JPH02105099A - 高速原子源 - Google Patents
高速原子源Info
- Publication number
- JPH02105099A JPH02105099A JP25696488A JP25696488A JPH02105099A JP H02105099 A JPH02105099 A JP H02105099A JP 25696488 A JP25696488 A JP 25696488A JP 25696488 A JP25696488 A JP 25696488A JP H02105099 A JPH02105099 A JP H02105099A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- electron
- electron beam
- ion beam
- magnet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims abstract description 52
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 44
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 3
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は高速原子源に関するものである。
［従来の技術１
従来、イオン線と電子線とを混合することによって高速
原子線を得る高速原子源においては、高速原子線のエネ
ルギーを制御するためにイオン線のエネルギーは制御さ
れていたが、イオン線を形成するイオンの速度と、電子
線を形成する電子の速度とは同じにはなっていなかった
。
原子線を得る高速原子源においては、高速原子線のエネ
ルギーを制御するためにイオン線のエネルギーは制御さ
れていたが、イオン線を形成するイオンの速度と、電子
線を形成する電子の速度とは同じにはなっていなかった
。
［発明が解決しようとする課題］
従来のイオン線と電子線とを混合することによって高速
原子線を得る高速原子源では、イオン線を形成するイオ
ンと、電子線を形成する電子の速度とが同じになってい
なかったために、イオン線と電子線との混合によるイオ
ン線の中和の効率が不十分であり、高密度の高速原子線
が得られていなかった。従って、高速原子線のビーム径
を絞ることが十分にできなかったので、高速原子線の微
小領域への照銅が困難であった。
原子線を得る高速原子源では、イオン線を形成するイオ
ンと、電子線を形成する電子の速度とが同じになってい
なかったために、イオン線と電子線との混合によるイオ
ン線の中和の効率が不十分であり、高密度の高速原子線
が得られていなかった。従って、高速原子線のビーム径
を絞ることが十分にできなかったので、高速原子線の微
小領域への照銅が困難であった。
本発明は以上述べたような従来の問題点を解決するため
になされたもので、イオン線と電子線との中和の効率が
高く、従って高密度の高速原子線を（ｑることのできる
高速原子源を提供することを目的とする。
になされたもので、イオン線と電子線との中和の効率が
高く、従って高密度の高速原子線を（ｑることのできる
高速原子源を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段１
本発明は、正イオンからなるイオン線を発生するイオン
線源と、電子線を発生する電子線源と、前記イオン線お
よび電子線を混合・中和する磁石または電極とを備えて
なる高速原子源において、イオン線を形成覆るイオンの
速度と、電子線を形成する電子の速度とを等しくさせる
速度制御手段か設けられてなることを特徴とする高速原
子源であり、また、上記の高速原子源において、電子線
および／またはイオン線の［１５または電極への入射角
が可変であることを好適とするものでおる。
線源と、電子線を発生する電子線源と、前記イオン線お
よび電子線を混合・中和する磁石または電極とを備えて
なる高速原子源において、イオン線を形成覆るイオンの
速度と、電子線を形成する電子の速度とを等しくさせる
速度制御手段か設けられてなることを特徴とする高速原
子源であり、また、上記の高速原子源において、電子線
および／またはイオン線の［１５または電極への入射角
が可変であることを好適とするものでおる。
［作用］
本発明による高速原子源では、イオン線を形成するイオ
ンの速度と電子線を形成する電子の速度とを等しくする
ための速度制御手段が設けられているので、各線の進行
方向に対するイオンと電子の相対速度がピロになる。従
って、クーロン力によるイオンと電子の会合確率か高く
なり、従来のイオン線と電子線とを混合する高速原子源
と比較してイオン線の電子線による中和の効率が高くな
り、微細で高密度の高速原子線が容易に得られる。
ンの速度と電子線を形成する電子の速度とを等しくする
ための速度制御手段が設けられているので、各線の進行
方向に対するイオンと電子の相対速度がピロになる。従
って、クーロン力によるイオンと電子の会合確率か高く
なり、従来のイオン線と電子線とを混合する高速原子源
と比較してイオン線の電子線による中和の効率が高くな
り、微細で高密度の高速原子線が容易に得られる。
また、イオン線と電子線とを混合するための磁石または
電極に対して、イオン源から（ｑられるイオン線、ある
いは電子源から得られる電子線の入射角を可変とした場
合には、中和するイオン線のエネルギーに応じた理想的
なイオン線と電子線との混合が得られる軌道を得ること
ができる。
電極に対して、イオン源から（ｑられるイオン線、ある
いは電子源から得られる電子線の入射角を可変とした場
合には、中和するイオン線のエネルギーに応じた理想的
なイオン線と電子線との混合が得られる軌道を得ること
ができる。
［実施例］
次に本発明の実施例について図面を参照して詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明の一実施例を示す概略構成図である。イ
オン源１から得られるイオン線７はイオン加速電極３に
より加速され、次いでイオン集束電極５により集束され
て、イオン線と電子線とを混合するための磁石６に入射
する。また、電子源２より得られる電子線８は電子加速
電極４により加速されて磁石６に入射する。ここで、イ
オン源１、イオン加速電）へ３、イオン集束電極５は一
体となって磁石６の回りを動くことができる。電子源２
、電子加速電極４も同じく一体となって磁石６の回りを
動くことができる。このとき、速度制御手段１４では、
イオン源１より冑られるイオン種、およびイオン加速電
極３にかがっている加速電圧からイオン線７を形成する
イオンの速度を搾出すると共に、このイオン線７を形成
するイオンの速度と電子線８を形成する電子の速度とが
等しくなるように電子加速電極４に印加する電圧を決定
覆る。
オン源１から得られるイオン線７はイオン加速電極３に
より加速され、次いでイオン集束電極５により集束され
て、イオン線と電子線とを混合するための磁石６に入射
する。また、電子源２より得られる電子線８は電子加速
電極４により加速されて磁石６に入射する。ここで、イ
オン源１、イオン加速電）へ３、イオン集束電極５は一
体となって磁石６の回りを動くことができる。電子源２
、電子加速電極４も同じく一体となって磁石６の回りを
動くことができる。このとき、速度制御手段１４では、
イオン源１より冑られるイオン種、およびイオン加速電
極３にかがっている加速電圧からイオン線７を形成する
イオンの速度を搾出すると共に、このイオン線７を形成
するイオンの速度と電子線８を形成する電子の速度とが
等しくなるように電子加速電極４に印加する電圧を決定
覆る。
ここで、イオン源１．イオン加速電極３．イオン集束電
極５．電子源２．電子加速電極４は、イオン線と電子線
とを混合するための磁石６に対して可変であるために、
イオン線７と電子線８の磁′ＥＪ６に対する入射角を、
イオン線７のエネルギーに応じてイオン線７と電子線８
とが混合する理想的な軌道を描くための角度に選ぶこと
ができる。
極５．電子源２．電子加速電極４は、イオン線と電子線
とを混合するための磁石６に対して可変であるために、
イオン線７と電子線８の磁′ＥＪ６に対する入射角を、
イオン線７のエネルギーに応じてイオン線７と電子線８
とが混合する理想的な軌道を描くための角度に選ぶこと
ができる。
等しい速度を持ってイオン線と電子線とを混合するため
の磁石６に入射したイオン線７と電子線８とは、磁石６
か発生する磁界によって混合され、イオン線、電子線、
高速原子線の混合線９が１ｑられる。混合線９は、磁石
１０に大剣すると、磁石１０の発生する磁界によって荷
電粒子より形成されているイオン線、電子線は曲げられ
るが、電荷を持たない高速原子線は直進するため高速原
子線１１のみが得られる。高速原子線１１の試料１３へ
の照射の有無は、遮蔽板１２によってなされる。
の磁石６に入射したイオン線７と電子線８とは、磁石６
か発生する磁界によって混合され、イオン線、電子線、
高速原子線の混合線９が１ｑられる。混合線９は、磁石
１０に大剣すると、磁石１０の発生する磁界によって荷
電粒子より形成されているイオン線、電子線は曲げられ
るが、電荷を持たない高速原子線は直進するため高速原
子線１１のみが得られる。高速原子線１１の試料１３へ
の照射の有無は、遮蔽板１２によってなされる。
なお、混合線９が実質的に高速原子線のみからなる場合
、および荷電粒子を含んでいても後工程における利用に
差し支えない場合にはｔａ石１０を用いなくともよい。
、および荷電粒子を含んでいても後工程における利用に
差し支えない場合にはｔａ石１０を用いなくともよい。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明による高速原子源では、イ
オン線と電子線との中和の効率が非常に高いので、従来
よりも高密度の高速原子線を得ることができる。
オン線と電子線との中和の効率が非常に高いので、従来
よりも高密度の高速原子線を得ることができる。
また、イオン源および／または電子源をイオン線と電子
線を混合するための磁石または電極に対して可変とした
場合には、イオン線のエネルギーを変化させた時にもイ
オン線と電子線とが混合するための理想的な軌道を得る
ことができる。
線を混合するための磁石または電極に対して可変とした
場合には、イオン線のエネルギーを変化させた時にもイ
オン線と電子線とが混合するための理想的な軌道を得る
ことができる。
ざらに、イオン線を非常に細く絞った場合でも、イオン
線が非常によく中和されるため、密度の高い高速原子線
か得られるので、高速原子線を試料の微小領域へ照射す
ることか容易になるという効果も有する。
線が非常によく中和されるため、密度の高い高速原子線
か得られるので、高速原子線を試料の微小領域へ照射す
ることか容易になるという効果も有する。
第１図は本発明の一実施例の概略構成図である。
１・・・イオン源 ２・・・電子源３・・・
イオン１ノ［」速電極 ４・・・電子加速電極５・
・・イオン集束電極 ６，１０・・・磁石７・・・
イオン線 ８・・・電子線９・・・混合線
１１・・・高速原子線１２・・・遮蔽板
１３・・・試料１４・・・速度制御手段
イオン１ノ［」速電極 ４・・・電子加速電極５・
・・イオン集束電極 ６，１０・・・磁石７・・・
イオン線 ８・・・電子線９・・・混合線
１１・・・高速原子線１２・・・遮蔽板
１３・・・試料１４・・・速度制御手段
Claims (2)
- （１）正イオンからなるイオン線を発生するイオン線源
と、電子線を発生する電子線源と、前記イオン線および
電子線を混合・中和する磁石または電極とを備えてなる
高速原子源において、イオン線を形成するイオンの速度
と、電子線を形成する電子の速度とを等しくさせる速度
制御手段が設けられてなることを特徴とする高速原子源
。 - （２）電子線の磁石または電極への入射角が可変である
請求項（１）記載の高速原子源。（３）イオン線の磁石
または電極への入射角が可変である請求項（１）記載の
高速原子源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25696488A JPH02105099A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 高速原子源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25696488A JPH02105099A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 高速原子源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02105099A true JPH02105099A (ja) | 1990-04-17 |
Family
ID=17299817
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25696488A Pending JPH02105099A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 高速原子源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02105099A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6202583B1 (en) | 1998-10-08 | 2001-03-20 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Steering structure of personal watercraft |
| US7137348B2 (en) | 2004-01-28 | 2006-11-21 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Small watercraft |
| GB2619948A (en) * | 2022-06-22 | 2023-12-27 | Fusion Reactors Ltd | Neutral beam injection apparatus and method |
-
1988
- 1988-10-14 JP JP25696488A patent/JPH02105099A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6202583B1 (en) | 1998-10-08 | 2001-03-20 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Steering structure of personal watercraft |
| US7137348B2 (en) | 2004-01-28 | 2006-11-21 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Small watercraft |
| GB2619948A (en) * | 2022-06-22 | 2023-12-27 | Fusion Reactors Ltd | Neutral beam injection apparatus and method |
| GB2619948B (en) * | 2022-06-22 | 2024-06-12 | Fusion Reactors Ltd | Neutral beam injection apparatus and method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH04226021A (ja) | 物体を荷電粒子ビームで照射する方法 | |
| US4835399A (en) | Charged particle beam apparatus | |
| JPS5978432A (ja) | 多種形状粒子ビ−ム形成用の偏向対物系を備える装置 | |
| JPH02105099A (ja) | 高速原子源 | |
| JPH04109598A (ja) | 高速原子線源 | |
| US4839523A (en) | Ion implantation apparatus for semiconductor manufacture | |
| JP3752259B2 (ja) | クラスターイオンビームスパッター方法 | |
| KR100189995B1 (ko) | 이온 주입장치 및 이를 이용한 이온주입방법 | |
| GB1518282A (en) | Ion beam separators | |
| JPS62112777A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPH02100299A (ja) | 高速原子源 | |
| Tokési et al. | Model calculation of the electron capture to the continuum peak at neutral projectile impact | |
| JPH02100298A (ja) | 高速原子源 | |
| JPS5927383B2 (ja) | イオンビ−ム薄膜作成装置 | |
| JPS60731A (ja) | イオン打込み方法 | |
| JPH04277459A (ja) | 低エネルギ−イオン照射装置 | |
| JPH02183998A (ja) | 中性粒子入射装置 | |
| JPH0133897B2 (ja) | ||
| JP2862330B2 (ja) | リターディングウィーンフィルタ | |
| JPH0748368B2 (ja) | 複合イオンビーム照射方法及び照射装置 | |
| JPH08117351A (ja) | 粒子ビーム照射方法および粒子ビーム装置並びにそれを用いた医療装置 | |
| JPS6290842A (ja) | 集束イオンビ−ム照射装置 | |
| SU602069A1 (ru) | Ускоритель пр мого действи | |
| JPH01236567A (ja) | 表面解析装置 | |
| JPH05190296A (ja) | 中性粒子の発生方法及びその装置 |