JPH01201135A - 赤外線散乱トモグラフィ装置 - Google Patents
赤外線散乱トモグラフィ装置Info
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- JPH01201135A JPH01201135A JP63025345A JP2534588A JPH01201135A JP H01201135 A JPH01201135 A JP H01201135A JP 63025345 A JP63025345 A JP 63025345A JP 2534588 A JP2534588 A JP 2534588A JP H01201135 A JPH01201135 A JP H01201135A
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Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、例えば半導体ウニ八等の試料内に介在する結
晶欠陥を細く絞った赤外線レーザビームで観察する装置
に関する。
晶欠陥を細く絞った赤外線レーザビームで観察する装置
に関する。
〈従来の技術〉
一般に、赤外線レーザビームを用いて試料内の結晶欠陥
を観察する装置は、例えば第5図に示すように、コンデ
ンサレンズ10によって細く絞られた赤外線レーザビー
ムIRを試料Tの側面方向から試料T内に照射し、試料
T内に介在する微小析出物等の散乱体によって散乱する
光を、試料Tの上方に設けられた赤外ビジコン3の受光
面に赤外線顕微鏡4を用いて結像し、赤外ビジコン3が
出力する信号をフレームメモリ11内に採り込んで記憶
し、さらに画像処理装置12に蓄積する。そして、観察
終了後に画像処理を行い、その内容をフレームメモリ1
1を介して画像表示装置CRT13に出力することによ
って、CRTl 3に散乱光の像を表示するよう構成さ
れている。(守矢−男:「レーザトモグラフィによる結
晶欠陥の観察」応用物理55 (1986) 542) 〈発明が解決しようとする課題〉 一般に、試料内に介在する微小析出物等の散乱体による
散乱光は、その散乱体の大きさに対して特徴的な角度分
布、すなわち強度分布を示すことが知られている(Ma
x Born and Emil Wolf : Pr
1nciplesof 0ptics、 813.5)
。しかも、散乱体が球状ではなく、直方体や針状等、複
雑な形状を有している場合、その散乱光は散乱体の形状
を反映した方位依存性のある強度分布を示すと考えられ
、従っである一つの散乱体に注目して、その散乱光の強
度分布を観察すれば、注目した散乱体の形状についての
情報を得ることができる。
を観察する装置は、例えば第5図に示すように、コンデ
ンサレンズ10によって細く絞られた赤外線レーザビー
ムIRを試料Tの側面方向から試料T内に照射し、試料
T内に介在する微小析出物等の散乱体によって散乱する
光を、試料Tの上方に設けられた赤外ビジコン3の受光
面に赤外線顕微鏡4を用いて結像し、赤外ビジコン3が
出力する信号をフレームメモリ11内に採り込んで記憶
し、さらに画像処理装置12に蓄積する。そして、観察
終了後に画像処理を行い、その内容をフレームメモリ1
1を介して画像表示装置CRT13に出力することによ
って、CRTl 3に散乱光の像を表示するよう構成さ
れている。(守矢−男:「レーザトモグラフィによる結
晶欠陥の観察」応用物理55 (1986) 542) 〈発明が解決しようとする課題〉 一般に、試料内に介在する微小析出物等の散乱体による
散乱光は、その散乱体の大きさに対して特徴的な角度分
布、すなわち強度分布を示すことが知られている(Ma
x Born and Emil Wolf : Pr
1nciplesof 0ptics、 813.5)
。しかも、散乱体が球状ではなく、直方体や針状等、複
雑な形状を有している場合、その散乱光は散乱体の形状
を反映した方位依存性のある強度分布を示すと考えられ
、従っである一つの散乱体に注目して、その散乱光の強
度分布を観察すれば、注目した散乱体の形状についての
情報を得ることができる。
ところが、従来の装置では、赤外線顕微鏡4の視野内の
散乱体により生じる散乱光すべてを捕らえてしまうので
、一つの散乱体からの散乱光だけを観察するのは困難で
あった。
散乱体により生じる散乱光すべてを捕らえてしまうので
、一つの散乱体からの散乱光だけを観察するのは困難で
あった。
〈課題を解決するための手段〉
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであ
って、その構成を実施例に対応する第1図を参照しつつ
説明すると、本発明は、所定の大きさを貫通孔(ピンホ
ール)5aが穿たれ、赤外線顕微鏡4の結像面Fに沿っ
て設置し得る遮蔽板(マスク)5と、赤外線顕微鏡4に
よる試料T中の任意の散乱体からの散乱像の中心と貫通
孔5aの中心とを一致させるための位置決め手段(移動
マスク支持台)6を備え、試料T中の任意の散乱体から
の散乱光を貫通孔5aを介して光検出手段(赤外ビジコ
ン)3に導き得るよう構成したことを特徴としている。
って、その構成を実施例に対応する第1図を参照しつつ
説明すると、本発明は、所定の大きさを貫通孔(ピンホ
ール)5aが穿たれ、赤外線顕微鏡4の結像面Fに沿っ
て設置し得る遮蔽板(マスク)5と、赤外線顕微鏡4に
よる試料T中の任意の散乱体からの散乱像の中心と貫通
孔5aの中心とを一致させるための位置決め手段(移動
マスク支持台)6を備え、試料T中の任意の散乱体から
の散乱光を貫通孔5aを介して光検出手段(赤外ビジコ
ン)3に導き得るよう構成したことを特徴としている。
〈作用〉
例えば、あらかじめ従来の方法によって試料T全体の散
乱像を採取しておき、その画像に基づいて任意の一つの
散乱像の中心近傍に貫通孔5aの中心が一致するよう遮
蔽板5を結像面F上に沿って設置することにより、一つ
の散乱体からの散乱光は貫通孔5aを通過して進行する
が、他の散乱体からの散乱光はとんどは、光検出手段3
の前段でその進行を遮蔽板5によって遮られることにな
る。従って、貫通孔5aを通過した後の散乱光を光検出
手段3で受光すれば、一つの散乱体からの散乱光の強度
分布を知ることができる。
乱像を採取しておき、その画像に基づいて任意の一つの
散乱像の中心近傍に貫通孔5aの中心が一致するよう遮
蔽板5を結像面F上に沿って設置することにより、一つ
の散乱体からの散乱光は貫通孔5aを通過して進行する
が、他の散乱体からの散乱光はとんどは、光検出手段3
の前段でその進行を遮蔽板5によって遮られることにな
る。従って、貫通孔5aを通過した後の散乱光を光検出
手段3で受光すれば、一つの散乱体からの散乱光の強度
分布を知ることができる。
〈実施例〉
本発明の実施例を、以下、図面に基づいて説明する。
第1図は、本発明の実施例の構成を示すブロック図であ
る。
る。
サンプルステージ1の鉛直方向上方には、赤外線顕微鏡
4および移動ビジコン支持台7によって支持される赤外
ビジコン3が順次配設されており、例えば半導体ウニl
”1等の試料Tはサンプルステー71上に載せられる。
4および移動ビジコン支持台7によって支持される赤外
ビジコン3が順次配設されており、例えば半導体ウニl
”1等の試料Tはサンプルステー71上に載せられる。
ビジコン支持台7は7、セ気的な駆動信号または下動操
作により、赤外ごシコン3を赤外線顕微鏡4の光111
Aに沿っ(′上下に移動させることができる。
作により、赤外ごシコン3を赤外線顕微鏡4の光111
Aに沿っ(′上下に移動させることができる。
試料Tの側方にはYAGレーザ装置8が配設されており
、その発振赤外線レーザビームIRは、プリズム9によ
って反射され、赤外線用のコンデンサレンズ10を通過
して試料T内に入射するよう構成されている。これらの
YAGレーザ装置8、プリズム9、およびコンデンサレ
ンズ10からなるレーザビーム系20は移動レーザビー
ム支持台21によって支持されている。
、その発振赤外線レーザビームIRは、プリズム9によ
って反射され、赤外線用のコンデンサレンズ10を通過
して試料T内に入射するよう構成されている。これらの
YAGレーザ装置8、プリズム9、およびコンデンサレ
ンズ10からなるレーザビーム系20は移動レーザビー
ム支持台21によって支持されている。
移動レーザビーム系支持台21は、あらかじめ設定した
走査信号、またはドライバ6aからの駆動信号に基づい
て、レーザビーム系20をY□力方向平行移動させ、赤
外線レーザビームIRの水平面(Xi Yt面)にお
けるYT力方向の走査、または赤外線レーザビームIR
の試料TへのYT力方向おける入射位置の変更を行なう
よう構成されている。
走査信号、またはドライバ6aからの駆動信号に基づい
て、レーザビーム系20をY□力方向平行移動させ、赤
外線レーザビームIRの水平面(Xi Yt面)にお
けるYT力方向の走査、または赤外線レーザビームIR
の試料TへのYT力方向おける入射位置の変更を行なう
よう構成されている。
赤外ビジコン3は、公知のものであって、試料Tからの
散乱光を赤外線顕微鏡4を介して受光することによって
、その光量に応じた信号を出力するよう構成されており
、その出力信号は、フレームメモリ11内に採り込まれ
て記憶され、さらに画像処理装置12内に蓄積される。
散乱光を赤外線顕微鏡4を介して受光することによって
、その光量に応じた信号を出力するよう構成されており
、その出力信号は、フレームメモリ11内に採り込まれ
て記憶され、さらに画像処理装置12内に蓄積される。
画像処理装置12は、一つの観察が終了した後、蓄積し
たデータの積算を行い、さらにその積算後のデータ暗電
流分を差し引く等の画像処理を行い処理後の画像信号を
画像合成回路14に出力するよう構成されている。
たデータの積算を行い、さらにその積算後のデータ暗電
流分を差し引く等の画像処理を行い処理後の画像信号を
画像合成回路14に出力するよう構成されている。
画像合成回路14は、画像処理装置12からの画像信号
と指標表示信号供給回路15が出力する指標表示信号と
を合成する機能を有しており、その合成後の信号はフレ
ームメモリ11を介してCRTl3に供給される。なお
、指標表示信号が供給されないときには、画像処理装置
12からの画像信号だけがCRTl3に供給される。
と指標表示信号供給回路15が出力する指標表示信号と
を合成する機能を有しており、その合成後の信号はフレ
ームメモリ11を介してCRTl3に供給される。なお
、指標表示信号が供給されないときには、画像処理装置
12からの画像信号だけがCRTl3に供給される。
指標表示信号供給回路15は、先にキーボード16から
供給される表示指令信号に基づいて、CRTl3の画面
上の後述する起点に指標を表示するための信号を出力す
る機能を有しており、さらに、その指標は、次にキーボ
ード1日から構成される装置指令信号に基づいて移動す
るよう構成されている。すなわち、先のキーボード16
の操作により指示指令信号を供給することによって、第
2図のCRTl 3の画面の表示例に示すように、指標
Mを、その先端部が基点Pに合うように表示することが
でき、そして、次のキーボード16の操作により位置指
令信号を供給することによって、指標MをX、およびY
c力方向移動させて、目標とする位置に表示することが
できる。ここで、CRTl3の図面上の基点Pは、装置
側において、赤外ビジコン3の受光面3aを赤外線顕微
鏡4の結像面Fに合わせたときに、その受光面3aと赤
外線顕微鏡4の光軸Aとが交わる点に一致するように設
定された点である。また、CRTの画面上のX、および
Y、方向と装置側の結像面Fに沿うXFおよびYF力方
向は互いに対応している。
供給される表示指令信号に基づいて、CRTl3の画面
上の後述する起点に指標を表示するための信号を出力す
る機能を有しており、さらに、その指標は、次にキーボ
ード1日から構成される装置指令信号に基づいて移動す
るよう構成されている。すなわち、先のキーボード16
の操作により指示指令信号を供給することによって、第
2図のCRTl 3の画面の表示例に示すように、指標
Mを、その先端部が基点Pに合うように表示することが
でき、そして、次のキーボード16の操作により位置指
令信号を供給することによって、指標MをX、およびY
c力方向移動させて、目標とする位置に表示することが
できる。ここで、CRTl3の図面上の基点Pは、装置
側において、赤外ビジコン3の受光面3aを赤外線顕微
鏡4の結像面Fに合わせたときに、その受光面3aと赤
外線顕微鏡4の光軸Aとが交わる点に一致するように設
定された点である。また、CRTの画面上のX、および
Y、方向と装置側の結像面Fに沿うXFおよびYF力方
向は互いに対応している。
さて、赤外ビジコン3の前段には、赤外顕微鏡4の結像
面Fに沿って一つのピンホール5aが穿れたマスク5が
設けられている。マスク5は移動マスク支持台6によっ
て支持されている。
面Fに沿って一つのピンホール5aが穿れたマスク5が
設けられている。マスク5は移動マスク支持台6によっ
て支持されている。
移動マスク支持台6は、位置側j■回路17からの位置
制御信号に基づいてドライバ6aが出力する駆動信号に
従って、マスク5つまりピンホール5aを結像面Fに沿
ってXFおよびYF力方向移動させるよう構成されてい
る。
制御信号に基づいてドライバ6aが出力する駆動信号に
従って、マスク5つまりピンホール5aを結像面Fに沿
ってXFおよびYF力方向移動させるよう構成されてい
る。
位置制御回路17は、キーボード16から指標表示信号
供給回路15に供給される位置指令信号と同じ信号に基
づいて、指標MがXCおよびYc力方向移動する距離に
相当する装置側の結像面F上におけるXFおよびY、方
向の距離、および試料TのX T −Y を面上におけ
るYア方向の距離を算出し、その各演算結果に基づく位
置制御信号それぞれをドライバ6aに出力するよう構成
されている。
供給回路15に供給される位置指令信号と同じ信号に基
づいて、指標MがXCおよびYc力方向移動する距離に
相当する装置側の結像面F上におけるXFおよびY、方
向の距離、および試料TのX T −Y を面上におけ
るYア方向の距離を算出し、その各演算結果に基づく位
置制御信号それぞれをドライバ6aに出力するよう構成
されている。
すなわち、キーボード16の操作により指標MのCRT
l3の画面上の表示位置をXCおよびY。
l3の画面上の表示位置をXCおよびY。
方向に移動させたときには、ピンホール5aが、指標M
の移動距離に相当した結像面Fにおける距離だけ、XF
およびYF力方向指標Mが移動する向きと同じ向きに移
動し、また、赤外線レーザビームIRの試料TへのYT
力方向おける入射位置が、指標MのY、方向への移動距
離に相当した試料TのXi Yt画面上おける距離だ
け、指標Mが移動する向きと同じ向きに変更されること
になる。
の移動距離に相当した結像面Fにおける距離だけ、XF
およびYF力方向指標Mが移動する向きと同じ向きに移
動し、また、赤外線レーザビームIRの試料TへのYT
力方向おける入射位置が、指標MのY、方向への移動距
離に相当した試料TのXi Yt画面上おける距離だ
け、指標Mが移動する向きと同じ向きに変更されること
になる。
次に観察手順を説明する。
まず、マスク5のピンホール5aの中心を赤外線顕微鏡
4の光軸Aに合わせ、この位置からマスク5をXF方向
に移動させて、赤外ビジコン3が上下移動するのに支障
のない位置に待機させてお次に、赤外ビジコン3を降下
させてその受光面3aを赤外線顕微鏡4の結像面Fに合
わせる。この状態で、赤外線レーザビームIRを試料T
の全域に亘って走査することによって得られた散乱像を
CRTl3に表示する。この観察終了後、赤外ビジコン
3を上方に、マスク5が移動するのに支障のない位置ま
で逃しておく。
4の光軸Aに合わせ、この位置からマスク5をXF方向
に移動させて、赤外ビジコン3が上下移動するのに支障
のない位置に待機させてお次に、赤外ビジコン3を降下
させてその受光面3aを赤外線顕微鏡4の結像面Fに合
わせる。この状態で、赤外線レーザビームIRを試料T
の全域に亘って走査することによって得られた散乱像を
CRTl3に表示する。この観察終了後、赤外ビジコン
3を上方に、マスク5が移動するのに支障のない位置ま
で逃しておく。
次に待機させておいたマスク5を先に移動させた向きと
逆向きに同じ距離だけ移動させてピンホール5aの中心
を光軸Aに再び合わせておく。さらに、レーザビーム系
20を手動操作等によりYT力方向平行移動させて、赤
外線レーザビームIRの中心を赤外線顕微鏡4の光軸A
に合わせておく。
逆向きに同じ距離だけ移動させてピンホール5aの中心
を光軸Aに再び合わせておく。さらに、レーザビーム系
20を手動操作等によりYT力方向平行移動させて、赤
外線レーザビームIRの中心を赤外線顕微鏡4の光軸A
に合わせておく。
そして、キーボード16を操作して、第2図に示すよう
に、CRTl3の画面上の基点Pに指標Mを表示する。
に、CRTl3の画面上の基点Pに指標Mを表示する。
次いで、キーボード16を操作して指標Mを移動させて
、その先端を注目したい散乱像Sの中心近傍に合わせる
。この操作により、マスク5のピンホール5aも移動し
、その中心は先の観¥−乙7おいて結像面F上で結像し
ていた散乱像のうちCRTl3の画面上で注目した散乱
像の中心近傍に合うことになり、また、レーザビーム系
20もY1方向に移動し、その発振レーザビームIRの
中心は、CRT 13の画面上で注目した散乱像を結ぶ
散乱光を生じる散乱体の中心近傍に合うことになる。こ
の状態で試料T中に赤外線レーザビームIRを照射すれ
ば、試料T中の散乱体により生じる散乱光のうち、上記
の注目した散乱像を結像する散乱光だけが、マスク5の
ピンホール5aを通過することになり、このピンホール
5aを通過した後の散乱光を、赤外ビジコン3を移動さ
せてその受光面3aで受光することによって、その散乱
光の強度分布画像がCRTl3の画面上に表示されるこ
とになる。なお、ピンホール5aを通過する散乱光の中
には、赤外線顕微鏡4の光軸A方向における他の散乱体
による散乱光が迷光として混じる虞れもあるが、この迷
光となる散乱光は結像面F上でピントが合っておらず、
この光量は無視し得る程小さいので、得られた強度分布
像に悪影響が及ぶことはない。
、その先端を注目したい散乱像Sの中心近傍に合わせる
。この操作により、マスク5のピンホール5aも移動し
、その中心は先の観¥−乙7おいて結像面F上で結像し
ていた散乱像のうちCRTl3の画面上で注目した散乱
像の中心近傍に合うことになり、また、レーザビーム系
20もY1方向に移動し、その発振レーザビームIRの
中心は、CRT 13の画面上で注目した散乱像を結ぶ
散乱光を生じる散乱体の中心近傍に合うことになる。こ
の状態で試料T中に赤外線レーザビームIRを照射すれ
ば、試料T中の散乱体により生じる散乱光のうち、上記
の注目した散乱像を結像する散乱光だけが、マスク5の
ピンホール5aを通過することになり、このピンホール
5aを通過した後の散乱光を、赤外ビジコン3を移動さ
せてその受光面3aで受光することによって、その散乱
光の強度分布画像がCRTl3の画面上に表示されるこ
とになる。なお、ピンホール5aを通過する散乱光の中
には、赤外線顕微鏡4の光軸A方向における他の散乱体
による散乱光が迷光として混じる虞れもあるが、この迷
光となる散乱光は結像面F上でピントが合っておらず、
この光量は無視し得る程小さいので、得られた強度分布
像に悪影響が及ぶことはない。
なお、以上の実施例では、ピンホール5aを通過した散
乱光を、直接赤外ビジコン3で受光するよう構成してい
るが、本発明は、これに限られることなく、第3図に示
すように、ピンホール5aを通過した散乱光を赤外線用
の凹レンズ31を介して赤外ビジコン3で受光するよう
構成してもよく、この場合、赤外ビジコン3の移動量を
少なくすることができる。
乱光を、直接赤外ビジコン3で受光するよう構成してい
るが、本発明は、これに限られることなく、第3図に示
すように、ピンホール5aを通過した散乱光を赤外線用
の凹レンズ31を介して赤外ビジコン3で受光するよう
構成してもよく、この場合、赤外ビジコン3の移動量を
少なくすることができる。
また、以上の実施例では、試料T全体の散乱像の観察お
よび注目した散乱像の強度分布の観察を同じ赤外ビジコ
ン3を用いて行っているが、本発明は、これに限られる
ことなく、第4図に示すように、赤外ビジコン3の受光
面3aを赤外線顕微鏡4の結像面Fに合わせておき、赤
外線顕微鏡4を経た散乱光の光束をビームスプリッタ4
1を用いて二方向に分け、ビームスプリンタ41により
反射される散乱光の結像面F4上に沿って先の実施例と
同様なマスク5を設け、マスク5のピンホール5aを通
過する散乱光を赤外ディテクタ42で受光するよう構成
してもよく、この場合、赤外ビジコン3の移動機構を省
くことができる。
よび注目した散乱像の強度分布の観察を同じ赤外ビジコ
ン3を用いて行っているが、本発明は、これに限られる
ことなく、第4図に示すように、赤外ビジコン3の受光
面3aを赤外線顕微鏡4の結像面Fに合わせておき、赤
外線顕微鏡4を経た散乱光の光束をビームスプリッタ4
1を用いて二方向に分け、ビームスプリンタ41により
反射される散乱光の結像面F4上に沿って先の実施例と
同様なマスク5を設け、マスク5のピンホール5aを通
過する散乱光を赤外ディテクタ42で受光するよう構成
してもよく、この場合、赤外ビジコン3の移動機構を省
くことができる。
さらに、以上の実施例では、試料T全体の観察終了後、
注目したい一つの散乱像の中心近傍にピンホール5aの
中心を合わせ、さらに、その散乱光を生じる散乱体に赤
外線レーザビームIRの中心を合わせるよう構成してい
るが、試料Tの全体の観察終了後、ピンホール5aおよ
び赤外線レーザビームIRの中心を赤外線顕微鏡4の光
軸Aに合わせて固定しておき、試料Tを水平面(X、−
71面)に沿って平行移動させて、注目したい散乱体の
中心近傍を赤外線顕微鏡4の光軸Aに合わせるよう構成
してもよい。
注目したい一つの散乱像の中心近傍にピンホール5aの
中心を合わせ、さらに、その散乱光を生じる散乱体に赤
外線レーザビームIRの中心を合わせるよう構成してい
るが、試料Tの全体の観察終了後、ピンホール5aおよ
び赤外線レーザビームIRの中心を赤外線顕微鏡4の光
軸Aに合わせて固定しておき、試料Tを水平面(X、−
71面)に沿って平行移動させて、注目したい散乱体の
中心近傍を赤外線顕微鏡4の光軸Aに合わせるよう構成
してもよい。
さらにまた、以上の実施例では、画像処理装置12、画
像合成回路14、指標表示信号供給回路15、およびピ
ンホール位置制御回路18を個別に設けているが、本発
明は、これに限られることなく、これらの各機能を一つ
のマイクロコンピュータ等内にソフトウェアとして組み
込んでもよい。
像合成回路14、指標表示信号供給回路15、およびピ
ンホール位置制御回路18を個別に設けているが、本発
明は、これに限られることなく、これらの各機能を一つ
のマイクロコンピュータ等内にソフトウェアとして組み
込んでもよい。
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明によれば、光検出手段の前
段に貫通孔が穿たれてなる遮蔽板を設け、この遮蔽板に
より注目したい散乱体からの散乱光だけを光検出手段で
受光するよう構成したから、注目した散乱体からの散乱
光の強度分布画像を得ることができ、その分布画像の方
位依存性を検討することにより、注目した散乱体の形状
を知ることができる。
段に貫通孔が穿たれてなる遮蔽板を設け、この遮蔽板に
より注目したい散乱体からの散乱光だけを光検出手段で
受光するよう構成したから、注目した散乱体からの散乱
光の強度分布画像を得ることができ、その分布画像の方
位依存性を検討することにより、注目した散乱体の形状
を知ることができる。
なお、試料中には、赤外線顕微鏡の解像力の限界よりも
小さな例えば0.1μm程度の微小析出物散乱体が線状
または面状等に分布しており、従来の装置では、その個
々の形状だけでなく、分布状態も知ることが不可能であ
ったが、本発明によれば、少なくとも分布状態の方位を
知ることが可能で、例えばこの種の観察をさらに微細に
推し進めて行く上に当り、寄与するところ大である。
小さな例えば0.1μm程度の微小析出物散乱体が線状
または面状等に分布しており、従来の装置では、その個
々の形状だけでなく、分布状態も知ることが不可能であ
ったが、本発明によれば、少なくとも分布状態の方位を
知ることが可能で、例えばこの種の観察をさらに微細に
推し進めて行く上に当り、寄与するところ大である。
第1図は、本発明の実施例の構成を示すブロック図、
第2図はCRTl 3の画面の表示例を示す図、第3図
および第4図は、本発明の他の実施例を説明するための
図、 第5図は赤外線散乱トモグラフィ装置の従来例を示すブ
ロック図である。 3・・・・赤外ビジコン 4・・・・赤外線顕微鏡 5・・・・マスク 5a・・・ピンホール 6・・・・位移マスク支持台 F・・・・結像面 T・・・・試料 特許出願人 株式会社島津製作所代 理 人
弁理士 西1)新 第2図 Y。 第3図 第4図
および第4図は、本発明の他の実施例を説明するための
図、 第5図は赤外線散乱トモグラフィ装置の従来例を示すブ
ロック図である。 3・・・・赤外ビジコン 4・・・・赤外線顕微鏡 5・・・・マスク 5a・・・ピンホール 6・・・・位移マスク支持台 F・・・・結像面 T・・・・試料 特許出願人 株式会社島津製作所代 理 人
弁理士 西1)新 第2図 Y。 第3図 第4図
Claims (1)
- 試料内に赤外線レーザビームを照射し、その試料内に介
在する散乱体によって生じる散乱光を赤外線顕微鏡を介
して光検出手段で受光し、その散乱像を観察する装置に
おいて、所定の大きさの貫通孔が穿たれ、上記赤外線顕
微鏡の結像面に沿って設置し得る遮蔽板と、上記赤外線
顕微鏡による試料中の任意の散乱体からの散乱像の中心
と上記貫通孔の中心とを一致させるための位置決め手段
を備え、試料中の任意の散乱体からの散乱光を上記貫通
孔を介して上記光検出手段に導き得るよう構成したこと
を特徴とする、赤外線散乱トモグラフィ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63025345A JPH01201135A (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 赤外線散乱トモグラフィ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63025345A JPH01201135A (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 赤外線散乱トモグラフィ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01201135A true JPH01201135A (ja) | 1989-08-14 |
Family
ID=12163294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63025345A Pending JPH01201135A (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 赤外線散乱トモグラフィ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01201135A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107667310A (zh) * | 2015-06-02 | 2018-02-06 | 生命技术公司 | 用于生成校准结构化照明成像***和用于俘获结构化照明图像的***和方法 |
-
1988
- 1988-02-04 JP JP63025345A patent/JPH01201135A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107667310A (zh) * | 2015-06-02 | 2018-02-06 | 生命技术公司 | 用于生成校准结构化照明成像***和用于俘获结构化照明图像的***和方法 |
CN107667310B (zh) * | 2015-06-02 | 2021-01-01 | 生命技术公司 | 荧光成像*** |
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