JPH01153598A - 単結晶製造装置 - Google Patents

単結晶製造装置

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JPH01153598A
JPH01153598A JP31133687A JP31133687A JPH01153598A JP H01153598 A JPH01153598 A JP H01153598A JP 31133687 A JP31133687 A JP 31133687A JP 31133687 A JP31133687 A JP 31133687A JP H01153598 A JPH01153598 A JP H01153598A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
volatile element
single crystal
volatile
container
pulling shaft
Prior art date
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Pending
Application number
JP31133687A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Nakagawa
中川 正広
Masami Tatsumi
雅美 龍見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Publication of JPH01153598A publication Critical patent/JPH01153598A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、揮発性元素を成分として有する化合物の単
結晶をチョクラルスキ法で製造するための装置に関する
ものである。
[従来の技術] 揮発性元素を成分として有する化合物の単結晶をチョク
ラルスキ法で製造しようとする場合、種結晶や引上げた
単結晶から揮発性元素が蒸発してしまうという問題を生
じる。種結晶から揮発性元素が蒸発すると、種結晶が細
くなり、折損等を生じる。また、引上げた単結晶から揮
発性元素が蒸発すると、双晶等の欠陥の発生の原因とな
る。
このような揮発性元素の蒸発を抑制するため、たとえば
特開昭60−11299号や特公昭60−41639号
では、揮発性元素の雰囲気下で単結晶を引上げている。
第2図は、特開昭60−11299号や本願発明者等に
よる特願昭62−109575号などに開示される単結
晶製造装置を示す断面図である。
サセプタ32の中央には、るっぽ31が収められている
。るつぼ31内には融液10が入れられており、該融液
10の上には液体封止剤9の層が設けられている。この
るつぼ31のまわりのサセプタ32には、環状のるつぼ
が形成されており、この中には液体封止剤9が入れられ
ている。この環状るつぼ内の液体封止剤に、ベッセル2
7の端縁が浸されている。溶融した液体封止剤中iこベ
ッセル27の端縁が浸されることにより、ベッセル27
およびサセプタ32から構成される密閉容器内の密閉性
が保たれている。
ベッセル27の上方には開口が形成され、この開口は、
上方に向かって拡がる漏斗状の受皿を形成している。こ
の開口には引上軸21が通されており、この開口の漏斗
状の受皿に液体封止剤9を入れることにより、密閉容器
内の密閉性が保たれている。
引上軸21の先端には種結晶26が取付けられている。
ベッセル27の側壁には、単結晶の引上状態を観察する
ための覗き窓28が設けられている。ベッセル27の側
壁の内側には棚23が設けられており、この棚23に揮
発性元素2が入れられている。
単結晶の引上は、引上軸21を下方に移動させ、種結晶
26を融液10に浸け、引上げるとにより行なわれる。
この際、サセプタ32は、その底部に取付けられた下軸
33により回転する。
密閉容器内には上方に向かって徐々に低下するような温
度勾配が存在し、棚23内の揮発性元素2は、その位置
に対応した温度まで加温されている。この加温により揮
発性元素2は蒸発し、単結晶引上の雰囲気を揮発性元素
の雰囲気にしている。
第3図は、特公昭60−41639号などに開示されて
いる従来の単結晶製造装置を示す断面図である。
第3図において、第2図と同一符号を付した部分は、相
当部分を示すので、説明を省略する。第3図において、
ベッセル27の内側の側壁には棚が形成されていない。
これに代わり、ベッセル27の上方に揮発性元素収容容
器43が設けられている。この揮発性元素収容容器43
内には揮発性元素2が入れられており、揮発性元素収容
容器43は、蒸気通路44によりベッセル27の内部に
接続されている。
揮発性元素収容容器43のまわりにはヒータ49が設け
られており、このヒータ49で揮発性元素収容容器43
を加熱することにより、内部の揮発性元素2が加熱され
、揮発性元素の蒸気が発生する。この蒸気は蒸気通路4
4を通り、蒸気出口45からベッセル27に供給される
。この供給された揮発性元素の蒸気により、単結晶の引
上をき揮発性元素の雰囲気下で引上げることができる。
[発明が解決しようとする問題点コ しかしながら、第2図に示す従来の装置では、揮発性元
素の固体が比較的低温で蒸発しやすいことから、封止剤
が溶融して十分に容器内が密閉されるようになるまでの
間に、揮発性元素が蒸発してしまい、蒸気が容器外に漏
れ出たり、あるいは容器内を十分に揮発性元素の雰囲気
にすることができないという問題があった。
また、第3図に示す従来の装置では、上記の問題を生じ
ないものの、別体の揮発性元素収容容器を必要とするた
め、装置全体が大型化し、複雑になるという問題を生じ
た。
この発明の目的は、比較的簡易な構造で、揮発性元素の
蒸気が漏れ出すことのない単結晶製造装置を提供するこ
とにある。
[問題点を解決するための手段] この発明の単結晶製造装置では、封止剤によって密閉さ
れる密閉容器と、密閉容器内に設けられる前記化合物の
融液を入れるためのるつぼと、るつぼ内の融液から単結
晶を引上げるための種結晶が取付けられる引上軸と、密
閉容器内に揮発性元素の蒸気を供給するための揮発性元
素収容容器とを備え、揮発性元素収容容器が引上軸の内
部に形成されて、揮発性元素の蒸気が引上軸の内部を通
り密閉容器内に供給されることを特徴としている。
この発明の製造装置が適用される単結晶としては、たと
えばQaAsおよびInPなどのような■−v族化合物
、ならびにZnSおよびCdTeなどのようなII−V
I族化合物等が挙げられる。
[作用〕 この発明の製造装置では、揮発性元素収容容器が引上軸
の内部に形成されているため、装置全体の大きさを大き
くすることなく、揮発性元素収容容器を設けることがで
きる。また、揮発性元素が密閉容器内の雰囲気ガスとは
直接に接しないので、封止剤が溶融する前に揮発性元素
が多量に蒸発してしまうということはない。
[実施例コ 第1図は、この発明の一実施例を示す断面図である。サ
セプタ12の中央部にはるつぼ11が設けられており、
このるつぼ11内には融液10が入れられている。融液
10の上には封止剤9の層が形成されている。るつぼ1
1のまわりにはサセプタ12の環状の溝が形成されてお
り、この溝には封止剤9が入れられている。ベッセル7
の下方端縁はこの環状の溝の液体封止剤9中に浸されて
いる。また、サセプタ12の底部には下軸13が取付け
られている。
ベッセル7の上方には開口が形成され、この開口に引上
軸1が通されている。ベッセル7上方の開口はさらに上
側に向かって広がるようにして延び漏斗状の受皿を形成
している。この受皿には液体封止剤9が入れられている
。引上軸1内は空洞が形成されており、この空洞の途中
の部分に綱部3aが形成され、揮発性元素収容容器3が
形成されている。この揮発性元素収容容器3には、揮発
性元素2が収容されている。引上軸1の先端部分では内
部の空洞が外部と通じる蒸気出口5が形成されている。
揮発性元素収容容器3のまわりには、揮発性元素2を加
熱するためのヒータ16が設けられている。
引上軸1の先端には種結晶6が取付けられている。また
、ベッセル7の側壁には、単結晶引上状態を観察するた
めの覗き窓8が設けられている。
単結晶引上の際、ヒータ16により揮発性元素収容容器
3内の揮発性元素2は加熱され、蒸発する。この蒸発し
た蒸気は引上軸1内部の蒸気通路4を通り、蒸気出口5
から、ベッセル7内に供給される。これにより、単結晶
引上の雰囲気を揮発性元素雰囲気とすることができ、種
結晶6や引上げた種結晶からの揮発性元素の蒸発を抑制
することができる。また、融液10からの揮発性元素の
蒸発をも抑制することができる。
また、図示していないが、引上軸lの上部に重量センサ
を設け、この重量センサにより揮発性元素収容容器の揮
発元素の重量減少を検知することもできる。このように
して得られた揮発性元素のff1ffi減少から、ベッ
セル7およびサセプタ12から構成される密閉容器内へ
の揮発性元素の蒸気の供給量を算出することができ、こ
れに応じてヒータ16の加熱を調整して、揮発性元素の
蒸気の供給量を制御することもできる。
なお、第1図に示す実施例の装置は、第3図に示す従来
の装置の65%の体積となった。
また、従来の第2図の装置を用いて、液体封止剤として
B2O3を用い、InPを成長させたところ、揮発性元
素であるリンが密閉容器の外に漏れ出た。これに対し、
第1図に示す実施例の装置の場合は、全くリンが外部に
漏れ出ることはなかった。
[発明の効果] この発明の単結晶製造装置は、揮発性元素収容容器が引
上軸の内部に形成されているため、従来の製造装置のよ
うに大型化することはない。また、第2図に示す従来の
装置のように、ベッセル内に揮発性元素が配置されてい
ないので、封止剤が溶融して十分な密閉性を達成するま
でに揮発性元素が蒸発してしまうということがなく、し
たがって揮発性元素が密閉容器の外部に漏れ出すことも
ない。
この発明の製造装置では、以上のように比較的簡易な構
造で、揮発性元素の雰囲気を作り出すことができ、しか
も圧力の調整が容易であるので、解離を起こしやすい化
合物、たとえばInPおよびGaAsなどの結晶成長に
有効に利用され得るものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例を示す断面図である。第
2図は、従来の単結晶製造装置の一例を示す断面図であ
る。第3図は、従来の単結晶製造装置の他の例を示す断
面図である。 図において、1は引上軸、2は揮発性元素、3は揮発性
元素収容容器、3aは綱部、4は蒸気通路、5は蒸気出
口、6は種結晶、7はベッセル、8は覗き窓、9は液体
封止剤、10は融液、11はるつぼ、12はサセプタ、
13は下軸、16はヒータを示す。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)揮発性元素を成分として有する化合物の単結晶を
    チョクラルスキ法で製造するための装置であって、封止
    剤によって密閉される密閉容器と、前記密閉容器内に設
    けられる前記化合物の融液を入れるためのるつぼと、前
    記るつぼ内の融液から単結晶を引上げるための種結晶が
    取付けられる引上軸と、前記密閉容器内に前記揮発性元
    素の蒸気を供給するための揮発性元素収容容器とを備え
    、前記揮発性元素収容容器が前記引上軸の内部に形成さ
    れ、前記揮発性元素の蒸気が引上軸の内部を通り前記密
    閉容器内に供給される、単結晶製造装置。
  2. (2)前記引上軸の上部に重量センサを設け、該重量セ
    ンサにより前記揮発性元素収容容器の揮発性元素の重量
    減少を検知し、前記密閉容器内への揮発性元素の蒸気の
    供給量を算出して制御する、特許請求の範囲第1項記載
    の単結晶製造装置。
  3. (3)前記揮発性元素収容容器を独立して加熱する加熱
    手段が設けられた、特許請求の範囲第1項または第2項
    記載の単結晶製造装置。
  4. (4)前記化合物がGaAsであり、前記揮発性元素が
    Asである、特許請求の範囲第1、2または3項に記載
    の単結晶製造装置。
  5. (5)前記化合物がInPであり、前記揮発性元素がP
    である、特許請求の範囲第1、2または3項に記載の単
    結晶製造装置。
JP31133687A 1987-12-09 1987-12-09 単結晶製造装置 Pending JPH01153598A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993006264A1 (en) * 1991-09-19 1993-04-01 Mitsubishi Materials Corporation Apparatus for and method of producing single crystal semiconductor of high dissociation pressure compound
US6019838A (en) * 1998-01-05 2000-02-01 Memc Electronic Materials, Inc. Crystal growing apparatus with melt-doping facility

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