JPH01202833A - 高精度ｘｙステージ装置 - Google Patents
高精度ｘｙステージ装置Info
- Publication number
- JPH01202833A JPH01202833A JP63026489A JP2648988A JPH01202833A JP H01202833 A JPH01202833 A JP H01202833A JP 63026489 A JP63026489 A JP 63026489A JP 2648988 A JP2648988 A JP 2648988A JP H01202833 A JPH01202833 A JP H01202833A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- rolling
- angle error
- yawing
- angle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
この発明は半導体製造装置の位置決め装＃ｔ＃こおける
高精度ＸＹステージ装置に関する。
高精度ＸＹステージ装置に関する。
（従来の技術）
ｖＬＳＩ製造に用いるための半導体露光装置用テーブル
装置においては１位置決め精度として０．０５μｍ以下
が要求される。このような超精密な位置決め装置ではレ
ーザ干渉計蛋こよりて、ウェハテーブル上のミラーの位
置をＸ＠、Ｙ軸測定しサーボ回路によりて位置決めする
ことが一般的である。しかし、この方法ではテーブル移
動に伴うヨーイング角誤差、ピッチング角誤差、ローリ
ング角誤差と呼ばれるステージの角度変＃ｈ１［があり
。
装置においては１位置決め精度として０．０５μｍ以下
が要求される。このような超精密な位置決め装置ではレ
ーザ干渉計蛋こよりて、ウェハテーブル上のミラーの位
置をＸ＠、Ｙ軸測定しサーボ回路によりて位置決めする
ことが一般的である。しかし、この方法ではテーブル移
動に伴うヨーイング角誤差、ピッチング角誤差、ローリ
ング角誤差と呼ばれるステージの角度変＃ｈ１［があり
。
これらの誤差成分を微小に収める必要がある８通常、精
度良くガイドを製作しても、ころがり軸・受は等の場合
は、角度変ａ［は５秒程度はでてしまう、また、ウェハ
テーブルのヨーイング角誤差を補正する方法は提案され
ている。これは、ウェハテーブル上のミラー面を１軸に
対しては２点測定し、テーブル移動時の２点の位置を引
いた量をヨーイング誤差とし、この直をＯにするように
θ軸移動テーブルにサーボをかけるものである。このよ
うにすれば、テーブルのヨーイング誤差による位置誤差
はなくすことができる。
度良くガイドを製作しても、ころがり軸・受は等の場合
は、角度変ａ［は５秒程度はでてしまう、また、ウェハ
テーブルのヨーイング角誤差を補正する方法は提案され
ている。これは、ウェハテーブル上のミラー面を１軸に
対しては２点測定し、テーブル移動時の２点の位置を引
いた量をヨーイング誤差とし、この直をＯにするように
θ軸移動テーブルにサーボをかけるものである。このよ
うにすれば、テーブルのヨーイング誤差による位置誤差
はなくすことができる。
しかし１例えば、チー゛プル移動時にピッチング誤差が
５秒ありたとき、ウェハの露光面とレーザ干渉計による
ミラーの測定立直の２距離が２ｍｍあるとすれば、０．
０５μｍの位置誤差が生じてしまう、従来は、この誤差
を、ガイドの加工摺度を経験的ｆこ上げることで小さく
、かつＴＴＬアライメントによって無くして含た。その
ための製作に時間とコスト高を必要とし、ＴＴＬアライ
メント番こよりスループットの大幅な低下がありた。
５秒ありたとき、ウェハの露光面とレーザ干渉計による
ミラーの測定立直の２距離が２ｍｍあるとすれば、０．
０５μｍの位置誤差が生じてしまう、従来は、この誤差
を、ガイドの加工摺度を経験的ｆこ上げることで小さく
、かつＴＴＬアライメントによって無くして含た。その
ための製作に時間とコスト高を必要とし、ＴＴＬアライ
メント番こよりスループットの大幅な低下がありた。
（発明が解決しよりとする課題）
本発明は前述した問題点を解決しようとするものであり
、チップ露光の際ＴＴＬアライメントによるスループッ
トの低下が無く、ガイドの加工摺度を経験的曇こ上げな
くてもすむ角度補正制御装置を備えた高情［ＸＹステー
ジ装置を提供するものである。
、チップ露光の際ＴＴＬアライメントによるスループッ
トの低下が無く、ガイドの加工摺度を経験的曇こ上げな
くてもすむ角度補正制御装置を備えた高情［ＸＹステー
ジ装置を提供するものである。
（課題を解決するための手段）
本発明では、ステージの各位置におけるピッチング角誤
差、ローリン夛角誤差、ヨーイング角誤差を測定し、そ
れらの角度変動値を零とするように、ステージを制御す
る。
差、ローリン夛角誤差、ヨーイング角誤差を測定し、そ
れらの角度変動値を零とするように、ステージを制御す
る。
（作用）
ピッチング角誤差、Ｑ−リング角誤差は、レーザ干渉計
でウェハテーブル上のミラーの間をおいた２点でステー
ジの位置を測定し、２点のステージの位置の差を検出し
て求める。今、レーザ干渉計の分解能を約０．０１μｍ
とし、２点間の距離を３０ｍｎｎとすると、約０．１秒
となる。前述のウェハの露光面とレーザ干渉計によるミ
ラーの測定位置の２距蝋が２ｍｍとしてＬＳＩチップで
の位、産誤差を再度計算してみると、約０゜００１μｍ
の位置誤差にしがならない、つまり、レーザ干渉計の分
解能に近いＭ度でピッチング、ローリング変動を補正す
わば１位置合わせに与える影響はほとんどＯｌζできる
。
でウェハテーブル上のミラーの間をおいた２点でステー
ジの位置を測定し、２点のステージの位置の差を検出し
て求める。今、レーザ干渉計の分解能を約０．０１μｍ
とし、２点間の距離を３０ｍｎｎとすると、約０．１秒
となる。前述のウェハの露光面とレーザ干渉計によるミ
ラーの測定位置の２距蝋が２ｍｍとしてＬＳＩチップで
の位、産誤差を再度計算してみると、約０゜００１μｍ
の位置誤差にしがならない、つまり、レーザ干渉計の分
解能に近いＭ度でピッチング、ローリング変動を補正す
わば１位置合わせに与える影響はほとんどＯｌζできる
。
（実施例）
第１図は本発明によるピッチング、ローリング、ヨーイ
ング補正機構をＪＬ［した高精度ＸＹステージの一実施
例である。また、第２図はピッチング。
ング補正機構をＪＬ［した高精度ＸＹステージの一実施
例である。また、第２図はピッチング。
ローリング、ヨーイング補正制置回路の一実施例である
。ステージ１，２は直交してモータ８と送りネジ９＃こ
より駆動される。ウェハステージの位置はレーザ干渉計
７により計測される。ステージ１．２の移動にともなう
ピッチング変動はレーザ干渉計７ａ、７ｂで計測したス
テージ位置の差で検出され、ローリング変動はレーザ干
渉計７ｃ。
。ステージ１，２は直交してモータ８と送りネジ９＃こ
より駆動される。ウェハステージの位置はレーザ干渉計
７により計測される。ステージ１．２の移動にともなう
ピッチング変動はレーザ干渉計７ａ、７ｂで計測したス
テージ位置の差で検出され、ローリング変動はレーザ干
渉計７ｃ。
７ｄで計測したステージ位置の差で、ヨーイング変動は
レーザ干渉計７ｄ 、７ｅで計測したステージ位置の差
で検出される。
レーザ干渉計７ｄ 、７ｅで計測したステージ位置の差
で検出される。
ステージ１，２上Ｉこは４〜６の各角度誤差補正ステー
ジがあり、レーザ干渉計により求めたピッチング、ロー
リング、ヨーイング誤差を補正する７゜ピッチング、ロ
ーリング、ヨーイング変動の補正ＩＩＪ ８は以下のよ
うｉこ行う、まず、レーザ干渉計７ｂのアップ・ダウン
（’ＵＰ−ＤＯＷＮ ）パルスをアップ／ダウ７ ・（
ＵＰ／ＤＯＷＮ） 力”）７タ１０ａｔ”計数し、ラッ
チ１１ａに記憶する。また、レーザ干渉計７ｃのアップ
・ダウン（ＵＰ−ＤＯＷＮ）パルスをアップ／ダウン・
（ＵＰ／ＤＯＷＮ３カウンタ１．Ｏｂに記憶する。ラッ
チ１０ａ、１０ｂのデータを減算器１２で減算し、各角
度誤差変動逼を得る。この直をラッチ１３を経由してＤ
／Ａコンバータ１４でアナログ信号に変換する。このア
ナログ信号を増幅器１５で増幅し、ローパスフィルタ１
６で高域を減衰させ、電力増幅器１７でアクチエエータ
を駆動する。これにより各角度誤差補正ステージを動か
し、ピッチング、ローリング。ヨーイング変動を補正す
る。
ジがあり、レーザ干渉計により求めたピッチング、ロー
リング、ヨーイング誤差を補正する７゜ピッチング、ロ
ーリング、ヨーイング変動の補正ＩＩＪ ８は以下のよ
うｉこ行う、まず、レーザ干渉計７ｂのアップ・ダウン
（’ＵＰ−ＤＯＷＮ ）パルスをアップ／ダウ７ ・（
ＵＰ／ＤＯＷＮ） 力”）７タ１０ａｔ”計数し、ラッ
チ１１ａに記憶する。また、レーザ干渉計７ｃのアップ
・ダウン（ＵＰ−ＤＯＷＮ）パルスをアップ／ダウン・
（ＵＰ／ＤＯＷＮ３カウンタ１．Ｏｂに記憶する。ラッ
チ１０ａ、１０ｂのデータを減算器１２で減算し、各角
度誤差変動逼を得る。この直をラッチ１３を経由してＤ
／Ａコンバータ１４でアナログ信号に変換する。このア
ナログ信号を増幅器１５で増幅し、ローパスフィルタ１
６で高域を減衰させ、電力増幅器１７でアクチエエータ
を駆動する。これにより各角度誤差補正ステージを動か
し、ピッチング、ローリング。ヨーイング変動を補正す
る。
上述の構成を用いることで、ガイドのカロエ情度を極端
に上げなくても、また、ＴＴＬアライメントによる転写
によるスループットの低下無く、角度誤差に起因する位
置合わせ誤差を微小にできる。
に上げなくても、また、ＴＴＬアライメントによる転写
によるスループットの低下無く、角度誤差に起因する位
置合わせ誤差を微小にできる。
゛第１−は１本発明に係わる高精度ＸＹステージ装置の
一実施例を示す斜視図、第２図はその制御回路の一実施
例を示す回路−である。 １・・・Ｙ軸ステージ、２・・・Ｘ軸ステージ、３・・
・２軸ステージ、４・・・ピッチング角ステージ、５・
・・ローリング角ステージ、６・・・ヨーイング角ステ
ージ。 ７・・・レーザ干渉計、８・・・ＤＣモータ、９・・・
送りネジ、１０・・・ＵＰ／ＤＯＷＮカウンタ、１１・
・・ラッチ、１２・・・減算器％ １３・・・うＶチ、
１４・・・Ｄ／Ａコンバータ％ １５・・・増幅器、１
６・・・ローパスフィルタ。 １７・・・電力増幅器％ １８・・・直角ミラー。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 松 山 光 之
一実施例を示す斜視図、第２図はその制御回路の一実施
例を示す回路−である。 １・・・Ｙ軸ステージ、２・・・Ｘ軸ステージ、３・・
・２軸ステージ、４・・・ピッチング角ステージ、５・
・・ローリング角ステージ、６・・・ヨーイング角ステ
ージ。 ７・・・レーザ干渉計、８・・・ＤＣモータ、９・・・
送りネジ、１０・・・ＵＰ／ＤＯＷＮカウンタ、１１・
・・ラッチ、１２・・・減算器％ １３・・・うＶチ、
１４・・・Ｄ／Ａコンバータ％ １５・・・増幅器、１
６・・・ローパスフィルタ。 １７・・・電力増幅器％ １８・・・直角ミラー。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 松 山 光 之
Claims (2)
- （１）半導体露光装置用ＸＹテーブルにおいて、テーブ
ル装置をＺ軸方向、ピッチング角方向、ローリング角方
向、ヨーイング角方向に独立に移動させるための駆動機
構と、テーブルのＸ軸位置、Ｙ軸位置、Ｚ軸位置、ピッ
チング角誤差、ローリング角誤差、ヨーイング角誤差を
常時検出するための計測手段と、露光するチップのＸ軸
、Ｙ軸、Ｚ軸位置を常に目標とする位置に位置決めする
と同時に、ピッチング角方向、ローリング角方向、ヨー
イング角方向に駆動する機構を用いて角度変動値を零に
するようなサーボ機構とを具備したことを特徴とする高
精度ＸＹステージ装置。 - （２）上記計測手段がレーザ干渉測定システムでありこ
のレーザ干渉測定システムの測定対象としてのミラーに
おいて、高精度ＸＹステージの移動軸と直交するＺ軸上
の２か所の点を判定できるに足る幅を持つことを特徴と
する請求項１記載の高精度ＸＹステージ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63026489A JPH01202833A (ja) | 1988-02-09 | 1988-02-09 | 高精度ｘｙステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63026489A JPH01202833A (ja) | 1988-02-09 | 1988-02-09 | 高精度ｘｙステージ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01202833A true JPH01202833A (ja) | 1989-08-15 |
Family
ID=12194914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63026489A Pending JPH01202833A (ja) | 1988-02-09 | 1988-02-09 | 高精度ｘｙステージ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01202833A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05226223A (ja) * | 1992-02-18 | 1993-09-03 | Canon Inc | 露光装置 |
| JPH06151277A (ja) * | 1992-10-30 | 1994-05-31 | Canon Inc | 露光装置 |
| US6498352B1 (en) | 1993-02-26 | 2002-12-24 | Nikon Corporation | Method of exposing and apparatus therefor |
| JP2007109861A (ja) * | 2005-10-13 | 2007-04-26 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | プローバ及びプローバにおける回転・移動制御方法 |
| JP2008091785A (ja) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板移動装置 |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US8854601B2 (en) | 2005-05-12 | 2014-10-07 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
-
1988
- 1988-02-09 JP JP63026489A patent/JPH01202833A/ja active Pending
Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05226223A (ja) * | 1992-02-18 | 1993-09-03 | Canon Inc | 露光装置 |
| JPH06151277A (ja) * | 1992-10-30 | 1994-05-31 | Canon Inc | 露光装置 |
| US6498352B1 (en) | 1993-02-26 | 2002-12-24 | Nikon Corporation | Method of exposing and apparatus therefor |
| US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US8854601B2 (en) | 2005-05-12 | 2014-10-07 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| JP2007109861A (ja) * | 2005-10-13 | 2007-04-26 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | プローバ及びプローバにおける回転・移動制御方法 |
| JP2008091785A (ja) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板移動装置 |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2704734B2 (ja) | ステージ位置決め補正方法及び装置 | |
| US5179863A (en) | Method and apparatus for setting the gap distance between a mask and a wafer at a predetermined distance | |
| JPH01202833A (ja) | 高精度ｘｙステージ装置 | |
| US4676649A (en) | Multi-axis gas bearing stage assembly | |
| US5825730A (en) | Mastering machine having non-repetitive runout compensation | |
| US7096751B2 (en) | Measuring apparatus and accuracy analyzing apparatus having the same | |
| JPH0926828A (ja) | 位置制御方法及び装置並びにそれを使用した半導体製造装置 | |
| JPH04120716A (ja) | 露光装置の位置決め方法と位置決め機構 | |
| JP3014499B2 (ja) | 位置情報検出装置およびそれを用いた転写装置 | |
| JP2593483B2 (ja) | ＸＹθテーブルの初期設定方法 | |
| JP3003863B2 (ja) | 平面位置決め装置および方法 | |
| JP2777931B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP2860609B2 (ja) | 半導体露光装置 | |
| JPH0382013A (ja) | ステージ位置決め制御方法 | |
| JPS60111910A (ja) | 精密平面精度測定装置 | |
| JPS63202019A (ja) | 光学素子の精度測定装置 | |
| JPH04142438A (ja) | 平面鏡の面特性測定方法及び該測定機能を備えたステージ装置 | |
| JPS63140311A (ja) | 角度変動補正制御装置 | |
| JPH1058174A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPH0467696A (ja) | 直接描画装置 | |
| KR0136427B1 (ko) | 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치 및 그 방법 | |
| JPH0798256A (ja) | 駆動力測定装置 | |
| JP3002832B2 (ja) | Ｎｃ工作機械装置 | |
| JPH10221039A (ja) | 移動軸直角度測定方法 | |
| JPS607483Y2 (ja) | 電子ビ−ム露光装置 |