JPH0210155B2 - - Google Patents
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- JPH0210155B2 JPH0210155B2 JP58217007A JP21700783A JPH0210155B2 JP H0210155 B2 JPH0210155 B2 JP H0210155B2 JP 58217007 A JP58217007 A JP 58217007A JP 21700783 A JP21700783 A JP 21700783A JP H0210155 B2 JPH0210155 B2 JP H0210155B2
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
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Description
この発明は、一般式
［式中、R1は式
【式】
【式】または
【式】（式中、Ｘは硫黄原子、イ
ミノ基またはアシルイミノ基を意味する）示され
る基、R2は低級アルキル基、Ｚは水素原子また
は低級アルキル基をそれぞれ意味する］ で示される置換イミノ酢酸誘導体およびその塩類
に関するものである。 この発明の目的化合物（）および後記のセフ
アロ化合物（）はいずれも幾何学異性体である
ところのシン異性体、アンチ異性体またはそれら
の混合物からなり、ここでは分子中に、部分構造
式
る基、R2は低級アルキル基、Ｚは水素原子また
は低級アルキル基をそれぞれ意味する］ で示される置換イミノ酢酸誘導体およびその塩類
に関するものである。 この発明の目的化合物（）および後記のセフ
アロ化合物（）はいずれも幾何学異性体である
ところのシン異性体、アンチ異性体またはそれら
の混合物からなり、ここでは分子中に、部分構造
式
【式】を有するものをシン（syn）
異性体、部分構造式
【式】を
有するものをアンチ（anti）異性体とそれぞれ定
義する。 この発明の目的化合物を表わす一般式（）に
おいてR1は式
義する。 この発明の目的化合物を表わす一般式（）に
おいてR1は式
【式】
【式】または
【式】で示される基であり、ここ
でＸは硫黄原子、イミノ基またはアシルイミノ基
を意味し、アシルイミノ基におけるアシル基とし
てはホルミル、アセチル、トリフルオロアセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、イソバ
レリル等の置換もしくは非置換の低級アルカノイ
ル基が例示される。R2はメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第３
級ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級アルキル
基を意味する。Ｚは水素原子またはメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、第３級ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級
アルキル基を意味する。 目的化合物（）の塩類としては、例えば、ナ
トリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カ
ルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金
属塩等の無機塩基との塩、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、ピリジン等の有機塩基との塩等
が挙げられる。 この発明の目的化合物（）は、例えば次に示
す方法により製造することができる。 （式中、ＸおよびR2は前と同じ意味であり、Hal
はハロゲン原子、R4は低級アルキル基をそれぞ
れ意味する） この発明の目的化合物（）は、例えば、一般
式 （式中、R1およびR2はそれぞれ前と同じ意味で
あり、R3はアシルオキシ基または複素環チオ基
を意味し、R3の複素環チオ基における複素環式
基は低級アルキル基で置換されていてもよいもの
とする］ で示される抗菌剤として有用なセフアロ化合物ま
たはその塩類を合成するための原料として有用で
ある。 このセフアロ化合物（）においてR3は、カ
ルバモイルオキシもしくはホルミルオキシ、アセ
トキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、
バレリルオキシ、イソバレリルオキシ、ピバロイ
ルオキシ等の低級アルカノイルオキシなどのアシ
ルオキシ基、または複素環チオ基であり、該複素
環式基は単環もしくは多環の、窒素原子を少なく
とも１個有する複素環式基であり、具体的には、
ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾ
リル、テトラゾリル、オキサゾリル、チアゾリ
ル、チアジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンズ
イミダゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピリダ
ジニル、ピラジニル、ピロリジニル、チアジニ
ル、キノリル、イソキリノルなどが挙げられる。
これらの複素環式基はメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第３級
ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級アルキル基
で置換されていてもよいものとする。 セフアロ化合物（）の塩類としては、例え
ば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属
塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ
土類金属塩、アンモニウム塩等の無機塩基との
塩、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、
ピリジン塩等の有機塩基との塩、アルギニン塩の
ようなアミノ酸との塩、塩酸塩、硫酸塩等の無機
酸との塩、マレイン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩
等の有機酸との塩などが挙げられる。 このセフアロ化合物（）は、一般式 （式中、R3は前と同じ意味） で示される７―アミノ―３―置換―３―セフエム
―４―カルボン酸またはその塩類に一般式 （式中、R1およびR2は前と同じ意味） で示される置換イミノ酢酸誘導体またはそのカル
ボキシ基における反応性誘導体もしくは塩類を作
用させることにより製造することができる。 次にこの発明を実施例によつてさらに詳細に説
明する。 実施例 １ (i) エタン―１，２―ジチオール20.6ｇ、トリエ
チルアミン21ｇおよび乾燥クロロホルム60mlか
らなる混液に、２―クロロアセチル―２―メト
キシイミノ酢酸エチル41.4ｇを乾燥クロロホル
ム100mlに溶解した溶液を20℃で撹拌しながら
１時間で滴下する。これを18〜21℃で2.5時間
撹拌した後、10％塩酸でPH1.0に調整する。ク
ロロホルム層を分取し、水100mlで３回洗浄し
た後、硫酸マグネシウムで乾燥する。これを減
圧下40℃で濃縮乾固した後、残渣をトルエン
300mlに溶解する。この溶液にｐ―トルエンス
ルホン酸３ｇを加え、水を除きながら３時間加
熱還流する。反応液を室温まで冷却し、不溶物
を濾去した後、濾液を40℃で減圧濃縮する。残
渣を酢酸エチル300mlに溶解し、炭酸水素ナト
リウム飽和水溶液で３回、次いで水で２回洗浄
した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。これを
40℃で減圧下に濃縮乾固すると、黄色油状物を
得る。これをシリカゲル60（メルク社製）１Kg
のカラムクロマトグラフイー（溶離溶媒：ベン
ゼン）に付し、ベンゼン溶出液を40℃で減圧濃
縮する。これをジイソプロピルエーテルで洗浄
し乾燥すると、mp65〜67℃、白色結晶の２―
（２，３―ジヒドロ―１，４―ジチイン―６―
イル）―２―メトキシイミノ酢酸エチル（シン
異性体）11ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：1725，1670cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：1.25（3H，ｔ，Ｊ＝
７Hz），3.25（4H，ｓ），3.80（3H，ｓ），
4.30（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz），6.78（1H，ｓ） (ii) 上記で得た２―（２，３―ジヒドロ―１，４
―ジチイン―６―イル）―２メトキシイミノ酢
酸エチル（シン異性体）2.47ｇ、メタノール30
mlおよび1N水酸化ナトリウム水溶液20mlから
なる混液を室温で24時間撹拌する。反応液を減
圧下に濃縮した後、残渣を水に溶解する。これ
を酢酸エチルで洗浄し、水層を氷冷下に10％塩
酸を滴下してPH1.0に調整した後、酢酸エチル
で抽出する。抽出液を氷水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。これを40℃で減圧濃縮
し、残渣をジイソプロピルエーテルで洗浄した
後、乾燥すると、mp120〜122℃（分解）、白色
結晶の２―（２，３―ジヒドロ―１，４―ジチ
イン―６―イル）―２―メトキシイミノ酢酸
（シン異性体）2.0ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：2500〜2600，1720，1670，
1620cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：3.20（4H，ｓ），3.80
（3H，ｓ）6.61（1H，ｓ） 実施例 ２ (i) ２―メルカプトエチルアミン塩酸塩10.0ｇお
よびクロロホルム100mlからなる溶液にトリエ
チルアミン18.7ｇを、次いで２―メトキシイミ
ノ―２―クロロアセチル酢酸エチル26.2ｇ（純
度70％）を氷冷下に撹拌しながら加えて、室温
で1.5時間撹拌する。反応液を減圧濃縮し、残
渣に水を加えた後、ジエチルエーテルで４回抽
出する。抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で
１回洗浄した後10％塩酸で４回抽出する。塩酸
抽出液をジエチルエーテルで２回洗浄し、炭酸
水素ナトリウム飽和水溶液でPH6.5に調整した
後、ジエチルエーテルで４回抽出する。これを
硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留
去すると、油状の２―（２，３―ジヒドロ―
4H―１，４―チアジン―５―イル）―２―メ
トキシイミノ酢酸エチル（シン異性体）5.2ｇ
を得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：3400（肩）、1740，1635cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（CCl4：ppm）：1.36（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz），
2.9〜3.2（2H，ｍ），3.5〜3.8（2H，ｍ），
3.89（3H，ｓ），4.30（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz），
5.00（1H，ｓ） (ii) 上記で得た２―（２，３―ジヒドロ―4H―
１，４―チアジン―５―イル）―２―メトキシ
イミノ酢酸エチル（シン異性体）5.8ｇを、無
水酢酸7.7ｇおよび義酸3.48ｇからなる溶液を
予め50℃で２時間加温したものに、氷冷しなが
ら加えた後、室温で一夜撹拌する。反応液に冷
水100mlを加えた後、酢酸エチルで３回抽出す
る。抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で１
回、炭酸水素ナトリウム水溶液で４回、次いで
塩化ナトリウム飽和水溶液で１回順次洗浄した
後、硫酸マグネシウムで乾燥する。これを減圧
濃縮した後、残渣をジイソプロピルエーテル15
mlで結晶する。結晶を濾取し、ジイソプロピル
エーテルで洗浄すると、mp94〜96℃の２―
（４―ホルミル―２，３―ジヒドロ―4H―１，
４―チアジン―５―イル）―２―メトキシイミ
ノ酢酸エチル（シン異性体）5.0ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：1735，1725，1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（CDCl3，ppm）：3.16（3H，ｔ，Ｊ＝７
Hz），3.95（3H，ｓ），2.96〜3.28（2H，
ｍ），3.78〜4.20（2H，ｍ），4.38（2H，ｑ，
Ｊ＝７Hz），6.15（1H，ｓ），8.62（1H，ｓ） (iii) 上記で得た２―（４―ホルミル―２，３―ジ
ヒドロ―4H―１，４―チアジン―５―イル）
―２―メトキシイミノ酢酸エチル（シン異性
体）4.8ｇおよびエタノール48mlの懸濁液に1N
水酸化カリウム水溶液22.3mlを加えて、１時間
15分室温で撹拌する。反応液からエタノールを
留去し、残留液に水を加え、全量を100mlに調
整した後、ジエチルエーテルで１回洗浄する。
これを冷却下に10％塩酸でPH１に調整して塩析
する。これを酢酸エチルで抽出し、抽出液を塩
化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マ
グネシウムで乾燥する。これを減圧濃縮し、残
渣にジエチルエーテル15mlを加えて結晶化した
後、析出物を濾取しジエチルエーテルで洗浄す
ると、mp145℃（分解）の２―（４―ホルミル
―２，３―ジヒドロ―4H―１，４―チアジン
―５―イル）―２―メトキシイミノ酢酸（シン
異性体）3.51ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：1710，1610cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：3.08（2H，ｍ），3.80
（2H，ｍ），3.83（3H，ｓ），6.40（1H，
ｓ），8.47（1H，ｓ） 実施例 ３ (i) ２―メルカプトフエノール3.5ｇ、トリエチ
ルアミン3.0ｇおよび乾燥クロロホルム35mlか
らなる溶液に、２―クロロアセチル―２―メト
キシイミノ酢酸エチル6.2ｇを乾燥クロロホル
ム60mlに溶解した溶液を、20℃で撹拌下に30分
間要して滴下した後、18〜22℃で2.5時間撹拌
する。反応液を10％塩酸、炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液および水で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。これを40℃で減圧濃縮し、
残渣をトルエン100mlに溶解する。この溶液に
ｐ―トルエンスルホン酸１ｇを加えて生成する
水を反応系から留去しながら３時間加熱還流す
る。反応液を、室温まで放冷し、酢酸エチル50
mlを加えた後、活性炭で処理する。これを1N
水酸化ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥した後、40℃で減圧濃
縮する。残渣をシリカゲル60（メルク社製）140
ｇを用いたカラム・クロマトグラフイー（溶離
溶媒：ベンゼン）に付して分離、精製する。精
製物をジイソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥
すると、mp78〜80℃、淡黄色結晶の２―（１，
４―ベンズオキサチイン―２―イル）―２―メ
トキシイミノ酢酸エチル（シン異性体）1.2ｇ
を得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：3050，1725，1600cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：1.25（3H，ｔ，Ｊ＝
７Hz），3.92（3H，ｓ），4.33（2H，ｑ，Ｊ
＝７Hz），6.25（1H，ｓ），7.24（4H，ｍ） (ii) 上記で得た２―（１，４―ベンズオキサチイ
ン―２―イル）―２―メトキシイミノ酢酸エチ
ル（シン異性体）1.2ｇ、メタノール17mlおよ
び1N水酸化ナトリウム水溶液８mlからなる混
液を室温で24時間撹拌する。反応液を40℃で減
圧濃縮し、残渣を水に溶解した後、酢酸エチル
で洗浄する。これを10％塩酸でPH1.0に調整し
た後、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。これを、40
℃で減圧濃縮すると、mp143〜145℃（分解）
の２―（１，４―ベンズオキサチイン―２―イ
ル）―２―メトキシイミノ酢酸（シン異性体）
0.9ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：2600〜2500，1735，1600cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：3.90（3H，ｓ），6.15
（1H，ｓ），6.8〜7.2（4H，ｍ） 実施例 ４ (i) Ｏ―ベンゼンジチオール7.1ｇ、トリエチル
アミン5.5ｇおよびクロロホルム70mlからなる
溶液に、２―クロロアセチル―２―メトキシイ
ミノ酢酸エチル11.4ｇをクロロホルム50mlに溶
解した溶液を20℃撹拌しながら加えた後、18〜
20℃で3.5時間撹拌する。反応液を10％塩酸で
洗浄した後、1N―水酸化ナトリウム水溶液で
抽出する。抽出液に10％塩酸を氷冷下に加えて
PH１に調整した後、酢酸エチルで逆抽出する。
この抽出液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥
した後、減圧濃縮する。残渣12ｇをトルエン
120mlに溶解し、ｐ―トルエンスルホン酸1.5ｇ
を加えた後、反応中生成する水を留去しながら
３時間加熱還流する。反応液を室温まで放冷
し、酢酸エチル200mlに溶解して活性炭処理す
る。これを炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、次
いで水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。これを40℃で減圧濃縮すると、油状物４ｇ
を得る。この油状物をシリカゲル60（メルク社
製）100ｇを用いたカラム・クロマトグラフイ
ー（溶離溶媒：ベンゼン）に付し、ベンゼン溶
出液を40℃で減圧濃縮すると、mp79〜81℃、
黄色結晶の２―（１，４―ベンゾジチイン―２
―イル）―２―メトキシイミノ酢酸エチル（シ
ン異性体）1.0ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：1725，1620，1600cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：1.20（3H，ｔ，Ｊ＝
７Hz），3.90（3H，ｓ），4.20（2H，ｑ，Ｊ
＝７Hz），7.03（1H，ｓ），7.2〜7.5（4H，
ｍ） (ii) 上記で得た２―（１，４―ベンズジチイン―
２―イル）―２―メトキシイミノ酢酸エチル
（シン異性体）1.0ｇ、エタノール12mlおよび
1N―水酸化ナトリウム水溶液６mlからなる溶
液を室温で８時間撹拌する。反応液を、40℃で
減圧濃縮し、残渣を水に溶解して、酢酸エチル
で洗浄する。これに10％塩酸を氷冷下に加え、
PH1.0に調整して、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後
40℃で減圧濃縮すると、２―（１，４―ベンゾ
ジチイン―２―イル）―２―メトキシイミノ酢
酸（シン異性体）0.8ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νfilm nax：2550〜2600，1735，1650，1625 1600
cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：3.9（3H，ｓ），7.00
（1H，ｓ），7.2〜7.5（4H，ｍ）
を意味し、アシルイミノ基におけるアシル基とし
てはホルミル、アセチル、トリフルオロアセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、イソバ
レリル等の置換もしくは非置換の低級アルカノイ
ル基が例示される。R2はメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第３
級ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級アルキル
基を意味する。Ｚは水素原子またはメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、第３級ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級
アルキル基を意味する。 目的化合物（）の塩類としては、例えば、ナ
トリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カ
ルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金
属塩等の無機塩基との塩、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、ピリジン等の有機塩基との塩等
が挙げられる。 この発明の目的化合物（）は、例えば次に示
す方法により製造することができる。 （式中、ＸおよびR2は前と同じ意味であり、Hal
はハロゲン原子、R4は低級アルキル基をそれぞ
れ意味する） この発明の目的化合物（）は、例えば、一般
式 （式中、R1およびR2はそれぞれ前と同じ意味で
あり、R3はアシルオキシ基または複素環チオ基
を意味し、R3の複素環チオ基における複素環式
基は低級アルキル基で置換されていてもよいもの
とする］ で示される抗菌剤として有用なセフアロ化合物ま
たはその塩類を合成するための原料として有用で
ある。 このセフアロ化合物（）においてR3は、カ
ルバモイルオキシもしくはホルミルオキシ、アセ
トキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、
バレリルオキシ、イソバレリルオキシ、ピバロイ
ルオキシ等の低級アルカノイルオキシなどのアシ
ルオキシ基、または複素環チオ基であり、該複素
環式基は単環もしくは多環の、窒素原子を少なく
とも１個有する複素環式基であり、具体的には、
ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾ
リル、テトラゾリル、オキサゾリル、チアゾリ
ル、チアジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンズ
イミダゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピリダ
ジニル、ピラジニル、ピロリジニル、チアジニ
ル、キノリル、イソキリノルなどが挙げられる。
これらの複素環式基はメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第３級
ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級アルキル基
で置換されていてもよいものとする。 セフアロ化合物（）の塩類としては、例え
ば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属
塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ
土類金属塩、アンモニウム塩等の無機塩基との
塩、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、
ピリジン塩等の有機塩基との塩、アルギニン塩の
ようなアミノ酸との塩、塩酸塩、硫酸塩等の無機
酸との塩、マレイン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩
等の有機酸との塩などが挙げられる。 このセフアロ化合物（）は、一般式 （式中、R3は前と同じ意味） で示される７―アミノ―３―置換―３―セフエム
―４―カルボン酸またはその塩類に一般式 （式中、R1およびR2は前と同じ意味） で示される置換イミノ酢酸誘導体またはそのカル
ボキシ基における反応性誘導体もしくは塩類を作
用させることにより製造することができる。 次にこの発明を実施例によつてさらに詳細に説
明する。 実施例 １ (i) エタン―１，２―ジチオール20.6ｇ、トリエ
チルアミン21ｇおよび乾燥クロロホルム60mlか
らなる混液に、２―クロロアセチル―２―メト
キシイミノ酢酸エチル41.4ｇを乾燥クロロホル
ム100mlに溶解した溶液を20℃で撹拌しながら
１時間で滴下する。これを18〜21℃で2.5時間
撹拌した後、10％塩酸でPH1.0に調整する。ク
ロロホルム層を分取し、水100mlで３回洗浄し
た後、硫酸マグネシウムで乾燥する。これを減
圧下40℃で濃縮乾固した後、残渣をトルエン
300mlに溶解する。この溶液にｐ―トルエンス
ルホン酸３ｇを加え、水を除きながら３時間加
熱還流する。反応液を室温まで冷却し、不溶物
を濾去した後、濾液を40℃で減圧濃縮する。残
渣を酢酸エチル300mlに溶解し、炭酸水素ナト
リウム飽和水溶液で３回、次いで水で２回洗浄
した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。これを
40℃で減圧下に濃縮乾固すると、黄色油状物を
得る。これをシリカゲル60（メルク社製）１Kg
のカラムクロマトグラフイー（溶離溶媒：ベン
ゼン）に付し、ベンゼン溶出液を40℃で減圧濃
縮する。これをジイソプロピルエーテルで洗浄
し乾燥すると、mp65〜67℃、白色結晶の２―
（２，３―ジヒドロ―１，４―ジチイン―６―
イル）―２―メトキシイミノ酢酸エチル（シン
異性体）11ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：1725，1670cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：1.25（3H，ｔ，Ｊ＝
７Hz），3.25（4H，ｓ），3.80（3H，ｓ），
4.30（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz），6.78（1H，ｓ） (ii) 上記で得た２―（２，３―ジヒドロ―１，４
―ジチイン―６―イル）―２メトキシイミノ酢
酸エチル（シン異性体）2.47ｇ、メタノール30
mlおよび1N水酸化ナトリウム水溶液20mlから
なる混液を室温で24時間撹拌する。反応液を減
圧下に濃縮した後、残渣を水に溶解する。これ
を酢酸エチルで洗浄し、水層を氷冷下に10％塩
酸を滴下してPH1.0に調整した後、酢酸エチル
で抽出する。抽出液を氷水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。これを40℃で減圧濃縮
し、残渣をジイソプロピルエーテルで洗浄した
後、乾燥すると、mp120〜122℃（分解）、白色
結晶の２―（２，３―ジヒドロ―１，４―ジチ
イン―６―イル）―２―メトキシイミノ酢酸
（シン異性体）2.0ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：2500〜2600，1720，1670，
1620cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：3.20（4H，ｓ），3.80
（3H，ｓ）6.61（1H，ｓ） 実施例 ２ (i) ２―メルカプトエチルアミン塩酸塩10.0ｇお
よびクロロホルム100mlからなる溶液にトリエ
チルアミン18.7ｇを、次いで２―メトキシイミ
ノ―２―クロロアセチル酢酸エチル26.2ｇ（純
度70％）を氷冷下に撹拌しながら加えて、室温
で1.5時間撹拌する。反応液を減圧濃縮し、残
渣に水を加えた後、ジエチルエーテルで４回抽
出する。抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で
１回洗浄した後10％塩酸で４回抽出する。塩酸
抽出液をジエチルエーテルで２回洗浄し、炭酸
水素ナトリウム飽和水溶液でPH6.5に調整した
後、ジエチルエーテルで４回抽出する。これを
硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留
去すると、油状の２―（２，３―ジヒドロ―
4H―１，４―チアジン―５―イル）―２―メ
トキシイミノ酢酸エチル（シン異性体）5.2ｇ
を得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：3400（肩）、1740，1635cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（CCl4：ppm）：1.36（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz），
2.9〜3.2（2H，ｍ），3.5〜3.8（2H，ｍ），
3.89（3H，ｓ），4.30（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz），
5.00（1H，ｓ） (ii) 上記で得た２―（２，３―ジヒドロ―4H―
１，４―チアジン―５―イル）―２―メトキシ
イミノ酢酸エチル（シン異性体）5.8ｇを、無
水酢酸7.7ｇおよび義酸3.48ｇからなる溶液を
予め50℃で２時間加温したものに、氷冷しなが
ら加えた後、室温で一夜撹拌する。反応液に冷
水100mlを加えた後、酢酸エチルで３回抽出す
る。抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で１
回、炭酸水素ナトリウム水溶液で４回、次いで
塩化ナトリウム飽和水溶液で１回順次洗浄した
後、硫酸マグネシウムで乾燥する。これを減圧
濃縮した後、残渣をジイソプロピルエーテル15
mlで結晶する。結晶を濾取し、ジイソプロピル
エーテルで洗浄すると、mp94〜96℃の２―
（４―ホルミル―２，３―ジヒドロ―4H―１，
４―チアジン―５―イル）―２―メトキシイミ
ノ酢酸エチル（シン異性体）5.0ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：1735，1725，1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（CDCl3，ppm）：3.16（3H，ｔ，Ｊ＝７
Hz），3.95（3H，ｓ），2.96〜3.28（2H，
ｍ），3.78〜4.20（2H，ｍ），4.38（2H，ｑ，
Ｊ＝７Hz），6.15（1H，ｓ），8.62（1H，ｓ） (iii) 上記で得た２―（４―ホルミル―２，３―ジ
ヒドロ―4H―１，４―チアジン―５―イル）
―２―メトキシイミノ酢酸エチル（シン異性
体）4.8ｇおよびエタノール48mlの懸濁液に1N
水酸化カリウム水溶液22.3mlを加えて、１時間
15分室温で撹拌する。反応液からエタノールを
留去し、残留液に水を加え、全量を100mlに調
整した後、ジエチルエーテルで１回洗浄する。
これを冷却下に10％塩酸でPH１に調整して塩析
する。これを酢酸エチルで抽出し、抽出液を塩
化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マ
グネシウムで乾燥する。これを減圧濃縮し、残
渣にジエチルエーテル15mlを加えて結晶化した
後、析出物を濾取しジエチルエーテルで洗浄す
ると、mp145℃（分解）の２―（４―ホルミル
―２，３―ジヒドロ―4H―１，４―チアジン
―５―イル）―２―メトキシイミノ酢酸（シン
異性体）3.51ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：1710，1610cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：3.08（2H，ｍ），3.80
（2H，ｍ），3.83（3H，ｓ），6.40（1H，
ｓ），8.47（1H，ｓ） 実施例 ３ (i) ２―メルカプトフエノール3.5ｇ、トリエチ
ルアミン3.0ｇおよび乾燥クロロホルム35mlか
らなる溶液に、２―クロロアセチル―２―メト
キシイミノ酢酸エチル6.2ｇを乾燥クロロホル
ム60mlに溶解した溶液を、20℃で撹拌下に30分
間要して滴下した後、18〜22℃で2.5時間撹拌
する。反応液を10％塩酸、炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液および水で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。これを40℃で減圧濃縮し、
残渣をトルエン100mlに溶解する。この溶液に
ｐ―トルエンスルホン酸１ｇを加えて生成する
水を反応系から留去しながら３時間加熱還流す
る。反応液を、室温まで放冷し、酢酸エチル50
mlを加えた後、活性炭で処理する。これを1N
水酸化ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥した後、40℃で減圧濃
縮する。残渣をシリカゲル60（メルク社製）140
ｇを用いたカラム・クロマトグラフイー（溶離
溶媒：ベンゼン）に付して分離、精製する。精
製物をジイソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥
すると、mp78〜80℃、淡黄色結晶の２―（１，
４―ベンズオキサチイン―２―イル）―２―メ
トキシイミノ酢酸エチル（シン異性体）1.2ｇ
を得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：3050，1725，1600cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：1.25（3H，ｔ，Ｊ＝
７Hz），3.92（3H，ｓ），4.33（2H，ｑ，Ｊ
＝７Hz），6.25（1H，ｓ），7.24（4H，ｍ） (ii) 上記で得た２―（１，４―ベンズオキサチイ
ン―２―イル）―２―メトキシイミノ酢酸エチ
ル（シン異性体）1.2ｇ、メタノール17mlおよ
び1N水酸化ナトリウム水溶液８mlからなる混
液を室温で24時間撹拌する。反応液を40℃で減
圧濃縮し、残渣を水に溶解した後、酢酸エチル
で洗浄する。これを10％塩酸でPH1.0に調整し
た後、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。これを、40
℃で減圧濃縮すると、mp143〜145℃（分解）
の２―（１，４―ベンズオキサチイン―２―イ
ル）―２―メトキシイミノ酢酸（シン異性体）
0.9ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：2600〜2500，1735，1600cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：3.90（3H，ｓ），6.15
（1H，ｓ），6.8〜7.2（4H，ｍ） 実施例 ４ (i) Ｏ―ベンゼンジチオール7.1ｇ、トリエチル
アミン5.5ｇおよびクロロホルム70mlからなる
溶液に、２―クロロアセチル―２―メトキシイ
ミノ酢酸エチル11.4ｇをクロロホルム50mlに溶
解した溶液を20℃撹拌しながら加えた後、18〜
20℃で3.5時間撹拌する。反応液を10％塩酸で
洗浄した後、1N―水酸化ナトリウム水溶液で
抽出する。抽出液に10％塩酸を氷冷下に加えて
PH１に調整した後、酢酸エチルで逆抽出する。
この抽出液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥
した後、減圧濃縮する。残渣12ｇをトルエン
120mlに溶解し、ｐ―トルエンスルホン酸1.5ｇ
を加えた後、反応中生成する水を留去しながら
３時間加熱還流する。反応液を室温まで放冷
し、酢酸エチル200mlに溶解して活性炭処理す
る。これを炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、次
いで水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。これを40℃で減圧濃縮すると、油状物４ｇ
を得る。この油状物をシリカゲル60（メルク社
製）100ｇを用いたカラム・クロマトグラフイ
ー（溶離溶媒：ベンゼン）に付し、ベンゼン溶
出液を40℃で減圧濃縮すると、mp79〜81℃、
黄色結晶の２―（１，４―ベンゾジチイン―２
―イル）―２―メトキシイミノ酢酸エチル（シ
ン異性体）1.0ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νヌジヨール max：1725，1620，1600cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：1.20（3H，ｔ，Ｊ＝
７Hz），3.90（3H，ｓ），4.20（2H，ｑ，Ｊ
＝７Hz），7.03（1H，ｓ），7.2〜7.5（4H，
ｍ） (ii) 上記で得た２―（１，４―ベンズジチイン―
２―イル）―２―メトキシイミノ酢酸エチル
（シン異性体）1.0ｇ、エタノール12mlおよび
1N―水酸化ナトリウム水溶液６mlからなる溶
液を室温で８時間撹拌する。反応液を、40℃で
減圧濃縮し、残渣を水に溶解して、酢酸エチル
で洗浄する。これに10％塩酸を氷冷下に加え、
PH1.0に調整して、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後
40℃で減圧濃縮すると、２―（１，４―ベンゾ
ジチイン―２―イル）―２―メトキシイミノ酢
酸（シン異性体）0.8ｇを得る。 赤外線吸収スペクトル νfilm nax：2550〜2600，1735，1650，1625 1600
cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル δ（DMSO―d6：ppm）：3.9（3H，ｓ），7.00
（1H，ｓ），7.2〜7.5（4H，ｍ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ［式中、R1は式【式】 【式】または 【式】（式中、Ｘは硫黄原子、イ ミノ基またはアシルイミノ基を意味する）で示さ
れる基、R2は低級アルキル基、Ｚは水素原子ま
たは低級アルキル基をそれぞれ意味する］ で示される置換イミノ酢酸誘導体およびその塩
類。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58217007A JPS6150973A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 置換イミノ酢酸誘導体およびその塩類 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58217007A JPS6150973A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 置換イミノ酢酸誘導体およびその塩類 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16069876A Division JPS53144594A (en) | 1976-12-27 | 1976-12-27 | 3,7-di-substitued-3-cephem-4-carboxylic acid derivatives |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6150973A JPS6150973A (ja) | 1986-03-13 |
| JPH0210155B2 true JPH0210155B2 (ja) | 1990-03-06 |
Family
ID=16697357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58217007A Granted JPS6150973A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 置換イミノ酢酸誘導体およびその塩類 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6150973A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60155167A (ja) * | 1984-07-31 | 1985-08-15 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 置換イミノ酢酸誘導体およびその塩類 |
| US4959495A (en) * | 1986-07-28 | 1990-09-25 | American Cyanamid Company | Process for the preparation of intermediates used to produce aminothiazoloximino cephalosporins |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5163190A (ja) * | 1974-09-27 | 1976-06-01 | Rhone Poulenc Ind | |
| JPS51149296A (en) * | 1975-06-09 | 1976-12-22 | Takeda Chem Ind Ltd | Cephems or penams and their preparation |
-
1983
- 1983-11-16 JP JP58217007A patent/JPS6150973A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5163190A (ja) * | 1974-09-27 | 1976-06-01 | Rhone Poulenc Ind | |
| JPS51149296A (en) * | 1975-06-09 | 1976-12-22 | Takeda Chem Ind Ltd | Cephems or penams and their preparation |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6150973A (ja) | 1986-03-13 |
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