JPH02126126A - 温度分布調査方法 - Google Patents
温度分布調査方法Info
- Publication number
- JPH02126126A JPH02126126A JP27824788A JP27824788A JPH02126126A JP H02126126 A JPH02126126 A JP H02126126A JP 27824788 A JP27824788 A JP 27824788A JP 27824788 A JP27824788 A JP 27824788A JP H02126126 A JPH02126126 A JP H02126126A
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- color filter
- temperature
- filter layer
- temperature distribution
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- Pending
Links
- 238000009826 distribution Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 claims description 5
- 238000011835 investigation Methods 0.000 claims description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 abstract description 9
- 238000004040 coloring Methods 0.000 abstract description 3
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 abstract description 3
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 abstract description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 abstract description 2
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 abstract 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば半導体装置に用いるなど、製造工程で
加熱を必要とする基板の温度分布を調査する温度分布調
査方法に関するものである。
加熱を必要とする基板の温度分布を調査する温度分布調
査方法に関するものである。
加熱工程の基板の温度分布を検査する方法としては、例
えば第4図に示すように基板ホルダー21の所要の位置
にC−Δ(クロメル−アルメル)熱電対22をネジ止め
して調べたり、サーモラベルやサーモペイントなどによ
って調べる方法がある。
えば第4図に示すように基板ホルダー21の所要の位置
にC−Δ(クロメル−アルメル)熱電対22をネジ止め
して調べたり、サーモラベルやサーモペイントなどによ
って調べる方法がある。
しかし、上記の方法には次のような問題点がある。
(1)熱電対やサーモラベルの場合:測定点のみの部分
的な温度しか分らず、基板全体の温度分布がど′うなっ
ているのか把握し難い。
的な温度しか分らず、基板全体の温度分布がど′うなっ
ているのか把握し難い。
(2)サーモペイントの場合:温度分布は分るが、半導
体製造装置など、クリーンな雰囲気を要求される場合に
使用できない。
体製造装置など、クリーンな雰囲気を要求される場合に
使用できない。
(3)熱雷対を用いる場合:配線を引出したり、専用の
演算装置を設ける必要がある。
演算装置を設ける必要がある。
(4)ラベル方式の場合ニラベルの粘着剤やベースフィ
ルムから脱ガスなどが発生するため、半導体製造装置で
使用することができない。
ルムから脱ガスなどが発生するため、半導体製造装置で
使用することができない。
本発明の目的は、雰囲気などに制約を受けることなく、
温度分布を適確に知ることができる温度分布調査方法を
提供することにある。
温度分布を適確に知ることができる温度分布調査方法を
提供することにある。
本発明は、基板上にカラーフィルター材料によりカラー
フィルター層を形成し、このカラーフィルター層の熱に
よる脱色の度合いを利用して温度分布を知ることを特徴
とするものである。
フィルター層を形成し、このカラーフィルター層の熱に
よる脱色の度合いを利用して温度分布を知ることを特徴
とするものである。
以下、本発明を図面を参照しながら詳細に説明する。
第1図及び第2図は本発明の−・実施例を示すもので、
まず第1図に示すように基板1にカラーフィルター材料
、例えば2色性色素のグリーンフィルター材料によりカ
ラーフィルター層2を形成して、温度センサーとする。
まず第1図に示すように基板1にカラーフィルター材料
、例えば2色性色素のグリーンフィルター材料によりカ
ラーフィルター層2を形成して、温度センサーとする。
つまり、カラーフィルター層2の熱による脱色の度合い
を利用して温度分布を調べる。カラーフィルター層2は
、染色法、印刷法、電着法などにより形成する。
を利用して温度分布を調べる。カラーフィルター層2は
、染色法、印刷法、電着法などにより形成する。
上記基板1(温度センサー)を真空系の半導体製造装置
の基板ホルダーAにセットし、通常の加熱工程(真空引
き、基板加熱)の処理を行った後、取出すと、第2図に
示すように基板加熱による脱色が観察され、塞板1に実
際に加えられた温度の分布を見ることができる。また、
第3図に示す色度図とその色に対応する温度との関係か
ら温度が分る。
の基板ホルダーAにセットし、通常の加熱工程(真空引
き、基板加熱)の処理を行った後、取出すと、第2図に
示すように基板加熱による脱色が観察され、塞板1に実
際に加えられた温度の分布を見ることができる。また、
第3図に示す色度図とその色に対応する温度との関係か
ら温度が分る。
これは、2色性色素であるグリーンフィルター材料のう
ち、シアン系の染料は耐熱温度が低いのに対し、イエロ
ー系の染料は耐熱温度が高いため、まずシアン系染料の
み脱色してイエローとなる領域2Aが生じ、更に高温に
なるm域2Bではイエロー系染料も脱色してホワイトと
なるからである。
ち、シアン系の染料は耐熱温度が低いのに対し、イエロ
ー系の染料は耐熱温度が高いため、まずシアン系染料の
み脱色してイエローとなる領域2Aが生じ、更に高温に
なるm域2Bではイエロー系染料も脱色してホワイトと
なるからである。
なお、上記実施例ではグリーンとしたが、染料の色は任
意であり、調べたい温度に応じて選定する。また、2種
類以上の染料を混合してもよく、それによって広範囲な
温度分布を高精度に知ることができる。
意であり、調べたい温度に応じて選定する。また、2種
類以上の染料を混合してもよく、それによって広範囲な
温度分布を高精度に知ることができる。
以上のように本発明によれば、カラーフィルター層の熱
による脱色の度合いを利用するため、色の分布がそのま
ま温度分布となり、非常に明瞭である。しかも、実際に
使用している基板の全面にカラーフィルター層を形成し
て調査することが可能であるため、実用基板上の温度分
布を直に表わすことができる。また、耐熱温度の異なる
染料を自由に選べるため、広範囲の温度分布が分るとと
もに、温度に比例して色度が変化するため、高精度にそ
の位置の温度を知ることができる。更に、カラーフィル
ター層から微粒子やガスは殆んど発生しないので、クリ
ーン度が要求される場合や減圧・加圧を必要とする場合
でも使用できる。
による脱色の度合いを利用するため、色の分布がそのま
ま温度分布となり、非常に明瞭である。しかも、実際に
使用している基板の全面にカラーフィルター層を形成し
て調査することが可能であるため、実用基板上の温度分
布を直に表わすことができる。また、耐熱温度の異なる
染料を自由に選べるため、広範囲の温度分布が分るとと
もに、温度に比例して色度が変化するため、高精度にそ
の位置の温度を知ることができる。更に、カラーフィル
ター層から微粒子やガスは殆んど発生しないので、クリ
ーン度が要求される場合や減圧・加圧を必要とする場合
でも使用できる。
第1図及び第2図は本発明に係る温度分布調査方法の一
実施例を示す平面図、第3図は色度図とその色に対応す
る温度との関係を示す図、第4図は従来例を示す平面図
である。 1・・・基板、 2・・・カラー(グリーン)フィルター層、2A・・・
イエロー呈色領域、 2B・・・ホワイト呈色領域、A・・・基板ホルダー特
許出願人 スタンレー電気株式会社 外 名 第1 図 第2図 第3図 第4図
実施例を示す平面図、第3図は色度図とその色に対応す
る温度との関係を示す図、第4図は従来例を示す平面図
である。 1・・・基板、 2・・・カラー(グリーン)フィルター層、2A・・・
イエロー呈色領域、 2B・・・ホワイト呈色領域、A・・・基板ホルダー特
許出願人 スタンレー電気株式会社 外 名 第1 図 第2図 第3図 第4図
Claims (1)
- 基板上にカラーフィルター材料によりカラーフィルター
層を形成し、このカラーフィルター層の熱による脱色の
度合いを利用して温度分布を知ることを特徴とする温度
分布調査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27824788A JPH02126126A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 温度分布調査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27824788A JPH02126126A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 温度分布調査方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02126126A true JPH02126126A (ja) | 1990-05-15 |
Family
ID=17594672
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27824788A Pending JPH02126126A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 温度分布調査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02126126A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5131682A (ja) * | 1974-09-11 | 1976-03-17 | Pilot Ink Co Ltd | |
JPS5685327A (en) * | 1979-10-19 | 1981-07-11 | Colombo Aldo | Selffrecording type temperature recording screen for detecting abnormal condition in human breast |
JPS619488A (ja) * | 1984-06-26 | 1986-01-17 | Pilot Ink Co Ltd | 可逆性感熱示温組成物 |
-
1988
- 1988-11-02 JP JP27824788A patent/JPH02126126A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5131682A (ja) * | 1974-09-11 | 1976-03-17 | Pilot Ink Co Ltd | |
JPS5685327A (en) * | 1979-10-19 | 1981-07-11 | Colombo Aldo | Selffrecording type temperature recording screen for detecting abnormal condition in human breast |
JPS619488A (ja) * | 1984-06-26 | 1986-01-17 | Pilot Ink Co Ltd | 可逆性感熱示温組成物 |
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