JPH021505A - 干渉計付ステージ - Google Patents
干渉計付ステージInfo
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- JPH021505A JPH021505A JP63135664A JP13566488A JPH021505A JP H021505 A JPH021505 A JP H021505A JP 63135664 A JP63135664 A JP 63135664A JP 13566488 A JP13566488 A JP 13566488A JP H021505 A JPH021505 A JP H021505A
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 1
- 241000238413 Octopus Species 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 208000013403 hyperactivity Diseases 0.000 description 1
- 230000001012 protector Effects 0.000 description 1
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［Ｍ業上の利用分野Ｊ
この発明は、集積回路製造用露光装置やレーザスクライ
バ、レーザトリミング装置等に用いられる移動距離を測
定する干渉計を備えたステージ、特に加工物を高精度で
位置決めする必要がある場合に適した干渉計付ステージ
に関するものである。
バ、レーザトリミング装置等に用いられる移動距離を測
定する干渉計を備えたステージ、特に加工物を高精度で
位置決めする必要がある場合に適した干渉計付ステージ
に関するものである。
［従来の技術］
従来、集積回路製造用露光装置等において、ステージを
所定の位置まで２次元方向に８動させるには、ステージ
のｘ、ｙ両軸方向に干渉計を備え、８動距離を測定する
ことよってステージの不多動を制御している。
所定の位置まで２次元方向に８動させるには、ステージ
のｘ、ｙ両軸方向に干渉計を備え、８動距離を測定する
ことよってステージの不多動を制御している。
かかる装置においては、ステージの直交する２側面にス
テージとともに８勤する移動鏡をそれぞれ備えるととも
に、Ｘおよびｙ！ＩＩｔｈ用参照鏡を所定の位置に配置
し、光源から出射され、ビームスプリッタでＸ軸方向と
ｙ中１ｂ方向に分割されたコヒーレント光をさらに２つ
に分割して、ｆＪ動鏡および参照鏡にそれぞれ投射し、
移動鏡と参照鏡によって反射された反射光を互いに干渉
させている。そして、この干渉によって生じる干渉縞の
変化を光電検出することによフて、ｘ、ｙ両軸方向のス
テージの移動距離を測定している。
テージとともに８勤する移動鏡をそれぞれ備えるととも
に、Ｘおよびｙ！ＩＩｔｈ用参照鏡を所定の位置に配置
し、光源から出射され、ビームスプリッタでＸ軸方向と
ｙ中１ｂ方向に分割されたコヒーレント光をさらに２つ
に分割して、ｆＪ動鏡および参照鏡にそれぞれ投射し、
移動鏡と参照鏡によって反射された反射光を互いに干渉
させている。そして、この干渉によって生じる干渉縞の
変化を光電検出することによフて、ｘ、ｙ両軸方向のス
テージの移動距離を測定している。
［発明が解決しようとする課題］
上記のような従来の装置においては、移動鏡に向けてコ
ヒーレント光を出射する干渉計本体と移動鏡の間の空気
のゆらぎによって、生じる干渉縞が変化し、あたかも移
動鏡と干渉計本体との即問］が変化しているかのように
検出され、ステージの精密な位置計測ができなくなると
いう問題点があった。
ヒーレント光を出射する干渉計本体と移動鏡の間の空気
のゆらぎによって、生じる干渉縞が変化し、あたかも移
動鏡と干渉計本体との即問］が変化しているかのように
検出され、ステージの精密な位置計測ができなくなると
いう問題点があった。
この発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、ス
テージ周辺の空気のゆらぎの影響を防ぎ、高精度の位置
決めが可能な干渉計付ステージを提供することを目的と
している。
テージ周辺の空気のゆらぎの影響を防ぎ、高精度の位置
決めが可能な干渉計付ステージを提供することを目的と
している。
［課題を解決するための手段］
本発明においては、２次元方向に移動するステージ側に
移動鏡の反射面に沿った細長い断面形状を有する中空の
第１風防を固定し、干渉計本体側に移動鏡に向けてコヒ
ーレント光を通すとともに、前記第１風防内側に非接触
に嵌入される筒状の第２風防を固設し、この第１風防お
よび第２風防によって前記移動鏡と干渉計本体との間の
コヒーレント光の通路を覆うことによって、上記の課題
を達成している。
移動鏡の反射面に沿った細長い断面形状を有する中空の
第１風防を固定し、干渉計本体側に移動鏡に向けてコヒ
ーレント光を通すとともに、前記第１風防内側に非接触
に嵌入される筒状の第２風防を固設し、この第１風防お
よび第２風防によって前記移動鏡と干渉計本体との間の
コヒーレント光の通路を覆うことによって、上記の課題
を達成している。
［作用］
本発明においては、ステージ側には移動鏡の断面に沿っ
て細長い断面形状を有する中空の第１風防が固定され、
干渉計本体側には前記第１風防内側に接触しないように
嵌入される筒状の第２風防が固定されているので、ステ
ージの移動にともなって第１風防の中を第２風防止が非
接触のまま相対的に移動することになる。従って、移動
部と固定部が機械的に分離された状態で、移動鏡と干渉
計本体との間のコヒーレント光の通路が風防によって常
に覆われることになる。このため、ステージの移動に伴
う機械的撮動を干渉計本体に伝達することなく、コヒー
レント光の通路の空気のゆらぎをほとんど防止すること
ができ、高精度の位置決めが可能となる。
て細長い断面形状を有する中空の第１風防が固定され、
干渉計本体側には前記第１風防内側に接触しないように
嵌入される筒状の第２風防が固定されているので、ステ
ージの移動にともなって第１風防の中を第２風防止が非
接触のまま相対的に移動することになる。従って、移動
部と固定部が機械的に分離された状態で、移動鏡と干渉
計本体との間のコヒーレント光の通路が風防によって常
に覆われることになる。このため、ステージの移動に伴
う機械的撮動を干渉計本体に伝達することなく、コヒー
レント光の通路の空気のゆらぎをほとんど防止すること
ができ、高精度の位置決めが可能となる。
［実施例］
第１図は、本発明実施例を示す斜視図である。
この実施例においては、Ｘステージ６の上にＸステージ
５かに載置されており、Ｘステージ６はＸステージ５を
載置したままモータ８によってＸ４’＋ｂ方向に移動可
能となっている。また、Ｘステージ５はＸステージ６上
をモータ７によってｙ軸方向に移動可能となっており、
これにより、Ｘステージ５上に固定されるウニ八等の加
工物がＸ −ｙ両方向に移動可能となっている。
５かに載置されており、Ｘステージ６はＸステージ５を
載置したままモータ８によってＸ４’＋ｂ方向に移動可
能となっている。また、Ｘステージ５はＸステージ６上
をモータ７によってｙ軸方向に移動可能となっており、
これにより、Ｘステージ５上に固定されるウニ八等の加
工物がＸ −ｙ両方向に移動可能となっている。
そして、Ｘステージ上にはＸ方向用移動鏡４ａおよびｙ
方向用移動鏡４ｂが、それぞれ反射面がＸ軸およびｙＩ
Ｉｉｌｌｌと垂直となるように配置されている。この移
動鏡４ａ、４ｂには、反射面に沿って細長い断面形状を
なす中空の第１風防２ａ、２ｂがそれぞれ備えられてい
る。ここで、移動鏡４ａ、４ｂの反射面は極めて平滑に
加工される必要があるので、第１Ｆｆｉ防２ａ、２ｂを
設置するにあたっては反射面にゆがみが生じないように
考慮することが必要である。即ち、第１図においては、
簡単のため第１風防２ａ、２ｂが移動鏡４ａ、４ｂにそ
れぞれ直接取付けであるが、好ましくは、第１風防をｙ
ステージ自体に固設し、移動鏡の反射面との間に補備か
な間隙を設けるか、または、第２図に示されるように移
動鏡４ａ自体も第ｉ＠１１、ｆｊ ２ ａで覆い、支持
部！ｌでＸステージ５に固設すると良い。
方向用移動鏡４ｂが、それぞれ反射面がＸ軸およびｙＩ
Ｉｉｌｌｌと垂直となるように配置されている。この移
動鏡４ａ、４ｂには、反射面に沿って細長い断面形状を
なす中空の第１風防２ａ、２ｂがそれぞれ備えられてい
る。ここで、移動鏡４ａ、４ｂの反射面は極めて平滑に
加工される必要があるので、第１Ｆｆｉ防２ａ、２ｂを
設置するにあたっては反射面にゆがみが生じないように
考慮することが必要である。即ち、第１図においては、
簡単のため第１風防２ａ、２ｂが移動鏡４ａ、４ｂにそ
れぞれ直接取付けであるが、好ましくは、第１風防をｙ
ステージ自体に固設し、移動鏡の反射面との間に補備か
な間隙を設けるか、または、第２図に示されるように移
動鏡４ａ自体も第ｉ＠１１、ｆｊ ２ ａで覆い、支持
部！ｌでＸステージ５に固設すると良い。
第１図の説明に戻ると、Ｘおよびｙ軸両方向には、ビー
ムスプリッタ、参照鏡および光電検出器等（図示せず）
を含む干渉計本体１ａ、１ｂがそれぞれ所定の位置に配
置されている。この干渉計本体１ａ、ｌｂには、それぞ
れＸおよびｙ軸に沿って細長い筒状の第２風防３ａ、３
ｂが備えられており、前記第１風防２ａ、２ｂの内側に
接しないように第１風防内にそれぞれ嵌入されている。
ムスプリッタ、参照鏡および光電検出器等（図示せず）
を含む干渉計本体１ａ、１ｂがそれぞれ所定の位置に配
置されている。この干渉計本体１ａ、ｌｂには、それぞ
れＸおよびｙ軸に沿って細長い筒状の第２風防３ａ、３
ｂが備えられており、前記第１風防２ａ、２ｂの内側に
接しないように第１風防内にそれぞれ嵌入されている。
第１および第２風助の寸法は、ステージが干渉計本体か
ら最も遠ざかった場合でも外側の第１風防と内側の第２
風防が重なりあっており、かつステージの移動によって
２つの風防が接触しないように設計されている。また、
第１および第２風防はステージの周囲に起こる風によっ
て歪の生じない程度の強度のある材質によって構成され
°ている。
ら最も遠ざかった場合でも外側の第１風防と内側の第２
風防が重なりあっており、かつステージの移動によって
２つの風防が接触しないように設計されている。また、
第１および第２風防はステージの周囲に起こる風によっ
て歪の生じない程度の強度のある材質によって構成され
°ている。
かかる装置において、光源１０から出射され、ビームス
プリッタ９によってｘ、ｙ２φ（ｂ方向に分Ｍ’Ｊされ
、ｘ （’＋ｈ方向の干渉計本体１ａに入射したコヒー
レント光は、干渉計本体１ａの中のビームスプリッタに
よって固定鏡に向う光と移動鏡４ａに向う光に分りらね
る。そして、移動鏡４ａに向うコヒーレント光は前述し
た第１風助２ａおよび第２風防３ａの中を通って、ステ
ージ５に備えられた移動鏡４ａに入射する。ここで反射
されたコヒーレント光は再び第１および第２風防２ａ、
３ａの中を通って、干渉計本体ｌａ内のビームスフリツ
タに戻り、参照鏡で反射されたコヒーレント光と重ね合
わされて光電センサの受光部に導かれる。そして、参照
鏡からの反射光と移動鏡からの反射光を干渉させること
により生じる干渉縞の変化を検出することによってステ
ージのＸ軸方向の穆動距顛を測定する。なお、Ｘ軸方向
の穆動距刻１の測定もＸ軸方向と同様にして行われる。
プリッタ９によってｘ、ｙ２φ（ｂ方向に分Ｍ’Ｊされ
、ｘ （’＋ｈ方向の干渉計本体１ａに入射したコヒー
レント光は、干渉計本体１ａの中のビームスプリッタに
よって固定鏡に向う光と移動鏡４ａに向う光に分りらね
る。そして、移動鏡４ａに向うコヒーレント光は前述し
た第１風助２ａおよび第２風防３ａの中を通って、ステ
ージ５に備えられた移動鏡４ａに入射する。ここで反射
されたコヒーレント光は再び第１および第２風防２ａ、
３ａの中を通って、干渉計本体ｌａ内のビームスフリツ
タに戻り、参照鏡で反射されたコヒーレント光と重ね合
わされて光電センサの受光部に導かれる。そして、参照
鏡からの反射光と移動鏡からの反射光を干渉させること
により生じる干渉縞の変化を検出することによってステ
ージのＸ軸方向の穆動距顛を測定する。なお、Ｘ軸方向
の穆動距刻１の測定もＸ軸方向と同様にして行われる。
以上のような干渉計付ステージにおいては、コヒーレン
ト光の通路が第１および第２風防に覆われているので、
例えば図中ＡおよびＣの方向からの風による測定への影
響をほぼ完全に防ぐことができる。
ト光の通路が第１および第２風防に覆われているので、
例えば図中ＡおよびＣの方向からの風による測定への影
響をほぼ完全に防ぐことができる。
また、図中Ｂの方向からの風についても、第１風防の間
口部を第２風防と接触しない限りにおいてできるだり狭
くすることによって、その影πを小さくすることができ
る。第１風防の開口部を小さくするためには、コヒーレ
ント光の通過に支１（帝のない限り、第２風防の径が細
い方が好ましいことは言うまでも２．−い。さらに、例
えば図中Ａの方向から一定の風を送ることにより、図中
８方向からの風を起さないようにしたり、かかる干渉計
付ステージ全体を覆うような風防を設置すれはより高精
度の測定が可能となる。
口部を第２風防と接触しない限りにおいてできるだり狭
くすることによって、その影πを小さくすることができ
る。第１風防の開口部を小さくするためには、コヒーレ
ント光の通過に支１（帝のない限り、第２風防の径が細
い方が好ましいことは言うまでも２．−い。さらに、例
えば図中Ａの方向から一定の風を送ることにより、図中
８方向からの風を起さないようにしたり、かかる干渉計
付ステージ全体を覆うような風防を設置すれはより高精
度の測定が可能となる。
なお、本実施例においては、第１風防および第２風防に
よって干渉計本体と移動鏡の間のコヒーレント光の通路
を完全に覆っているが、放熱性等に問題がある場合には
、空気のゆらぎの起こりにくい風防の下面部を細かいメ
ツシュ状にし°ても良い。
よって干渉計本体と移動鏡の間のコヒーレント光の通路
を完全に覆っているが、放熱性等に問題がある場合には
、空気のゆらぎの起こりにくい風防の下面部を細かいメ
ツシュ状にし°ても良い。
［発明の効果］
この発明においては、２次元方向に移動するステージと
、干渉計本体にそれぞれ風防を設け、かつステージ側に
取付けた風防内に干渉計本体側に取付けた風防を接触し
ないように嵌入して、■多動鏡と干渉計本体の間のコヒ
ーレント光の光路を）百ってことにより、ステージの移
動ｆ２［ｍ測定に対する空気のゆらぎの影ｔ’ｆｆをほ
とんど防ぐことかできる。また、ステージと干渉計本体
か機械的に分離されているので、ステージの移動による
振動が干渉計本体に伝達されることがない。
、干渉計本体にそれぞれ風防を設け、かつステージ側に
取付けた風防内に干渉計本体側に取付けた風防を接触し
ないように嵌入して、■多動鏡と干渉計本体の間のコヒ
ーレント光の光路を）百ってことにより、ステージの移
動ｆ２［ｍ測定に対する空気のゆらぎの影ｔ’ｆｆをほ
とんど防ぐことかできる。また、ステージと干渉計本体
か機械的に分離されているので、ステージの移動による
振動が干渉計本体に伝達されることがない。
かかる装置を用いれば、ステージの移動即問【を非常に
正確に検出することができるので、ステージの高精度の
位置決めが可能となり、集積回路製造用縮小投影露光装
置や加工物８勅方式の各種の精密加工装置等において極
めて有益である。
正確に検出することができるので、ステージの高精度の
位置決めが可能となり、集積回路製造用縮小投影露光装
置や加工物８勅方式の各種の精密加工装置等において極
めて有益である。
第１図は本発明実施例を示す斜視図、第２図は風防の取
付例を示す斜視図である。 ［主要部分の符号の説明］ ＋ａ、ｌｂ・・・干渉語本体 ２ａ、２ｂ・・・第１風防 ３ ａ 、 ３ ｂ ・・・”１； ２
ノ１１ｆｌ／ｊ４ａ、４ｂ＝−Ｊ’ｌ 動 ３Ｑ
’ ５・・・ｙステージ ６・・・Ｘステージ
付例を示す斜視図である。 ［主要部分の符号の説明］ ＋ａ、ｌｂ・・・干渉語本体 ２ａ、２ｂ・・・第１風防 ３ ａ 、 ３ ｂ ・・・”１； ２
ノ１１ｆｌ／ｊ４ａ、４ｂ＝−Ｊ’ｌ 動 ３Ｑ
’ ５・・・ｙステージ ６・・・Ｘステージ
Claims (1)
- ２次元方向に所定の速度で移動可能なステージであって
、光源から出射されたコヒーレント光を所定の位置に配
置された参照鏡と、ステージと共に移動する移動鏡に分
割して投射し、該参照鏡および移動鏡でそれぞれ反射さ
れたコヒーレント光を互いに干渉させ、該干渉によって
生じる干渉縞の変化を光電検出して前記ステージの移動
距離を測定する干渉計を備えた干渉計付ステージにおい
て、ステージ側に固定され、前記移動鏡の反射面に沿っ
た細長い断面形状を有する中空の第１風防と、前記干渉
計本体側に固設され、前記移動鏡に向けてコヒーレント
光を通すとともに、前記第１風防内側に非接触に嵌入さ
れる筒状の第２風防とを有し、該第１風防および第２風
防によって前記移動鏡と干渉計本体との間のコヒーレン
ト光の通路を覆うことを特徴とした干渉計付ステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63135664A JPH021505A (ja) | 1988-06-03 | 1988-06-03 | 干渉計付ステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63135664A JPH021505A (ja) | 1988-06-03 | 1988-06-03 | 干渉計付ステージ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH021505A true JPH021505A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=15157054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63135664A Pending JPH021505A (ja) | 1988-06-03 | 1988-06-03 | 干渉計付ステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH021505A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2005197698A (ja) * | 2003-12-30 | 2005-07-21 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| WO2005083758A1 (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-09 | Nikon Corporation | ステ−ジ装置及び投影露光装置 |
| JP2008072100A (ja) * | 2006-08-25 | 2008-03-27 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| JP2010161116A (ja) * | 2009-01-06 | 2010-07-22 | Canon Inc | 位置決め装置、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法 |
| WO2016023667A1 (en) * | 2014-08-15 | 2016-02-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
| CN106931878A (zh) * | 2015-12-31 | 2017-07-07 | 上海微电子装备有限公司 | 一种干涉仪测量装置及其控制方法 |
-
1988
- 1988-06-03 JP JP63135664A patent/JPH021505A/ja active Pending
Cited By (16)
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| CN106575087A (zh) * | 2014-08-15 | 2017-04-19 | Asml荷兰有限公司 | 光刻设备和方法 |
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