JPH01268028A - 基板現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、例えば、半導体基板やフォトマスク用ガラス
基板などの各種基板のフォトレジスト工程において、基
板上のポジ型レジストを現像処理する基板現像装置に関
する。

〈従来の技術〉 ポジ型レジストの現像処理は、ネガ型レジストの現像処
理の場合に比べて現像速度が遅く、かつ、供給する現像
液の圧力によって現像パターンが劣化しやすいため、基
板上に現像液を貯留しＴ：、穏やかに現像させることが
必要である。

このような要求を満たす従来の基板現像装置としては、
従来、特開昭５７−４５２３２号公報に開示されたもの
が知られている。

この従来例では、基板を吸着保持する基板載置台に環状
の枠体を接゛合して、基板載置台と枠体とで基板よりひ
と回り大きい現像液貯留用の凹部を形成し、この凹部に
現像液を供給貯留し、現像処理が完了すれば基板Ｒ百合
と枠４とを上下に分離して処理済み現像液を流出するよ
・うに構成されている。

〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、このような従来構成によれば、現像液貯
留用の凹部を形成するために、基板載置台と枠体とを密
着するために０−リングなどのシール材を用いており、
このシール材が経時的に劣化するに伴ってシール材表面
から微粉物が刊離して現像液中に混入し、この微粉物が
基板の回路パターンに付着して回路のショートや断線な
どを発生する欠点があった。

本発明は、このような事情に漏みてなされたものであっ
て、シール材を用いずに基板上に現像液を貯留するとと
もに現像時における現像液と他部材との接触を無くして
、歩留り良く現像できるようにすることを目的とする。

く課題を解決するための手段〉 本発明は、このような目的を達成するために、基板上の
ポジ型レジストを現像処理する基板現像装置であって、 前記基板を水平姿勢で保持するスピンチャック前記スピ
ンチャック上に保持された前記基板の外周部を囲み、基
板の下面周辺に対して微小間隙がある状態で設けられ、
基板の上面に現像液を貯留する現像皿と、 前記スピンチャック上に保持された前記基板上に現像液
を供給するノズルと、 前記現像皿と前記スピンチャックとを、前記微小間隙が
ある状態とそれより離間して基板上に表面張力により現
像液を残す状態とにわたって相対的に移動する移動ｉｆ
ｌとを備えて構成する。。

〈作用〉 上記構成によれば、スピンチャックと現像皿とを、互い
に接触せずに両者間に微少間隙を有する状態に接近させ
、その状態でノズルから基板上に現像液を供給し、現像
液を現像皿および基板上に貯留し、しかる後、所定量の
現像液が貯留された状態で、スピンチャックと現像皿と
を大きく離間し、基板上全面に所定厚さの現像液の層を
表面張力によって形成し、この状態を維持して現像を行
なお、現像が完了した後には、スピンチャックを回転さ
せ、基板上の現像液を飛散除去してから洗浄処理に移行
する。

〈実施例〉 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。

第１図は、半導体基板のポジ型レジストを現像処理する
基板現像装置の縦断面図、第２図は、−部を切欠いた平
面図である。

基板現像装置は、基板１を水平姿勢で保持するスピンチ
ャック２と、基板１上に現像液を供給するノズル３と、
現像液を基板１との協働により受は止めて貯留する現像
皿４と、基板１の横外周部を囲むように設けられた処理
液飛散防止用のカップ５とを備えている。

スピンチャック２は、電動モータ６によって駆動される
回転軸７の上端に取り付けられ、そして、図示しないが
、スピンチャック２の上面には、吸引装Ｗ（図示せず）
に連通接続された吸引口が付設されていて、基板１を吸
着保持できるように構成されている。

また、電動モータ６は、エアシリンダ８によって昇降自
在な支持枠９に取り付けられ、エアシリンダ８の伸縮に
より、支持枠９に連接されたガイド部材１０を、装置フ
レーム１１に立設されたガイドレール１２に沿って案内
させながら昇降し、第１図に示すように、カップ５内の
現像処理位置と、カップ５の上方の基板を搬入または搬
出する位置とにわたってスピンチャック２を昇降移動す
るように構成されている。

現像液供給用のノズル３は、電動モータ１３によって鉛
直軸芯周りで駆動回転される支軸１４に片持ち状に支持
され、電動モータ１３の回転により、円弧軌跡を描（よ
うに水平方向に移動できるように構成されている。

現像皿４は、その内径が基板１のオリエンテーシ式ンフ
ラットよりも小径の開口を有する環状に構成され、その
現像皿４が、筒軸１５の上端に連接された複数本の放射
状のステー１６（第２図参照）に連結支持されている。

筒軸１５は、装置フレーム１１に固定された軸受ボス１
７に回転可能に取り付けられ、かつ、筒軸１５の下端に
取り（１けた従動プーリー１８と電動モータ１９によっ
て駆動回転可能な駆動プーリー２０とが伝動ベルト２１
を介して連動連結されている。

処理液飛散防止用のカップ５は、上下に分離可能な上カ
ップ５ａと下カップ５ｂとから構成され、その全体が、
処理液を回収する受皿部２２ａおよび排液口２２ｂを備
えた平面視矩形状の外側カップ２２内に設けられている
。

上カップ５ａおよび下カップ５ｂは、それぞれエアシリ
ンダ２３ａ、２３ｂによって各別に昇降される支柱２４
ａ、２４ｂの上端に、連結金具２５ａ、２５ｂおよび支
持アーム２６ａ、２６ｂを介して連結されている。なお
、支柱２４ａ、２４ｂは、その移動を固定ガイドレール
２７ａ、２７ｂによって案内されるように構成されてい
る。

また、外カップ２２の上面には、上カップ５ａが上昇し
て下カップ５ｂから分離した状態において、基板１の上
方へ洗浄用の純水を噴出供給する基板洗浄用上部ノズル
２日と、現像皿４上に洗浄用の純水を噴出供給する現像
皿洗浄用ノズル３０が設けられている。

また、基板洗浄用下部ノズル２９（第２図参照）は、基
板１の下方から基板１の裏面へ向けて洗浄用の純水を噴
出供給するためのノズルであり、前記現像用ノズル３と
同様に鉛直軸芯周りで駆動回転される支軸によって、円
弧軌跡を描くように水平方向に移動できる。

以上の構成により、基板１に現像処理を行うようになっ
ており、次に、その現像処理動作につき、第３図ないし
第５図を用いて説明する。

先ず、第３図の要部の側面図に示すように、基板１を、
基板搬入機構（図示せず）によって外カップ２２の中央
開口部の真上に搬入し、次いで、エアシリンダ８を伸長
作動してスピンチャック２を上昇し、搬入された基板１
．を下面から吸着保持する。

その後、エアシリンダ８を短縮作動してスピンチャック
２を下降し、現像皿４と基板１の下面周辺との間に微小
間隙を残す位置で停止する。

次に、第４図の要部の側面図に示すように、上カップ５
ａを上昇し、現像液供給ノズル３を揺動して基板１の上
方で水平方向に移動させ、現像液３６を現像皿４内すな
わち基板１上に供給する。

このとき、スピンチャック２と現像皿４とを同方向に極
めて低い同速で回転し、現像液３６の供給の開始直後か
ら基板１の全面が、より一層均−かつ迅速に現像液に接
するようにしても良い。

そして、基板１上に所定量の現像液を供給したところで
現像液の供給を停止し、その後に、第５図の要部の側面
図に示すように、スピンチャック２を少し玉算させ、表
面張力によって、所定厚さの現像液３６を基板１上の全
面に残留させ、その状態で所定時間静止して現像する。

現像を完了するに伴い、スピンチャック２を更に上昇さ
せ、上部ノズル２８、および、噴出口が基板１の裏面へ
向かう位置へ移動させた下部ノズル２９から純水を基板
１の上面および下面に噴出供給するとともにスピンチャ
ック２を回転し、基板１を回転して現像処理の済んだ処
理済み液を飛散しながら洗浄（リンス）する。

また、これと同時に、現像皿洗浄用ノズル３０から純水
を供給しながら現像皿４を高速回転し、現像皿４を洗浄
する。

洗浄完了後、下カップ５ｂを上昇させ、基板１を高速回
転することにより回転乾燥し、その次に、スピンチャッ
ク２を外側カップ２２の上方にまで上昇させ、その現像
処理の済んだ基板１を基板搬出機構（図示せず）によっ
て搬出する。

以上のような動作を１回ないし複数回繰り返して行うこ
とにより、基板１を順次供給しながら、その上のポジ型
レジストを現像して行くのである。

上記実施例では、基板１上に現像液３６の層を形成する
のに、スピンチャック２を」−昇して基板１を上昇する
ように構成しているが、現像皿４を下降するようにして
も良く、それらの基板１と現像皿４とを相対的に移動す
る構成をして移動機構と総称する。

また、現像皿４の形状は、基板１の形状に応じて、四角
形などの角形やその他任意の形状に設定できる。

〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明の基板現像装置によれば、
シール材を用いずに基板上に現像液を供給貯留するから
、シール材の劣化に起因する回路パターンのシｑ−トや
断線発生を防止でき、しかも、表面張力を利用して現像
液を基板上に残し、現像皿と接触させない状態で現像す
るから、現像皿側から不純物が基板上に移行することも
防止でき、基板の上面全体に現像液の層を安定的に形成
して、基板上にポジ型レジストを歩留り良く現像できる
。

【図面の簡単な説明】

図面は、本発明に係る基板現像装置の実施例を示し、第
１図は、本発明の基板現像装置の実施例を示す全体縦断
面図、第２図は、その一部切欠き平面図、第３図は、基
板搬入工程を示す要部の側面図、第４図は、現像液供給
工程を示す要部の側面図、第５図は、現像工程を示す要
部の側面図である。 １・・・基板 ２・・・スピンチャック ４・・・現像皿 ８・・・エアシリンダ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）基板上のポジ型レジストを現像処理する基板現像装
   置であって、 前記基板を水平姿勢で保持するスピンチャックと、 前記スピンチャック上に保持された前記基板の外周部を
   囲み、基板の下面周辺に対して微小間隙がある状態で設
   けられ、基板の上面に現像液を貯留する現像皿と、 前記スピンチャック上に保持された前記基板上に現像液
   を供給するノズルと、 前記現像皿と前記スピンチャックとを、前記微小間隙が
   ある状態とそれより離間して基板上に表面張力により現
   像液を残す状態とにわたって相対的に移動する移動機構
   とを備えたことを特徴とする基板現像装置。