JPH02150704A - 物体検査装置 - Google Patents

物体検査装置

Info

Publication number
JPH02150704A
JPH02150704A JP30657488A JP30657488A JPH02150704A JP H02150704 A JPH02150704 A JP H02150704A JP 30657488 A JP30657488 A JP 30657488A JP 30657488 A JP30657488 A JP 30657488A JP H02150704 A JPH02150704 A JP H02150704A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
height
measured
histogram
detected
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30657488A
Other languages
English (en)
Inventor
Giichi Kakigi
柿木 義一
Masahito Nakajima
雅人 中島
Tetsuo Hizuka
哲男 肥塚
Noriyuki Hiraoka
平岡 規之
Hiroyuki Tsukahara
博之 塚原
Yoshitaka Oshima
美隆 大嶋
Shinji Hashinami
伸治 橋波
Yoshinori Sudo
嘉規 須藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP30657488A priority Critical patent/JPH02150704A/ja
Publication of JPH02150704A publication Critical patent/JPH02150704A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 物体検査装置に関し、 物体高さの計測精度を向上させる物体検査装置を提供す
ることを目的とし、 被測定対象の高さを計測し、画像信号を発生する画像入
力手段と、画像入力手段により検知された被測定対象を
含む一定範囲の画像信号を2値化する2値化手段と、画
像入力手段により検知された被測定対象を含む一定範囲
の画像信号を高さデ−夕に応じて多値化する多値化手段
と、被測定対象を含む一定範囲内に存在する被測定対象
の2値化パターンを対象パターンとし、これを被測定対
象についての正規の形状に対応する辞書パターンと重ね
合わせてバタ、−ンマッチングを行い、これから被測定
対象の位置を計測する位置計測手段と、被測定対象を含
む一定範囲の高さデータからヒストグラム演算を行って
被測定対象の高さを計測する高さ計測手段と、を備えた
物体検査装置において、前記高さ計測手段は、被測定対
象の位置が計測された後に該被測定対象のエツジ部を除
去して高さのヒストグラムを作成し、該ヒストグラムの
頻度ピークに基づいて被測定対象の高さを計測するよう
に構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、物体検査装置に係り、詳しくは、ICチップ
の実装部品等のパターン認識に用いて好適な物体検査装
置に関する。
近年、電子機器を小型化するため、表面実装部品(チッ
プ部品)が多く使用されるようになってきた。今後、チ
ップ部品化はますます進み、その数量は急激に増加する
ものと予測されている。チップ部品を用いたプリント板
の製造行程では、実装は自動機によって行われている。
しかし、実装状態の外観検査は自動化が遅れ、人間の目
視検査に頼っているのが現状である。チップ部品を用い
たプリント板の信顛性向上のため、外観検査の自動化が
必須となっている。このような背景から、チップ部品実
装の外観検査の自動化が強く望まれている。
〔従来の技術〕
プリント板のチップ部品の外観を自動的に検査する従来
の物体検査装置では、対象部品の濃淡画像を入力し、明
るい電極位置から部品の「有無」や「位置ずれ」を検出
している。しかし、この方式では部品本体を検知しない
ので、位置精度が悪くなるという欠点がある。
そこで本発明の出願人はかかる欠点を解消する装置を出
願しており、この先願に係る装置では対象部品の三次元
形状を計測した後、その部品の高さを計測することで、
部品本体を正確に検知するように意図している。第6図
はプリント板1上に位置する計測対象のチップ部品2を
示すもので、チップ部品2は半田3によって取り付けら
れている。チップ部品2は本体2aと電極部2bに区分
され、特に電極部2bが半田付けされている。このよう
なチップ部品2については部品高さを計測するために、
第7図に示すようにチップ部品2を含む限定領域4内に
おいて高さ計測値のヒストグラムを作る。第7図はチッ
プ部品2を上方から見た図であるが、上方から光を照射
して所定角度傾斜した斜め方向から反射光を検出してチ
ップ部品2等の高さデータ(高さ計測値)が得られ、こ
れから各高さの頻度をパラメータとして第8図に示すよ
うなヒストグラムが作成される。そして、このヒストグ
ラムから2つのピーク値を検出し、それぞれプリント板
lの基板高さおよびチップ部品2の部品面高さとする。
その後、これら両者の差をチップ部品2のプリント板l
の基板面に対する高さとして検出する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところが、このような先願に係る物体検査装置にあって
は、半田付は後の部品の電極部に半田が必要以上に付着
していたような場合、高さのヒストグラムを作成したと
きに部品と基板の二つのピーク値から得られる部品高さ
に誤差が生じ、その結果、部品高さの計測精度が低下す
るという問題点があった。
具体的には、第8図に実線■で示すものは正常な半田付
けの状態であり、この場合は誤差は生じないが、破掘9
で示すように半田付けが異常の場合には部品面高さとし
て破塙9のピーク値が検出され、これに基づいて部品高
さの計測演算が行われると、ピーク値自体が正確でない
から、結果として部品高さの計測精度が悪くなる。また
、各高さの計測値自体にも誤差が含まれており、したが
って、二つのピーク値が正確に部品面高さと、基板高さ
とに対応していないと、最納的に計測精度が低下する。
なお、以上の先願例はプリント板上にチップ部品を半田
付けした場合の高さ検査の例であるが、このようなプリ
ント板に限らず、単なるボード上における物体の高さを
検査するような場合にも同様の不具合があり得る。
そこで本発明は、物体高さの計測精度を向上できる物体
検査装置を提供することを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
本発明による物体検査装置は上記目的達成のため、被測
定対象の高さを計測し、画像信号を発生する画像入力手
段と、画像入力手段により検知された、被測定対象を含
む一定範囲の画像信号を2値化する2値化手段と、画像
入力手段により検知された被測定対象を含む一定範囲の
画像信号を高さデータに応じて多値化する多値化手段と
、被測定対象を含む一定範囲内に存在する被測定対象の
2値化パターンを対象パターンとし、これを被測定対象
についての正規の形状に対応する辞書パターンと重ね合
わせてパターンマツチングを行い、これから被測定対象
の位置を計測する位置計測手段と、被測定対象を含む一
定範囲の高さデータからヒストグラム演算を行って被測
定対象の高さを計測する高さ計測手段と、を備えた物体
検査装置において、前記高さ計測手段は、被測定対象の
位置が計測された後に該被測定対象のエツジ部を除去し
て高さのヒストグラムを作成し、該ヒストグラムの頻度
ピークに基づいて被測定対象の高さを計測するように構
成している。
〔作用〕
本発明では、まず被測定対象の位置が計測された後に該
被測定対象のエツジ部を除去して高さのヒストグラムが
作成され、その後、該ヒストグラムの頻度ピークに基づ
いて被測定対象の高さが計測される。
したがって、被測定対象のエツジ部を除去する゛ことで
、誤差の主な原因となる半田付けの盛り上り等に代表さ
れる不必要な高さデータが除外され、被測定対象の高さ
の計測精度が向上する。
〔実施例〕
以下、本発明を図面に基づいて説明する。
第1〜5図は本発明に係る物体検査装置の一実施例を示
す図であり、本発明をICにおけるチップ部品の高さ検
査に適用した例である。
まず、構成を説明する。第1図は物体検査装置の構成を
示すブロック図であり、同図において、物体検査装置は
検知系11.2値化回路12、高さ画像回路13、フレ
ームメモリ14、辞書メモリ15、マツチング回路16
、CPU17、ヒストグラム回路18およびCRT19
により構成される。検知系(画像入力手段)11は、被
測定対象なるICのプリント板上におけるチップ部品周
辺(一定範囲)の高さを計測し、画像として入力し、2
値化回路12および高さ画像回路13に送る。2値化回
路(2値化手段)12は検知系11で検知した高さ画像
を所定のスライスレベルを基準として2値化し、高さ画
像回路(多値化手段)13は検知系11からの画像デー
タに基づき該画像データを高さに応じて多値化し、これ
から高さ画像を作成する。
フレームメモリ14は2値化回路12における2値化画
像を記憶し、特にそのうち被測定対象なるチップ部品に
ついてはその2値化パターンを対象パターンとして記憶
する。また、辞書メモI月5はチップ部品の正規の形状
や位置を辞書パターンとして多数記憶するもので、外部
より辞書パターンの入力が可能である。マツチング回路
16はフレームメモリ14および辞書メモリ15から必
要なデータを読み出して対象パターンと辞書パターンを
重ね合わせ、その不一致画素数を出力する等してチップ
部品の位置を計測するもので、これはCPU17からの
命令に基づいて行われる。CPU17はチップ部品の位
置検査に必要な各種演算処理命令を制御するもので、例
えば辞書メモリ15に対して辞書パターンの選択命令を
発したり、さらにはマツチング回路16との間でパター
ンマツチングに必要な各種合金のかり取りを行い、計測
の結果をCRT19に出力する。上記フレームメモリ1
4、辞書メモリ15、マツチング回路16およびCPU
17は全体として位置計測手段20を構成する。
一方、ヒストグラム回路18は高さ画像回路13の出力
に基づいてプリント板およびチップ部品を含む一定範囲
の高さデータからヒストグラム演算を行ってチップ部品
の位置計測に必要なデータをCPU17に送るとともに
、チップ部品の位置計測後に該チップ部品のエツジ部を
除去して高さのヒストグラム演算を行う、また、このと
きCPU17はヒストグラム回路18との間でデータや
命令の授受を行い、エツジ除去後における上記ヒストグ
ラムの頻度ピークに基づいてチップ部品の高さを計測し
、計測結果をCRT19に出力する。上記CPU17お
よびヒストグラム回路18は全体として高さ計測手段2
1を構成する。CRT19はチップ部品の位置や高さの
計測結果を外部に表示するものである。
CRT19に代えてプリンタ等を用いてもよい。
次に、作用を説明する。
まず、チップ部品を取り付けたプリント板を所定位置に
置き、検知系11によって一定範囲の高さを計測し、画
像として入力し、2値化回路12によりこれを2値化す
るとともに、高さ画像回路13により高さデータに応じ
て多値化する。
次いで、位置計測手段20および高さ計測手段21によ
り第2図のプログラムを実行する。すなわち、P、で画
像入力された一定範囲のデータから高さのヒストグラム
を作成する。このヒストグラムは、例えば第8図の如き
ものとなる。次いで、P2でヒストグラムから2つのピ
ーク値を検出する。二つのピークの検出法は、次の通り
である。まず、頻度が最大であるものを第1のピークと
する。次に、この高さ士〔部品の本来の高さのl/2〕
の範囲を除いた部分で頻度が最大であるものを検出し、
これを第2のピークとする。
次いで、P3で上記二つのピーク高さの平均値をスライ
スレベルとしく第8図の例であれば二つのピークの真中
付近にS/Lが設定される)、高さの画像を2値化する
。この2値化画像は第3図のように示される。
同図において、31は一定の計測範囲、32はチップ部
品が実装され半田付けのされた部分を含む一定領域、3
3は上記スライスレベルS/Lで2値化されて〔1〕レ
ベルとなった部分で、チップ部品および半田付けの一部
領域に相当する。なお、同図中、ハツチング部分以外は
rO〕レベルとなっている。
また、ステップP、に並行してP4でチップ部品に関す
る辞書データを与える。そして、P、ではパターンマツ
チングによって部品位置を検出する。具体的には、CP
U17の命令によりフレームメモリ14からチップ部品
に対応する対象パターンがマツチング回路16に送られ
るとともに、辞書メモリ15から辞書パターンが辞書メ
モリ15から読み出されて同様にマツチング回路16に
送られる。マツチング回路16では対象パターンと辞書
パターンを重ね合わせてその不一致画素数が計測され、
これからパターンの一致が検査される。これにより、チ
ップ部品の位置が検出される。
次いで、P6で第4図に示すようにチップ部品34のエ
ツジおよび半田35の部分を除去して高さのヒストグラ
ムを作成する。なお、36はチップ部品34の電極部で
あり、この電極部36も除去される。
作成したヒストグラムは第5図のようになり、これは第
4図においてハツチングで示す2つの領域、すなわち、
プリント板(基板)37およびチップ部品34のそれぞ
れの高さに対応している。次いで、P7で第5図に示す
ような2つのピークを検出し、これら両者の差からチッ
プ部品34の高さを計測する。この場合、部品面と基板
面のデータしか使わないので、両者の高さが正確に検出
されており、チップ部品34の高さを正確に計測するこ
とができる。したがって、例えば先願例として挙げた第
8図に破線Oで示すように仮に半田が必要以上に盛り上
がっている場合であっても、この盛り上がった部分は高
さのヒストグラムの作成処理であるステップP、では除
去されているから、半田の盛り上がりに拘らず部品高さ
の計測を正確に行うことができる。
また、高さデータに多少の誤差があっても少なくともエ
ツジや半田の部分は除かれるから、誤差の影響が極力排
除されており、したがって、上記二つのピーク値が正確
に部品面高さと基板高さにそれぞれ対応する精度が高い
以上の結果、部品高さが正確に計測できるから、例えば
部品を間違って取り付けた場合や、部品の底面にごみ等
が入って高さが突出したりしている場合の不具合を自動
的に検査できる。
なお、第2図のステップP、でマツチング処理を行って
いるが、これは単に部品高さを精度良く計測するために
行っているのではなく、部品の検査のための通常の位置
計測のためにも使われる。
そして、上記のような高さ計測とこの位置計測によりI
C基板におけるチップ部品の検査が自動的に行われる。
また、本発明の適用はIC部品の形状、位置等の自動検
査に限らず、他の分野における物体の位置決めや、物自
体の認識にも適用できる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、物体の周辺状態が乱れているような場
合であっても、物体の高さの計測を精度良く行うことが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1〜5図は本発明に係る物体検査装置の一実施例を示
す図であり、 第1図はその構成を示すブロック図、 第2図はその計測手順を示すフローチャート、第3図は
その高さデータを2値化した画像を示す図、 第4図はその部品のエツジ部分等を除去した高さの2値
化画像を示す図、 第5図はそのヒストグラムを示す図、 第6〜8図は先願に係る物体検査装置を示す図であり、 第6図はその計測対象を示す斜視図、 第7図はその計測対象の平面図、 第8図はその計測対象のヒストグラムである。 11・・・・・・検知系(画像入力手段)、12・・・
・・・2値化回路(2値化手段)、13・・・・・・高
さ画像回路(多値化手段)、14・・・・・・フレーム
メモリ、 15・・・・・・辞書メモリ、 16・・・・・・マツチング回路、 17・・・・・・CPU、 18・・・・・・ヒストグラム回路、 19・・・・・・CRT。 20・・・・・・位置計測手段、 21・・・・・・高さ計測手段、 31・・・・・・計測範囲、 32・・・・・・一定領域、 33・・・・・・部分、 34・・・・・・チップ部品(被測定対象)、35・・
・・・・半田、 36・・・・・・電極部、 37・・・・・・プリント板。 第1図 代 理 人 弁理士  井 桁 貞 第 図 第 図 第 図 一実施例のヒストグラムを示す図 第5図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 被測定対象の高さを計測し、画像信号を発生する画像入
    力手段と、 画像入力手段により検知された被測定対象を含む一定範
    囲の画像信号を2値化する2値化手段と、画像入力手段
    により検知された被測定対象を含む一定範囲の画像信号
    を高さデータに応じて多値化する多値化手段と、 被測定対象を含む一定範囲内に存在する被測定対象の2
    値化パターンを対象パターンとし、これを被測定対象に
    ついての正規の形状に対応する辞書パターンと重ね合わ
    せてパターンマッチングを行い、これから被測定対象の
    位置を計測する位置計測手段と、 被測定対象を含む一定範囲の高さデータからヒストグラ
    ム演算を行って被測定対象の高さを計測する高さ計測手
    段と、を備えた物体検査装置において、 前記高さ計測手段は、被測定対象の位置が計測された後
    に該被測定対象のエッジ部を除去して高さのヒストグラ
    ムを作成し、該ヒストグラムの頻度ピークに基づいて被
    測定対象の高さを計測するように構成したことを特徴と
    する物体検査装置。
JP30657488A 1988-12-01 1988-12-01 物体検査装置 Pending JPH02150704A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30657488A JPH02150704A (ja) 1988-12-01 1988-12-01 物体検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30657488A JPH02150704A (ja) 1988-12-01 1988-12-01 物体検査装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02150704A true JPH02150704A (ja) 1990-06-11

Family

ID=17958697

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30657488A Pending JPH02150704A (ja) 1988-12-01 1988-12-01 物体検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02150704A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6608921B1 (en) 1998-08-21 2003-08-19 Nec Electronics Corporation Inspection of solder bump lighted with rays of light intersecting at predetermined angle
JP2010203826A (ja) * 2009-03-02 2010-09-16 Fujitsu Ltd 測定方法、測定装置、測定制御プログラム
CN101943572A (zh) * 2009-07-03 2011-01-12 株式会社高永科技 检测测量目标的方法
CN104457587A (zh) * 2014-12-18 2015-03-25 成都主导科技有限责任公司 一种检测关键部位安装高度的方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6608921B1 (en) 1998-08-21 2003-08-19 Nec Electronics Corporation Inspection of solder bump lighted with rays of light intersecting at predetermined angle
JP2010203826A (ja) * 2009-03-02 2010-09-16 Fujitsu Ltd 測定方法、測定装置、測定制御プログラム
CN101943572A (zh) * 2009-07-03 2011-01-12 株式会社高永科技 检测测量目标的方法
JP2011013220A (ja) * 2009-07-03 2011-01-20 Koh Young Technology Inc 測定対象物の検査方法
US8369603B2 (en) 2009-07-03 2013-02-05 Koh Young Technology Inc. Method for inspecting measurement object
CN102980533A (zh) * 2009-07-03 2013-03-20 株式会社高永科技 检测测量目标的方法
US20130294679A1 (en) * 2009-07-03 2013-11-07 Koh Young Technology Inc. Method for inspecting measurement object
US8724883B2 (en) * 2009-07-03 2014-05-13 Koh Young Technology Inc. Method for inspecting measurement object
CN104457587A (zh) * 2014-12-18 2015-03-25 成都主导科技有限责任公司 一种检测关键部位安装高度的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH03191600A (ja) 検査方法、並びに検査プログラムデータの自動作成機能を有する検査装置
CN113454445A (zh) 零件检查期间对于参考未对准进行补偿
JPH0769155B2 (ja) プリント基板のパターン検査方法
JPH02150704A (ja) 物体検査装置
JP2006049347A (ja) 部品エッジ検出方法、部品エッジ検出プログラム及び検査装置
EP1020702B1 (en) Judging whether bump height is proper or not
JPH02251714A (ja) 実装極性部品の極性検査方法および実装基板外観検査方法
JPH02165004A (ja) 物体検査装置
KR20070045057A (ko) 칩 마운터의 부품 정보 티칭방법
EP0407685B1 (en) Method for inspection of solder joints by x-ray fluoroscopic image and apparatus therefor
JPS6326510A (ja) 実装部品検査装置
JP2006329679A (ja) 製品パターン検査方法および装置
JP2658594B2 (ja) 表面実装icリードずれ検査装置
JP2000088524A (ja) 装着部品確認装置
JPH038400A (ja) プリント基板の位置補正方法
JPH0367567B2 (ja)
JPH04184244A (ja) プリント基板のパターン検査方法
JPH0851131A (ja) X線検査方法
JPH0372203A (ja) 半田付け部の外観検査方法
JPH02154106A (ja) 形状検査装置
JPH04145314A (ja) プリント基板検査装置
Lu et al. Machine vision systems using machine learning for industrial product inspection
JP3265144B2 (ja) リード印刷パターンにおける滲み検出方法
CN117853427A (zh) 器件外观缺陷检测方法、装置、电子设备及存储介质
KR920004326B1 (ko) 실장피씨비기판 자동검사장치의 카메라를 이용한 측정방법