JPH01283401A - 電気油圧式サーボシステム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、容積が未知のキャビティに対して与圧下に行
われる流体の供給を制御するための電気油圧式サーボシ
ステムに関し、より詳しくは、かかる種類のシステムで
あって、射出成形機へと供給される油圧流体の流れ及び
圧力の両者を制御するためのシステムに関するものであ
る。

〔従来の技術〕

電気油圧式サーボシステムにおいては、システムからの
出力流れ及び出力圧力の両者を、流れ制御操作モード及
び圧力制御操作モードという別個のモードで制御するこ
とが望ましいことが多い。例えば射出成形機の電気油圧
式制御においては、最初は成形機の射出シリンダを流れ
制御操作モードで操作して、溶融したプラスチックの成
形キャビティへの流れを制御し、次いで圧力制御操作モ
ードで操作して、キャビティが満たされた後に所望の圧
力状態を保つようにすることが望ましい。しかしながら
閉ループ圧力制御のためにシステム圧力の電子的なフィ
ードバックを利用している電気油圧式システムにおいて
は、サーボループの利得がキャビティの容積と共に変化
するため、またキャビティの有効容積がオペレータによ
り意図的に変化され又はシステム中における流体の漏れ
のために変化することもあるために、問題が生じてくる
。即ち成形キャビティ内の溶融プラスチ・ンクをも含め
た全圧縮容積は、金型の大きさ及び型式などに応じて１
２：１の割合で変化しうる。しかし最低でも１０％から
２０％の容積変化があれば、所望とする操作を行うため
にはサーボループの利得を調節することが必要となるか
らである。従来においては、ループの利得は本質的に経
験（試行錯誤）に基づいて且つ（行うとしても）手動で
８周節されていた。

〔発明の解決しようとする課題〕

そこで本発明の一般的な課題は、キャビティの容積の関
数として操作の間にループの利得が自動的に適切に調節
されるよう、圧力制御操作モードにおいて閉ループ電子
的制御を行う機構を含む、前述したような性質の電気油
圧式サーボ制御システムを提供することである。本発明
の別の課題は、流れ制御及び圧力制御という別々の操作
モードにおいて、より改良された油圧流体の流れの適切
な制御を行うための機構を含む、電気油圧式サーボシス
テムを提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

容積が定まっていないキャビティにおける流体の圧力を
制御するための、本発明のよる電気油圧式サーボシステ
ムは、パイロット流体圧力によって位置が制御される弁
スプール要素と、周囲の弁本体内におけるこの弁スプー
ル要素の位置の関数として流体を供給するためのボート
とを有する主弁を含む。サーボ弁が電子的な弁制御信号
に応答可能であって、主弁本体内におけるパイロット圧
力を制御し、それによって弁スプール要素の位置を制御
する。電子的弁コントローラが、キャビティの容積内に
おいて所望とされる流体圧力の関数として、遠隔のマス
クエレクトロニクスから圧力コマンド信号を受は取り、
また主弁の出力ポートに連結された圧力センサーから、
キャビティの容積内の流体圧力を示す圧力帰還信号を受
は取る。圧力制御操作モードにおいて、圧力コマンド信
号は圧力帰還信号と比較され、その差すなわちエラー信
号が、サーボ弁に対する弁制御信号を発生するために使
用される。

本発明の好ましい実施例においては、周囲の弁本体内に
おける弁スプール要素の位置の関数として位置帰還信号
を供給するために、第二のセンサーが弁スプール要素に
連結される。位置帰還信号及び圧力帰還信号は両方とも
圧力制御サーボループにおいて使用され、圧力帰還信号
は利得Ｋｐの関数として変化され、位置帰還信号は利得
Ｋｄの関数として変化されて、その差すなわちエラー信
号は、利得Ｋｅの関数として変化される。キャビティの
容積は、圧力帰還信号及び位置帰還信号の関数として決
定される。制御ループの利得、つまり利得Ｋｅ及びＫｄ
は、キャビティの容積の関数として変化されて、それに
よりキャビティの容積の意図的な又は予期しない変化に
対してサーボ制御システムを適合させる。

最も好ましくは、弁制御エレクトロニクスは、金型キャ
ビティにおける所望の流れ及び圧力の制御を行うために
、流れ制御操作モード又は圧力制御操作モードの何れに
おいても、圧力帰還信号及び位置帰還信号を周期的にサ
ンプリングしてその関数としてループの利得を更新し、
圧力コマンド入力及び流れコマンド入力をサンプリング
し、そして電気油圧式サーボ弁に対する弁制御信号を自
動的に変化させる、マイクロプロセッサを基礎とするコ
ントローラから成るものである。

射出成形機を制御するための本発明の好ましい実施形態
において、弁制御エレクトロニクスは、最初は流れ制御
操作モードにおいて成形機内への材料の射出速度を制御
するために、遠隔のマスクエレクトロニクスから受は取
った流れコマンド信号の関数として弁を操作し、そして
その後はキャビティが満たされた後に射出成形機におい
て所望とされる圧力状態を維持するために、圧力制御操
作モードにおいて遠隔のマスクエレクトロニクスから受
は取った圧力コマンド信号の制御の下に弁を操作するた
めの機構を含んでいる。サーボ制御エレクトロニクスは
、主弁の出力ポートにおいて圧力センサーにより検出さ
れたキャビテイ圧力の増大が、射出成形用金型のキャビ
ティが満たされたことを示す場合に、流れ制御操作モー
ドから圧力制御操作モードへと自動的に切り替えを行う
ための機構を含む。

〔実施例〕

本発明は、さらなる課題、特徴及び利点などと共に、以
下の説明、特許請求の範囲及び添付の図面から最も良く
理解されるであろう。

第１図は、通常の射出成形機１２の射出ラムを操作する
ための、本発明による電気油圧式サーボシステム１０を
示している。システム１０は主弁１４を含み、二〇主弁
においては弁スプール要素１６が弁本体１８内に可動に
設けられていて、入力ボート２０．２２から出力ボート
２４．２６への油圧流体の流れを制御している。ポンプ
２８が油圧流体をタンク３０から入力ボート２０．２２
へと、リリーフ弁２９によって設定された一定の圧力に
おいて供給している。過渡的な圧力変動を抑制するため
に、アキュムレータ（図示せず）を使用することができ
る。出力ポート２４．２６はアクチュエータピストン３
４の両側において、線形アクチュエータ３２へと接続さ
れている。ピストンはシャフト３６によって、射出成形
機１２の射出ラム（図示せず）に連結されている。これ
らのことから、主弁１４が所謂Ｐ−Ｑ弁として、即ちア
クチュエータ３２に対する油圧流体の流れＱ及び圧力Ｐ
を制御し、それにより射出ラムの速度、並びに射出成形
機１２内で射出ラムによって加えられる圧力を制御する
ものとして構成されていることが理解されるであろう。

圧力制御という目的のために、圧縮下に置かれる全容積
は、主弁１４の下流側にある容積、即ちアクチュエータ
３２内の流体の容積及び射出成形機１２内のキャビティ
の容積とされる。

弁ブロック即ち弁本体１８の上には電気油圧式サーボ弁
３８が設けられており、制御エレクトロニクス４０から
の電子的弁制御信号に応答して、弁本体１８内の弁スプ
ール要素１６の位置を制御するためのパイロット圧力を
供給するようになっている。制御エレクトロニクス４０
は、サーボ弁３８上にアセンブリとして設けられている
。制御エレクトロニクス４０は遠隔のマスクコントロー
ラ４２からコマンド信号を受は取り、またマスクコント
ローラに対して適当な操作データ及び状態データを送出
する。ＬＶＤＴの如きトランスジューサ又はセンサー４
４が弁本体１８に設けられており、弁スプール要素１６
に連結されていて、制御エレクトロニクス４０に対し、
弁本体１８内における弁スプール要素１６の位置を示す
帰還信号Ｙを供給する。弁スプール要素１６はコイルバ
ネ４７゜４８により、弁本体１８内の中立中央位置へと
偏倚されている。第二のセンサー４６が出力ポート２６
（又は出力ポート２４）に連結されていて、弁の出力流
体圧力の関数としての帰還信号Ｐを制御エレクトロニク
ス４０へと供給する。

サーボ弁３８及び制御エレクトロニクス４０は、１９８
６年８月２９日に出願され本出願人に譲渡された米国特
許出願第９０１，８１６号（米国特許第４，７５７゜７
４７号（特開昭６２−２９７　、５０４号））に記載さ
れた如き型式の一体のアセンブリの形を取るのが最も好
ましい。この米国特許出願の開示内容は、参照として本
明細書に取り入れることとする。本発明のかかる好まし
い実施例における制御エレクトロニクス４０はマイクロ
プロセッサを基礎とするコントローラから成り、このコ
ントローラはマスクコントローラ４２からコマンド信号
を受は取り、サンプリングし、格納するための、そして
サーボ弁３８に対する適切な弁制御信号を発生するため
の機構を含んでいる。制御エレクトロニクス４０はまた
メモリを含み、その中には弁制御プログラム及び起動デ
ータが予め格納されている。このようなプログラムは、
マスクコントローラ４２によって遠隔から選択可能であ
る。

ループの利得定数をも含めた起動データはマスクコント
ローラ４２から、或いは以下で詳細に論する内部適応制
御プログラムを介して変化させることができる。マスク
コントローラ４２の例は、１９８６年１０月２７日に出
願されやはり本出願人に培液された米国特許出願第９２
３．１８５号（米国特許第４，７４５，７４４号（特開
昭６３−１７０．７０９号））に開示されている。

第２図は第１図に図形をもって描かれたシステム１０の
機能ブロックダイヤグラムであり、本発明によるマイク
ロプロセッサを基礎とした制御エレクトロニクス４０の
詳細な機能ブロックダイヤグラムを含むものである。前
述したように制御エレクトロニクス４０は、上記で参照
した米国特許出願第９０１，８１６号に開示された性質
を持つマイクロプロセッサベースのコントローラでもっ
て実現されるのが好ましい。しかして第２図における制
御エレクトロニクス４０の機能ブロックダイヤグラムは
、適当な制御プログラミングによって構成されたかかる
マイクロプロセッサベースのコントローラを示すもので
あることが理解されよう。またかかるマイクロプロセッ
サベースのコントローラは、当該コントローラへと人力
される信号の各々を、周期的なサンプリング間隔におい
てサンプリングし格納するための機構を含むことも理解
されよう。そのようなサンプリング回路は、簡単のため
に第２図では機能的に図示されてはいない。

第２図を参照すると、マスクコントローラ４２（第１図
）から受は取った圧力コマンド信号Ｐｃは、制御エレク
トロニクス４０内で加算接続点５０の非反転入力へと供
給される。位置センサー４４の出力Ｙは、Ａ／Ｄコンバ
ータ５２及び帰還補償回路網５４を介して、加算接続点
５０の反転入力へと供給される。同様にして、圧力セン
サー４６の出力Ｐは、Ａ／Ｄコンバータ５６及び帰還補
償回路網５８を介して、加算接続点５０の反転入力へと
供給されている。帰還補償回路網５４において、位置帰
還信号Ｙは利得Ｋｄ及びラプラス演算子“Ｓ”で乗算さ
れるが、このような乗算は微分動作を示すための標準的
な技術である。同様に帰還補償回路ｙ１５８では、圧力
センサー４６の出力Ｐが、利得Ｋｐを含む係数（１＋Ｋ
ｐ＊Ｓ）で乗算される。加算接続点５０の出力は、圧力
コマンド人力Ｐｃと、帰還補償回路網５４．５８のそれ
ぞれにより変化された位置及び圧力帰還信号ｙ、　ｐの
間の差を表しており、積分器６０へと供給されて、利得
Ｋｅを乗ぜられ、ラプラス演算子“Ｓ”で除算される。

利得調節回路網７０は、位置帰還信号Ｙ及び圧力帰還信
号Ｐを受は取る入力を有し、また帰還補償回路網５４．
５８及び積分器６０に連結され、以下に説明するように
して利得Ｋｐ、　Ｋｄ及び／又はＫｅを選択的且つ適合
するよう変化させる出力を有している。

積分器６０の出力は、制限段６２を介して最小選択段６
４へと供給されている。これらの段６２．６４はまた、
マスクコントローラ４２から流れコマンド信号Ｏｃを入
力として受は取る。制限段６２は、積分器６０からの入
力に等しいところから、流れコマンド信号Ｑｃに対応す
る限界に至るまでの出力を供給する。最小選択段６４の
出力は、当該段に対する入力のうちより少ないものに従
い、利得段６６を介し、加算接続点６８の非反転入力に
おいて、位置制御サーボループ６７に対し位置コマンド
信号Ｙｃとして供給される。加算接続点６８の反転入力
は、位置センサー４４からの位置帰還信号Ｙを受は取る
。こうして加算接続点６８の差動出力は、弁スプール要
素１６（第１図）における位置エラーを示す。進み回路
網７２は、主弁１４及びサーボ弁３８における作動の遅
れ、並びにデジタル的なサンプリングプロセスにより導
入された遅れについて、この位置エラーを補償する。

補償された位置エラー信号は利得段７４へと供給され、
適当なバイアスが出力に対して加えられる。これにより
生成する信号は、パルス幅変調増幅器７６を介して、サ
ーボ弁３８のトルクモーターへと供給される。

〔作用〕

作動を行うに当たっては、制御エレクトロニクス４０が
マスクコントローラ４２かう流レコマンド信号Ｏｃを受
は取る。流れコマンド信号ＯＣは、主弁１４の出力ポー
ト２４．２６において望ましい流体流量、これに対応す
るアクチュエータ３２内でのピストン３４の速度、及び
これに直接に対応する射出成形機１２のキャビティ内へ
の溶融プラスチックの流量を示すものである。制御エレ
クトロニクス４０はまた同様に、金型キャビティ内にお
いて望ましい圧力を示す圧力コマンド信号Ｐｃを受は取
る。（射出成形機における流動性物質の流れは、漏れを
無視すれば、シャフト３６による直接の連接のゆえに、
アクチュエータ３２における圧力流体の流れに対応し、
また金型キャビティ内の流体圧力は、圧力センサー４６
で検出された油圧流体の圧力に直接に対応することが理
解されるであろう。）制御エレクトロニクス４０はコマ
ンド信号Ｑｃ、、Ｐｃ及び帰還信号Ｙ、Ｐに応動して、
圧力制御操作モードと流れ制御操作モードの両者の間で
選択を行い、相当する位置コマンド信号Ｙｃを位置制御
サーボループ６７へと供給する。

より詳しく述べると、最初にアクチュエータのピストン
３４（第１図）及び射出成形機１２の射出ラムが完全に
引っ込められた位置にあるとすれば、流体圧力Ｐは低く
（第３図）、積分器６０においで生ずる出力は高い。そ
こで流れコマンド信号Ｑｃが最小選択段６４において選
択され、適当な利得を段６６で得た後に、位置コマンド
信号Ｙｃとして加算接続点６８へと供給される。かくし
て位置制御サーボループ６７はサーボ弁３８及び主弁１
４を制御して、所望とする一定の流量ＯＣに対応する弁
スプール要素１６（第１図）のある一定の位置Ｙ（第３
図）を得る。射出成形機１２の金型キャビティがプラス
チックで満たされると、背圧によってアクチュエータ３
２内でのピストン３４の動きが遅くなり、帰還圧力Ｐが
急激に増加し始める（第３図）。帰還補償回路！ｆｊｉ
１５８において、圧力Ｐにはそれ自体の微分値（Ｋｐ＊
Ｓ）が加算される。圧力Ｐの大きさ及び変化率の両者を
示すことになるこの加算値が圧力コマンド信号Ｐｃに近
づくにつれ、積分器６０の出力は減少する。

この出力が流れコマンド信号Ｑｃよりも小さくなった場
合には、最小選択段６４は圧力制御操作モードへと切り
替わり、積分された圧力微分値を位置コマンド信号Ｙｃ
として位置制御サーボループ６７へと供給する。最小選
択段６４はこのようにして、圧力センサー４６からの圧
力帰還信号Ｐの大きさ及び変化率の関数として、サーボ
弁３８及び主弁１４における流れ制御操作モードと圧力
制御操作モードの間の選択を行う。圧力制御を行う目的
から、電気油圧式サーボシステム１０（第１図）はリリ
ーフ弁２９において決定される流体の供給圧力、圧縮下
における有効容積、及びシステム中での漏れによって本
質的に規定されるものである。システム中での漏れは、
一定であると想定できる。圧縮下における有効容積は、
アクチュエータ３２における流体及び射出成形機１２に
おける溶融プラスチックの圧縮性効果をもたらすのと等
しい容積として定義される。これらのパラメーターによ
って定義されるある所与のシステムについて、望ましい
システム圧力制御を行うためには、利得Ｋｅ、　Ｋｄ及
びＫｐの特有の組み合わせが必要である。利得Ｋｅ、　
Ｋｄ及びＫｐは利得調節回路網７０によって決定される
。

流れ制御段階の終わり、即ちアクチュエータ３２が完全
に移動されて射出成形機１２の金型キャビティが満たさ
れた場合から始めると、圧力Ｐは次式に従って増加する
（第３図）。

ｖ＊　（ａｐ／ｄｔ）　＝　Ｂ本Ｑ　（ｔ）　　　　　
　　　　（１）式中、■はキャビティの容積、Ｂは油圧
流体及び溶融プラスチックの有効体積弾性率である。

流１ｔＱ（ｔ）は弁スプール要素１６の位置Ｙを用いて
表すことができ、式（１）を次のように書き直すことが
できる。

Ｖ＊（ｄＰ／ｄｔ）　＝に＊（Ｙ−Ｙｚ）＊５ＱＲＴ（
Ｐｓ−Ｐ）　　（２）式中、Ｙｚは弁スプール要素１６
の中央位置又はゼロ流れ位置、Ｋは定数、Ｐｓは供給圧
力、５ＱＲＴは平方根を示す。式（２）は−次の近似と
して、主弁１４の計量領域が中央からの弁スプール要素
の移動距離に比例することを仮定するものである。

弁スプール要素の位置Ｙは、制御エレクトロニクス４０
によって流れ制御操作モードが圧力制御操作モードに切
り替えられるまでは、圧力が増加するに際して一定であ
る（第３図）。

式（２）を積分すると次のようになる。

Ｋｍ（Ｙ−Ｙｚ）＊ｔ＝２＊Ｖ＊（ＳＱＲＴ（Ｐｓ−Ｐ
Ｌ）−ＳＱＲＴ（Ｐｓ−Ｐ））　　（３） ＳＱＲＴ（Ｐｓ−ＰＩ）という項は、第３図の時間ｔ１
において、即ち圧力ＰがＰｌに等しく位置ＹがＹｌに等
しい場合に式（３）の解を求めることによって得られる
定数である。。Ｎ個のサンプリング間隔の後に、即ち圧
力ＰがＰ２に等くなる時間ｔ２において、式（３）は次
のようになる。

Ｖ＝に／２本（Ｎ＊Ｔ＊（Ｙ−Ｙｚ））／（ＳＱＲＴ（
Ｐｓ−ＰＬ）−ＳＱＲＴ（Ｐｓ−Ｐ２））　　（４）式
中、Ｔはサンプリング間隔の長さであり、即ちＮＥＴ　
＝　（ｔ２−　ｔｌ）である。かくして実際のキャビテ
ィ容積■が決定される。弁スプール要素の位置Ｙがサン
プリング間隔（ｔ２−ｔｌ）の間にＹｌからＹｚへと変
化した場合、式（４）においては平均の位置（Ｙ１＋Ｙ
２）／２が使用される。

容積Ｖがこのようにして利得調節回路網７０において式
（４）により一旦決定されたならば、それに従って利得
Ｋｐ、にｄ及び／又はＫｅが適宜調節される。積分器の
利得Ｋｅは木質的に容積■と共に線形に増加し、弁スプ
ール要素の位置帰還利得Ｋｄは容積■が増加するにつれ
て逆に減少し、そして圧力帰還利得Ｋｐは容積■が１２
：１の割合で変化しても殆ど変化しないことが見出され
た。

かくして本発明の好ましい実施例においては、利得Ｋｅ
、　Ｋｐ及びＫｄは利得調節回路網７０において次のよ
うにして調節される。

Ｋｅ＝Ｋｅｌ＊Ｖｒ Ｋｐ＝Ｋｐｌ Ｋｄ　＝　Ｋｄｌ／Ｖｒ Ｖｒ＝Ｖ／Ｖｌ　　　　　　　　　　　　　（５）式中
、Ｋｅｌ、　Ｋｐｌ、　Ｋｄｌ及びｖｌは最初に設定さ
れた公称又は設計値である。

〔発明の効果〕

以上の如（本発明によれば、射出成形機等のキャビティ
の容積の関数として、操作の間にループの利得を自動的
に適切に調節することのできる電気油圧式サーボ制御シ
ステムが提供される。従ってキャビティの容積が変化し
ても、これに応じて例えば射出ラムからの溶融プラスチ
ックの流れなどを容易に自動的に最適化することができ
る。また本発明によれば、流れ制御及び圧力制御という
別々の操作モードの間で自動的な適切な切り替えが行わ
れ、より改良された油圧流体の流れの適切な制御が行わ
れるものである。

最後に理解の便に資するため本発明の要約を記すと、本
発明は容積が定まっていないキャビティ内における圧力
を制御するための電気油圧式サーボシステムであって、
弁スプール要素と、周囲の弁本体内における弁スプール
要素の位置の関数として流体を供給するためのボートを
有する主弁を含むものである。サーボ弁が電子的な弁制
御信号に応答して主弁本体内におけるパイロット圧力を
制御し、それにより弁スプール要素の位置を制御する。

電子的な弁コントローラ即ち制御エレクトロニクスが、
遠隔のマスクコントローラからキャビティ容積内におけ
る望ましい流体圧力の関数である圧力コマンド信号を受
は取り、また主弁の出力ボートに連結された圧力センサ
ーからキャビティ容積内の流体圧力を示す圧力帰還信号
を受は取る。圧力コマンド信号は圧力制御操作モードに
おいて圧力帰還信号と比較され、サーボ弁に対する弁制
御信号を発生するために誤差又はエラー信号が用いられ
る。゛弁スプール要素には第二のセンサーが連結されて
おり、周囲の弁本体内における弁スプール要素の位置の
関数としての位置帰還信号を供給するようになっている
。

【図面の簡単な説明】

第１図は、現在のところ好ましい本発明の実施例による
サーボシステムの電気油圧的な概略のダイヤグラムであ
り； 第２図は、第１図に概略的に示されたシステムの機能ブ
ロックダイヤグラムであり；及び第３図は、本発明の好
ましい実施例の操作の理解に有用なグラフである。 １０−・電気油圧式サーボシステム １２−・−射出成形機　　１４・−主弁１６・・・弁ス
プール要素　　１８−・−弁本体２０、２２−人力ボー
）　　　２４．２６−・−出力ボート３２・・−アクチ
ュエータ　　３４−・−ピストン３６−・・シャフト　
　３８・・・・サーボ弁４０・・・制？ＩＩｌエレクト
ロニクス４２−・マスクコントローラ ４４−位置センサー　　４６−・−圧力センサー５４、
５８・−帰還補償回路網　　６０−積分器６２−・−制
限段　　６ｔ−最小選択段６６−利得段　　６７・・・
−位置制御サーボループ７０・−利得調節回路網 出願人代理人　　　古　谷　　　馨 同　　　溝部孝彦 同　　　古谷　聡

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　容積の定まっていないキャビティにおける流体圧力
   を制御するための電気油圧式サーボシステムであって、
   該システムが： 弁要素を含む弁装置と、前記弁要素の位置 の関数として前記キャビティへと流体を供給するための
   手段と、電子的弁制御信号に応答して前記弁要素の位置
   を制御するための手段と、及び、 前記キャビティにおける流体の望ましい圧 力の関数として圧力コマンド信号Ｐｃを供給する手段と
   、前記弁要素に連結され前記キャビティにおける流体圧
   力の関数として電子的な圧力帰還信号Ｐを供給する手段
   と、利得Ｋｐの関数として前記圧力帰還信号を変化させ
   る手段と、前記圧力コマンド信号Ｐｃと利得Ｋｅが乗ぜ
   られた前記変化された圧力帰還信号の間の差の関数とし
   て前記弁制御信号を供給する手段と、前記キャビティの
   容積Ｖを決定する手段と、前記キャビティの容積の関数
   として前記利得Ｋｅを変化させる手段とを含む電子的弁
   制御手段とからなるシステム。 ２　前記弁制御手段がさらに、前記弁要素の位置の関数
   として電子的な位置帰還信号Ｙを供給するため前記弁装
   置に連結された手段を含み、前記容積決定手段は前記帰
   還信号Ｐ及びＹに応答してキャビティ容積を決定する手
   段を含む、請求項１記載のシステム。 ３　前記容積決定手段は、予め定められた時間隔以上に
   わたる前記圧力帰還信号Ｐの変化の平方根で除した、同
   じ時間隔以上にわたる前記位置帰還信号Ｙの変化に応答
   する、請求項２記載のシステム。 ４　前記弁制御手段はさらに、前記コマンド信号Ｐｃと
   、利得Ｋｄを乗じた前記位置帰還信号Ｙの変化率との間
   の差の関数として前記弁制御信号を供給する手段を含み
   、前記利得変化手段は前記利得Ｋｄを前記容積Ｖの関数
   として変化させる手段からなる、請求項３記載のシステ
   ム。 ５　前記弁制御手段は名目利得Ｋｅ１、Ｋｐ１及びＫｄ
   １並びに名目キャビティ容積Ｖ１を確立する手段と、次
   式： Ｋｅ＝Ｋｅ１＊Ｖｒ Ｋｐ＝Ｋｐ１ Ｋｄ＝Ｋｄ１／Ｖｒ Ｖｒ＝Ｖ／Ｖ１ に従って前記利得Ｋｅ、Ｋｐ及びＫｄを設定する手段を
   含む、請求項４記載のシステム。 ６　前記弁制御手段はさらに、流れコマンド信号Ｑｃを
   供給する手段と、前記圧力コマンド信号Ｐｃの前記関数
   として第一の弁制御信号を供給する手段と、圧力制御操
   作モードにおいて前記帰還信号Ｐ及びＹ並びに前記利得
   Ｋｅ、Ｋｄ及びＫｐを供給する手段と、流れ制御操作モ
   ードにおいて前記流れコマンド信号Ｑｃの関数として第
   二の弁制御信号を供給する手段と、前記圧力制御操作モ
   ードと前記流れ制御操作モードの間で選択を行う手段を
   含む、請求項５記載のシステム。 ７　前記モード選択手段は前記第一及び第二の弁制御信
   号のうちより小さなＹｃを選択する手段からなる、請求
   項６記載のシステム。 ８　前記弁制御手段がさらに、前記より小さな信号Ｙｃ
   と前記位置帰還信号Ｙの間の差に応答する手段を含む、
   請求項７記載のシステム。 ９　射出成形機内への溶融プラスチックの注入を制御す
   る電気油圧式サーボシステムを含む射出成形機において
   、前記システムが： 前記射出成形機へと供給される油圧流体の 流量及び圧力の直接の関数として変化する流量及び圧力
   において前記キャビティ内へ前記溶融プラスチックを注
   入するための手段と、弁要素と、与圧下に油圧流体源と
   連結する 第一のポートと、前記弁要素の位置の関数として前記注
   入手段へと油圧流体を供給するために前記注入手段に連
   結された第二のポートと、及び前記弁要素の位置を制御
   すべく電子的な弁制御信号に応答する手段とを含む弁装
   置と、 油圧流体の望ましい圧力及び流れの関数と しての圧力及び流れコマンド信号を前記注入手段に供給
   する手段と、及び 前記圧力及び流れコマンド信号に応答して 前記電子的な弁制御信号を前記弁装置へと供給する制御
   手段とからなり；該制御手段が：前記弁要素の位置の関
   数として電子的位置 帰還信号を供給する手段と、 前記第二のポートにおける油圧流体の圧力 の関数として電子的圧力帰還信号を供給する手段と、 流れ制御操作モードにおいて前記流れコマ ンド信号と前記位置帰還信号の間の差の関数として前記
   弁制御信号を供給する手段と、 圧力制御操作モードにおいて前記圧力コマ ンド信号と前記圧力帰還信号の間の差の関数として前記
   弁制御信号を供給する手段と、及び、 前記流れ制御操作モードと前記圧力制御操 作モードの間で選択を行う手段とからなる射出成形機。 １０　前記選択手段は、前記第二のポートにおける流体
   の圧力の増加に応答して前記キャビティが満たされたこ
   とを示し、前記制御手段を前記流れ制御操作モードから
   圧力制御操作モードへと切り替える手段を含む、請求項
   ９記載の射出成形機。 １１　前記圧力制御操作モードにおいて前記弁制御信号
   を供給する手段はさらに、前記圧力コマンド信号と前記
   圧力帰還信号の変化率の間の差に応答する手段を含む、
   請求項９記載の射出成形機。 １２　前記圧力制御操作モードにおいて前記弁制御信号
   を供給する手段はさらに、前記圧力コマンド信号と前記
   位置帰還信号の変化率の間の差に応答する手段を含む、
   請求項１１記載の射出成形機。 １３　前記圧力制御操作モードにおいて前記弁制御信号
   を供給する手段は、前記コマンド信号、位置帰還信号、
   圧力帰還信号、変化率信号及び電子的制御信号の少なく
   とも幾つかに利得を乗ずる手段と、前記利得の少なくと
   も幾つかを前記キャビティの容積の関数として変化させ
   る手段を含む電子的サーボ制御ループを形成する手段か
   らなる、請求項１２記載の射出成形機。 １４　前記制御手段は前記位置及び圧力帰還信号に応答
   して前記キャビティの容積Ｖを決定する手段と、該容積
   の予め定められた関数として前記利得を変化させる手段
   を含む、請求項１３記載の射出成形機。 １５　前記圧力制御操作モードにおいて前記弁制御信号
   を供給する手段は前記弁制御信号を式Ｋｅ（Ｐｃ−Ｋｄ
   ＊Ｙ−Ｋｐ＊Ｐ−Ｐ）の関数として供給する手段を含み
   、式中Ｋｅ、Ｋｄ及びＫｐは前記利得、Ｐｃは前記圧力
   コマンド信号、Ｙは前記位置帰還信号の変化率、Ｐは前
   記圧力帰還信号、そしてＰは前記圧力帰還信号の変化率
   である、請求項１４記載の射出成形機。 １６　前記利得変化手段は前記利得Ｋｅ、Ｋｄ及びＫｐ
   を次式： Ｋｅ＝Ｋｅ１＊Ｖｒ Ｋｐ＝Ｋｐ１ Ｋｄ＝Ｋｄ１／Ｖｒ Ｖｒ＝Ｖ／Ｖ１ の関数として変化させる手段を含み、式中においてＫｅ
   １、Ｋｐ１及びＫｄ１は利得Ｋｅ、Ｋｐ及びＫｄのそれ
   ぞれの予め定められた公称値であり、Ｖ１は前記容積Ｖ
   の予め定められた公称値である、請求項１４記載の射出
   成形機。