JPH02120A - アリルチオ置換ヘテロ環類の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、アルキルチオ置換ヘテロ１類の製造方法に関
し、さらに詳しくはアリリックなアルコール類とヘテロ
環チオール類との、ルイス酸存在下での反応によるアリ
ルチオ置換ヘテロ１類の製造方法に関するものである。

（従来の技術） アリルチオ置換へゾロ環類は、医薬品、写真化学等の分
野において合成品あるいは合成中間体として重要な位置
を占める。酸化によりスルホキシド、さらにはスルホン
へと容易に誘導可能な点もその汎用性を高めている一因
である。

ところで、チオエーテルの合成法の中で、ベンジリック
なアルコールと芳香族チオールを出発物質とする工業的
ルートとしては次の２つが一般的である。

＾「、八「′は芳香環を表わす。

（新実験化学講座１４．１７２４　） Ａｒ、＾ｒ°は芳香環を表わす。

Ｘ＝ＣＪ２　、　　Ｉｌｒ、　　　１．　　ＯＭｇ、　
　ロＴｓＭ＝Ｎａ、に （新実験化学講座１４．１７１６　”）すなわち、■は
ベンジリックなアルコールと芳香族チオールを酸触媒存
在下強熱して脱水反応を行い、チオエーテルを得るルー
トである。また■はベンジリックなアルコールの水酸基
を離脱基として優れた基に変換した後（ＩＶ）、芳香族
チオールのアルカリ塩と反応させチオエーテルを生成す
るルートである。

しかしながら、■のルートは酸を用いており、また反応
温度も高温を要するために、酸や熱に不安定な化合物の
合成には不適当である。一方、■のルートで工業的には
離脱基Ｘとしては塩素原子あるいは臭素原子が一般によ
く用いられるが、水酸基を工業的に塩素化あるいは臭素
化する場合には塩化水素あるいは臭化水素が発生する。

このため、Ｉｖに不安定な化合物の合成には不適当であ
る。また５分子内に求核性の高い官能基が存在する場合
も、分子内あるいは分子間で求核置換反応が起こるため
に■のルートは不適当であるといえる。

このため、■、■に示した工業的合成ルートを経由して
チオエーテルを合成することが困難な場合、新しい工業
的合成ルートの開発が必要不可欠である。すなわち、温
和な条件下で反応が進行し、かつ工業的に広い一般性の
ある優れたチオエーテルの合成法が必要である。さらに
望ましくは、■のルートのように一工程を必要とするの
ではなく、−工程で速やかにチオエーテルを合成できる
ルートが好ましい。

ところで、現在まで以下のチオエーテル合成法が開発さ
れている。

に、　＾、　　Ｗａｌｋｅｒ、　　ＴｅＬｒａｈｃｃｌ
ｒｏｎ　　１．ｅＬＬ、、　　１９７７゜Ｈ，５ｕｚｕ
ｋｉ、　　ｅＬ　ａｌ、、　　Ｃｈｅｍ、　　１．ｅＬ
Ｌ、、　　１９１１１Ｙ、　Ｇｕｉｎｄｏｎ、　ｅＬ　
ａｌ、、　Ｊ、　Ｑｒｚ、　Ｃｈｅｍ、、　４８゜１３
５７　＋＋９１１３１ Ｒ，Ｒ’は置換基を示し、Ａｒは芳香環を示す。

■、■、■ともに強酸が反応系内に存在せず、かつ■、
■の反応に比べ反応温度が低い点、改良が見られている
。しかしながら■、■、■の反応にはそれぞれまだ欠点
が残されていた。

■の反応はチオールからスルフェンイミドを合成するの
に少なくとも−・工程必要である。またトリブチルホス
フィンは有毒物質であるために大量合成での使用は好ま
しくない。

■の反応もチオールからジスルフィドを合成するのに−
・工程必要である。また、室温での合成には不適当であ
る３ ■の反応はベンジリックなアルコールと芳香族チオール
とを出発物質として室温下−工程でチオエーテルを合成
できる点が好ましいが、それでもなお下記のように限界
があった。

すなわち、Ｐ−位が置換されたチオフェノールのうち、
Ｐ−位がエステル、臭素原子、水酸基で置換されたもの
は、アリリックアルコール類と反応が進行する。一方、
Ｐ−位がアミノ基で置換されたチオフェノールは反応系
中で、不溶物を形成するために、アリリックアルコール
類との反応が進行しない。つまりアミノ基の窒素原子と
亜鉛が錯体を形成するために、亜鉛はアリリックアルコ
ールの水酸基に配位できない。そのため反応が進行しな
い。置換基にアミノ基をもちチオフェノールはこの反応
に適用できないというこの事実から、環内にヘテロ原子
を有するペテロ環チオール類中、特に窒素原子を数個含
むものには適用不可能であることが容易に推定される。

この推定を裏付ける事実として反応溶媒による反応性の
差があげられる。すなわち、この反応は１．２−ジクロ
ロエタン、および塩化メチレン溶媒中では速やかに進行
し、高収率でチオエーテルが得られる。

これに対し、アセトニトリル、ジエチルエーテル、ジメ
チルホルムアミド、デトラヒドロフランおよび酢酸エチ
ル溶媒中では反応は十分には進行しない。この事実は上
記溶媒分子中のヘテロ原子の亜鉛原子への配位の可能性
を示唆している。中でもアセトニトリル溶媒中で反応が
十分進行しない事実は、炭素−窒素不飽和結合中の窒素
原子が亜鉛に配位している可能性を示唆している。

以上のことから、テトラゾール、オキサジアゾール、チ
アジアゾールをはじめとするヘテロ原子を含むペテロ環
を有する芳香族チオールはこの反応には適用不可能であ
ると推定できる。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明の目的は、従来から知られていた方法では収率よ
く得られないと考えられるアリルチオ置換ヘテロ環化合
物を効率よく簡便な操作で合成する方法を提供すること
である。さらに詳しくは、ＤＩＲカプラーもしくはその
合成中間体であるアリルチオ置換ヘテロ環化合物を効率
よく合成する方法を提供することである。

（問題点を解決するための手段） 本発明者は、こうした従来法の欠点を克服すべき種々の
研究を重ねた。その結果、アリリックアルコール類とヘ
テロ環チオール類を出発物質とするアリルチオ置換ヘテ
ロ１類の合成方法を開発した。この方法はＤＩＲカプラ
ー合成に特に有利な方法である。

すなわち本発明は、一般式（Ｉ−ａ）もしくは（Ｉ−ｂ
） （式中、Ｒ１，Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルケニル基、またはアニリノ基を表わす。

Ｒ，ＲおよびＲ５は、水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、カルボン
アミド基、スルホンアミド基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、ニトロ基、ア
ルコキシ基。

アリールオキシ基、アルケニル基、アニリノ基。

カルボキシル基、スルホ基、アミノ基、Ｎ−アリールカ
ルバモイルオキシ基、スルファモイル基、Ｎ−アルキル
カルバモイルオキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカル
ボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘ
テロ環基、シアノ基、アルカンスルホニル基、アリール
オキシカルボニルアミノ基、アルカンスルホンアミド基
、アリールスルホニル基またはウレイド基を表わす。

Ｚは５員環もしくは６員環を形成するのに必要な非金属
原子群を表わす、２を含む５員もしくは６員環がアリー
ルのとき、アリールは置換されていてもよい、Ｚを含む
５員もしくは６員環がヘテロ環のとき、ヘテロ環は、窒
素原子、酸素原子、セレン原子、テルル原子もしくはイ
オウ原子の少なくとも１つを含む５員もしくは６員のヘ
テロ環を表わし、さらに縮合されていてもよく、また置
換基を有していてもよい。） で表わされるアリリックアルコール類と。

一般式（ＩＩ　） ＨＳ　−Ｎ　ｅ　　ｔ （式中、Ｎｅｔはヘテロ環を表わす、ヘテロ環は窒素原
子、酸素原子、セレン原子、テルル原子もしくはイ才つ
原子の少なくとも１つを含む５員もしくは６員のヘテロ
環を表わし、さらに縮合されていてもよく、また、置換
基を有していてもよい、） で表わされるメルカプタンとをルイス酸の存在下に反応
せしめ、一般式（ＩＩＩ　−ａ　）もしくは（Ｉ■−ｂ
） ＣＭ−ａ）　　　　　（Ｉ−ｂ） （式中、Ｒ，、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５、ＺおよびＨｅ
ｔはそれぞれ前記と同じ意味を持つ。）で表わされるア
リルチオ置換ヘテロ１類の製造方法を提供するものであ
る。

次に一般式（Ｉ−ａ）もしくは（Ｉ−ｂ）で表わされる
化合物について詳細を述べる。

一般式（Ｉ−ａ）もしくは（Ｉ−ｂ）で表わされる化合
物において、Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３，Ｒ４もしくはＲ５がア
ルキル基を表わすとき、またはＲ，Ｒ，Ｒ，Ｒもしくは
Ｒ５がアルキルｌ　　　　２　　　３　　　４ 基以外の官能基であると同時に官能基内にアルキル基が
結合しているとき、これらのアルキル基は１６換基また
は無置換のいずれであってもよいし、直鎖または分岐鎖
のいずれであってもよいし、環状アルキル基であっても
よい。アルキル基の置換基としては、アリール基、ハロ
ゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換メチレンアミ
ノ基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、
カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバ干イル基、Ｎ、Ｎ
−ジアルキルカルバモイル基、ニトロ基、アミノ基、Ｎ
−アリールカルバモイルオキシ基、スルファモイル基、
Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環基、シアノ基、アルキルスルホニル
基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルカンスル
ホンアミド基、アリールスルホニル基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アルケニル基、アラルキル基、アニ
リノ基、カルボキシル基、スルホ基またはウレイド基が
挙げられる。

Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４またはＲ５がアリール基又はア
ミノ基を表わすとき、これらは置換されていてもよく、
その置換基としては、アルキル基および前記アルキル基
の置換基として列挙した置換基か挙げられる。

Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４またはＲ５かヘテロ環基な表わ
すとき、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、セレン
原子、テルル原子またはイオウ原子を含む５員もしくは
６負環の単環またはＳ負もしくは６員環か縮合した縮合
環を表わす、このヘテロ環は、２−ピリジル基、３−ピ
リジル基、４−ピリジル基、２−キノリル基、３−キノ
リル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリ
ル基、７−キノリル基、８−キノリル基、２−フリル基
、３−フリル基、２−チエニル基、３−チエニル基、２
−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基
、３−イソチアゾリル基、４−イソデアゾリル基、５−
イソチアゾリル基。

２−ベンゾチアゾリル基、４−ベンゾチアゾリル基、５
−ベンゾチアゾリル基、６−ベンゾチアゾリル基、７−
ペンゾチアゾリル基、２−ベンゾオキサシリル基、４−
ベンゾオキサシリル基％５−ベンゾオキサシリル基、６
−ベンゾオキサシリル基、７−ペンゾオキサゾリル基、
ｌ−ベンゾゴミ５ダゾリル基、２−ベンゾイミダゾリル
基、３−ベンゾイミダゾリル基、４−ベンゾイミダゾリ
ル基、５−ベンゾイミダゾリル基、６−ベンゾイミダゾ
リル基、７−ペンゾイミダゾリル基、２−オキサゾリル
基％４−オキサゾリル基、５−才キサゾリル基、３−イ
ソオキサシリル基、４−イソオキサシリル基、５−イソ
オキサシリル基、ｌ−イミダゾリル基、２−イミダゾリ
ル基、４−イミダゾリル基、５−イミダゾリル基、２−
チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、
ＩＨ−１，２，３−１−リアゾール−１−イル基、ＩＨ
−１，２，３−トリアゾール−４−イル基、ＩＨ−１，
２，３−トリアゾール−５−イル基、２Ｈ−１，２，３
−トリアゾール−２−イル基、２Ｈ−１，２，３−１−
リアゾール−４−イル基、２Ｈ−１，２，３−トリアゾ
ール−５−イル基、ＩＨ−１，２，４−１−リアゾール
−１−イル基、ＩＨ−１，２，４−１−リアゾール−３
−イル基、ＩＨ−１，２，４−１−リアゾール−５−イ
ル基、４Ｈ−１，２，４−１−リアゾール−３−イル基
、４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−４−イル基、４日
−１，２，４−トリアゾール−５−イル基、ｌ−ベンゾ
トリアゾリル基、４−ベンゾトリアゾリル基、５−ベン
ゾトリアゾリル基、６−ベンゾトリアゾリル基、７−ベ
ンゾトリアゾリル基、４Ｈ−１，４−才キサジン−２−
イル基、４Ｈ−１，４−才キサジン−３−イル基、４Ｈ
−１，４−才キサジン−４−イル基などから選ばれ、こ
れらはさらにアルキル基および前記アルキル基の置換基
として列挙した置換基で置換されていてもよい、置換は
ヘテロ環上の炭素原子上でなされていてもよいし、また
可能ならばヘテロ環上の窒素原子上でなされていてもよ
い。

Ｚは式中の二重結合と連結して環を形成しているが、そ
の環がアリールのときはアリールはアルキル基および前
記アルキル基の置換基として列挙した置換基で置換され
ていてもよい、アリール環としてはベンゼン、ナフタレ
ン環があげられる。

環がヘテロ環のときには、ヘテロ環は、単環あるいは縮
合環のいずれでもよく、フラン、チオフェン、ビロール
、２−ビロリン、ピラゾール、イミダゾール、イソオキ
サゾール、オキサゾール、イソチアゾール、チアゾール
、２１１−ビラン、４Ｈ−ビラン、ピリジン、ピリダジ
ン、ピリミジン、ピラジン、４Ｈ−１，４−才キサジン
、４Ｈ−１，４−チアジン、４Ｈ−１，４−ジヒドロオ
キサジン、４Ｈ−１，４−ジヒドロチアジン等の基本複
素環よりなる。なおこれらのヘテロ環は、アルキル基お
よび前記アルキル基の置換基として列挙した置換基で置
換されていてもよい、置換はヘテロ環上の炭素原子上で
なされていてもよいし、また可能ならばヘテロ環上の窒
素原子上てなされていてもよい。

さて、一般式（Ｉ−ａ）もしくは（ｒ−ｂ）て表わされ
る化合物の置換基として本発明に好ましく用いられるも
のは以下の通りである。

すなわち４、Ｒ１，Ｒ２としては水素原子、炭素数１〜
３７のアルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル。

ｉ−ブチル、５ｅｃ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキ
シル、ローヘプチル、ベンジル、ビニル。

プロパギル、フェネチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、
ｎ−デシル）、炭素数６〜１００のアリール基（例えば
フェニル、０−２ｍ−１ｐ−メトキシフェニル、０−メ
トキシカルボニル、ｍ−メトキシカルボニル、ｐ−メト
キシカルボニル）等が好ましいがこれらに限定されるも
のではない。

Ｒ，Ｒ又はＲ５については、前述の中でも水素原子、炭
素数１〜３７までのアルキル基（例えばメチル、エチル
、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペン
チル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ
−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル
、ｎ−プロパデカ、ｎ−テトラデカ、ｎ−ペンタデカ、
ｎ−ヘキサデカ、ｎ−へブタデカ、ｎ〜オクタデカ）、
カルボキシル基、炭素数２〜３７までのアルコキシカル
ボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニル、ｎ−ドデシルオキシカルボニル、ｔ
−ブトキシカルボニル）、炭素数２〜３７までのアリー
ルオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）
、炭素数１〜１００までのカルバモイル基（例えばカル
バモイル、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ、Ｎ−ジ
エチルカルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−ブ
チルカルバモイル、Ｎ−シクロへキシルカルバモイル、
Ｎ、Ｎ”−ジシクロへキシルカルバモイル、Ｎ−ドデシ
ルカルバモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）
カルバモイル、Ｎ−［３−（２，４−ジ−ｔ−ペンチル
フェノキシ）プロピル］カルバモイル、Ｎ−（４（２，
４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）ブチルカルバモイル
）、炭素数１〜３７のカルボンアミド基（例えばホルム
アミド、アセトアミド、トリフルオロアセトアミド、プ
ロパンアミド、ベンズアミド、ｐ−ニトロベンズアミド
、ドデカノイルアミド）、炭素数１〜３７のスルホンア
ミド基（例えばメチルスルホンアミド、エチルスルホン
アミド、ブチルスルホンアミド、トリフルオロメチルス
ルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド。

ｐ−トルエンスルホンアミド、ベンジルスルホンアミド
、ｎ−ヘキサデシルスルホンアミド）、炭素ａ１〜１０
０のアルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、メトキ
シエトキシ、ベンジルオキシ、２−ピラニル、ｎ−ドデ
シルオキシ）、炭素数６〜５８のアリールオキシ基（例
えばフェノキシ、ナフトキシ）、ハロゲン原子（例えば
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）等が好ましいがこれ
らに限定されるものではない。

Ｚと図中の二重結合が連結して環を形成しているときそ
の環は、無置換アリール、置換アリール、置換ピラゾー
ル、置換イソオキサゾール等が好ましいがこれに限定さ
れるものではない。また置換アリール、置換ピラゾール
、置換イソオキサゾールの（η換基はそれぞれ、炭素数
１〜３７のアルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−へキサシル、
ｎ−へブチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル
、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎプロパデカ、ｎ−
テトラデカ、ｎ〜ペンタデカ、ｎ−へキサデカ、ｎ−へ
ブタデカ、ｎ−オクタデカ）、炭素数６〜５８のアリー
ル基（例えばフェニル、ｐ−ニトロフェニル、ｐ−ヒド
ロキシフェニル、２，４．６−トリクロロフエニル、ｐ
（ａ　（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブタンア
ミド）フェニル）、炭素数１〜３７のアルコキシ基（例
えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ）、炭素数１〜３
７のアリールオキシ基（例えばフェノキシ、ナフトキシ
）が好ましいがこれに限定されるものではない。

次に一般式（Ｉ１）で表わされる化合物について詳細を
述べる。

一般式（ＩＩ）で表わされる化合物において。

Ｈｅｔは単環あるいは縮合理のいずれでもよく、２−ベ
ンゾチアゾリル基、２−ベンゾイミダゾリル基、２−ベ
ンゾオキサシリル基、２−オキサジアゾリル基、２−チ
アジアゾリル基、２−セレノジアゾリル基、２−ピリジ
ル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、３−ピラゾリ
ル基、４−ピラゾリル基、２−ピリミジル基、４−ピリ
ミジル基、５−ピリミジル基、２−ビラジル基、３−ビ
ラジル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、３−ピラ
ゾリル基、４−ピラゾリル基、２−イミダゾリル基、４
−イミダゾリル基、ＩＨ−１，２゜３−トリアゾール−
４−イル基、１Ｈ−１，２゜３−トリアゾール−５−イ
ル基、２Ｈ−１，２゜３−トリアゾール−４−イル基、
２Ｎ−１，２゜３−トリアゾール−５−イル基、ＩＨ−
１，２゜４−トリアゾール−３−イル基、ＩＨ−１，２
゜４−トリアゾール−５−イル基、４Ｈ−璽８２゜４−
トリアゾール−３−イル基、４Ｈ−１，２゜４−トリア
ゾール−５−イル基、５−テトラゾリル基、１．３．５
−トリアジン−２−イル基、１．２，４．５−テトラジ
ン−３−イル基、２−フリル基、３−フリル基、２−チ
エニル基、３−チエニル基、３−イソオキサシリル基、
４−イソオキサシリル基、５−イソオキサシリル基、イ
ミダゾ［５，４−ｄ］ピリミジン−４−イル基、２−オ
キサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル
基、３−フラジル基、３−イソチアゾリル基、４−イソ
チアゾリル基、５−イソチアゾリル基、２−チアゾリル
基、４−チアゾリル基。

５−チアゾリル基等を表わす、なお、これらのヘテロ環
はアルキル基および前記アルキル基の置換基として列挙
した置換基で１６換されていてもよい。置換はへゾロ環
１．の炭素原子上でなされていてもよいし、またｉ＋）
能ならばヘテロ環上の窒素原子上でなされていてもよい
。

さて、一般式（Ｉ）で表わされる化合物として本発明に
好ましく用いられるものは以下の通シである。

（Ｉｆ） （Ｉｂ） （ｌｃ） （ｌｈ） （ｌｄ） （Ｉｅ） Ｈ３’Ｓ尺、６ （ｌｊ） （Ｉｋ） （Ｉｍ） （Ｉｕ） （Ｉｖ） （２ａ） （２ｂ） （２Ｃ） ｅ （Ｉｐ） （Ｉｑ） （Ｉｒ） （ｌｓ） （２ｄ） （２ｅ） （２ｆ） （２ｇ） （２ｈ） に７ 上記化合物（ｌａ）〜（２１）の置換基を以下に説明す
る。

Ｒ６は水素原子、アルキル基、アルコキシ基。

アシルアミノ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル
基、チアゾリリデンアミノ基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、Ｎ−アルキル
カルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、
ニトロ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、スルフ
ァモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、ヒド
ロキシ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、アリール基、ヘテロ環基、シア
ノ基、アルキルスルホニル基もしくはアリールオキシカ
ルボニルアミノ基を表わず、ｎは１または２を表わし、
ｎが２のときＲ６は同じでも異なっていてもよく、ｎ個
のＲ６に含まれる炭素数の合計は０−１５である。

Ｒ７は水素原子、アルキル基、アリール基もしくはヘテ
ロ環基を表わす。

ＲまたはＲ１は水素原子、アルキル基、アリール基、ハ
ロゲン原子、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルア
ミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルカン
スルホンアミド基、シアノ基、ヘテロ環基、アルキルチ
オ基、もしくはアミノ基を表わす、Ｒ、ＲおよびＲ８に
含まれる炭素数は１〜１５である。Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８ま
たはＲ５がアルキル基を表わすときは、置換または無置
換、直鎖または分岐鎖のいずれであってもよいし、環状
アルキル基であってもよい、アルキル基の置換基はハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アリール基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
リールオキシカルボニル基、スルファモイル基、カルバ
モイル基、ヒドロキシ基、アルカンスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、アルキルチオ基もしくはアリールチ
オ基なとである。

Ｒ、Ｒ、ＲまたはＲ９がアリール基を表わすとき、アリ
ール基は置換されていてもよい。

アリール基の置換基としてはアルキル基、アルケニル基
、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原
子、ニトロ基、アミノ基、スルファモイル基、ヒドロキ
シ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニルアミ
ノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アシルアミノ基
、シアノ基もしくはウレイド基などが挙げられる。

Ｒ、Ｒ、ＲまたはＲ９がヘテロ環基を表わすとき、ヘテ
ロ原子として窒素原子、酸素原子、イオウ原子を含む５
員または６員環の単環もしくは縮合環を表わし、ピリジ
ル基、キノリル基、フリル基、ベンゾチオゾリル基、オ
キサシリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、°トリ
アゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、イミド基、オキサ
ジン基などから選ばれ、これらはさらに前記アリール基
について列挙した置換基によって置換されていてもよい
。

次に本発明で用いられるルイス酸について詳細を述べる
。

ルイス酸としては、ヨウ化亜鉛、塩化アルミニウム、四
塩化スズ、三フッ化ホウ素エーテラート、四塩化チタン
、二塩化スズ、塩化亜鉛、臭化亜鉛またはフッ化亜鉛が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。

上記のルイス酸の中で本発明に好ましく用いられるもの
は、ヨウ化亜鉛、塩化アルミニウム、四塩化スズ、三フ
ッ化ホウ素エーテラート、四塩化チタン、塩化亜鉛また
は臭化亜鉛である。さらにその中で本発明に最も好まし
く用いられるルイス酸はヨウ化亜鉛である。

次に本発明の反応条件について詳細に述べる。

本発明において、一般式（Ｉ−ａ）もしくはＮ−ｂ）で
表わされる化合物および一般式（ＩＩ　）で表わされる
化合物並びにルイス酸の添加順序は任意であり、順に加
えてもよいし、同時にそのうちの２つあるいは３つ全て
を加えてもよい。

しかしながら、種々の添加順序の中でも、一般式Ｎ−ａ
）もしくは（Ｉ−ｂ）で表わされる化合物を反応溶媒に
均一に溶かした系中にルイス酸を添加し、次に一般式（
Ｉ１）で表わされる化合物を添加することが好ましい。

ところで本発明における溶媒としては１．２−ジクロロ
エタン、塩化メチレン、クロロメチン、クロロホルム、
四塩化炭素、１．ｌ−ジクロロエタン、１．１．２１−
ジクロロエタン、１．１゜１−トリクロロエタン、１．
１．２．２−テトラクロロエタン、１．ｌ、１．２．２
−ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、アセトニ
トリル、ジエチルニーデル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ。

Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドが挙
げられるが、中でも１．２−ジクロロエタン、塩化メチ
レン、酢酸エチルが好ましい。

文献（Ｙ、　Ｇｕｉｎｄｏｎ、　ｅｔ、　ａｌ、、　Ｊ
、　Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、。

４８、１３５７（Ｉ９８３１）によれば酢酸エチルでは
反応の進行状態は不十分であるとの記載があるが、本発
明者は一般式（Ｉ−ａ）もしくは（Ｉ−ｂ）と一般式（
■１）で表わされる化合物との反応には溶媒として酢酸
エチルも有効であることを見出した。

次に本発明の反応におけるモル比について詳細に述べる
。

本発明における一般式（Ｉ−ａ）もしくは（Ｉ−ｂ）で
表わされるアルコールに対する一般式（ＩＩ　）で表わ
される化合物のモル比は０．０１〜１０００であり、好
ましくは０．１〜ｌＯ１さらに好ましくは０．６５〜２
．０である。

また、一般式（Ｉ−ａ）もしくは（Ｉ−ｂ）で表わされ
る化合物に対するルイス酸のモル比は１．０ｘｌＯ−’
Ｑ−１ｏｏｏであり、好ましくは０．０５〜ｌＯ２さら
に好ましくは０．１〜５．０である。

反応温度は一７８°Ｃ〜２００℃、好ましくは０℃〜６
０℃である。

反応時間は通常５分〜４８時間、好ましくは２０分〜３
６時間、さらに好ましくは１〜１８時間である。

（化合物の具体例） 以下に本発明の反応を適用する化合物の具体例を一般式
（Ｉ−ａ）もしくは（Ｉ−ｂ）で示される化合物および
一般式（Ｉ１）で示される化合物並びに一般式（［−ａ
）もしくは（ＩＩＩ−ｂ）で示される化合物についてそ
れぞれ示すが、これらに限定されるものではない。

（Ｉ−ａ） 或は （ＩＮ−ａ） （Ｉ−ｂ） （Ｉ［） （ＩＮ−ｂ） （Ｉ−ｂ）の具体例 ■ Ｈ ｌ ■−１１５ Ｃρ （Ｉ−ｂ）の具体例 Ｈ し１２ｔｉ２Ｓ （Ｉ）の具体例 ■ １［−３ Ｉ−６ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■−１９ ■ ■ ２Ｈ４Ｃ１ ■−２２ Ｉ ■−２４ ■ ■ ■−３３ ■ ■ Ｈ３ Ｒ Ｈ ■ ■ ■ ■−３７ ■ ■−３９ ■ Ｈ ■ ■ ■ ■−４４ −Ｎ Ｈ５’　５’　Ｓ　ＣＨ２ＣＯＯＣ２Ｈ５［−５０ ■−５１ ■ ■−４６ ■−４７ ■ ■ （ＩＮ）の具体例 ｆｆ−２ ■ ｍ−４ ■ ０■ ■ Ｈ ■−１０ ０■ ■ ■−７ Ｈ ■−１３ ■ ■ ■−１８ ■−２２ ■−２３ ■−１９ ■−２０ ■−２５ ■−２６ ｆｉ ■ ■ ■−３４ ■ ■ ｌ ■ ■−３２ ■−３３ ■−３７ ■−３８ ！−３９ Ｈ ヘリ２ Ｈ Ｈ Ｉ υし１４１’１２９ ■ ■−４１ ■ Ｏ２ ■−４６ ■−４７ Ｈ ■−４３ Ｈ ■ ｌｌ−４５ ■−４９ ■ ■−５３ ■ ■ ■ ■−６１ ＬＪ２ ■−６４ ■−６５ ■−６６ （実施例） 次に本発明を実施例に基づき詳細に説明する。

実施例Ｉ　（化合物１１１−７の合成）窒素気流下、化
合物１−１−４９（２９５，０、４３Ｏｍｍｏｌ）の塩
化メチレン溶液に、室温にてヨウ化亜鉛（Ｉ３９ｍｇ、
０　、４３　Ｏｍｍｏｌ）を加え、１５分攪拌後、化合
物ＩＩ　−１７（６１，ｍｇ。

０　、５２３ｍｍｏｌ）を加え１８時間攪拌する。

０、ＩＮ希塩酸を加え、塩化メチレンで３回抽出する。

有機層を炭酸カリウム水溶液で洗い、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルクロマ
トグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝２：
１）で精製すると化合物ｍ−７（Ｉ６０ｍｇ１ｍ、ｐ、
１２２℃、４７％）が得られた。

実施例２（化合物ｌ１１−８の合成） 窒素気流下、化合物１−５１（６，１ｇ、９、４４ｍｍ
ｏｌ）の酢酸エチル溶液に、室温にてヨウ化亜鉛（６，
６ｇ、２０　、　Ｏｍｍｏｌ）を加え、３０分攪拌後、
化合物ＩＩ　−３（３、８３ｇ　。

９、４４ｍｍｏｌ）を加え、５時間攪拌する。水を加え
、酢酸エチルで３回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
する。減圧ｆ溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー
（展開溶媒、塩化メチレン：メタノール＝３０：Ｉ）で
精製すると化合物１１１−８（７，３２ｇ、ｍ、ｐ、１
５８℃％９４％）が得られた。

実施例３（化合物■−６４の合成） 実施例１と同様の処方により、化合物ｌ−１６４（Ｉ，
１４ｇ、１　Ｏｍｍｏｌ）　、ヨウ化亜鉛（３，１９ｇ
、１０ｍｍｏｌ）と化合物１１−１（Ｉ，７８ｇ、　　
Ｉ　Ｏｍｍｏｌ）を用いた反応を行い、カラムクロマト
グラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝４：１
）で精製すると化合物ｍ−６４（２，３ｇ、８５％）が
得られた。

実施例４（化合物■−６５の合成） 実施例１と同様の処方により、化合物Ｉ−１６５（０，
９８ｇ、　　１　Ｏｍｍｏｌ）　、ヨウ化亜鉛（３，１
９ｇ、　　１　Ｏｍｍｏｌ）　、化合物ＩＩ　−１（Ｉ
，７８ｇ、ｌ　Ｏｍｍｏｌ）を用いた反応を行い。

カラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸
エチル＝４：１）で精製すると化合物■−６５（Ｉ，５
ｇ、５９％）が得られた。

実施例５（化合物■−６６の合成） 実施例Ｉと同様の処方により、化合物ｌ−２５（Ｉ，０
８ｇ、　　１　Ｏｍｍｏｌ）　、ヨウ化亜鉛（３，１９
ｇ、　　１０ｎ＋ｍｏｌ）　、化合物Ｉｆ　−１（Ｉ，
７８ｇ、　　ｌ　Ｏｍｍｏｌ）を用いた反応を行い、カ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エ
チル＝１０：１）で精製すると化合物■１−６６　（Ｉ
，５ｇ、５６％）が得られた。

実施例６（化合物ｍ−６７の合成） 実施例１と同様の処方により、化合物ｌ−２５（０，５
４ｇ、５ｍｍｏｌ）　、ヨウ化亜鉛（Ｉ，６０ｇ、５ｍ
ｍｏｌ）化合物ＩＴ−１８（０，６６ｇ、５ｍｍｏ　ｌ
　）を用いた反応を行い、カラムクロマトグラフィー（
展開溶媒、ヘキサンニ酢酸エチル＝４：ｌ）で精製スル
と化合物［１１−６７（０，９ｇ。

８１％）が得られた。

実施例７（化合物１１１−５の合成） 化合物１−５１　　（Ｉ，４０ｇ、２．　１７ｍｍｏｌ
）の酢酸エチル溶液に、室温にてヨウ化亜鉛（Ｉ，ＯＯ
ｇ、３．　１３ｍｍｏｌ）を加え、５５分攪拌後、化合
物ＴＩ　−２（０、２６ｇ、２．００ｍｍｏ　ｌ　）を
加え、１４時間攪拌する。

０、ＩＮ希塩酸を加え、酢酸エチルで３回抽出する。有
機層を飽和炭酸カリウム水溶液で洗い、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒、塩化メチレン：メタ
ノール＝２０：ｌ）で精製すると化合物ｌ１１−５　（
Ｉ，２０ｇ、　ｍ、ｐ。

１３８℃、７９％）が得られた。

実施例８（化合物ｌ１１−６の合成） 化合物１−５１　　（Ｉ，４０ｇ、２．　１７ｍｍｏｌ
）の酢酸エチル溶液に、室温にてヨウ化亜鉛（Ｉ，００
ｇ、３．　１３ｍｍｏｌ）を加え、２０分攪拌後化合物
ｌｌ−１（０，２５４ｇ、１．４３ｍｍｏ　ｌ　）を加
え１３時間攪拌する。

０．１Ｎ希塩酸を加え酢酸エチルで３回抽出する。有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開溶媒、塩化メチレン：
メタノール＝２０＝１）で精製すると、化合物１１１−
６　（０，９０ｇ、ｍ、　ｐ、　６２℃、７８％）が得
られた。

（発明の効果） 本発明の効果を列挙すれば次の通りである。

１、種々のアリリックアルコール類とヘテロ環チオール
との反応によるアリルチオ置換ヘテロ１類の広い一般性
をもつ新しい製造方法が提供される。

２、種々のアリリックアルコール類をヘテロ環チオール
とから一工程でアリルチオ置換ヘテロ１類が得られる。

３、温和な条件下で反応は進行する。

４、実験操作が大変簡便で収率もよい。

５、ヨウ素亜鉛等の安価なルイス酸と溶媒が必要なだけ
であるから、工業化可能である。

６、従来ルイス酸が配位してしまうため合成に用いるに
は不適とされていた酢酸エチルを溶媒として高収率でア
リルチオ置換ヘテロ１類な得ることができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 下記一般式（ I −ａ）もしくは（ I −ｂ）で表わされ
   るアリリックアルコール類と下記一般式（II）で表わさ
   れるメルカプタンとをルイス酸の存在下で反応させるこ
   とを特徴とする下記一般式（III−ａ）もしくは（III−
   ｂ）で表わされるアリルチオ置換ヘテロ環類の製造方法
   。 一般式（ I −ａ）一般式（ I −ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼ （ I −ａ）（ I −ｂ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２は水素原子、ハロゲン原子、ア
   ルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、
   アリールチオ基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオ
   キシ基、アルケニル基、またはアニリノ基を表わす。 Ｒ＿３、Ｒ＿４およびＲ＿５は、水素原子、ハロゲン原
   子、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基
   、カルボンアミド基、スルホンアミド基、アリールオキ
   シカルボニル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、ニ
   トロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルケニル
   基、アニリノ基、カルボキシル基、スルホ基、アミノ基
   、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、スルファモイル
   基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、ヒドロキシ基
   、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、ア
   リールチオ基、ヘテロ環基、シアノ基、アルカンスルホ
   ニル基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルカン
   スルホンアミド基、アリールスルホニル基またはウレイ
   ド基を表わす。 Ｚは５員環もしくは６員環を形成するのに必要な非金属
   原子群を表わす。Ｚを含む５員もしくは６員環がアリー
   ルのとき、アリールは置換されていてもよい。Ｚを含む
   ５員もしくは６員環がヘテロ環のとき、ヘテロ環は、窒
   素原子、酸素原子、セレン原子、テルル原子もしくはイ
   オウ原子の少なくとも１つを含む５員もしくは６員のヘ
   テロ環を表わし、さらに縮合されていてもよく、また、
   置換基を有していてもよい。） 一般式（II） ＨＳ−Ｈｅｔ （式中、Ｈｅｔはヘテロ環を表わす。ヘテロ環は、窒素
   原子、酸素原子、セレン原子、テルル原子、もしくはイ
   オウ原子の少なくとも１つを含む５員もしくは６員のヘ
   テロ環を表わし、さらに縮合されていてもよく、また、
   置換基を有していてもよい。） 一般式（III−ａ）もしくは（III−ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼ （III−ａ）（III−ｂ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５、Ｚ
   およびＨｅｔはそれぞれ前記と同じ意味をもつ。）