPS6026786B2 (ja) | 1976-05-12 | 1976-05-12 | 新規なフタラゾン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6026786B2 (ja) |
-
1976
- 1976-05-12 JP JP5334276A patent/JPS6026786B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52136185A (en) | 1977-11-14 |
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