JPH01159093A - 有機汚染物質の処理方法 - Google Patents

有機汚染物質の処理方法

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JPH01159093A
JPH01159093A JP63226323A JP22632388A JPH01159093A JP H01159093 A JPH01159093 A JP H01159093A JP 63226323 A JP63226323 A JP 63226323A JP 22632388 A JP22632388 A JP 22632388A JP H01159093 A JPH01159093 A JP H01159093A
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perfluorinated
waste
contaminant
solid
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R D Samuel Stevens
アール．ディー．サムエル　スチーブンス
Pauline M Brown
ポウリーン　マクラ　ブラウン
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Solarchem Enterprises Inc
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    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B09—DISPOSAL OF SOLID WASTE; RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09C—RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09C1/00—Reclamation of contaminated soil
    • B09C1/02—Extraction using liquids, e.g. washing, leaching, flotation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/26—Treatment of water, waste water, or sewage by extraction
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背県 本発明は、廃水、土壌、沈殿物および汚泥のような液相
または固相廃棄物から有機汚染物質を取り除きかつ分解
さゼるための方法に関る、。さらに詳細には、発明−明
は有機汚染物質を溶媒抽出技術により取り除き、そして
その汚染物質を光崩壊技術により分解させるための方法
に関る、。
廃水および汚染された土壌または固形物は常に増加る、
量で存在る、。例えば、化学薬品製造業者、パルプおよ
び紙工場、石油私製工場および下水処理工場などは有毒
および有害な有機汚染物質を含有る、廃水を生み出す。
汚染された土壌と沈殿物は、例えば、地下の貯蔵タンク
およびバイブラインからの遇発的なこぼれまたは漏れよ
り、ならびに地上の製造工場と輸送事故から発生る、。
また、貯蔵用ドラム缶に入った産業廃棄物を含む埋立地
または廃棄場は漏れのため汚染土壌を生成る、。これら
の場合に、汚染物質はまた土壌ｊ３よび沈殿物を通って
しみ出して地下水面および帯水層を汚染る、こともあり
得る。
汚染された液相廃棄物、通常は汚染された地下水または
廃水のための既知の処理方法は活性炭吸収、焼却、充填
層エアレーションおよび化学処理（オゾンまたはオゾン
／紫外線照射処理を含む）などである。多くの場合に、
汚染物質は単に一つの媒体から他の媒体へと移転される
に過ぎず、そして環境から取り去りまたは除かれない。
活性炭吸収は活性炭がその吸収容迅に達したとき取り替
えるかまたは活性炭を再生しなければならない不利な点
を有る、。化学処理は広範な種類の有機汚染物質に対し
て利用できず、またコストが高過ぎて使用できないこと
がある。また、多くの場合に、オゾンまたはオゾン／紫
外線照射技術は廃水に直接実施されると余りにコストが
高くつくか、またはその水の中の多聞の他の化合物が、
除去の対象となった特定の有毒な有機汚染物質の光崩壊
を妨害る、ことがあり得る。焼却は非常に濃縮された廃
棄物に対してはコスト効果があるだけであって、しばし
ば大気中へ汚染物放出をもたらす。充填層エアレーショ
ンは高度に揮発性の汚染物質に対して効果があるに過ぎ
ない。
土壌、沈殿物または汚泥のために利用できる処理法に含
まれるものは焼却、熱分解、ＫＰＥＧまたはＡＰＥＧの
ような試薬による塩素化化合物のための求核的置換、特
定の汚染物質の溶媒抽出とそれに続く活性炭吸収または
焼却、超臨界酸化、Ｊ３よび現場ガラス化などである。
そのような処理はコストが高く、そしである場合（例え
ば、ＫＰＥＧ試薬のような場合）には一つの特定の種類
の化合物に限定される。その他の処理は二次的廃棄物処
理問題をもたらす。
多数の特定の提案された廃棄物処理方法を検討る、と多
くの廃棄物処理技術に限界と短所のあることが例証され
る。Ｈ，Ｐａｔ　ＥＳＤＯ３ｉｔＯによる論文「ジオキ
シン廃棄物のための処理技術」、Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ
ｓ　ｏｒ　ｔｈｅ　Ｎａｔｉｏｎａｌ　Ｃｏｎｆｅｒｅ
ｎｃｅ　ｏｆＨａｚａｒｄｏｕｓ　Ｗａｓｔｅｓ　　ａ
ｎｄ　　１ｌａｚａｒｄｏｕｓ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ。
Ｗａｓｈｉｎｑｔｏｎ口、Ｃ，、Ｍａｒｃｈ　１９７８
ニハ、ジオキシン廃棄物のためのいろいろな処理技術が
考察されている。５ｙｎｔｅｘ　Ａｇｒｉｂｕｓｉｎｅ
ｓｓ　ａｎｄ　ＩＴＥｎｖｉｒｏｓｃｉｅｎｃｅにより
開発されたあるシステムは溶媒抽出と光分解を利用る、
。ジオキシンはへキサン溶媒によりスラッジから抽出さ
れ、次にその抽出物は紫外光で照射される。そのような
方法の主な不利は、溶媒の組成が炭化水素であるので、
溶媒自身が目的のジオキシン汚染物質と共に光崩壊を受
け、それにより溶媒コストの増加と光分解工程の効率の
低下を招くことである。
ＰＣＢにより汚染された土壌を処理る、ため提案された
方法が、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｃｏｎ０ｒｅｓ
ｓ　Ｏｎ＋１ａＺａｒｄｏｔｌｓ　Ｍａｔｅｒｉａｌ　
Ｈａｎａｇｅｌｅｎｔ、ＣｈａｔｔａｎＯＯＯａ、ＴＮ
。
１９８７年６月におけるー、５ｔｅｉｎｅｒらの講演［
汚染された沈殿物および汚泥からＰＣＢを抽出る、ため
の低エネルギー処理技術］に述べられた。この方法は土
壌のような固形物からＰＣＢをアセトンのような親水性
溶媒で浸出させ、ケロシンのような疎水性溶媒へＰＣＢ
を転移かつ濃縮し、そしてその溶媒の流れの中のＰＣＢ
を公知の化学的手段（例えば、ＫＰＥＧ試Ｓ）によるか
または焼却によるかいずれかで破壊る、ことを内容とし
ている。破壊段階にお番プる溶媒の損失のため、この方
法は汚染物質が溶媒中に濃縮されている場合にのみコス
ト効果があるに過ぎない。
濃縮された右ｌｊ１廃水はまた高温酸化技術によっても
処理る、ことができる。一つのそのような方法がり、　
Ｂｈａｔｔａｃｈａｒｙｙａらによる論文［二相ｉＭ７
”／化炭化水素−水系内にＪ３ける有害有機物の酸化」
、１１ａｚａｒｄｏｕｓ　１４ａｓｔｅ　＆　Ｈａｚａ
ｒｄｏｕｓ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ、Ｖｏｌ、３゜１９８
６．４０５−４２７に記載されている。この方法では、
二相すなわち、有機溶質を含む水の相および酸素により
あらかじめ飽和されている無極、不活性有機過フッ化炭
化水素相の中での汚染物質の湿式空気酸化が提案されて
いる。一般に、湿式空気酸化技術は濃縮された汚染物質
および高い温度と圧力を必要とる、不利を受ける。
したがって、上記の難点を克服して固相または液相廃棄
物から有毒または有害な有機汚染物質を除去しかつ破壊
る、ための方法が要望されている。
特に、要求されている・方法は、高価な溶媒の消耗また
は破壊、あるいは焼却、高温酸化、または汚染物質破壊
段階における高価な化学試薬などの使用が避けられる方
法、および二次的廃棄物処理問題の重要な原因とならな
い方法、また汚染物質の現場での破壊を可能にる、方法
などである。
発明の要約 本発明は、光崩壊させることのできる有機汚染物質を含
む液相または固相の廃棄物を処理る、ための方法であっ
て、前記廃棄物を過フッ化溶媒と接触させて汚染物質を
抽出し、その後に汚染物質を含む過フッ化溶媒を紫外光
で照射る、方法を提供る、。
本発明の方法は、過フッ化溶媒が汚染物質の崩壊段階に
対して不活性であり、したがって回収されかつ再循環る
、ことができるので、従来の技術の不利な点の多くを克
服る、。さらにまた、過）ッ化溶媒の疎水性はそれを多
くの有機汚染物質のため望ましい溶媒抽出剤にる、。こ
の溶媒の疎水性はまた処理工程がまず有償汚染物質を固
体または液体の廃棄物から親水性溶媒中へ抽出し、次に
その汚染物質を光崩壊の前に過フッ化溶媒に転移させる
ことにより実施されることを可能にる、。
この方法で、親水性のかつしばしばより安価な溶媒に対
してより良い抽出効率を示す汚染物質は廃棄物から除去
されるが、親水性溶媒は光崩壊段階において分解される
ことなく回収されてから再循１票されることができる。
本発明の方法の一つの好ましい態様において、例えばオ
ゾン、過酸化水素、次亜塩素酸塩、最も好ましくはオゾ
ン、のような光酸化剤が、汚染物質を含有る、過フッ化
溶媒に添加されて、光崩壊段階を促進る、。光酸化剤は
、紫外線照射の下にその酸化電位を増加させるかまたは
池の酸化性化学種を生成し、それにより汚染物質の光崩
壊〈この場合では、光酸化）を促進る、酸化剤である。
多数の有毒また有害な有機汚染物質を、それらの大抵の
ものが光崩壊させられるので、この方法により除去しか
つ分解させることができる。この明ｍｓおよび特許請求
の範囲において使用されるときの用語「光崩壊」とは有
機汚染物質の紫外光によるその一次的成分への分解、通
常は水と二酸化炭素への分解、または汚染物質が塩素、
窒素または硫黄を含む場合には、塩酸、硝酸および硫酸
への分解、のことである。用語「光崩壊」はまた、汚染
物質を含む溶媒中に存在る、ことのあるいくらかの酸素
および／または空気の結果として起る有機汚染物質の酸
化をも包含る、ことは理解されるであろう。この方法に
より実証された石刷汚染物質の部類に含まれるものは芳
香族、塩素化炭化水素、塩素化芳香族、ポリ塩素化ビフ
ェニル、ポリ芳香族、ガソリンまたは石油燃料留分の代
表的アルカンおよびニトロ芳香族などである。汚染物質
の光崩壊される性能は紫外スペクトルにより決定る、こ
とができる。
好ましい実施態様の詳細な説明 一般に、固相または液相の廃棄物が本発明の方法により
処理される。最もしばしば、地下貯蔵タンクおよび産業
廃棄場からの漏れまたはこばれから生ずる汚染された土
壌および水を廃棄物は含む。そのような廃棄物の代表的
光崩壊性有機汚染物質の例に含まれるものは、ベンズア
ントラセン、クロロナフタレン、クレゾール、クリセン
、２゜４Ｄ、ジクロロベンゼン、ジニトロベンゼン、ジ
オキサン、エビクロロヒドリン、フルオランテン、メチ
ルエチルケトン、ニトロフェノール、ニトロプロパン、
Ｏ−クロロフェノール、ＰＣＢ（＾ｒｏｃｈｌｏｒｓ　
）　、フェノール、プロピレンジクロリド、２．４．５
Ｔ、テトラクロロエチレン、トルエン、トリクロロエタ
ン、トリクロロエチレン、ビニリデンクロリドおよびキ
シレンなどである。
この方法に従って、同相または液相の廃棄物は過フッ化
溶媒と接触させられて、廃棄物から汚染物質を抽出され
る。次に、廃棄物中のその伯の有機成分が光崩壊段階を
妨害しないように、廃棄物の残部が除去される。そのよ
うな妨害は、その他の成分自身が紫外光を吸収る、ため
か、またはぞれらが主要な遊１１３と望ましからぬ反応
を起して光崩壊の効果を減少させるから起り得るのであ
る。
汚染物質を含む過フッ化溶媒は次に紫外光で照射されて
汚染物質を光崩壊させる。汚染物質に関連して、光崩壊
段階の生成物は次のようなものになる。
汚染物質の種類　　　光崩壊生成物 炭化水素　　　　　ＣＯ２、Ｈ２゜ 塩素化炭化水素　　Ｇｏ　　１ＨＯ，ＣＩ−有機窒素化
合物　　ＧＯ、ＨＯ，Ｎｏ３−有機硫黄化合物　　ＧＯ
、ＨＯ，ＳＯ２”発明者らが発見した過フッ化溶媒はい
くつもの理由のため有機汚染物質の光崩壊に有利に使用
される。重要なことに、それらは関係ある紫外領域にお
いて光学的に透明である。大抵の汚染物質は１８０−４
００ｒｖ領域で吸収る、。また、これらの溶媒は光分解
の際に発生る、強力な酸化性物質（例えば、ヒドロキシ
ルまたはＯ（３Ｐ）ラジカル）のいずれによっても著し
い攻撃を受けない。
さらに、それらの溶媒は化学的に不活性でありかつ水と
混和しない。復音の特性は、後記のように、汚染物質を
含む過フッ化溶媒の、水および／または親水性溶媒相か
らの相分離を可能にる、。過フッ化溶媒はその伯の溶媒
よりも高価であるが、本方法の光崩壊段階における使用
はその溶媒の回収と再循環を妨げず、そしてそれらの溶
媒を本方法においてコスト効果あるものとる、。
本発明の方法は次の特に好まれる過フッ化溶媒、すなわ
ち、ペルフルオロデカリン、ペルフルオロオクタン ン、ペルフルオロブチルテトラヒドロフラン、Ａｆｌｕ
ｍｏｘ　６　０　６およびＦＣ−７７の例により実証さ
れた。これらの溶媒のうち最後の二つは過フッ化溶媒の
専売混合物であって、ｗＸ１表に示される一般分析値を
有る、。
第１表 熱伝導率、２５℃（―／１Ｋ）　　　　　　　０．　０
００６３★水の溶解度ＤＥ）ＩＩＩ（Ｗｔ）　　　　　
　　　　１３　　　　　　無視できる空気の溶解度　ｄ
ガス／１０ｏＩｌ！ｉ！液　　４１平均分子吊　　　　
　　　　　　　　４１５　　　　　　２１００化学名／
別名　　　　ＦＩＩＪＯｒｉｎｅｒｔ　　　　　　　　
　オキシラン、Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　　　　　　　　
　ト’Ｊ７ｊＬｚオロー１、ｉｑｕｉｄ　　　　　　　
　　　　　（　トリフルオロメチル）−、ホモポリマー 製造者　　　　　　　　　１２ ★　推定値 １　　３Ｍ　Ｃｏｍｍｅｒｃｉａｌ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ
ｓ　Ｄｉｖｉｓｉｏｎ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｈｉｎｎｅｓ
ｏｔａの商品名２　　ＳＣＭＳｐｅｃｉａｌｔｙＣｈｃ
ｍｉｃａｌｓ，Ｇａｉｎｓｖｉｌｌｅ，Ｆｌｏｒｉｄａ
の商品名光崩壊工程は紫外光を使用る、が、それは通常
１８０〜４　０　０　ｎｍの出力を有る、ランプからの
紫外光であって、大抵の有機汚染物質は４００ｎＩ１１
以下で光崩壊させられるからである。高圧または低圧水
銀灯、ハロゲン化金属ランプおよびキセノンランプがそ
の代表的な例である。４５０Ｈ〜４５０に賀の入力のも
のが一般に使用される。
大抵の汚染物質について、光崩壊工程のコスト効率は光
酸化剤を添加る、ことにより改良る、ことができる。オ
ゾンは最も好まれる光酸化剤であり、過酸化水素、次亜
塩素酸塩または二酸化塩素はその伯の代表的光酸化剤で
ある。オゾンは汚染物質を含有る、過フッ化溶媒に、イ
ンラインミキサーまたはスパージャ−のような装置によ
り加えられる。過フッ化溶媒中１０〜１　０　０　ｐｐ
ｍのオゾン濃度が通常適当である。
ある廃棄物によっては、特に多くの固相廃棄物の場合に
は、若干の汚染物質についての抽出効率が過フッ化溶媒
による場合よりも親水性溶媒および／または水による方
がしばしば良い。したがつて、本発明の方法が固体廃棄
物、例えば、汚染された土壌、沈殿物および汚泥などと
共に実施される場合には、廃棄物はまず親水性溶媒およ
び／または水と接触させられる。フェノール、クレゾー
ルおよびオルトクロロフェノールのような水溶性汚染物
質は水だけで抽出る、ことができる。その伯の有機汚染
物質は通常アセトン、メタノール、イソプロパツールま
たはその他のアルコール、アセトニトリルまたはジメチ
ルスルホキシドなどの親水性溶媒により抽出される。ア
セトンとメタノールは一般に最も好まれる溶媒である。
水は、もしそれが抽出効率を向上る、場合には、加えら
れることがあり得る。
残りの固体廃棄物は取り除かれ、汚染物質を含む親水性
溶媒および／または水は次に過フッ化溶媒と接触させら
れて、汚染物質を後者の溶媒に転移さぼる。水がそれま
で存在しない場合には、過フッ化溶媒への転移効率を改
良る、ために水を加えることができる。水はその混合物
中の汚染物質の溶解度を減少させて、過フッ化ｍｔｓへ
の物質移動効率を増加させる役割をる、。
この段階において、二つの相が存在し、一つの相は親水
性溶媒と存在る、若干の水から成り、伯の相は有機汚染
物質を含有る、過フッ化溶媒から成る。これらの相は分
離され、そして過フッ化溶媒相は汚染物質を破壊る、光
崩壊工程にかけられる。
本発明の方法が汚染された土壌と共に実施される場合の
作業を添付の図面を参照して説明しよう。
第１図に示されるように、本方法は三つの主要段階を含
む。すなわち、土壌の汚染除去段階、溶媒転移段階およ
び光崩壊段階である。これら三段階のそれぞれが第２．
３および４図により訂細に示されている。
第１の土壌汚染除去段階（第２図）において、土壌は粉
砕機１０の中で粉砕され、次に溶媒槽１１からの親水性
溶媒および／または水を混合機１２の中で接触させられ
る。混合機中で音波処理を行うと汚染物の可溶化を促進
る、ので好ましい。
その混合物は次にフィルター１４へ移動される。
土壌は乾燥されてから土地に返されるが、濾液は蒸発器
１６中で濃縮され、そして次の段階（第３図）へ移動さ
れる前に再濾過される。
溶媒転移段階は液−液抽出装置から成り、その装置は、
例えば、パルスを与えられる向流抽出塔１８を含む。こ
の塔は前の段階からの濾過された親水性溶媒抽出液およ
び溶媒槽２０からの過フッ化溶媒を受は入れる。水もま
た水槽２２から加えられることもある。汚染物質は一度
過フツ化溶媒に抽出されてから、その段階で取り出され
て光崩壊段階（第４図）へ移される。親水性溶媒は添加
された若干の水と共に蒸留装置２４へ分離のために移動
される。親水性溶媒は土壌汚染除去段階へ再循環される
が、水は僅少の有機汚染物質を含みながら光崩壊段階へ
移されて、残りの汚染物質を破壊されてから後に初めの
二段階へ送られる。
第４図の光崩壊段階はそれぞれ過フッ化容媒用と汚染水
用の二つの管路２６と２８を含む。それらの管路は光崩
壊反応器３０．３２へと導く。前記反応器は高強度紫外
線ランプを備えつけた環状の石英光反応管から成ってい
る。オゾンはインラインミキサー（図示されていない）
を通って各管路２６と２８の中に光酸化剤として添加さ
れる。
過フッ化溶媒はスクラバー３４を通過して光崩壊の酸性
生成物（存在る、場合に）を除去された後に第２段階へ
再循環される。汚染除去された水は本方法の初めの二段
階へ再循環される。残留オゾンはすべてオゾン破壊装置
３６の中で分解される。
前記装置はオゾン分解触媒（例えば、金属酸化物触媒）
またはオゾン吸着剤（例えば、活性炭）を内蔵している
。本方法の過程から排出される空気は分解生成物の二酸
化炭素を含むことになる。分解の際に生成る、水は、転
移工程を妨害しないしまた平衡に達る、であろうから、
過フッ化溶媒と共に再循環させることができる。
本発明の方法の実施可能なことを証明る、ために、次の
実施例を説明に含める。
実施例１ 本発明の方法をＰＣＢ汚染土壌により実験した。
土壌の汚染除去段階は、１０びの土壌をアセトンと１：
２−３の比率（重量比）に接触させることにより行われ
た。一般に、実際の場合、１ＴｒＬ３の土壌が１バツチ
に処理されよう。この接触工程は、３．ＯＯＯｐｐｍま
でのＰＣＢを含む土壌から９９．９９％のＰＣＢを除去
る、ために３回まで繰返された。すべての抽出液をまと
めて一緒に処理した。抽出液の総容量は通常１Ｏ−３０
７ＦＬ３になるであろう。アセトン／水混合物は３分の
１に濃縮された。蒸発されたアセトンは再循環された。
（残留る、アセトンに比較して）２〜３倍容量の水が濃
縮されたＰＣＢ溶液に加えられた。等容量のＦＣ−７７
過フツ化溶媒（アセトンに比較して、また通常は３−１
０？ＦＬ３のＦＣ−７７になるであろう）がＰＣＢをア
セトン／水の相からＦＣ−７７へ転移させるために加え
られた。ＦＣ−７７相中のＰＣＢは分離されてから、次
に高圧水銀灯（出力１ｌ８０−１４０ｎ、入力１時間当
り４５０賛）により照射された。実際には２０ｋＷラン
プが１６〜２０時間使用されるであろう。照射の前にイ
ンラインミキサーを通してオゾンが添加された。
２　Ｑ　−５０１）ｒｌｍのオゾン濃度が用いられた。
アセトン／水の相を分離してから、水は残留ＰＣＢを分
解る、ために過フッ化溶媒と同じ方法で処理された。照
射の後、９５％のＰＣＢは分解されていた。より高い分
解効率を得るために、より長い照射時間、より高いラン
プ出力およびより高いオゾン濃度が用いられた。本方法
におけるＦＣ−７７の再循環のためには９５％のＰＣＢ
分解で十分なことが判った。
実施例２ この実施例は、汚染された表土に対る、２１！の親水性
溶媒、アセトンと水、および過フッ化溶媒、ＦＣ−７７
、の抽出効率を明示る、ことを含む。
前記の土壌は５０％の水分といろいろな汚染物質を含ん
でいるが、約１００　ｐａＩＩｌの各汚染物質を含む土
壌の１０びにつき９０ｄの溶媒と接触る、ことにより汚
染除去された。抽出効率が７種の汚染物質について第２
表に示されている。
第２表 ナフタレン　　　　　　　芳香族　　　　　５６　　　
３１　　　　３８フルオレン　　　　　　　芳香族　　
　　１００　　　５１　　　　６９☆＾ｒｏｃｈｌｏｒ
　１２５４　　　　ＰＣＢ　　　　　１００　　２３　
　６１ジクロロベンゼン　　　　塩素化　　　　　８４
　　　７４　　　１０Ｇ芳香族 テトラクロロエチレン　　塩素化　　　　　８１　　　
４７　　　　５１炭化水素 デカン　　　　　　　　　ガソリン型　　　８８　　　
７１　　　　５Ｇアルカン キシレン　　　　　　　　芳香族　　　　　９２　　　
６１　　　　８２☆　Ｈｏｎ５ａｎｔＯより発売、約５
４％塩素含量の塩素化ビフェニル類の混合物。
平均０１７分子＝４．９６、密度１．４９５、蒸留範囲
３６５−３９０下。
より高い抽出効率のためには、より高い溶媒：土壌の比
率を用いることができるに れらの例は、大抵の汚染物質に関して土壌からの抽出効
率は親水性溶媒、特にアセトンに−よる場合の方が、過
フッ化溶媒による場合よりも良いことを実証している。
実施例３ この例は親水性溶媒および／または水から過フッ化溶媒
への転移効率を説明る、ためのものである。すべての抽
出は等古酒のＦＣ−７７と親水性溶媒により、溶媒中は
ぼ１００　ｐｐｍの汚染物質濃度で行なわれた。適用で
きる場合には、３部の水（親水性溶媒に基づき）が抽出
混合物に加えられた。その結果は下の第３表に、ＦＣ−
７７への汚染物質転移百分率として示されている。
第３表 メタノール　アセトン　メタノール／水　アセトン／水
　水汚染物質か　　らか　ら　１：３から　１：３から
か旦ナフタレン　　　３　　　　１　　　　　　７４　
　　　　　　６２　　　　／フルオレン　　　２　　　
　３　　　　　　７７　　　　　　　６４　　　　／Ａ
ｒｏｃｈｌｏｒ１２５４　　０　　　　０　　　　　　
８５　　　　　　　８８　　　１００ジクロロ− ベンゼン　　　６３６１　　　　　　　４９／テトラク
Ｏロー エチレン　　　／　　　　　／　　　　　　　／　　　
　　　　　８８　　　　／デカン　　　　／　　　　／
　　　　　　／　　　　　　　９８　　　　／キシレン
　　　　／／　　　　　　　／　　　　　　　　９４．
／／　測定されなかった これらの結果は、大抵の有機汚染物質について、親水性
溶媒から過フッ化溶媒への転移効率は水の添加または存
在により大いに改良されることを示す。水のみの中のＰ
ＣＢのような汚染物質については、初めの親水性溶媒の
抽出がなくても、優れた転移効率が直接に過フッ化溶媒
に対して達成される。
親水性溶媒／水の混合物から過フッ化溶媒への転移効率
を増加させるために、後者の容量を増加させるか、また
は添加される水の容量を増加させることができる。
実施例４ 広い範囲の過フッ化溶媒の適用可能性を例証る、ために
、２０ｐｐｍの２．４−ジニトロトルエンを含有る、水
の若干試料を過フッ化溶媒と（１部の水、１部の溶媒）
接触させた。その混合物を３０秒問振とうしてから、そ
の抽出効果を測定した。
その結果は下の第４表に示されている。
第　　４　　表 過フッ化溶媒の相対抽出効率 溶　　媒　　　　　　　　　抽出されたＤＮＴ％ベルフ
ルオＯデカリン　　　　　　　　５８ベルフルオＯオク
タン　　　　　　　　５２ベルフルオロメヂル　　　　
　　　　　５３シクロヘキサン ペルフルオロブチル　　　　　　　　　５６テトラヒド
ロフラン ＾ｆｌｕｎｏｘ　６０６　　　　　　　　　　　　３０
（水中で調整したエマルション） ＦＣ−７７５２ 実施例　５ この例はいろいろな汚染物質について、本発明方法の光
崩壊工程の分解効率を説明る、ためのらのである。ＦＣ
−７７中の汚染物質を高圧水銀灯（出力１８０−４０Ｏ
ｎｌｌ）で１５分間照射した。
また同じ汚染物質混合物を同じ条件の下であるが、２０
−４０１）Ｉ）Ｉｎのオゾン濃度で照射して、大抵の汚
染物質が光酸化剤により分解効率を増すことを実証した
。汚染物質の除去百分率が下の第５表に示されている。
第５表 ＦＣ−７７中の光分解 除去Ｘ 初めの　　　　　　　　　　　照ｅＡ後／化　合　物　
　　　　　　濃度（ｐ囲）　　　回用以　　オゾンナフ
タレン１０ｏ８１００ フルオレン　　　　　　　　　１００　　　　　　１６
　　　　１００・　＾ｒｏｃｈｌｏｒ　１２５４　　　
　　　　　８５　　　　　　２２　　　　　４５ジクロ
ロベンゼン　　　　　　１００　　　　　　６１　　　
　　５４テトラクロロ− ｘ　チＩ、ｔ　＞　　　　　　　　　　１００　　　　
　　９５　　　　　９５テｊＪン１００　　　　　　４
　　　　４７キシＩ、ｔン１００　　　　　１０　　　
　９３２．４−ジニト０− トルエン　　　　　　　　　６３　　　　　５６　　　
　１００より高い分解効率を得るために、より長い照射
時間、より高いランプ出力またより高いオゾン濃度を使
用る、ことができる。
上記に本発明方法の好ましい実施態様を述べたが、添付
の特許請求範囲に規定されるように、本発明の精神と範
囲を逸脱る、ことなく変更と変形がなされ得ることは理
解されるであうろ。
【図面の簡単な説明】
第１図は、汚染された土壌について実施δれるときの本
発明の方法の概要流れ図である。 第２図は、土壌が親水性溶媒と接触させられる工程の一
形式の流れ図である。 第３図は、汚染物質が過フッ化溶媒に抽出される工程の
一形式の流れ図である。 第４図は、光酸化剤としてオゾンを使用る、光崩壊工程
の一形式の流れ図である。

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）光崩壊させることのできる有機汚染物質を含む固
    体または液体相の廃棄物を処理する方法であつて、固体
    または液体相の廃棄物を過フッ化溶媒と接触させて汚染
    物質を過フッ化溶媒中に抽出する工程、および汚染物質
    を含む過フッ化炭化水素溶媒を約１８０〜４００ｎｍの
    範囲内のいずれかの波長の紫外光で照射して汚染物質を
    光崩壊させる工程から成る、前記の処理方法。
  2. （２）まず汚染物質を含む廃棄物を親水性の溶媒と接触
    させて汚染物質を親水性溶媒中に抽出する工程、処理さ
    れる廃棄物が固体である場合には、固形物から親水性溶
    媒を分離させる工程、前記汚染物質を含む親水性溶媒を
    過フッ化溶媒と接触させて汚染物質を過フッ化溶媒中に
    抽出する工程、および光崩壊工程の前に前記汚染物質を
    含む過フッ化溶媒より親水性溶媒を除去する工程をさら
    に含む、請求項１記載の方法。
  3. （３）廃棄物が固体であり、そしてそれを処理する方法
    が、まず前記固体廃棄物を親水性溶媒または水のいずれ
    か一つまたは両者と接触させて汚染物質を抽出する工程
    、その汚染物質を含む親水性溶媒または水から固形物を
    分離する工程、汚染物質を含む親水性溶媒または水を過
    フッ化溶媒と接触させて汚染物質を過フッ化溶媒中に抽
    出する工程、および光崩壊工程の前に前記汚染物質を含
    む過フッ化溶媒より親水性溶媒を除去する工程をさらに
    含む、請求項１記載の方法。
  4. （４）廃棄物が水性廃棄物である、請求項１記載の方法
    。
  5. （５）固体廃棄物を第１工程において親水性溶媒とまず
    接触させる、請求項３記載の方法。
  6. （６）汚染物質を抽出するとき、汚染物質の過フッ化溶
    媒中への転移効率を改良するために過フッ化溶媒へ水を
    加え、そして光崩壊工程の前に汚染物質を含む過フッ化
    溶媒から親水性溶媒および水を除去する、請求項５記載
    の方法。
  7. （７）汚染物質を含む過フッ化溶媒に光酸化剤を添加す
    る、請求項１、２または３に記載の方法。
  8. （８）汚染物質を含む過フッ化溶媒に光酸化剤を添加す
    る、請求項４記載の方法。
  9. （９）汚染物質を含む過フッ化溶媒に光酸化剤を添加す
    る、請求項６記載の方法。
  10. （１０）光酸化剤がオゾンである、請求項８記載の方法
    。
  11. （１１）光酸化剤がオゾンである、請求項９記載の方法
    。
  12. （１２）親水性溶媒がアセトンまたはメタノールである
    、請求項２、３または５に記載の方法。
  13. （１３）親水性溶媒がアセトンまたはメタノールである
    、請求項１１記載の方法。
  14. （１４）固体廃棄物が土壌、沈殿物または汚泥である、
    請求項１、２または３に記載の方法。
  15. （１５）固体廃棄物が土壌、沈殿物または汚泥である、
    請求項１３記載の方法。
  16. （１６）汚染物質が芳香族、アルカン、塩素化炭化水素
    、塩素化芳香族、ポリ塩素化ビフェニル、ポリ芳香族お
    よびニトロ芳香族化合物の中の一つまたそれより多くで
    ある、請求項１、２または３に記載の方法。
  17. （１７）過フッ化溶媒がペルフルオロデカリン、ペルフ
    ルオロオクタン、ペルフルオロメチルシクロヘキサン、
    ペルフルオロブチルテトラヒドロフラン、ＦＣ−７７お
    よびＡｆｌｕｎｏｘの中の一つまたはそれより多くであ
    る、請求項１、２または３に記載の方法。
  18. （１８）過フッ化溶媒がペルフルオロデカリン、ペルフ
    ルオロオクタン、ペルフルオロメチルシクロヘキサン、
    ペルフルオロブチルテトラヒドロフタン、ＦＣ−７７お
    よびＡｆｌｕｎｏｘの中の一つまたはそれより多くであ
    る、請求項１０記載の方法。
  19. （１９）過フッ化溶媒がペルフルオロデカリン、ペンフ
    ルオロオクタン、ペルフルオロメチルシクロヘキサン、
    ペルフルオロブチルテトラヒドロフラン、ＦＣ−７７お
    よびＡｆｌｕｎｏｘの中の一つまたはそれより多くであ
    る、請求項１３記載の方法。
  20. （２０）汚染物質がナフタレン、フルオレン、ポリ塩素
    化ビフェニル、ジクロロベンゼン、テトラクロロエチレ
    ン、デカン、キシレンおよび２，４−ジニトロトルエン
    のの中の一つまたはそれより多くである、請求項１８ま
    たは１９に記載の方法。
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