JPH01234590A - 部分メッキ装置 - Google Patents
部分メッキ装置Info
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- JPH01234590A JPH01234590A JP6287388A JP6287388A JPH01234590A JP H01234590 A JPH01234590 A JP H01234590A JP 6287388 A JP6287388 A JP 6287388A JP 6287388 A JP6287388 A JP 6287388A JP H01234590 A JPH01234590 A JP H01234590A
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- base material
- electrode
- anode
- sponge
- plating
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- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 50
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 abstract description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、金属表面に部分的にメッキを施こすための部
分メッキ装置に関する。
分メッキ装置に関する。
(従来の技術)
第3図は従来の部分メッキ装置の概略構成を示す図であ
って、金属からなる母材1の上方には、その母材1から
所定間隔を保って母材1の表面に沿って移動し得る電極
2が配設されている。そして上記母材1の表面はケーブ
ル3aによって電源4の陰極に接続されており、一方上
記電極2はケーブル3bによって電源4の陽極に接続さ
れている。
って、金属からなる母材1の上方には、その母材1から
所定間隔を保って母材1の表面に沿って移動し得る電極
2が配設されている。そして上記母材1の表面はケーブ
ル3aによって電源4の陰極に接続されており、一方上
記電極2はケーブル3bによって電源4の陽極に接続さ
れている。
また、上記電極2には、メッキ液供給導管5が接続され
ており、そのメッキ液供給導管5の他端は電動ポンプ6
を介してメッキ液収容タンク7中に開口せしめられてい
る。
ており、そのメッキ液供給導管5の他端は電動ポンプ6
を介してメッキ液収容タンク7中に開口せしめられてい
る。
しかして、上記母材1と電極2間に適度な電流を流し、
かつ電動ポンプ6によってメッキ液収容タンク7内の被
膜材の溶液からなるメッキ液8を電極2に供給しながら
、」二記電極2を母材1の表面に沿って移動させると、
上記母材1の表面にメッキ層9が形成される。
かつ電動ポンプ6によってメッキ液収容タンク7内の被
膜材の溶液からなるメッキ液8を電極2に供給しながら
、」二記電極2を母材1の表面に沿って移動させると、
上記母材1の表面にメッキ層9が形成される。
(発明が解決しようとする課題)
ところが、このような装置では、一般に電極2が剛体に
よって構成されているため、母材1の表面が平坦であれ
ば被膜9も平坦に形成されるが、第4図に示すように、
母材の表面に大きなうねりがある場合には、電極2と母
材1との間隙部gに、その間隙が大きい部分ρ1と間隙
が小さい部分ρ2とが生じる。
よって構成されているため、母材1の表面が平坦であれ
ば被膜9も平坦に形成されるが、第4図に示すように、
母材の表面に大きなうねりがある場合には、電極2と母
材1との間隙部gに、その間隙が大きい部分ρ1と間隙
が小さい部分ρ2とが生じる。
一方、部分メッキ法では、電極2と母材1との距離が大
きくなれば母材表面の電流密度が小さくなり、単位時間
当りに母材1の表面に析出される被膜9の量が減少する
。またこれと反対に、電極2と母材1との距離が小さけ
れば、母材1の表面の電流密度が大きくなり過ぎ、単位
時間当りに母材]の表面に析出される被膜9の量が過多
となり荒れた被膜となる。
きくなれば母材表面の電流密度が小さくなり、単位時間
当りに母材1の表面に析出される被膜9の量が減少する
。またこれと反対に、電極2と母材1との距離が小さけ
れば、母材1の表面の電流密度が大きくなり過ぎ、単位
時間当りに母材]の表面に析出される被膜9の量が過多
となり荒れた被膜となる。
したがって、上述の如き装置においては、母材の表面に
うねりが有る場合には、母材の表面に均一で良好な被膜
を形成することができない等の問題があった。
うねりが有る場合には、母材の表面に均一で良好な被膜
を形成することができない等の問題があった。
本発明はこのような点に鑑み、母材の表面にうねりがあ
るような場合にも均一な被膜を形成し得るようにした部
分メッキ装置を得ることを目的とする。
るような場合にも均一な被膜を形成し得るようにした部
分メッキ装置を得ることを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明は、金属表面を陰極に接続するとともに電極を陽
極に接続し、上記電極からメッキ液を供給しながらその
電極を金属表面から適当な間隙を保って金属表面に沿っ
て移動させることによって、上記金属表面に部分メッキ
を施こす部分メッキ装置において、上記電極を可撓性に
優れた導電質材料によって形成するとともに、その周囲
をスポンジで覆ったことを特徴とするものである。
極に接続し、上記電極からメッキ液を供給しながらその
電極を金属表面から適当な間隙を保って金属表面に沿っ
て移動させることによって、上記金属表面に部分メッキ
を施こす部分メッキ装置において、上記電極を可撓性に
優れた導電質材料によって形成するとともに、その周囲
をスポンジで覆ったことを特徴とするものである。
また、上記電極はスポンジ状のカーボン材によって形成
されていることを特徴とする。
されていることを特徴とする。
(作 用)
母材である金属表面と電極間に電流を流すとともに、電
極からメッキ液を供給しながら上記電極を金属表面に沿
って移動させると、金属の表面に被膜が形成されるが、
金属表面にうねりがある場合にも上記電極か可撓性であ
るため、そのうねりに対応して変形し、金属表面との間
隔が常に一定となり、均一な被膜が形成される。また、
電極がスポンジ状のカーボン材で形成されている場合に
は、通電中に発生する水素がスポンジの隙間を経て大気
中に逃げるので、メッキ被膜の水素脆化が少なくなる。
極からメッキ液を供給しながら上記電極を金属表面に沿
って移動させると、金属の表面に被膜が形成されるが、
金属表面にうねりがある場合にも上記電極か可撓性であ
るため、そのうねりに対応して変形し、金属表面との間
隔が常に一定となり、均一な被膜が形成される。また、
電極がスポンジ状のカーボン材で形成されている場合に
は、通電中に発生する水素がスポンジの隙間を経て大気
中に逃げるので、メッキ被膜の水素脆化が少なくなる。
(実施例)
以下、第1図および第2図を参照して本発明の一実施例
について説明する。
について説明する。
第1図において、符号1はその表面にメッキ層を形成す
べき母材であって、その母材1の上方には母材から所定
間隔を保って母材の表面に沿って移動し得る電極10が
配設されており、上記母材1はケーブル3aを介して電
源4の陰極に接続され、電極10はケーブル3bを介し
て上記電源の陽極に接続されている。
べき母材であって、その母材1の上方には母材から所定
間隔を保って母材の表面に沿って移動し得る電極10が
配設されており、上記母材1はケーブル3aを介して電
源4の陰極に接続され、電極10はケーブル3bを介し
て上記電源の陽極に接続されている。
上記電極10にはメッキ液供給導管5の一端が接続され
ており、そのメッキ液供給導管5の他端は、内部に母材
1の表面を被覆するための金属を溶かしたメッキ液8を
収容したメッキ液収容タンク7に、電動ポンプ6を介し
て接続されている。
ており、そのメッキ液供給導管5の他端は、内部に母材
1の表面を被覆するための金属を溶かしたメッキ液8を
収容したメッキ液収容タンク7に、電動ポンプ6を介し
て接続されている。
ところで、上記電極10は可撓性を有しかつ電気伝導性
に優れた材料例えばスポンンジ状の黒鉛等によって形成
されている。そして、上記電極10の表面には一定の厚
さのスポンジ11が被覆装着されている。
に優れた材料例えばスポンンジ状の黒鉛等によって形成
されている。そして、上記電極10の表面には一定の厚
さのスポンジ11が被覆装着されている。
シカして、母材1への被膜形成に際しては、電極10に
装着したスポンジ11が母材1の表面に当接するような
状態として母材1と電極10間に通電するとともに、メ
ッキ液供給導管5を介して電極10を経て母材1との間
にメッキ液を流し込みながら、電極10を母材1の表面
に沿って移動させれば、上記母材1の表面にメッキ液中
の金属等が析出し被膜9が形成される。
装着したスポンジ11が母材1の表面に当接するような
状態として母材1と電極10間に通電するとともに、メ
ッキ液供給導管5を介して電極10を経て母材1との間
にメッキ液を流し込みながら、電極10を母材1の表面
に沿って移動させれば、上記母材1の表面にメッキ液中
の金属等が析出し被膜9が形成される。
そして、この場合上記電極10が可撓性であるため、母
材1の表面にうねりがある場合にも、スポンジ11を介
して上記電極10が第2図に示すように上記うねりに沿
った状態に変形し、電極10と母材1との間の間隔は上
記スポンジ11によって常に一定に保持される。したが
って、母材1の表面には、うねりの存在にかかわらず常
に均一な被膜を形成することができる。
材1の表面にうねりがある場合にも、スポンジ11を介
して上記電極10が第2図に示すように上記うねりに沿
った状態に変形し、電極10と母材1との間の間隔は上
記スポンジ11によって常に一定に保持される。したが
って、母材1の表面には、うねりの存在にかかわらず常
に均一な被膜を形成することができる。
以上説明したように、本発明においては陽極に接続され
た電極を可撓性に優れた導電質材料によって形成したの
で、母材表面にうねりがある場合においても上記電極が
そのうねりに沿った形状に変形し、その電極に被覆され
たスポンジによって電極の母材との対向面全面において
母材との間隔が一定に保持される。したがって、うねり
面が多い表面にも均一に且つ高範囲にメッキ層を形成す
ることができる。
た電極を可撓性に優れた導電質材料によって形成したの
で、母材表面にうねりがある場合においても上記電極が
そのうねりに沿った形状に変形し、その電極に被覆され
たスポンジによって電極の母材との対向面全面において
母材との間隔が一定に保持される。したがって、うねり
面が多い表面にも均一に且つ高範囲にメッキ層を形成す
ることができる。
また、スポンジ状の可撓性カーボン祠からなる電極を使
用することによって、電極間に通電中に発生する水素が
スポンジの隙間を通して大気中に逃げるので、形成され
るメッキ被膜表面に水素が吸収されることが極めて少な
くなり、メッキ被膜の水素脆化を比較的少なくすること
ができる等の効果を奏する。
用することによって、電極間に通電中に発生する水素が
スポンジの隙間を通して大気中に逃げるので、形成され
るメッキ被膜表面に水素が吸収されることが極めて少な
くなり、メッキ被膜の水素脆化を比較的少なくすること
ができる等の効果を奏する。
第1図は本発明の部分メッキ装置の概略構成図、第2図
はその作動説明図、第3図は従来の部分メッキ装置の概
略構成図、第4図はその作動説明図である。 1・・・母材、2,10・・・電極、4・・・電源、5
・・・メッキ液供給導管、9・・・被膜、11・・・ス
ポンジ。 出願人代理人 佐 藤 −雄 a 茶 t ロ 挙2 図
はその作動説明図、第3図は従来の部分メッキ装置の概
略構成図、第4図はその作動説明図である。 1・・・母材、2,10・・・電極、4・・・電源、5
・・・メッキ液供給導管、9・・・被膜、11・・・ス
ポンジ。 出願人代理人 佐 藤 −雄 a 茶 t ロ 挙2 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、金属表面を陰極に接続するとともに電極を陽極に接
続し、上記電極からメッキ液を供給しながらその電極を
金属表面から適当な間隙を保って金属表面に沿って移動
させることによって、上記金属表面に部分メッキを施こ
す部分メッキ装置において、上記電極を可撓性に優れた
導電質材料によって形成するとともに、その周囲をスポ
ンジで覆ったことを特徴とする、部分メッキ装置。 2、電極はスポンジ状のカーボン材によって形成されて
いることを特徴とする、請求項1記載の部分メッキ装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6287388A JPH01234590A (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 部分メッキ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6287388A JPH01234590A (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 部分メッキ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01234590A true JPH01234590A (ja) | 1989-09-19 |
Family
ID=13212822
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6287388A Pending JPH01234590A (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 部分メッキ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01234590A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06163783A (ja) * | 1992-11-19 | 1994-06-10 | Goto Seisakusho:Kk | 半導体装置用リードフレーム及びそのメッキ方法 |
WO1999041434A3 (en) * | 1998-02-12 | 1999-10-14 | Acm Res Inc | Plating apparatus and method |
JP2004530050A (ja) * | 2001-06-15 | 2004-09-30 | レプリサウルス テクノロジーズ アクティエボラーグ | 伝導材料中の構造を定義し、複製するための方法及び電極 |
US7136173B2 (en) | 1998-07-09 | 2006-11-14 | Acm Research, Inc. | Method and apparatus for end-point detection |
WO2013064616A3 (en) * | 2011-11-04 | 2014-07-31 | Integran Technologies | Flow-through consumable anodes |
WO2018168129A1 (ja) * | 2017-03-13 | 2018-09-20 | オムロン株式会社 | めっきの形成方法 |
-
1988
- 1988-03-16 JP JP6287388A patent/JPH01234590A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06163783A (ja) * | 1992-11-19 | 1994-06-10 | Goto Seisakusho:Kk | 半導体装置用リードフレーム及びそのメッキ方法 |
WO1999041434A3 (en) * | 1998-02-12 | 1999-10-14 | Acm Res Inc | Plating apparatus and method |
KR100474746B1 (ko) * | 1998-02-12 | 2005-03-08 | 에이씨엠 리서치, 인코포레이티드 | 도금 장치 및 방법 |
US7136173B2 (en) | 1998-07-09 | 2006-11-14 | Acm Research, Inc. | Method and apparatus for end-point detection |
JP2004530050A (ja) * | 2001-06-15 | 2004-09-30 | レプリサウルス テクノロジーズ アクティエボラーグ | 伝導材料中の構造を定義し、複製するための方法及び電極 |
JP2009235578A (ja) * | 2001-06-15 | 2009-10-15 | Replisaurus Technologies Ab | 伝導材料中の構造を画定し、複製するための方法及び電極 |
US7790009B2 (en) | 2001-06-15 | 2010-09-07 | Replisaurus Technologies Ab | Method and electrode for defining and replicating structures in conducting materials |
WO2013064616A3 (en) * | 2011-11-04 | 2014-07-31 | Integran Technologies | Flow-through consumable anodes |
WO2018168129A1 (ja) * | 2017-03-13 | 2018-09-20 | オムロン株式会社 | めっきの形成方法 |
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