JPH0160826B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0160826B2 JPH0160826B2 JP4555782A JP4555782A JPH0160826B2 JP H0160826 B2 JPH0160826 B2 JP H0160826B2 JP 4555782 A JP4555782 A JP 4555782A JP 4555782 A JP4555782 A JP 4555782A JP H0160826 B2 JPH0160826 B2 JP H0160826B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- photosensitive layer
- photosensitive
- insulating layer
- photoconductive insulating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 38
- 239000006258 conductive agent Substances 0.000 claims description 17
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 5
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000013505 freshwater Substances 0.000 claims 1
- -1 CdS Chemical compound 0.000 description 33
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 32
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 238000011161 development Methods 0.000 description 19
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical group CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 5
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 5
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 4
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 239000005518 polymer electrolyte Substances 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Natural products CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical class OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 108010009736 Protein Hydrolysates Proteins 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 239000003502 gasoline Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 2
- 235000021388 linseed oil Nutrition 0.000 description 2
- 239000000944 linseed oil Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229940001496 tribasic sodium phosphate Drugs 0.000 description 2
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical class C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVUMJBMMPVDJQA-UHFFFAOYSA-M 1-methylidenepiperidin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C=[N+]1CCCCC1 SVUMJBMMPVDJQA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VPTNBOIEKNYSFL-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n,4-n,4-n-tetrabenzylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(C=1C=CC(=CC=1)N(CC=1C=CC=CC=1)CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 VPTNBOIEKNYSFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-tri(propan-2-yl)naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(C)C)C(C(C)C)=C(C(C)C)C(S(O)(=O)=O)=C21 RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKNIDKXOANSRCS-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trinitrofluoren-1-one Chemical compound C1=CC=C2C3=C([N+](=O)[O-])C([N+]([O-])=O)=C([N+]([O-])=O)C(=O)C3=CC2=C1 FKNIDKXOANSRCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOERSAVCLPYNIZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,5,7-tetranitrofluoren-9-one Chemical compound O=C1C2=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C2C2=C1C=C([N+](=O)[O-])C=C2[N+]([O-])=O JOERSAVCLPYNIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 2,4,7-trinitrofluoren-9-one Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=C2C3=CC=C([N+](=O)[O-])C=C3C(=O)C2=C1 VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MADGGJXZXKOPDW-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethoxy-4-morpholin-4-ylbenzenediazonium Chemical compound C1=C([N+]#N)C(OC)=CC(N2CCOCC2)=C1OC MADGGJXZXKOPDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(O)(=O)=O)=C1 IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNTARUIZNIWBCN-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-5-nitrobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1Cl GNTARUIZNIWBCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCSZUHHAYFILGO-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-nitrobenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1S(O)(=O)=O XCSZUHHAYFILGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 3-bromobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Br)=C1 QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWKAGZWJHCTVJY-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxyoctadecan-2-one Chemical class CCCCCCCCCCCCCCCC(O)C(C)=O MWKAGZWJHCTVJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABSXMLODUTXQDJ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-sulfophenyl)benzenesulfonic acid Chemical compound C1=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 ABSXMLODUTXQDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJYCALFJFALYAH-UHFFFAOYSA-N 4-[[2-chloro-4-[3-chloro-4-[[2-hydroxy-3-(phenylcarbamoyl)naphthalen-1-yl]diazenyl]phenyl]phenyl]diazenyl]-3-hydroxy-N-phenylnaphthalene-2-carboxamide Chemical compound OC1=C(N=NC2=CC=C(C=C2Cl)C2=CC(Cl)=C(C=C2)N=NC2=C(O)C(=CC3=C2C=CC=C3)C(=O)NC2=CC=CC=C2)C2=C(C=CC=C2)C=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1 XJYCALFJFALYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1S(O)(=O)=O YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYPMAZCBFKBIFK-UHFFFAOYSA-N 9,10-dinitroanthracene Chemical compound C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=C(C=CC=C3)C3=C([N+]([O-])=O)C2=C1 XYPMAZCBFKBIFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000004135 Bone phosphate Substances 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006414 CCl Chemical group ClC* 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZELXJBMMZFDDU-UHFFFAOYSA-N Imidazol-2-one Chemical class O=C1N=CC=N1 WZELXJBMMZFDDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical class OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000707 Poly(2-dimethylamino)ethyl methacrylate) methyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 229910018110 Se—Te Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical class [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N Tetrahydroanthracene Natural products C1=CC=C2C=C(CCCC3)C3=CC2=C1 XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229940010556 ammonium phosphate Drugs 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 229940058303 antinematodal benzimidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 235000019568 aromas Nutrition 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007980 azole derivatives Chemical class 0.000 description 1
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIZVQWNPBGYCGK-UHFFFAOYSA-N benzenediazonium Chemical compound N#[N+]C1=CC=CC=C1 CIZVQWNPBGYCGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000001556 benzimidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940116349 dibasic ammonium phosphate Drugs 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N lead chromate Chemical compound [Pb+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940006116 lithium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940100630 metacresol Drugs 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000010680 novolac-type phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940055076 parasympathomimetics choline ester Drugs 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007793 ph indicator Substances 0.000 description 1
- 150000002988 phenazines Chemical class 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 229940067741 sodium octyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940048842 sodium xylenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- QUCDWLYKDRVKMI-UHFFFAOYSA-M sodium;3,4-dimethylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1C QUCDWLYKDRVKMI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WFRKJMRGXGWHBM-UHFFFAOYSA-M sodium;octyl sulfate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCOS([O-])(=O)=O WFRKJMRGXGWHBM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 150000003866 tertiary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N tetracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C21 IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
- G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
- G03F7/2018—Masking pattern obtained by selective application of an ink or a toner, e.g. ink jet printing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G13/00—Electrographic processes using a charge pattern
- G03G13/26—Electrographic processes using a charge pattern for the production of printing plates for non-xerographic printing processes
- G03G13/28—Planographic printing plates
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は改良された平版印刷版の製造方法およ
びこの方法に使用するための感光材料に関する。
びこの方法に使用するための感光材料に関する。
従来、光導電性層を含み、電子写真法を利用す
るタイプの印刷版用感光材料は知られており、例
えば、光導電性層、フオトレジスト層、金属板
層、および支持体からなる印刷版用感光材料が提
案されている。
るタイプの印刷版用感光材料は知られており、例
えば、光導電性層、フオトレジスト層、金属板
層、および支持体からなる印刷版用感光材料が提
案されている。
この感光材料を用いて印刷板を製造するには先
づ光導電性層を均一に帯電させ、フオトレジスト
層の感光しない光線を用いて像露光して光導電性
層に静電潜像を形成し、この潜像をトナー現像
し、トナー像を定着しまたは定着しないで、先の
露光条件とは異なる条件下で露光してフオトレジ
スト層の露光部を硬化させ、次いでトナー像と光
導電性層とを除去し、未硬化のフオトレジストを
溶剤で除去した後、金属板層をエツチングし、金
属板上に残存しているフオトレジストを除去する
という複雑な工程を必要とするものであつた。そ
して良質の印刷版の製造には熟練を要するばかり
でなく、光導電性層に形成される静電潜像の現像
が乾式で行われるので解像性にも制限があり、ま
たフオトレジスト層の除去や金属板層のエツチン
グ操作のために最終的に得られる印刷画像の鮮明
度にはなお不満足な点があつた。
づ光導電性層を均一に帯電させ、フオトレジスト
層の感光しない光線を用いて像露光して光導電性
層に静電潜像を形成し、この潜像をトナー現像
し、トナー像を定着しまたは定着しないで、先の
露光条件とは異なる条件下で露光してフオトレジ
スト層の露光部を硬化させ、次いでトナー像と光
導電性層とを除去し、未硬化のフオトレジストを
溶剤で除去した後、金属板層をエツチングし、金
属板上に残存しているフオトレジストを除去する
という複雑な工程を必要とするものであつた。そ
して良質の印刷版の製造には熟練を要するばかり
でなく、光導電性層に形成される静電潜像の現像
が乾式で行われるので解像性にも制限があり、ま
たフオトレジスト層の除去や金属板層のエツチン
グ操作のために最終的に得られる印刷画像の鮮明
度にはなお不満足な点があつた。
このような従来技術の欠点を除くために、先に
親水性表面を有する導電性支持体、ポジ型感光層
および光導電性絶縁層を有する感光材料を、 (1) 該感光材料の光導電性層上に静電写真的に潜
像を形成する段階、 (2) ポジ型感光層が感光性を有する波長の光に対
して不透明な現像剤粒子を含む液体現像剤で該
潜像を現像する段階、 (3) 該ポジ型感光層を上記段階2で得た現像像を
介して露光する段階、 (4) 該ポジ型感光層の現像像を有しない部分を選
択的に除去する段階で処理すること からなり、該ポジ型感光層と該光導電性絶縁層と
は同一の層としてかまたはこの順序で別個に該支
持体上に設けられており、該光導電性絶縁層は実
質的に正負両極性に帯電可能であつて、前記段階
4におけるポジ型感光層の選択的除去を阻害しな
い性質を有することを特徴とする平版印刷版の製
造方法及びこの方法に用いられる感光材料とし
て、親水性表面を有する導電性支持体、ポジ型感
光層および光導電性絶縁層を有する感光材料であ
つて、該ポジ型感光層と該光導電性絶縁層とは同
一の層としてかまたはこの順序で別個に該支持上
に設けられており、該光導電性絶縁層は実質的に
正負両極性に帯電可能であつてかつ現像像を有す
るポジ型感光層の選択的除去を阻害しない性質を
有することを特徴とする平版印刷版用感光材料が
同一出願人によつて提案された(特開昭57―
90648号公報)。
親水性表面を有する導電性支持体、ポジ型感光層
および光導電性絶縁層を有する感光材料を、 (1) 該感光材料の光導電性層上に静電写真的に潜
像を形成する段階、 (2) ポジ型感光層が感光性を有する波長の光に対
して不透明な現像剤粒子を含む液体現像剤で該
潜像を現像する段階、 (3) 該ポジ型感光層を上記段階2で得た現像像を
介して露光する段階、 (4) 該ポジ型感光層の現像像を有しない部分を選
択的に除去する段階で処理すること からなり、該ポジ型感光層と該光導電性絶縁層と
は同一の層としてかまたはこの順序で別個に該支
持体上に設けられており、該光導電性絶縁層は実
質的に正負両極性に帯電可能であつて、前記段階
4におけるポジ型感光層の選択的除去を阻害しな
い性質を有することを特徴とする平版印刷版の製
造方法及びこの方法に用いられる感光材料とし
て、親水性表面を有する導電性支持体、ポジ型感
光層および光導電性絶縁層を有する感光材料であ
つて、該ポジ型感光層と該光導電性絶縁層とは同
一の層としてかまたはこの順序で別個に該支持上
に設けられており、該光導電性絶縁層は実質的に
正負両極性に帯電可能であつてかつ現像像を有す
るポジ型感光層の選択的除去を阻害しない性質を
有することを特徴とする平版印刷版用感光材料が
同一出願人によつて提案された(特開昭57―
90648号公報)。
この方法により前記の従来法における欠点を除
くことができ、工程の簡易化と解像力の点では一
応の目的を達したが、この方法で得られた印刷版
を用いて印刷を行うと、やや印刷よごれが生ずる
欠点があつた。
くことができ、工程の簡易化と解像力の点では一
応の目的を達したが、この方法で得られた印刷版
を用いて印刷を行うと、やや印刷よごれが生ずる
欠点があつた。
本発明者はこの印刷よごれの原因について検討
の結果、光導電性絶縁層を帯電し、像露光して静
電潜像を作る場合、露光された部分の電荷が完全
には消去されず部分的に残つており、現像時にこ
の部分にトナーが付着し、上記段階3で現像像
(トナー像)を介して露光する時に、非画像部に
カブリとなつて付着しているトナーの為にポジ型
感光層に露光されなかつた部分が生じ、段階4で
感光層を除く場合に非画像部においても露光され
なかつた部分が支持体上に残り、これが印刷時に
印刷よごれを生ずる原因となつていることが見出
した。
の結果、光導電性絶縁層を帯電し、像露光して静
電潜像を作る場合、露光された部分の電荷が完全
には消去されず部分的に残つており、現像時にこ
の部分にトナーが付着し、上記段階3で現像像
(トナー像)を介して露光する時に、非画像部に
カブリとなつて付着しているトナーの為にポジ型
感光層に露光されなかつた部分が生じ、段階4で
感光層を除く場合に非画像部においても露光され
なかつた部分が支持体上に残り、これが印刷時に
印刷よごれを生ずる原因となつていることが見出
した。
本発明者は先に、この原因が支持体としてアル
ミニウム又はアルミニウム合金よりなる支持体と
用いる場合、支持体上に形成されている酸化アル
ミニウムの層の存在に一部起因していることを知
り、この酸化皮膜の量を0.2〜2.8g/m2の範囲に
することにより所望の耐刷性を保持しつつ、上記
の印刷よごれを防止できることを見出し特許出願
した(特開昭58―150953号)。
ミニウム又はアルミニウム合金よりなる支持体と
用いる場合、支持体上に形成されている酸化アル
ミニウムの層の存在に一部起因していることを知
り、この酸化皮膜の量を0.2〜2.8g/m2の範囲に
することにより所望の耐刷性を保持しつつ、上記
の印刷よごれを防止できることを見出し特許出願
した(特開昭58―150953号)。
本発明者は更に検射を行い、前記の印刷よごれ
が、感光層と光導電性絶縁層を別々に設けた場合
には下層にある感光層の存在にも起因しているこ
とを見出した。すなわち、前記の平版印刷版用感
光材料において、ポジ型感光層と光導電性絶縁層
とが別々に設けられている場合、下層にある感光
層は絶縁性であるので、光導電性絶縁層を帯電
後、像露光する際に、上記支持体上の酸化皮膜の
場合と同様に、光導電層の電荷が露光部で光導電
層を通つて支持体側に逃げる妨げとなり、部分的
に電荷を残し、ここに現像時トナーが付着してカ
ブリを生じ、上記の酸化皮膜の場合と同様な理由
で、これが印刷よごれの原因となつている。本発
明者は、後記する如き、感光層の感光特性に影響
を与えないような導電化剤を感光層に含有させる
ことによつて印刷よごれの発生を防止することに
成功し、本発明を達成した。
が、感光層と光導電性絶縁層を別々に設けた場合
には下層にある感光層の存在にも起因しているこ
とを見出した。すなわち、前記の平版印刷版用感
光材料において、ポジ型感光層と光導電性絶縁層
とが別々に設けられている場合、下層にある感光
層は絶縁性であるので、光導電性絶縁層を帯電
後、像露光する際に、上記支持体上の酸化皮膜の
場合と同様に、光導電層の電荷が露光部で光導電
層を通つて支持体側に逃げる妨げとなり、部分的
に電荷を残し、ここに現像時トナーが付着してカ
ブリを生じ、上記の酸化皮膜の場合と同様な理由
で、これが印刷よごれの原因となつている。本発
明者は、後記する如き、感光層の感光特性に影響
を与えないような導電化剤を感光層に含有させる
ことによつて印刷よごれの発生を防止することに
成功し、本発明を達成した。
更に本発明者は、上記の方法でポジ型感光層に
代えてネガ型(ネガーポジ型)感光層を用いた場
合についても同様な検討を行い、上記と同様にネ
ガ型感光層に導電化剤を含有させることにより印
刷よごれ防止することができた。
代えてネガ型(ネガーポジ型)感光層を用いた場
合についても同様な検討を行い、上記と同様にネ
ガ型感光層に導電化剤を含有させることにより印
刷よごれ防止することができた。
更にまた、支持体としてアルミニウム又はアル
ミニウム合金よりなる支持体を用いる場合、本発
明者が先に見出した発明、すなわち、支持体の酸
化皮膜の量を0.2〜2.8g/m2にすると共に、本発
明に従つて、その上に設けられた感光層に導電化
剤を含有させることによつて更によく印刷よごれ
の発生を防止することができた。
ミニウム合金よりなる支持体を用いる場合、本発
明者が先に見出した発明、すなわち、支持体の酸
化皮膜の量を0.2〜2.8g/m2にすると共に、本発
明に従つて、その上に設けられた感光層に導電化
剤を含有させることによつて更によく印刷よごれ
の発生を防止することができた。
従つて、本発明の目的は、優れた解像力を有
し、印刷よごれを生じない平版印刷版の製造方法
を提供することにある。
し、印刷よごれを生じない平版印刷版の製造方法
を提供することにある。
本発明の他の目的は、上記の平版印刷版の製造
に用いられる平版印刷版用感光体を提供すること
にある。
に用いられる平版印刷版用感光体を提供すること
にある。
すなわち、本発明は親水性表面を有する導電性
支持体上に感光層と光導電性絶縁層とをこの順序
に有する感光層を電子写真的に処理して光導電性
絶縁層上に静電潜像を形成し、感光層が感光性を
有する波長の光に不透明な現像剤粒子で該静電潜
像を現像し、得られた現像像を介して感光層を露
光し、次いで感光層の露光部又は非露光部をその
上の光導電性絶縁層と共に除去することからなる
平版印刷版の製造方法において、該感光層に導電
化剤を含有させたことを特徴とする平版印刷版の
製造方法および親水性表面を有する導電性支持体
上に、感光層と光導電性絶縁層とをこの順序に有
し、該光導電性絶縁層は電子写真的に静電潜像を
形成することができ、且つ該感光層の露光部又は
非露光部がその上の光導電性絶縁層と共に除去さ
れ得る平版印刷版用感光材料において、該感光層
に導電化剤を含有させたことを特徴とする平版印
刷版用感光材料である。
支持体上に感光層と光導電性絶縁層とをこの順序
に有する感光層を電子写真的に処理して光導電性
絶縁層上に静電潜像を形成し、感光層が感光性を
有する波長の光に不透明な現像剤粒子で該静電潜
像を現像し、得られた現像像を介して感光層を露
光し、次いで感光層の露光部又は非露光部をその
上の光導電性絶縁層と共に除去することからなる
平版印刷版の製造方法において、該感光層に導電
化剤を含有させたことを特徴とする平版印刷版の
製造方法および親水性表面を有する導電性支持体
上に、感光層と光導電性絶縁層とをこの順序に有
し、該光導電性絶縁層は電子写真的に静電潜像を
形成することができ、且つ該感光層の露光部又は
非露光部がその上の光導電性絶縁層と共に除去さ
れ得る平版印刷版用感光材料において、該感光層
に導電化剤を含有させたことを特徴とする平版印
刷版用感光材料である。
本発明方法をポジ型感光層を用いる場合につい
て図面を参照しながら説明する。第1図は本発明
による平版印刷版の製造工程を順次図示したもの
であり、第1図a工程において接地された導電性
支持体3の上に後述の如き導電化剤を含んでいる
ポジ型感光層2を介して設けられた光導電性絶縁
層1の表面に帯電器4により帯電させる。帯電器
は静電写真技術において普通に使用されているコ
ロトロン型のものが用いられる。次にランプ5に
より像露光bして光導電性絶縁層1上の非画像部
の電荷を除去する。このとき原稿6としてポジ原
稿を使用すればポジ潜像が得られ、ネガ原稿を使
用すればネガ潜像が得られるが、後者の場合にポ
ジ画像を得るためには次の現像工程において反転
現像を行えばよい。静電潜像を形成された感光板
は次に液体現像c工程に付されトナー像7が形成
される。現像時間は感光体の帯電電位、トナーの
ゼータ電位、現像電極、現像方法によつて変化す
るが、通常数秒〜1分間の範囲内で次の段階で光
パターンマスクとして使用するのに充分な濃度が
得られる。反転現像を行う場合に光導電性絶縁層
に負帯電を行うときには負極性トナー、正帯電を
行うときには正極性トナーを用いて現像し、その
際に現像電極には同極性の電圧を印加する。電圧
の上限は光導電性絶縁層の帯電電圧であり、電極
間距離はできるだけ近接させた方が良好な結果が
得られる。一般に電圧は10〜300V、電極間距離
は0.5〜10mm、現像時間は数秒〜1分間が好まし
い。現像が終つた感光板は現像液をスキージで除
去した後、例えば紫外線ランプ8により全面露光
d工程にかけられポジ型感光層の非画像部分を可
溶化する。d工程の処理を経た感光板は溶解e―
1またはe―2工程でアルカリ溶液で溶解処理さ
れて感光層の非画像部が除去され支持体上にポジ
像の形成された平版用印刷版が得られる。この溶
解工程において支持体上にポジ像として残留する
部分は非溶解性ポジ型感光層、光導電性絶縁層お
よびトナー層からなり〔第1図e―1〕、トナー
によりポジ像を鮮明に読み取ることができるばか
りでなく、多色刷り平版を製造するときにはそれ
ぞれ色分解して得た像を対応する色(シアン、マ
ゼンタ、イエロー、黒)のトナーで現像すれば着
色した多色刷り平版が得られるという優れた効果
がある。
て図面を参照しながら説明する。第1図は本発明
による平版印刷版の製造工程を順次図示したもの
であり、第1図a工程において接地された導電性
支持体3の上に後述の如き導電化剤を含んでいる
ポジ型感光層2を介して設けられた光導電性絶縁
層1の表面に帯電器4により帯電させる。帯電器
は静電写真技術において普通に使用されているコ
ロトロン型のものが用いられる。次にランプ5に
より像露光bして光導電性絶縁層1上の非画像部
の電荷を除去する。このとき原稿6としてポジ原
稿を使用すればポジ潜像が得られ、ネガ原稿を使
用すればネガ潜像が得られるが、後者の場合にポ
ジ画像を得るためには次の現像工程において反転
現像を行えばよい。静電潜像を形成された感光板
は次に液体現像c工程に付されトナー像7が形成
される。現像時間は感光体の帯電電位、トナーの
ゼータ電位、現像電極、現像方法によつて変化す
るが、通常数秒〜1分間の範囲内で次の段階で光
パターンマスクとして使用するのに充分な濃度が
得られる。反転現像を行う場合に光導電性絶縁層
に負帯電を行うときには負極性トナー、正帯電を
行うときには正極性トナーを用いて現像し、その
際に現像電極には同極性の電圧を印加する。電圧
の上限は光導電性絶縁層の帯電電圧であり、電極
間距離はできるだけ近接させた方が良好な結果が
得られる。一般に電圧は10〜300V、電極間距離
は0.5〜10mm、現像時間は数秒〜1分間が好まし
い。現像が終つた感光板は現像液をスキージで除
去した後、例えば紫外線ランプ8により全面露光
d工程にかけられポジ型感光層の非画像部分を可
溶化する。d工程の処理を経た感光板は溶解e―
1またはe―2工程でアルカリ溶液で溶解処理さ
れて感光層の非画像部が除去され支持体上にポジ
像の形成された平版用印刷版が得られる。この溶
解工程において支持体上にポジ像として残留する
部分は非溶解性ポジ型感光層、光導電性絶縁層お
よびトナー層からなり〔第1図e―1〕、トナー
によりポジ像を鮮明に読み取ることができるばか
りでなく、多色刷り平版を製造するときにはそれ
ぞれ色分解して得た像を対応する色(シアン、マ
ゼンタ、イエロー、黒)のトナーで現像すれば着
色した多色刷り平版が得られるという優れた効果
がある。
本発明の他の態様として光導電性絶縁層1とポ
ジ型感光層2との間に中間層9を設けた感光材料
を使用することができる(第4図参照)。この中
間層は光導電性絶縁層の表面に負荷された電荷と
逆極性の電荷が導電性支持体のポジ型感光層側に
保持されるのを促進するために導電性であるが、
この中間層を設けることによつて光導電性絶縁層
がポジ型感光層に浸透、混合するのを防止するこ
とができる。この中間層はポジ型感光層に対して
不溶性である適当な導電性を有する水溶性樹脂で
あり、溶解e―2工程により溶解除去されるが同
時にトナー像を有する光導電性絶縁層も脱離され
るので支持体上にポジ型感光層の刷面を有する平
版用印刷版が得られる。
ジ型感光層2との間に中間層9を設けた感光材料
を使用することができる(第4図参照)。この中
間層は光導電性絶縁層の表面に負荷された電荷と
逆極性の電荷が導電性支持体のポジ型感光層側に
保持されるのを促進するために導電性であるが、
この中間層を設けることによつて光導電性絶縁層
がポジ型感光層に浸透、混合するのを防止するこ
とができる。この中間層はポジ型感光層に対して
不溶性である適当な導電性を有する水溶性樹脂で
あり、溶解e―2工程により溶解除去されるが同
時にトナー像を有する光導電性絶縁層も脱離され
るので支持体上にポジ型感光層の刷面を有する平
版用印刷版が得られる。
一般に光導電性絶縁層の厚さは帯電性、光透過
性、現像時間、解像度に影響を及ぼすが、通常は
0.5〜5μ、好ましくは1〜2μの範囲内で最良の結
果が得られる。
性、現像時間、解像度に影響を及ぼすが、通常は
0.5〜5μ、好ましくは1〜2μの範囲内で最良の結
果が得られる。
中間層の厚さは溶解工程で使用する溶剤の浸透
性、および解像力によつてきまり、通常0.1〜5μ、
好ましくは0.2〜0.5μの範囲内である。
性、および解像力によつてきまり、通常0.1〜5μ、
好ましくは0.2〜0.5μの範囲内である。
本発明による光導電性絶縁層に使用される光導
電性材料としては従来一般に電子写真用感光材料
として知られている多くのものが挙げられるが、
絶縁性結着剤樹脂中に分散または溶解した形で使
用することが好ましく、かつ下層にあるポジ型感
光層の吸収波長光を吸収しないものを採用するか
または光導電性絶縁層の厚さをできるだけ薄くし
て透過光量を大きくすることが好ましい。光導電
性絶縁層は正負何れにも帯電させて使用すること
ができるが、正コロナ帯電に適する光導電性材料
としてはSe,Se―Te,PbO等の無機材料、およ
びアントラセン、ペリレン、テトラセン、カルバ
ゾール、テトラベンジル―p―フエニレンジアミ
ン、アシルヒドラゾン誘導体、オキサジアゾール
誘導体、ピラゾリン誘導体、イミダゾロン誘導
体、イミダゾチオン誘導付、ベンズイミダゾール
誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチア
ゾール誘導体等の低分子物質、インジゴ,メタル
フリーフタロシアニン、金属フタロシアニン、ス
クエアリウム、ジメチルペリルイミド、などの有
機顔料、ポリ―N―ビニルカルバゾール、ポリア
セナフチレン、ポリビニルアントラセン、ポリビ
ニルピレン、ポリビニルテトラセン、ポリビニル
ペリレン等の有機高分子物質が用いられる。負コ
ロナ帯電に適する光導電性材料としてはZnO,
CdS,TiO2等の無機材料、トリニトロフルオレ
ノン、テトラニトロフルオレノン、ジニトロアン
トラセン、テトラシアノピレン等の低分子物質、
クロロジアンブルー等の有機顔料、ポリ―N―ビ
ニルカルバゾールと2,4,7―トリニトロフル
オレノンなどの錯体が用いられる。そして両性帯
電に適する光導電性材料としては前記有機物質と
結着剤樹脂との組合せを使用することができる
が、特に実用に供する高感度を示す材料としては
メタルフリーフタロシアニン、金属フタロシアニ
ン、オキサジアゾール誘導体、ビラゾリン誘導体
が挙げられる。又、さらに、電荷発生剤と電荷輸
送剤とを含む感光材料、アルカリ可溶性樹脂とカ
ルバゾール等の光導電物質との共重合体等も使用
することができる。
電性材料としては従来一般に電子写真用感光材料
として知られている多くのものが挙げられるが、
絶縁性結着剤樹脂中に分散または溶解した形で使
用することが好ましく、かつ下層にあるポジ型感
光層の吸収波長光を吸収しないものを採用するか
または光導電性絶縁層の厚さをできるだけ薄くし
て透過光量を大きくすることが好ましい。光導電
性絶縁層は正負何れにも帯電させて使用すること
ができるが、正コロナ帯電に適する光導電性材料
としてはSe,Se―Te,PbO等の無機材料、およ
びアントラセン、ペリレン、テトラセン、カルバ
ゾール、テトラベンジル―p―フエニレンジアミ
ン、アシルヒドラゾン誘導体、オキサジアゾール
誘導体、ピラゾリン誘導体、イミダゾロン誘導
体、イミダゾチオン誘導付、ベンズイミダゾール
誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチア
ゾール誘導体等の低分子物質、インジゴ,メタル
フリーフタロシアニン、金属フタロシアニン、ス
クエアリウム、ジメチルペリルイミド、などの有
機顔料、ポリ―N―ビニルカルバゾール、ポリア
セナフチレン、ポリビニルアントラセン、ポリビ
ニルピレン、ポリビニルテトラセン、ポリビニル
ペリレン等の有機高分子物質が用いられる。負コ
ロナ帯電に適する光導電性材料としてはZnO,
CdS,TiO2等の無機材料、トリニトロフルオレ
ノン、テトラニトロフルオレノン、ジニトロアン
トラセン、テトラシアノピレン等の低分子物質、
クロロジアンブルー等の有機顔料、ポリ―N―ビ
ニルカルバゾールと2,4,7―トリニトロフル
オレノンなどの錯体が用いられる。そして両性帯
電に適する光導電性材料としては前記有機物質と
結着剤樹脂との組合せを使用することができる
が、特に実用に供する高感度を示す材料としては
メタルフリーフタロシアニン、金属フタロシアニ
ン、オキサジアゾール誘導体、ビラゾリン誘導体
が挙げられる。又、さらに、電荷発生剤と電荷輸
送剤とを含む感光材料、アルカリ可溶性樹脂とカ
ルバゾール等の光導電物質との共重合体等も使用
することができる。
光導電性絶縁層は、溶解e―1,e―2工程に
おいてポジ型感光層の選択的除去を阻害しないた
め、すなわちその非画像部がポジ型感光層の非画
像部と共に溶解除去されるために、アルカリ可溶
性樹脂を含有していることが好ましい。このよう
なアルカリ可溶性樹脂としては高分子有機光導電
性物質の結着剤としてあるいは低分子有機光導電
性物質の溶媒として役立つフイルム形成性のある
絶縁性樹脂が好ましく、このような樹脂としては
例えばフエノール―ホルムアルデヒド樹脂、メタ
クレゾールホルムアルデヒド樹脂、スチレン―無
水マレイン酸共重合体、ポリアクリル酸―ポリア
クリル酸アミド共重合体、フマル酸エチレングリ
コール共重合体、メチルビニルエーテル―無水マ
レイン酸共重合体、アクリロイルグリシン―酢酸
ビニル共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリビ
ニルアルコール、ポリアミド、アルカリ可溶アジ
ド樹脂、ハロゲン化ポリスチレン等の合成樹脂お
よびシエラツク、プロテイン、グルー等の天然樹
脂が挙げられる。
おいてポジ型感光層の選択的除去を阻害しないた
め、すなわちその非画像部がポジ型感光層の非画
像部と共に溶解除去されるために、アルカリ可溶
性樹脂を含有していることが好ましい。このよう
なアルカリ可溶性樹脂としては高分子有機光導電
性物質の結着剤としてあるいは低分子有機光導電
性物質の溶媒として役立つフイルム形成性のある
絶縁性樹脂が好ましく、このような樹脂としては
例えばフエノール―ホルムアルデヒド樹脂、メタ
クレゾールホルムアルデヒド樹脂、スチレン―無
水マレイン酸共重合体、ポリアクリル酸―ポリア
クリル酸アミド共重合体、フマル酸エチレングリ
コール共重合体、メチルビニルエーテル―無水マ
レイン酸共重合体、アクリロイルグリシン―酢酸
ビニル共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリビ
ニルアルコール、ポリアミド、アルカリ可溶アジ
ド樹脂、ハロゲン化ポリスチレン等の合成樹脂お
よびシエラツク、プロテイン、グルー等の天然樹
脂が挙げられる。
光導電性絶縁層に使用される光導電性材料粒子
の結着剤としては該層の帯電性を向上させるため
に絶縁性の樹脂、例えば、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリア
クリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリビ
ニルフルオライド、ポリビニルクロライド、ポリ
ビニルアセテート、ポリスチレン スチレン―ブ
タジエン共重合体、ポリメタクリレート、シリコ
ン樹脂、塩化ゴム、エポキシ樹脂、純および変性
アルキツド樹脂、ポリエチルメタクリレート、ポ
リ―n―ブチルメタクリレート、酢酸セルロー
ス、ケトン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリアクリロニトリル、ロジン誘導体、ポリ
塩化ビニリデン、ニトロセルロースが挙げられ
る。
の結着剤としては該層の帯電性を向上させるため
に絶縁性の樹脂、例えば、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリア
クリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリビ
ニルフルオライド、ポリビニルクロライド、ポリ
ビニルアセテート、ポリスチレン スチレン―ブ
タジエン共重合体、ポリメタクリレート、シリコ
ン樹脂、塩化ゴム、エポキシ樹脂、純および変性
アルキツド樹脂、ポリエチルメタクリレート、ポ
リ―n―ブチルメタクリレート、酢酸セルロー
ス、ケトン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリアクリロニトリル、ロジン誘導体、ポリ
塩化ビニリデン、ニトロセルロースが挙げられ
る。
光導電性絶縁層とポジ型感光層との間に場合に
より設けられる中間層としては適当な導電性を有
する水溶性樹脂、例えば、ポリビニルアルコー
ル、アルキルヒドロキシアルキルセルロース、ポ
リアクリル酸およびその誘導体、ポリアクリルア
ミド、ポリビニルピロリドン、ポリビニルメチル
エーテル、無水マレイン酸とビニルあるいはアク
リル化合物との反応体などが用いられる。
より設けられる中間層としては適当な導電性を有
する水溶性樹脂、例えば、ポリビニルアルコー
ル、アルキルヒドロキシアルキルセルロース、ポ
リアクリル酸およびその誘導体、ポリアクリルア
ミド、ポリビニルピロリドン、ポリビニルメチル
エーテル、無水マレイン酸とビニルあるいはアク
リル化合物との反応体などが用いられる。
ポジ型感光層は光可溶性物質例えばo―キノン
ジアジド化合物、解重合型感光性樹脂などを単独
でかまたは好ましくはアルカリ可溶性樹脂と混合
してなり、導電性支持体上に適当な溶剤の溶液と
して塗布することにより形成される。アルカリ可
溶性樹脂としては光導電性絶縁層に使用される前
記のものが挙げられ感光層中の約50〜85重量%含
有させられる。また感光層に適当な可撓性を与え
るために公知の可塑剤例えばDOPを約5重量%
以下の量で含有させることができる。このような
組成のポジ型感光層は導電性支持体上に通常約
0.5〜7g/m2の量で塗布される。
ジアジド化合物、解重合型感光性樹脂などを単独
でかまたは好ましくはアルカリ可溶性樹脂と混合
してなり、導電性支持体上に適当な溶剤の溶液と
して塗布することにより形成される。アルカリ可
溶性樹脂としては光導電性絶縁層に使用される前
記のものが挙げられ感光層中の約50〜85重量%含
有させられる。また感光層に適当な可撓性を与え
るために公知の可塑剤例えばDOPを約5重量%
以下の量で含有させることができる。このような
組成のポジ型感光層は導電性支持体上に通常約
0.5〜7g/m2の量で塗布される。
本発明による平版印刷版用感光材料の光導電性
絶縁層における光導電性材料、絶縁性樹脂、アル
カリ可溶性樹脂の混合比は、光導電性、帯電性、
光透過性、現像液の溶解および浸透速度によつて
決定される。光導電性材料5〜30重量%、絶縁性
樹脂0〜30重量%、アルカリ可溶性樹脂50〜85重
量%の比率において良効な特性が得られる。低抵
抗のアルカリ可溶性樹脂を用いるときは絶縁性樹
脂により帯電性を向上させ、高抵抗のアルカリ可
溶性樹脂を用いるときは絶縁性樹脂を混合しなく
てもよい。光導電性絶縁層とポジ型感光層とを同
一の層として形成するときには光導電性材料5〜
30重量%、絶縁性樹脂0〜30重量%、光可溶性物
質50〜85重量%を混合剤合を用いることができ
る。
絶縁層における光導電性材料、絶縁性樹脂、アル
カリ可溶性樹脂の混合比は、光導電性、帯電性、
光透過性、現像液の溶解および浸透速度によつて
決定される。光導電性材料5〜30重量%、絶縁性
樹脂0〜30重量%、アルカリ可溶性樹脂50〜85重
量%の比率において良効な特性が得られる。低抵
抗のアルカリ可溶性樹脂を用いるときは絶縁性樹
脂により帯電性を向上させ、高抵抗のアルカリ可
溶性樹脂を用いるときは絶縁性樹脂を混合しなく
てもよい。光導電性絶縁層とポジ型感光層とを同
一の層として形成するときには光導電性材料5〜
30重量%、絶縁性樹脂0〜30重量%、光可溶性物
質50〜85重量%を混合剤合を用いることができ
る。
本発明は上記の構成において、感光層に以下に
述べる如き導電化剤を加えることを特徴とし、か
くすることによつて、得られた印刷版を用いて印
刷する場合の印刷よごれの発生を防ぐことができ
る。
述べる如き導電化剤を加えることを特徴とし、か
くすることによつて、得られた印刷版を用いて印
刷する場合の印刷よごれの発生を防ぐことができ
る。
本発明で用いられる導電化剤は感光層の感光特
性、現像特性、印刷特性等に悪影響を与えること
なく、感光層に適当な導電性を与え、光導電性絶
縁層を像露光する場合に露光部の電荷が支持体に
逃げるのを妨げないためのものであつて、次のよ
うな材料が用いられる。
性、現像特性、印刷特性等に悪影響を与えること
なく、感光層に適当な導電性を与え、光導電性絶
縁層を像露光する場合に露光部の電荷が支持体に
逃げるのを妨げないためのものであつて、次のよ
うな材料が用いられる。
すなわち、コロイド状アルミナ;コロイド状シ
リカ;Al,Zn,Ag,Fe,Cu,Mn,Co等の金属
粉末;上記金属の金属塩(塩化物、臭化物、硫酸
塩、硫酸塩、硝酸塩、しゆう酸塩等);ZnO,
SnO2,In2O3等の如き金属酸化物;アルキルリン
酸アルカノールアミン塩、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル、アルキルメチルアンモニウム塩、N,N
―ビス(2―ヒドロキシエチル)アルキルアミ
ン、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンス
ルホン酸塩、脂肪酸コリンエステル、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル及びそのリン酸エステ
ル又はその塩、脂肪酸モノグリセリド、脂肪酸ソ
ルビタン部分エステル等の界面活性剤;カチオン
型高分子電解質;アニオン型高分子電解質があ
る。
リカ;Al,Zn,Ag,Fe,Cu,Mn,Co等の金属
粉末;上記金属の金属塩(塩化物、臭化物、硫酸
塩、硫酸塩、硝酸塩、しゆう酸塩等);ZnO,
SnO2,In2O3等の如き金属酸化物;アルキルリン
酸アルカノールアミン塩、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル、アルキルメチルアンモニウム塩、N,N
―ビス(2―ヒドロキシエチル)アルキルアミ
ン、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンス
ルホン酸塩、脂肪酸コリンエステル、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル及びそのリン酸エステ
ル又はその塩、脂肪酸モノグリセリド、脂肪酸ソ
ルビタン部分エステル等の界面活性剤;カチオン
型高分子電解質;アニオン型高分子電解質があ
る。
カチオン型分子電解質としては、ポリエチレン
イミンハイドロクロライド、ポリ(N―メチル―
4―ビニルピリジウムクロライド)等の1級、2
級、3級アンモニウム塩;ポリ(2―メタクリル
オキシエチルトリメチルアンモニウムクロライ
ド)、ポリ(2―ハイドロキシ―3―メタクリル
オキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライ
ド)、ポリ(N―アクリルアミドプロピル―3―
トリメチルアンモニウムクロライド)、ポリ(N
―メチルビニルピリジニウムクロライド)、ポリ
(N―ビニル―2,3―ジメチルイミダゾリニウ
ムクロライド)、ポリ(ジアリルアンモニウムク
ロライド)、ポリ(N,N―ジメチル―3,5―
メチレンピペリジニウムクロライド)、等の4級
アンモニウム塩;ポリ(2―アクリルオキシエチ
ルジメチルスルホニウムクロライド)等のスルホ
ニウム塩;ポリ(グリシジルトリブチルホスホニ
ウムクロライド)等のホスホニウム塩が用いられ
る。またアニオン型高分子電解質としてはポリ
(メタ)アクリル酸,ポリアクリル酸エステル加
水分解物、ポリアクリル酸アミド加水分解物、ポ
リアクリル酸ニトリル加水分解物等のカルボキシ
レート;ポリスチレンスルホネート、ポリビニル
スルホネート;ポリビニルホスホネート等のホス
ホネート等がある。
イミンハイドロクロライド、ポリ(N―メチル―
4―ビニルピリジウムクロライド)等の1級、2
級、3級アンモニウム塩;ポリ(2―メタクリル
オキシエチルトリメチルアンモニウムクロライ
ド)、ポリ(2―ハイドロキシ―3―メタクリル
オキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライ
ド)、ポリ(N―アクリルアミドプロピル―3―
トリメチルアンモニウムクロライド)、ポリ(N
―メチルビニルピリジニウムクロライド)、ポリ
(N―ビニル―2,3―ジメチルイミダゾリニウ
ムクロライド)、ポリ(ジアリルアンモニウムク
ロライド)、ポリ(N,N―ジメチル―3,5―
メチレンピペリジニウムクロライド)、等の4級
アンモニウム塩;ポリ(2―アクリルオキシエチ
ルジメチルスルホニウムクロライド)等のスルホ
ニウム塩;ポリ(グリシジルトリブチルホスホニ
ウムクロライド)等のホスホニウム塩が用いられ
る。またアニオン型高分子電解質としてはポリ
(メタ)アクリル酸,ポリアクリル酸エステル加
水分解物、ポリアクリル酸アミド加水分解物、ポ
リアクリル酸ニトリル加水分解物等のカルボキシ
レート;ポリスチレンスルホネート、ポリビニル
スルホネート;ポリビニルホスホネート等のホス
ホネート等がある。
上記の導電化剤は単独でも2種以上の組み合せ
として用いてもよく、感光層を塗布する場合に塗
布液に添加すればよい。導電化剤の添加量は、得
られた感光層のバルク方向の抵抗が1010Ω/cm2以
下であればよく、この範囲で上記の如き感光層の
諸特性を損なわないように上記の導電化剤を適宜
選択して用いる。
として用いてもよく、感光層を塗布する場合に塗
布液に添加すればよい。導電化剤の添加量は、得
られた感光層のバルク方向の抵抗が1010Ω/cm2以
下であればよく、この範囲で上記の如き感光層の
諸特性を損なわないように上記の導電化剤を適宜
選択して用いる。
本発明による平版印刷版用感光材料の最下層に
ある導電性支持体は例えば表面処理されたアルミ
ニウム板からなり、この表面処理した面上にポジ
型感光層を有している。好ましいアルミニウム板
としては、純アルミニウム板およびアルミニウム
合金板があり、更にアルミニウムがラミネートも
しくは蒸着されたプラスチツクフイルムも挙げら
れる。アルミニウム板の表面は砂目立て処理、珪
酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩
等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理
などの表面処理がなされていることが好ましい。
これらの表面処理、すなわち親水化処理は支持体
表面を親水性にするために行われるが、同時に支
持体上に設けられるポジ型感光層との有害な反応
を防ぎかつ該感光層との密着性を向上させること
ができる。
ある導電性支持体は例えば表面処理されたアルミ
ニウム板からなり、この表面処理した面上にポジ
型感光層を有している。好ましいアルミニウム板
としては、純アルミニウム板およびアルミニウム
合金板があり、更にアルミニウムがラミネートも
しくは蒸着されたプラスチツクフイルムも挙げら
れる。アルミニウム板の表面は砂目立て処理、珪
酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩
等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理
などの表面処理がなされていることが好ましい。
これらの表面処理、すなわち親水化処理は支持体
表面を親水性にするために行われるが、同時に支
持体上に設けられるポジ型感光層との有害な反応
を防ぎかつ該感光層との密着性を向上させること
ができる。
本発明においても、本発明者が先に提案した如
くアルミニウム板の酸化皮膜の量が0.2〜2.8g/
m2になるようにすることにより更に印刷かぶりの
発生を防ぐことができる。ただし、酸化皮膜の存
在は印刷版の耐刷性に関係があり、一般に酸化皮
膜の量が多い程耐刷性が大きいので、例えば10万
枚以上の耐刷性を得たい場合には上記の如く酸化
皮膜の量を減少させなくても本発明により、感光
層を導電化するだけでも満足な結果が得られる。
くアルミニウム板の酸化皮膜の量が0.2〜2.8g/
m2になるようにすることにより更に印刷かぶりの
発生を防ぐことができる。ただし、酸化皮膜の存
在は印刷版の耐刷性に関係があり、一般に酸化皮
膜の量が多い程耐刷性が大きいので、例えば10万
枚以上の耐刷性を得たい場合には上記の如く酸化
皮膜の量を減少させなくても本発明により、感光
層を導電化するだけでも満足な結果が得られる。
本発明方法の好ましい態様である液体現像c工
程において使用する電子写真用液体現像剤として
は、すでによく知られた現像剤としてのカーボン
ブラツクその他をガソリン、ケロセン、4塩化炭
素に分散したもので、電気的特性を均一にするた
めにアルキツド樹脂、アマニ油などの制御剤を用
いて改良したものが使用できる(特公昭35―
13424参照)。負帯電および正帯電トナーの両者が
使用可能で、負帯電トナーとしてはカーボンブラ
ツク、クロム酸鉛、チヤコールなどを脂肪族炭化
水素、ガソリン、シクロヘキサン、ベンタン、
CCl4などの中に分散し、制御剤としてアマニ油、
ポリエチレン、シエラツクなどを加えたものがあ
り、正帯電トナーとしてはカーボンブラツク、フ
タロシアニンブルー,チヤコール、ベルミリオン
レツドなどを脂肪族炭化水素、ケロセン、シクロ
ヘキサン、ペンタン、CCl4などの中に分散し、
制御剤としてアルキツド樹脂、ベルサミド、テル
ギートールなどを加えたものがある。現像剤粒子
の大きさは1μ以下のものを使用するがこれは高
解像度画像を得るのに適している。
程において使用する電子写真用液体現像剤として
は、すでによく知られた現像剤としてのカーボン
ブラツクその他をガソリン、ケロセン、4塩化炭
素に分散したもので、電気的特性を均一にするた
めにアルキツド樹脂、アマニ油などの制御剤を用
いて改良したものが使用できる(特公昭35―
13424参照)。負帯電および正帯電トナーの両者が
使用可能で、負帯電トナーとしてはカーボンブラ
ツク、クロム酸鉛、チヤコールなどを脂肪族炭化
水素、ガソリン、シクロヘキサン、ベンタン、
CCl4などの中に分散し、制御剤としてアマニ油、
ポリエチレン、シエラツクなどを加えたものがあ
り、正帯電トナーとしてはカーボンブラツク、フ
タロシアニンブルー,チヤコール、ベルミリオン
レツドなどを脂肪族炭化水素、ケロセン、シクロ
ヘキサン、ペンタン、CCl4などの中に分散し、
制御剤としてアルキツド樹脂、ベルサミド、テル
ギートールなどを加えたものがある。現像剤粒子
の大きさは1μ以下のものを使用するがこれは高
解像度画像を得るのに適している。
本発明方法の溶解e―1またはe―2工程にお
いてポジ型感光層の露光部分を溶解除去するため
に使用するアルカリ溶液はけい酸ナトリウム、け
い酸カリウム、水酸ナトリウム、水酸カリウム、
水酸化リチウム、第三りん酸ナトリウム、第三り
ん酸ナトリウム、第三りん酸アンモニウム、第二
りん酸アンモニウム、メタけい酸ナトリウム、重
炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機
アルカリ性物質の水溶液であり、それらの濃度
は、約0.1〜約10重量%、好ましくは約0.5〜約8
重量%である。その場合に溶液のアルカリ強度は
およびPH12.5〜PH13.9となり、ポジ型感光材料を
現像するには適当なアルカリ強度となる。この溶
液には所望により界面活性剤や有機溶剤を含ませ
てもよい。
いてポジ型感光層の露光部分を溶解除去するため
に使用するアルカリ溶液はけい酸ナトリウム、け
い酸カリウム、水酸ナトリウム、水酸カリウム、
水酸化リチウム、第三りん酸ナトリウム、第三り
ん酸ナトリウム、第三りん酸アンモニウム、第二
りん酸アンモニウム、メタけい酸ナトリウム、重
炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機
アルカリ性物質の水溶液であり、それらの濃度
は、約0.1〜約10重量%、好ましくは約0.5〜約8
重量%である。その場合に溶液のアルカリ強度は
およびPH12.5〜PH13.9となり、ポジ型感光材料を
現像するには適当なアルカリ強度となる。この溶
液には所望により界面活性剤や有機溶剤を含ませ
てもよい。
なお、上記説明では光導電層を現像するのに液
体現像を行う場合についてのべたが、本発明では
これに限られず、カスケード現像、磁気ブラシ現
像等の乾式現像法も用いることができる。
体現像を行う場合についてのべたが、本発明では
これに限られず、カスケード現像、磁気ブラシ現
像等の乾式現像法も用いることができる。
以上、ポジ型感光層を用いる場合について本発
明を説明したが、本発明は感光層としてネガ型感
光層を用いる場合にも適用できる。
明を説明したが、本発明は感光層としてネガ型感
光層を用いる場合にも適用できる。
すなわち、例えば、第1図で示される態様で例
示すると、アルミニウム支持体3上にジアゾ化合
物又はジアゾ樹脂を主体とするネガ型感光層2と
光導電性絶縁層1を設ける。この場合も帯電、像
露光、トナー現像、及び紫外線による全面露光の
工程はポジ型感光層と同様であるが、ネガ型感光
層の場合には、紫外線照射を行つた場合にトナー
の存在していない非画像部の感光層が硬化又は分
解を起こして不溶性となり、処理液で処理する
と、非露光部、すなわち、トナーが存在している
部分が除かれ、露光部の感光層は支持体上に残
る。かくして親油性の感光層からなるポジ像を有
する平版印刷版を得ることができる。
示すると、アルミニウム支持体3上にジアゾ化合
物又はジアゾ樹脂を主体とするネガ型感光層2と
光導電性絶縁層1を設ける。この場合も帯電、像
露光、トナー現像、及び紫外線による全面露光の
工程はポジ型感光層と同様であるが、ネガ型感光
層の場合には、紫外線照射を行つた場合にトナー
の存在していない非画像部の感光層が硬化又は分
解を起こして不溶性となり、処理液で処理する
と、非露光部、すなわち、トナーが存在している
部分が除かれ、露光部の感光層は支持体上に残
る。かくして親油性の感光層からなるポジ像を有
する平版印刷版を得ることができる。
感光層以外の材料、処理条件等に関してはポジ
型感光層を用いた感光材料について前記したもの
と全く同様である。ただし、ネガ型感光層を用い
る場合にはネガからポジ像を得るのに反転現像を
必要としない。
型感光層を用いた感光材料について前記したもの
と全く同様である。ただし、ネガ型感光層を用い
る場合にはネガからポジ像を得るのに反転現像を
必要としない。
ネガ型感光層の組成物は、例えば米国特許第
2714066号明細書に記載されているようにジアゾ
化合物又はジアゾ樹脂単独のものや、例えば米国
特許第2826501号や英国特許第1074392号明細書に
記載されているようなジアゾ化合物又はジアゾ樹
脂と担体との混合物がある。
2714066号明細書に記載されているようにジアゾ
化合物又はジアゾ樹脂単独のものや、例えば米国
特許第2826501号や英国特許第1074392号明細書に
記載されているようなジアゾ化合物又はジアゾ樹
脂と担体との混合物がある。
ジアゾ化合物にはジアゾニウム塩およびP―ジ
アゾフエニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合
物に代表されるジアゾ樹脂が含まれる。
アゾフエニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合
物に代表されるジアゾ樹脂が含まれる。
特に好ましいジアゾ化合物としては、P―ジア
ゾジフエニルアミンの塩、例えばフエノール塩、
フルオロカプリン酸塩、及びトリイソプロピルナ
フタレンスルホン酸、4,4′―ビフエニルジスル
ホン酸、5―ニトロオルトートルエンスルホン
酸、5―スルホサルチル酸、2,5―ジメチルベ
ンゼンスルホン酸、2―ニトロベンゼンスルホン
酸、3―クロロベンゼンスルホン酸、3―ブロモ
ベンゼンスルホン酸、2―クロロ―5―ニトロベ
ンゼンスルホン酸、2―フルオロカブリルナフカ
レンスルホン酸、1―ナフトール―5―スルホン
酸、2―メトキシ―4―ヒドロオキシ―5―ベン
ゾイル―ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンス
ルホン酸などのスルホン酸の塩などとホルムアル
デヒドとの縮合物のように一分子中に2個以上の
ジアゾ基を有する化合物である。この他望ましい
ジアゾ化合物としては上記の塩を含む2,5―ジ
メトキシo―4―P―トリルメルカプトンベンゼ
ンジアゾニウムとホルムアルデヒドの縮合物、
2,5―ジメトキシ―4―モルホリノベンゼンジ
アゾニウムとホルムアルデヒドまたはアセトアル
デヒドとの縮合物、および特開昭48―33907号公
報に記載されている化合物がある。
ゾジフエニルアミンの塩、例えばフエノール塩、
フルオロカプリン酸塩、及びトリイソプロピルナ
フタレンスルホン酸、4,4′―ビフエニルジスル
ホン酸、5―ニトロオルトートルエンスルホン
酸、5―スルホサルチル酸、2,5―ジメチルベ
ンゼンスルホン酸、2―ニトロベンゼンスルホン
酸、3―クロロベンゼンスルホン酸、3―ブロモ
ベンゼンスルホン酸、2―クロロ―5―ニトロベ
ンゼンスルホン酸、2―フルオロカブリルナフカ
レンスルホン酸、1―ナフトール―5―スルホン
酸、2―メトキシ―4―ヒドロオキシ―5―ベン
ゾイル―ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンス
ルホン酸などのスルホン酸の塩などとホルムアル
デヒドとの縮合物のように一分子中に2個以上の
ジアゾ基を有する化合物である。この他望ましい
ジアゾ化合物としては上記の塩を含む2,5―ジ
メトキシo―4―P―トリルメルカプトンベンゼ
ンジアゾニウムとホルムアルデヒドの縮合物、
2,5―ジメトキシ―4―モルホリノベンゼンジ
アゾニウムとホルムアルデヒドまたはアセトアル
デヒドとの縮合物、および特開昭48―33907号公
報に記載されている化合物がある。
更に他の有用なジアゾ化合物、米国特許第
2649373号明細書に記載されているような化合物
を含む。
2649373号明細書に記載されているような化合物
を含む。
もつとも好適なるジアゾ化合物はP―ジアゾジ
フエニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物の
2―メトキシ―4―ヒドロオキシ―5―ベンゾイ
ルベンゼンスルホン酸塩である。
フエニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物の
2―メトキシ―4―ヒドロオキシ―5―ベンゾイ
ルベンゼンスルホン酸塩である。
ジアゾ化合物と共に用いられる担体としては、
例えば特公昭52―7364号公報や特開昭50―118802
号公報に記載されているような2―ヒドロキシエ
チルメタクリレート共重合体、特開昭54―9861号
公報に記載の芳香族性水酸基を有する単量体の共
重合体、特開昭50―30604号公報に記載のβ―ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレートの重合体及
びβ―ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを
50%以上含む共重合体、及び特公昭56―9697号公
報に記載の上記(メタ)アクリレートの重合体又
は共重合体の一部を親水性のエーテル基を有する
低分子量のポリウレタン樹脂で置き換えたもの等
が用いられる。
例えば特公昭52―7364号公報や特開昭50―118802
号公報に記載されているような2―ヒドロキシエ
チルメタクリレート共重合体、特開昭54―9861号
公報に記載の芳香族性水酸基を有する単量体の共
重合体、特開昭50―30604号公報に記載のβ―ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレートの重合体及
びβ―ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを
50%以上含む共重合体、及び特公昭56―9697号公
報に記載の上記(メタ)アクリレートの重合体又
は共重合体の一部を親水性のエーテル基を有する
低分子量のポリウレタン樹脂で置き換えたもの等
が用いられる。
又、その他のネガ作用を有する光重合性組成物
について説明する。光重合性組成物はバインダ
ー、付加重合性不飽和モノマー、および光重合開
始剤からなる。光重合性組成物のバインダーは、
メチル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル
酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体
のハーフエステル及びハーフアマイド、ベンジル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重
合体、ベンジル(メタ)アクリレート/イタコン
酸共重合体、スチレン/イタコン酸共重合体、酢
酸ビニル/クロトン酸共重合体、酸性フタル酸セ
ルロース、(メタ)アクリル酸/スチレン/アル
キル(メタ)アクリレート共重合体、等が使用で
きる。
について説明する。光重合性組成物はバインダ
ー、付加重合性不飽和モノマー、および光重合開
始剤からなる。光重合性組成物のバインダーは、
メチル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル
酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体
のハーフエステル及びハーフアマイド、ベンジル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重
合体、ベンジル(メタ)アクリレート/イタコン
酸共重合体、スチレン/イタコン酸共重合体、酢
酸ビニル/クロトン酸共重合体、酸性フタル酸セ
ルロース、(メタ)アクリル酸/スチレン/アル
キル(メタ)アクリレート共重合体、等が使用で
きる。
不飽和モノマーは、少なくとも1つの付加重合
性不飽和基を有する化合物が有用であるが、特に
望しいものは、エチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
及びジペンタエリスリトールのトリー、テトラー
もしくはヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシ
ジ(メタ)クリレート、特公昭52―7361号公報に
開示されているようなオリゴアクリレート、特公
昭48―41708号公報に開示されているようなアク
リルウレタン樹脂またはアクリルウレタンのオリ
ゴマー等である。
性不飽和基を有する化合物が有用であるが、特に
望しいものは、エチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
及びジペンタエリスリトールのトリー、テトラー
もしくはヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシ
ジ(メタ)クリレート、特公昭52―7361号公報に
開示されているようなオリゴアクリレート、特公
昭48―41708号公報に開示されているようなアク
リルウレタン樹脂またはアクリルウレタンのオリ
ゴマー等である。
光重合開始剤としては、米国特許第2367660号
明細書に開示されているビシナールポリケタルド
ニル化合物、米国特許第2367661号及び第2367670
号明細書に開示されているα―カルボニル化合
物、米国特許第2448828号明細書に開示されてい
るアシロインエーテル、米国特許第2722512号明
細書に開示されているα―炭化水素で置換された
芳香族アシロイン化合物、米国特許第3046127号
及び第2951758号明細書に開示されている多核キ
ノン化合物、米国特許第3549367号明細書に開示
されているトリアリルイミダゾールダイマー/p
―アミノフエニルケトンの組合せ、特公昭51―
48516号公報に開示されているベンゾチアゾール
系化合物、特開昭54―74887号公報に開示されて
いるベンゾチアゾール系化合物/トリハロメチル
―s―トリアジン系化合物及び米国特許第
3751259号明細書に開示されているアクリジン及
びフエナジン化合物等がある。
明細書に開示されているビシナールポリケタルド
ニル化合物、米国特許第2367661号及び第2367670
号明細書に開示されているα―カルボニル化合
物、米国特許第2448828号明細書に開示されてい
るアシロインエーテル、米国特許第2722512号明
細書に開示されているα―炭化水素で置換された
芳香族アシロイン化合物、米国特許第3046127号
及び第2951758号明細書に開示されている多核キ
ノン化合物、米国特許第3549367号明細書に開示
されているトリアリルイミダゾールダイマー/p
―アミノフエニルケトンの組合せ、特公昭51―
48516号公報に開示されているベンゾチアゾール
系化合物、特開昭54―74887号公報に開示されて
いるベンゾチアゾール系化合物/トリハロメチル
―s―トリアジン系化合物及び米国特許第
3751259号明細書に開示されているアクリジン及
びフエナジン化合物等がある。
以上の他に更に熱重合防止剤を加えておくこと
が好ましく、例えばハイドロキノン、p―メトキ
シフエノール、ジ―t―ブチル―p―クレゾー
ル、ピロガロール、t―ブチルカテコール、ベン
ゾキノン、4,4′―チオビス(3―メチル―6―
t―ブチルフエノール)、2,2′―メチレンビス
(4―メチル―6―t―ブチルフエノール)、2―
メルカプトベンゾイミダゾール等が有用であり、
また場合によつては感光層の着色を目的として染
料もしくは顔料や焼出剤としてPH指示薬等を添加
することもできる。
が好ましく、例えばハイドロキノン、p―メトキ
シフエノール、ジ―t―ブチル―p―クレゾー
ル、ピロガロール、t―ブチルカテコール、ベン
ゾキノン、4,4′―チオビス(3―メチル―6―
t―ブチルフエノール)、2,2′―メチレンビス
(4―メチル―6―t―ブチルフエノール)、2―
メルカプトベンゾイミダゾール等が有用であり、
また場合によつては感光層の着色を目的として染
料もしくは顔料や焼出剤としてPH指示薬等を添加
することもできる。
感光層を紫外線で露光後、光導電層にトナーが
存在していた未露部を現像液で選択的に溶出除去
する。現像液の組成は、用いられるジアゾ化合物
や担体の種類によつて異なるが、一般にラウリル
アルコールサルフエートのナトリウム塩(モノゲ
ンY―100、第一工業製薬K.K.製、商品名)、ア
ルキルラウリル硫酸ナトリウム、硫酸ナトリウム
オクチル、硫酸ラウリルのアンモニウム塩、スル
ホン酸ナトリウムキシレン、N,N―ジヒドロキ
シエチレングリシンのモノナトリウム塩等の湿潤
剤又は無機アルカリ剤や有機アミン化合物等のア
ルカリを含む水溶液が用いられる。この場合、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、ペンシル
アルコール等の如きアルコール類、酢酸エチル、
酢酸ブチル等のカルボン酸エステル;メチルイソ
ブチルケトン等の如きケトン類;キシレンの如き
アルキル置換芳香族炭化水素などのような水混和
性有機溶剤を少量加えることが望ましい。
存在していた未露部を現像液で選択的に溶出除去
する。現像液の組成は、用いられるジアゾ化合物
や担体の種類によつて異なるが、一般にラウリル
アルコールサルフエートのナトリウム塩(モノゲ
ンY―100、第一工業製薬K.K.製、商品名)、ア
ルキルラウリル硫酸ナトリウム、硫酸ナトリウム
オクチル、硫酸ラウリルのアンモニウム塩、スル
ホン酸ナトリウムキシレン、N,N―ジヒドロキ
シエチレングリシンのモノナトリウム塩等の湿潤
剤又は無機アルカリ剤や有機アミン化合物等のア
ルカリを含む水溶液が用いられる。この場合、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、ペンシル
アルコール等の如きアルコール類、酢酸エチル、
酢酸ブチル等のカルボン酸エステル;メチルイソ
ブチルケトン等の如きケトン類;キシレンの如き
アルキル置換芳香族炭化水素などのような水混和
性有機溶剤を少量加えることが望ましい。
本発明は上記の如きネガ型感光層の場合にもポ
ジ型感光層についてのべたと同様に、前記した如
き導電化剤を含有させることによつて、光導電性
絶縁層の現像カブレと、これによる印刷よごれの
発生を防止することができる。
ジ型感光層についてのべたと同様に、前記した如
き導電化剤を含有させることによつて、光導電性
絶縁層の現像カブレと、これによる印刷よごれの
発生を防止することができる。
以下本発明の実施例を説明する。
実施例 1
厚さ0.24mmの砂目立てされたアルミニウム板を
硫酸浴中で陽極酸化し、約2.7g/m2の酸化皮膜
をつくりよく洗浄した後乾燥しその上に下記処方
*で調整した感光液をホイラーにより塗布し乾燥
時塗布量2.3g/m2の感光層を得た。
硫酸浴中で陽極酸化し、約2.7g/m2の酸化皮膜
をつくりよく洗浄した後乾燥しその上に下記処方
*で調整した感光液をホイラーにより塗布し乾燥
時塗布量2.3g/m2の感光層を得た。
※ 感光液処方
ナフトキノン―(1.2)―ジアジド―(2)―5―
スルホン酸とピロガロールアセトン樹脂とのエ
ステル化物 0.85重量部 クレゾールノボラツク樹脂 0.05 〃 メチルテトラヒドロ無水フタル酸 0.20 〃 p―t―ブチルフエノール樹脂 2.10 〃 スルホン酸クロリド 0.06 〃 メチルセルソルブアセテート 20重量部 メチルエチルケトン 10 〃 メタノールシリカ(35%メタノール溶液;日産
化学社製) 0〜4 〃 この上に、さらに光半導体層を次の感光**液から
超音波分散機より5分間分散処理してから、ワイ
ヤーバーにより塗布し、70℃で1分間乾燥した。*
* ノボラツク型フエノール樹脂イソプロピルアル
コール中33% 12重量部 ―(エチルアクリレート62―メチルメタアクリレ
ート25―メチルアクリル酸13―)エチルアルコー
ル中25% 4 〃 フタロシアニン顔料(スミカプリントGN―
0) 1 〃 トルエン 25 〃 光半導体層の固形分塗布重量は2.6g/m2であ
る。この感光板に、コロナ帯電電圧+6000Vに設
定したコロナ帯電器により正コロナ帯電を行な
い、次にタングステン電球による6ルクスの照射
光をポジ透過原稿を通して3秒間露光した。そし
て、負極性トナーを有する液体現像液(リコー製
MRP―610)に20秒間浸漬した後、送風乾燥して
ポジのトナー画像を得た。次にフジフイルムの社
製A―3プリンター(PS版用露光機)で75秒間
全面露光し、フジフイルム社製PS版用現像液DP
―3を水で1/7に希釈した液中で1分間現像を行
なつたところ、平版印刷版が得られた。この実験
を通して、ポジ感光液中に含有する導電化剤のメ
タノールシリカの添加量とポジ感光層の体積電気
抵抗およびそれらから実際に印際して得られた印
刷物の汚れを第5図に示す。
スルホン酸とピロガロールアセトン樹脂とのエ
ステル化物 0.85重量部 クレゾールノボラツク樹脂 0.05 〃 メチルテトラヒドロ無水フタル酸 0.20 〃 p―t―ブチルフエノール樹脂 2.10 〃 スルホン酸クロリド 0.06 〃 メチルセルソルブアセテート 20重量部 メチルエチルケトン 10 〃 メタノールシリカ(35%メタノール溶液;日産
化学社製) 0〜4 〃 この上に、さらに光半導体層を次の感光**液から
超音波分散機より5分間分散処理してから、ワイ
ヤーバーにより塗布し、70℃で1分間乾燥した。*
* ノボラツク型フエノール樹脂イソプロピルアル
コール中33% 12重量部 ―(エチルアクリレート62―メチルメタアクリレ
ート25―メチルアクリル酸13―)エチルアルコー
ル中25% 4 〃 フタロシアニン顔料(スミカプリントGN―
0) 1 〃 トルエン 25 〃 光半導体層の固形分塗布重量は2.6g/m2であ
る。この感光板に、コロナ帯電電圧+6000Vに設
定したコロナ帯電器により正コロナ帯電を行な
い、次にタングステン電球による6ルクスの照射
光をポジ透過原稿を通して3秒間露光した。そし
て、負極性トナーを有する液体現像液(リコー製
MRP―610)に20秒間浸漬した後、送風乾燥して
ポジのトナー画像を得た。次にフジフイルムの社
製A―3プリンター(PS版用露光機)で75秒間
全面露光し、フジフイルム社製PS版用現像液DP
―3を水で1/7に希釈した液中で1分間現像を行
なつたところ、平版印刷版が得られた。この実験
を通して、ポジ感光液中に含有する導電化剤のメ
タノールシリカの添加量とポジ感光層の体積電気
抵抗およびそれらから実際に印際して得られた印
刷物の汚れを第5図に示す。
体積抵抗が1010Ωcm3以下の領域では、印刷汚れ
のない高品質の印刷物が作成された。
のない高品質の印刷物が作成された。
実施例 2
実施例1で用いた導電化剤のメタノールシリカ
の換りにポリオキシエチレンアルキルリン酸ナト
リウムの添加量を変えてポジ感光層を作成した。
以下実施例1と同様にして製版し印刷したとこ
ろ、ポジ感光層の体積抵抗が1010Ω/cm3以下の場
合に印刷汚れのない高品質の印刷物が得られた。
の換りにポリオキシエチレンアルキルリン酸ナト
リウムの添加量を変えてポジ感光層を作成した。
以下実施例1と同様にして製版し印刷したとこ
ろ、ポジ感光層の体積抵抗が1010Ω/cm3以下の場
合に印刷汚れのない高品質の印刷物が得られた。
実施例 3
実施例1で得たポジ感光層を塗布した支持体上
にさらに、下記の処方で光半導体層をワイヤーバ
ーで塗布し固形分塗布重量2.1g/m2を得た。
にさらに、下記の処方で光半導体層をワイヤーバ
ーで塗布し固形分塗布重量2.1g/m2を得た。
処方
―(エチルアクリレート62―メチルメタアクリレ
ート25―メチルアクリル酸13―)25%エチルアル
コール中 12重量部 ミクロリス4G―T(チバガイギー製)
1.5 〃 トルエン 25 〃 実施例1と同様の製版工程中、コロナ帯電電圧
+6000Vの換りに−6000V、さらに負極性トナー
を有する液体現像剤(リコー製MRP―610)の換
りに、岩崎通信機PM313プレートメーカー用正
極性液体現像液を用いて処理した。
ート25―メチルアクリル酸13―)25%エチルアル
コール中 12重量部 ミクロリス4G―T(チバガイギー製)
1.5 〃 トルエン 25 〃 実施例1と同様の製版工程中、コロナ帯電電圧
+6000Vの換りに−6000V、さらに負極性トナー
を有する液体現像剤(リコー製MRP―610)の換
りに、岩崎通信機PM313プレートメーカー用正
極性液体現像液を用いて処理した。
このようにして製版した印刷版を用いて印刷し
たところ、ポジ感光層の体積抵抗が1010Ω/cm3以
下の場合に印刷汚れのない高品質の印刷物が得ら
れた。
たところ、ポジ感光層の体積抵抗が1010Ω/cm3以
下の場合に印刷汚れのない高品質の印刷物が得ら
れた。
第1図a〜e―2は本発明方法の工程を説明す
るための図であり、第2図、第3図および第4図
は本発明の平版印刷版用感光材料の概要を示す
図、第5図はメタノールシリカの添加量と感光層
の体積抵抗の変化を示すグラフである。 1,1′……光導電性絶縁層、2……感光層、
3……導電性支持体、4……帯電器、5……ラン
プ、6……原稿、7……トナー像、8……紫外線
ランプ、9……中間層。
るための図であり、第2図、第3図および第4図
は本発明の平版印刷版用感光材料の概要を示す
図、第5図はメタノールシリカの添加量と感光層
の体積抵抗の変化を示すグラフである。 1,1′……光導電性絶縁層、2……感光層、
3……導電性支持体、4……帯電器、5……ラン
プ、6……原稿、7……トナー像、8……紫外線
ランプ、9……中間層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 新水性表面を有する導電性支持体上に感光層
と光導電性絶縁層とをこの順序に有する感光材料
を電子写真的に処理して光導電性絶縁層上に静電
潜像を形成し、感光層が感光性を有する波長の光
に不透明な現像剤粒子で該静電潜像を現像し、得
られた現像像を介して感光層を露光し、次いで感
光層の露光部又は非露光部をその上の光導電性絶
縁層と共に除去することからなる平版印刷版の製
造方法において、該感光層に導電化剤を含有させ
たことを特徴とする平版印刷版の製造方法。 2 感光層に導電化剤を感光層のバルク方向の抵
抗が1010Ω/cm3 以下になるように含有させた特許
請求の範囲第1項記載の平版印刷版の製造方法。 3 感光層と光導電性絶縁層との間に中間層を設
けた特許請求の範囲第1項又は2項記載の平版印
刷版の製造方法。 4 導電性支持体がアルミニウム又はアルミニウ
ム合金からなり、その新水性表面が0.2〜2.8g/
m2の酸化アルミニウム層よりなる特許請求の範囲
第1項乃至第3項の何れに記載の平版印刷版の製
造方法。 5 新水性表面を有する導電性支持体上に、感光
層と光導電性絶縁層とをこの順序に有し、該光導
電性絶縁層は電子写真的に静電潜像を形成するこ
とができ、且つ該感光層の露光部又は非露光部が
その上の光導電性絶縁層と共に除去され得る平版
印刷版用感光材料において、該感光層に導電化剤
を含有させたことを特徴とする平版印刷版用感光
材料。 6 感光層に導電化剤を感光層のバルク方向の抵
抗が10Ω/cm3 以下になるように含有させた特許請
求の範囲第5項記載の平版印刷版用感光材料。 7 感光層と光導電性絶縁層との間に中間層を設
けた特許請求の範囲第5又は6項記載の平版印刷
版用感光材料。 8 導電性支持体がアルミニウム又はアルミニウ
ム合金からなり、その新水性表面が0.2〜2.8g/
m2の酸化アルミニウム層よりなる特許請求の範囲
第5項乃至第6項の何れかに記載の平版印刷版用
感光材料。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57045557A JPS58162960A (ja) | 1982-03-24 | 1982-03-24 | 平版印刷版の製造方法および平版印刷版用感光材料 |
GB08307990A GB2121201B (en) | 1982-03-24 | 1983-03-23 | Preparing a lithographic printing plate |
DE19833310804 DE3310804A1 (de) | 1982-03-24 | 1983-03-24 | Verfahren und lichtempfindliche materialien zur herstellung von flachdruckformen |
US07/003,885 US4897329A (en) | 1982-03-24 | 1987-01-16 | Method for preparing a lithographic printing plate and a light-sensitive material used therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57045557A JPS58162960A (ja) | 1982-03-24 | 1982-03-24 | 平版印刷版の製造方法および平版印刷版用感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58162960A JPS58162960A (ja) | 1983-09-27 |
JPH0160826B2 true JPH0160826B2 (ja) | 1989-12-26 |
Family
ID=12722657
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57045557A Granted JPS58162960A (ja) | 1982-03-24 | 1982-03-24 | 平版印刷版の製造方法および平版印刷版用感光材料 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4897329A (ja) |
JP (1) | JPS58162960A (ja) |
DE (1) | DE3310804A1 (ja) |
GB (1) | GB2121201B (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3560654D1 (en) * | 1984-02-18 | 1987-10-22 | Basf Ag | Photosensitive recording material |
DE3409888A1 (de) * | 1984-03-17 | 1985-09-19 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung in einem verfahren zum herstellen einer druckform oder einer gedruckten schaltung |
US4521503A (en) * | 1984-05-11 | 1985-06-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Highly photosensitive aqueous solvent-developable printing assembly |
WO1991005290A1 (en) * | 1989-09-28 | 1991-04-18 | Polychrome Corporation | Improved persistent photoconductive coating composition |
JPH0588396A (ja) * | 1991-09-27 | 1993-04-09 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真感光体 |
US5437952A (en) * | 1992-03-06 | 1995-08-01 | Konica Corporation | Lithographic photosensitive printing plate comprising a photoconductor and a naphtho-quinone diazide sulfonic acid ester of a phenol resin |
US6080606A (en) * | 1996-03-26 | 2000-06-27 | The Trustees Of Princeton University | Electrophotographic patterning of thin film circuits |
US5834148A (en) * | 1996-04-09 | 1998-11-10 | Mitsubishi Chemical Corporation | Electrically-conductive substrate for electrophotographic photoreceptor, electrophotographic photoreceptor comprising same and process for the preparation thereof |
US7167615B1 (en) | 1999-11-05 | 2007-01-23 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Resonant waveguide-grating filters and sensors and methods for making and using same |
US6670084B2 (en) * | 2002-02-05 | 2003-12-30 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imaged printing plate and method of preparation |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3313626A (en) * | 1962-08-01 | 1967-04-11 | Russeli H Whitney | Process of making a lithographic printing plate |
BE637605A (ja) * | 1962-09-22 | |||
US3944417A (en) * | 1968-11-27 | 1976-03-16 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for the electrophotographic production of printing plates |
US3862254A (en) * | 1970-10-16 | 1975-01-21 | Air Prod & Chem | Production of aromatic hydrocarbons |
DE2834059A1 (de) * | 1978-08-03 | 1980-02-14 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zu seiner herstellung |
JPS5660432A (en) * | 1979-10-23 | 1981-05-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosolubilizing composition |
JPS5790648A (en) * | 1980-11-27 | 1982-06-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of lithographic printing method and photosensitive material for lithographic printing for use in said method |
-
1982
- 1982-03-24 JP JP57045557A patent/JPS58162960A/ja active Granted
-
1983
- 1983-03-23 GB GB08307990A patent/GB2121201B/en not_active Expired
- 1983-03-24 DE DE19833310804 patent/DE3310804A1/de active Granted
-
1987
- 1987-01-16 US US07/003,885 patent/US4897329A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4897329A (en) | 1990-01-30 |
GB2121201B (en) | 1985-09-11 |
JPS58162960A (ja) | 1983-09-27 |
DE3310804C2 (ja) | 1992-09-10 |
DE3310804A1 (de) | 1983-10-06 |
GB2121201A (en) | 1983-12-14 |
GB8307990D0 (en) | 1983-04-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4518668A (en) | Method for preparing a lithographic printing plate | |
JPH0157783B2 (ja) | ||
US4500617A (en) | Method for preparing a lithographic printing plate and a light-sensitive material used therefor | |
JPH0160826B2 (ja) | ||
JPH09235438A (ja) | 画像コントラストの改良された水性現像可能なネガ型の感光性組成物 | |
JPH0159579B2 (ja) | ||
US3653886A (en) | Preparation of printing forms by the ionic polymerization of photoconductors | |
JPH0159580B2 (ja) | ||
JP3154717B2 (ja) | 反転現像による電子写真平版印刷版の製造方法 | |
US5332652A (en) | Method for making lithographic printing plate | |
JPH03153392A (ja) | 電子写真製版物非画像部の溶出液 | |
JPS643249B2 (ja) | ||
EP0281727A2 (en) | A method for making a lithographic printing plate, the use of such a printing plate for printing, and a method of printing using such a printing plate | |
JP3078366B2 (ja) | 電子写真液体反転現像方法 | |
JPS5922218B2 (ja) | 印刷原版用感光材料 | |
JPS58194040A (ja) | 電子写真負荷電性液体現像剤 | |
JPH04100066A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH01230064A (ja) | 平版印刷版材料 | |
JPS63256439A (ja) | 平版印刷版の作成方法 | |
JPS6323168A (ja) | 平版印刷版の製造方法 | |
JPH06124007A (ja) | 電子写真式平版印刷版用修正剤 | |
JPS58194041A (ja) | 印刷原版用負荷電性液体現像剤 | |
JPH05134470A (ja) | 電子写真製版用現像剤 | |
JPH03171076A (ja) | 印刷汚れ防止法 | |
JPH05281791A (ja) | 電子写真式印刷版 |