JPH01220110A - 磁気ヘッドのギャップ形成方法 - Google Patents

磁気ヘッドのギャップ形成方法

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Publication number
JPH01220110A
JPH01220110A JP4536088A JP4536088A JPH01220110A JP H01220110 A JPH01220110 A JP H01220110A JP 4536088 A JP4536088 A JP 4536088A JP 4536088 A JP4536088 A JP 4536088A JP H01220110 A JPH01220110 A JP H01220110A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
film
glass film
gap
magnetic head
Prior art date
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Pending
Application number
JP4536088A
Other languages
English (en)
Inventor
Soushi Saoshita
竿下 宗士
Tokuaki Oki
徳昭 沖
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
Priority to JP4536088A priority Critical patent/JPH01220110A/ja
Publication of JPH01220110A publication Critical patent/JPH01220110A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は磁気ヘッドのギャップ形成方法、特に、浮動式
磁気ヘッドのギャップ部の形成方法に関する。
(従来の技術) 一般に浮動式磁気ヘッドの構造は、第1図に示すように
、Hn−Znフェライト等の磁性体から成るスライダ1
と、同じ(Hn−Znフェライト等の磁性体から成る口
字状のコア2とを所定間隔のギャップ部3を形成するよ
うにガラスにより結合したものである。なお、4は前記
コア2に巻装されたコイルである。
そこで、前記磁気ヘッドのギャップ部3の形成方法を更
に説明すると、第2図に拡大して示すように、前記スラ
イダ1及びコア2のギャップ対向面1a及び2aに、S
iO2等から成り非磁性膜5をスパッタリングによりそ
れぞれ約0.3μ形成する。次に、前記非磁性膜5の何
れか一方にのりガラス膜6をスパッタリングにより70
0人の厚さに形成する。次に、該のりガラス膜6を介し
てスライダ1及びコア32を突合わせ、加熱してのりガ
ラス膜6を溶融して両者を結合している。なお、前記非
磁性膜5の膜厚寸法はギャップ部3の幅寸法により任意
に設定すれば良く、通常、ギャップ部3の幅寸法は0.
6〜1.0μとなっている。
また、非磁性膜5はスライダ1とコア2との何れか一方
に設けてあっても良い。
(発明が解決しようとする問題点) しかし、上記従来における磁気ヘッドのギャップ形成方
法においては、前記のりガラス膜6の溶融結合時に、の
りガラス膜6中に気泡が発生し、磁気ヘッドの信頼性が
悪いという欠点があった。
本発明は、かかる問題点を解決するためになされたもの
で、のりガラス膜中の気泡の発生を減少させ、磁気ヘッ
ドの信頼性を向上させ、且つ、従来と同様な結合強度を
有する磁気ヘッドのギャップ形成方法を提供することを
目的とする。
(問題点を解決するための手段) 本発明に係る磁気ヘッドのギャップ形成方法は、一対の
磁性体の少なくとも何れか一方のギャップ対向面に非磁
性体膜を形成し、該非磁性体膜上又は前記磁性体のギャ
ップ対向面上に300〜500人ののりガラス膜をスパ
ッタリングにより設け、該のりガラス膜の溶融により前
記両磁性体を結合するものである。
(作用) 本発明においては、のりガラス膜のスパッタリング膜厚
を300〜500人設定したために、気泡の発生が抑え
られ、且つ、必要な接合強度も維持し得る。
(実施例) 本発明の磁気ヘッドのギャップ形成方法は、前記従来例
とほとんど同様であり、相違点はのりガラス膜の膜厚の
みである。すなわち、本発明は、第2図に示すように、
磁性体のスライダ1及び磁性体のコア2のギャップ対向
面1a及び2aに、5i02等から成る非磁性pi5を
スパッタリングによりそれぞれ約0.3μに形成する。
次に、前記非磁性膜5の一方に所定の膜厚ののりガラス
膜6をスパッタリングにより形成し、次に、前記スライ
ダ1及びコア2を突合わせ前記のりガラス膜6を加熱溶
融して両者を接合する。
なお、前記非磁性膜5はスライダ1とコア2のギャップ
対向面1aと2aの何れか一方にのみ形成しても良く、
その際に、前記のりガラス膜6は非磁性膜5が形成され
ていない前記ギャップ対向面1a又は2aに直接設けて
も良い。ただし、のリガラス膜6は非磁性膜5上に設け
た方が形成時の磁性体への影響を少なく抑えることが出
来る。
ところで、前記のりガラス膜6の膜厚については、種々
の値を設定して磁気ヘッドのギャップ部3を形成し、の
りガラス膜6のI!!厚に対して、のりガラス膜6中に
生じる気泡の発生状況並びにギャップ部3の接合強度を
実験測定した。
第3図 (a)〜(d)は磁気ヘッドのギャップ部を各
々拡大した説明図であり、同図(a)〜(d)はのりガ
ラス膜厚がそれぞれ300人、500人。
700人、及び900人の時のギャップ部の状況を示し
ている。同図(C)、(d)において中央にぶつぶつ観
察できる黒及び白丸がのりガラス膜6中の気泡である。
同図(a)、 (b)においては前記気泡はほとんど見
られない。すなわち、のりガラス膜厚を500Å以下と
することにより気泡発生数が急速に減少する。
一方、ギャップ部の接合強度については、下記衣に示す
通りである。なお、接合強度の測定は、両者を引っ張り
剥がれるまでの強度を示している。
(表) これらの結果をグラフに示すと第4図のようになり、第
4図は横軸にのりガラス膜6の膜厚、縦軸にその接合強
度を示している。同図から明らかなように、のりガラス
膜厚が300人より小さくなると、接合強度が急激に減
少することが判かる。
以上の実験結果から、のりがラス膜厚が500Å以下で
あれば気泡発生数が少なく、磁気ヘッドの信頼性を向上
することが出来る。一方、のりガラス膜厚が300人以
上であれば、スライダ1とコア2との接合強度を従来と
ほぼ同等に維持することが出来る。
なお、前記実施例では浮動式磁気ヘッドについて説明し
たが、VTR用映像ヘッド等の磁性体から成る一対のコ
アをガラスにより接合し、ギャップ部を形成する方法に
も適用し得ること勿論である。
(発明の効果) 膜上のように、本発明は一対の磁性体の少なくとも何れ
か一方のギャップ対向面に非磁性体膜を形成し、該非磁
性体膜上にのりガラス膜を300〜500人の膜厚にス
パッタリングするものであり、前記両磁性体の加熱接合
時においてのりガーラス膜中の気泡の発生を抑えられ、
ギャップ不良率を1%以下にすることが出来る。しかも
、両磁性体の結−合強度も十分であるという顕著な効果
を操する。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の浮動式磁気ヘッドの斜視図、第2図はギ
ャップ部の要部拡大図、第3図(a)〜(d)それぞれ
膜の膜厚を異ならしめたギャップ部の拡大説明図、第4
図はのりガラス膜厚に対する接合強度を示すグラフであ
る。 1・・・スライダ、2・・・コア、3・・・ギャップ部
、5・・・非磁性膜、6・・・のりガラス膜。 第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 一対の磁性体の少なくとも何れか一方のギャップ対向面
    に非磁性体膜を形成し、該非磁性体膜上又は前記磁性体
    のギャップ対向面上にのりガラス膜をスパッタリングに
    より設け、該のりガラス膜の溶融により前記両磁性体を
    結合する磁気ヘッドのギャップ形成方法において、前記
    のりガラス膜のスパッタリング膜厚を300〜500Å
    にすることを特徴とする磁気ヘッドのギャップ形成方法
JP4536088A 1988-02-27 1988-02-27 磁気ヘッドのギャップ形成方法 Pending JPH01220110A (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5085322A (ja) * 1973-11-28 1975-07-09
JPS6134712A (ja) * 1984-07-25 1986-02-19 Hitachi Denshi Ltd 磁気ヘツドの製造方法
JPS6325806A (ja) * 1986-07-18 1988-02-03 Hitachi Denshi Ltd 磁気ヘツドの製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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