JPH01183122A - 真空チャンバ用光学窓 - Google Patents
真空チャンバ用光学窓Info
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- JPH01183122A JPH01183122A JP63007720A JP772088A JPH01183122A JP H01183122 A JPH01183122 A JP H01183122A JP 63007720 A JP63007720 A JP 63007720A JP 772088 A JP772088 A JP 772088A JP H01183122 A JPH01183122 A JP H01183122A
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- Japan
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- vacuum chamber
- glass plate
- lens
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- Pending
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- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 20
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 19
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
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- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
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Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
半導体製造装置等における真空チャンバ用光学窓に関し
、 観測領域の拡大と装置の小型化を目的とし、真空チャン
バ壁面に装着する内部観察用観測窓の少なくとも一面に
、レンズ作用を備えた回折パターン板を配設し一体化し
て構成し、 または真空チャンバ壁面に装着する内部観察用観測窓の
少なくとも一面に、レンズ作用を備えた回折パターン板
を傾けた状態に配設し一体化して構成する。
、 観測領域の拡大と装置の小型化を目的とし、真空チャン
バ壁面に装着する内部観察用観測窓の少なくとも一面に
、レンズ作用を備えた回折パターン板を配設し一体化し
て構成し、 または真空チャンバ壁面に装着する内部観察用観測窓の
少なくとも一面に、レンズ作用を備えた回折パターン板
を傾けた状態に配設し一体化して構成する。
本発明は半導体製造装置等における真空チャンバの観測
窓に係り、特に観測領域の拡大と装置の小型化を図った
真空チャンバ用光学窓に関する。
窓に係り、特に観測領域の拡大と装置の小型化を図った
真空チャンバ用光学窓に関する。
第２図は従来の真空チャンバ用観測窓の構成例を示した
図である。なお図では、真空チャンバ内に浮遊する不純
物粒子にレーザ光を照射しその散乱光から不純物粒子を
計数する粒子計数器に適用した場合を例示している。
図である。なお図では、真空チャンバ内に浮遊する不純
物粒子にレーザ光を照射しその散乱光から不純物粒子を
計数する粒子計数器に適用した場合を例示している。
図で、１は真空チャンバ、２は円形の透明なガラス板２
ａを金属枠２ｂにシール固定した観測窓であリ、該観測
窓２は複数のネジ３で真空チャンバ１に螺止固定されて
いる。なお４は密閉を保つためのバッキングである。
ａを金属枠２ｂにシール固定した観測窓であリ、該観測
窓２は複数のネジ３で真空チャンバ１に螺止固定されて
いる。なお４は密閉を保つためのバッキングである。
この場合、真空チャンバ１の内部には例えば図示ａで示
される不純物粒子が一定の密度をもって浮遊している。
される不純物粒子が一定の密度をもって浮遊している。
また５はレーザ光６を照射する光源であり、該レーザ光
６の光路中に浮遊する不純物粒子による、 レーザ光６
の散乱光の一部がガラス板２ａを通り更に光学系７によ
って計数ディテクタ８を照射する構成になっている。
６の光路中に浮遊する不純物粒子による、 レーザ光６
の散乱光の一部がガラス板２ａを通り更に光学系７によ
って計数ディテクタ８を照射する構成になっている。
ここで光源５からレーザ光６を射出すると、該レーザ光
６は真空チャンバ１の内部を直進するが、その光路中に
ａで示す不純物粒子が存在するとレーザ光６は該粒子に
よって図示６“の如く各方向に散らばる散乱光となる。
６は真空チャンバ１の内部を直進するが、その光路中に
ａで示す不純物粒子が存在するとレーザ光６は該粒子に
よって図示６“の如く各方向に散らばる散乱光となる。
そこでこれら散乱光の内、ガラス板２ａの方向に向かう
分のみが該ガラス板２ａを透過するが、更にその内の光
学系７に入射した分のみが計数ディテクタ８に照射され
て計数される。
分のみが該ガラス板２ａを透過するが、更にその内の光
学系７に入射した分のみが計数ディテクタ８に照射され
て計数される。
一方直進するレーザ光６は該真空チャンバ１の内部でそ
のまま吸収されるように構成している。
のまま吸収されるように構成している。
この場合、例えば光路中の一点Ｐ点における上記光学系
７に対する入射角αは、観測窓２の窓径と光学系７の両
者で規定されて小さくなり計数ディテクタ８に到達する
散乱光の数が減少する。例えば図示Ｐ点に浮遊する不純
物粒子からの反射光が図示６＋ ’の方向であれば計
数ディテクタ８はカウントするが反射光が図示６２ ゛
の方向であれば光学系７に入射しないために計数ディテ
クタ８がカウントしない。
７に対する入射角αは、観測窓２の窓径と光学系７の両
者で規定されて小さくなり計数ディテクタ８に到達する
散乱光の数が減少する。例えば図示Ｐ点に浮遊する不純
物粒子からの反射光が図示６＋ ’の方向であれば計
数ディテクタ８はカウントするが反射光が図示６２ ゛
の方向であれば光学系７に入射しないために計数ディテ
クタ８がカウントしない。
従って本来カウントされるべきものがカウントされない
ことになり、結果的に観測領域が狭められた場合と同様
の現象を呈する。
ことになり、結果的に観測領域が狭められた場合と同様
の現象を呈する。
一方上記の入射角αを大きくするために、観測窓２の窓
径と光学系７をそれぞれ大きくする方法や観測窓２のガ
ラス板２ａをそのまま凸レンズとする方法等もあるが、
耐圧上の点から大きさや厚みに制約が生じている。
径と光学系７をそれぞれ大きくする方法や観測窓２のガ
ラス板２ａをそのまま凸レンズとする方法等もあるが、
耐圧上の点から大きさや厚みに制約が生じている。
従来の真空チャンバ用の観測窓では、観測領域が狭く正
確な不純物粒子の計数ができないと云う問題があり、ま
た観測窓外部に設置する光学系が大きくなって装置の小
型化を阻害すると云う問題があった。
確な不純物粒子の計数ができないと云う問題があり、ま
た観測窓外部に設置する光学系が大きくなって装置の小
型化を阻害すると云う問題があった。
また真空チャンバ内でプラズマプロセス等で発光する場
合には、不純物粒子の計数ができないと云う問題があっ
た。
合には、不純物粒子の計数ができないと云う問題があっ
た。
上記問題点は、真空チャンバ壁面に装着する内部観察用
観測窓の少なくとも一面に、レンズ作用を備えた回折パ
ターン板を配設し、一体化してなる真空チャンバ用光学
窓によって解決される。
観測窓の少なくとも一面に、レンズ作用を備えた回折パ
ターン板を配設し、一体化してなる真空チャンバ用光学
窓によって解決される。
また真空チャンバ壁面に、装着する内部観察用観測窓の
少なくとも一面に、レンズ作用を備えた回折パターン板
を傾けた状態に配設し、一体化してなる真空チャンバ用
光学窓によって解決される。
少なくとも一面に、レンズ作用を備えた回折パターン板
を傾けた状態に配設し、一体化してなる真空チャンバ用
光学窓によって解決される。
ガラス板の少なくとも一方の面にレンズ作用を持つ回折
パターンを形成することによって、耐圧性能を損なうこ
となく該ガラス板を凸レンズ化することができる。
パターンを形成することによって、耐圧性能を損なうこ
となく該ガラス板を凸レンズ化することができる。
本発明になる真空装置用光学窓では、従来の観測窓を構
成するガラス板の一面にフレネルレンズを直接または傾
きを持たせて添着している。
成するガラス板の一面にフレネルレンズを直接または傾
きを持たせて添着している。
従って浮遊する不純物粒子によって真空チャンバ内部で
発生する散乱光の内、少なくともガラス板に入射する散
乱光は該ガラス板を透過した後はすべて平行光となって
光学系を通り、計数ディテクタに照射されるので精度の
よい不純物粒子の計数を実現している。
発生する散乱光の内、少なくともガラス板に入射する散
乱光は該ガラス板を透過した後はすべて平行光となって
光学系を通り、計数ディテクタに照射されるので精度の
よい不純物粒子の計数を実現している。
またフレネルレンズを上記ガラス板に対して傾けて配設
一体化することにより、波長の異なる二光線は回折方向
が異なるためフレネルレンズ透過後の光路に差異を生ず
る。
一体化することにより、波長の異なる二光線は回折方向
が異なるためフレネルレンズ透過後の光路に差異を生ず
る。
従って真空チャンバ内でプラズマプロセス等の発光があ
る場合でも所要の不純物粒子の計数を精度よく実現する
ことができる。
る場合でも所要の不純物粒子の計数を精度よく実現する
ことができる。
第１図は、本発明になる真空チャンバ用光学窓の実施例
を示した図である。
を示した図である。
図で、１１は観測窓であり”、凸レンズを形成するよ４
に同心円状の回折パターンを片面に形成した透明なアク
リル樹脂板等よりなる円内斜視図■の如きフレネルレン
ズ１．１ｂが添着された円形の透明なガラス板１１ａを
、金属枠１１ｃにシール固定して構成している。なお該
観測窓１１がバンキング４を介して複数のネジ３で真空
チャンバ１に螺止固定されていることは第２図の場合と
同様である。また真空チャンバ１の内部には第２図同様
に不純物粒子ａが浮遊した状態にある。
に同心円状の回折パターンを片面に形成した透明なアク
リル樹脂板等よりなる円内斜視図■の如きフレネルレン
ズ１．１ｂが添着された円形の透明なガラス板１１ａを
、金属枠１１ｃにシール固定して構成している。なお該
観測窓１１がバンキング４を介して複数のネジ３で真空
チャンバ１に螺止固定されていることは第２図の場合と
同様である。また真空チャンバ１の内部には第２図同様
に不純物粒子ａが浮遊した状態にある。
５は光源、６はレーザ光６であり、１２は集光レンズ、
８は計数ディテクタである。
８は計数ディテクタである。
ここで第２図同様に光源５からレーザ光６を照射すると
、光路中に浮遊する不純物粒子ａの散乱光６′の内上記
ガラス板１１ａに入る光はすべてフレネルレンズｌｌｂ
で平行光となって集光レンズ１２を通り計数ディテクタ
８を照射するように構成している。
、光路中に浮遊する不純物粒子ａの散乱光６′の内上記
ガラス板１１ａに入る光はすべてフレネルレンズｌｌｂ
で平行光となって集光レンズ１２を通り計数ディテクタ
８を照射するように構成している。
なお直進するレーザ光６が真空チャンバ１内で吸収され
消滅することは第２図と同様である。
消滅することは第２図と同様である。
この場合には、例えば光路中の一点ＰＩ点についての集
光レンズ１２に対する入射角α１は、観測窓１１の窓径
がそのまま対応゛するため、第２図におけるαと比較す
ると、常に、 α１ 〉α が成立する。
光レンズ１２に対する入射角α１は、観測窓１１の窓径
がそのまま対応゛するため、第２図におけるαと比較す
ると、常に、 α１ 〉α が成立する。
一方プラズマプロセスを真空チャンバ内で行う場合には
、プラズマ・イオンが発光して浮遊する不純物粒子の散
乱光をカバーし不純物粒子の計数精度を低下させること
がある。
、プラズマ・イオンが発光して浮遊する不純物粒子の散
乱光をカバーし不純物粒子の計数精度を低下させること
がある。
図（Ｂ）はこの場合に適用される例を示したもので、真
空チャンバ１の内部には浮遊する不純物粒子ａと×で記
載したプラズマ・イオンｂが混在して浮遊している。
空チャンバ１の内部には浮遊する不純物粒子ａと×で記
載したプラズマ・イオンｂが混在して浮遊している。
図で１３はこの場合の観測窓を示したもので、図（Ａ）
の観測窓１１におけるフレネルレンズＩｌｂを透明なア
クリル樹脂等よりなる円柱を斜めに切断し楕円状の露出
切断面に同心楕円状の回折パターンを形成した円内斜視
図■の如きフレネルレンズ１３ｂに置き換えたものであ
る。
の観測窓１１におけるフレネルレンズＩｌｂを透明なア
クリル樹脂等よりなる円柱を斜めに切断し楕円状の露出
切断面に同心楕円状の回折パターンを形成した円内斜視
図■の如きフレネルレンズ１３ｂに置き換えたものであ
る。
更に図（＾）と同様の集光レンズ１２と計数ディテクタ
８はその光軸を上記回折パターン形成面の中心垂直軸上
に配設している。
８はその光軸を上記回折パターン形成面の中心垂直軸上
に配設している。
かかる構成になるフレネルレンズでは、光の波長によっ
て透過後の光路に差異が生ずる。
て透過後の光路に差異が生ずる。
例えば図示１２点での不純物粒子ａからの反射光はフレ
ネルレンズ１３ｂ透過後は鎖線で示すＰ２“となり、ま
た同じ２２点での発光プラズマ・イオンｂからの光はフ
レネルレンズ１３ｂ透過後は二点鎖線で示すｐ２１１と
なる。
ネルレンズ１３ｂ透過後は鎖線で示すＰ２“となり、ま
た同じ２２点での発光プラズマ・イオンｂからの光はフ
レネルレンズ１３ｂ透過後は二点鎖線で示すｐ２１１と
なる。
従って、円内斜視図■での傾斜角βを予め設定した値に
形成して、両波の分離を実現している。
形成して、両波の分離を実現している。
上述の如く本発明により、真空チャンバ内の観測領域の
拡大によって精度のよい観測が図れると共に、光学系の
コンパクト化によって装置の小型化を実現した真空チャ
ンバ用光学窓を提供することができる。
拡大によって精度のよい観測が図れると共に、光学系の
コンパクト化によって装置の小型化を実現した真空チャ
ンバ用光学窓を提供することができる。
第１図は本発明になる真空チャンバ用光学窓の実施例を
示した図、 第２図は従来の真空チャンバ用観測窓の構成例を示した
図、 である。図において、 １は真空チャンバ、 ３はネジ、 ４はバッキング、 ５は光源、 ６はレーザ光、 ８は計数ディテクタ、１１．
１３は観測窓、 ｌｌａ、１３ａはガラス板、１１
ｂ、 １３ｂはフレネルレンズ、 １１ｃ、１３ｃは金属枠、 １２は集光レンズ、 をそれぞれ表わす。
示した図、 第２図は従来の真空チャンバ用観測窓の構成例を示した
図、 である。図において、 １は真空チャンバ、 ３はネジ、 ４はバッキング、 ５は光源、 ６はレーザ光、 ８は計数ディテクタ、１１．
１３は観測窓、 ｌｌａ、１３ａはガラス板、１１
ｂ、 １３ｂはフレネルレンズ、 １１ｃ、１３ｃは金属枠、 １２は集光レンズ、 をそれぞれ表わす。
Claims (2)
- （１）真空チャンバ壁面に装着する内部観察用観測窓の
少なくとも一面に、レンズ作用を備えた回折パターン板
を配設し、一体化してなることを特徴とする真空チャン
バ用光学窓。 - （２）真空チャンバ壁面に装着する内部観察用観測窓の
少なくとも一面に、レンズ作用を備えた回折パターン板
を傾けた状態に配設し、一体化してなることを特徴とす
る真空チャンバ用光学窓。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63007720A JPH01183122A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 真空チャンバ用光学窓 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63007720A JPH01183122A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 真空チャンバ用光学窓 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01183122A true JPH01183122A (ja) | 1989-07-20 |
Family
ID=11673565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63007720A Pending JPH01183122A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 真空チャンバ用光学窓 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01183122A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001024255A3 (en) * | 1999-09-30 | 2001-12-20 | Lam Res Corp | Interferometric method for endpointing plasma etch processes |
| KR100524913B1 (ko) * | 1998-10-30 | 2005-12-21 | 삼성전자주식회사 | 이물 부착 방지용 자계 발생 수단을 갖춘 반도체 제조 장치 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5337092B2 (ja) * | 1973-10-27 | 1978-10-06 | ||
| JPS564459A (en) * | 1979-06-26 | 1981-01-17 | Tokyo Sheet Kk | Bark material for sheet |
| JPS5967231U (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-07 | 東レ株式会社 | 透湿防水布帛 |
| JPS6164447A (ja) * | 1984-09-07 | 1986-04-02 | 帝人株式会社 | 積層体 |
| JPS6189374A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-07 | 平岡織染株式会社 | 防水シ−トの製造方法 |
-
1988
- 1988-01-18 JP JP63007720A patent/JPH01183122A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5337092B2 (ja) * | 1973-10-27 | 1978-10-06 | ||
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100524913B1 (ko) * | 1998-10-30 | 2005-12-21 | 삼성전자주식회사 | 이물 부착 방지용 자계 발생 수단을 갖춘 반도체 제조 장치 |
| WO2001024255A3 (en) * | 1999-09-30 | 2001-12-20 | Lam Res Corp | Interferometric method for endpointing plasma etch processes |
| US6400458B1 (en) | 1999-09-30 | 2002-06-04 | Lam Research Corporation | Interferometric method for endpointing plasma etch processes |
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