JPH01141951A - オキシムの除去によって硬化する、一成分ポリシロキサンrtv組成物 - Google Patents

オキシムの除去によって硬化する、一成分ポリシロキサンrtv組成物

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JPH01141951A JP63264232A JP26423288A JPH01141951A JP H01141951 A JPH01141951 A JP H01141951A JP 63264232 A JP63264232 A JP 63264232A JP 26423288 A JP26423288 A JP 26423288A JP H01141951 A JPH01141951 A JP H01141951A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、大気の水分と接触してオキシムの除去によっ
て硬化し、多くの基体に固く接着し、貯蔵において高い
安定性そして硬化された(vulcanized)状態
において好ましい機械的性質を示し、そして金属表面、
特に銅を攻撃しない、−成分シリコーンペーストに関す
る。
水分で硬化するシリコーンペーストを製造する公知の方
法の一つは、オキシイミノシラン(oximinosi
lanes)の使用に基づいている。このタイプのシラ
ンはUS 3,189.576中で述べられている。σ
ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサンを、特定のオ
キシイミノシラン及び、随時、−またはそれ以上の充填
剤と混合する。これは、大気の水分の非存在下で貯蔵す
ることができそして大気の水分の効果の下で硬化してエ
ラストマーを生成する冷硬化システム(いわゆるRTV
システム)、いわゆるオキシムシステムを与える。
加えて、オキシムシステムの橋かけは、金属触媒、特に
ジアルキルスズカルボキシレートによって加速すること
ができることが知られている。加えて、アミノアルキル
アルコキシシラン、例えばH2NCH2CH2CH25
i(○C2H3)3またはH2N CH2CHEN H
CH2CH2CH2S i(OCH3)3の使用が、シ
ールする応用に関して述べられたきた。これらのような
シランは、多くの基体への接着を改良する。α,ω−ジ
ヒドロキシポリジメチルシロキサン、オキシイミノシラ
ン、アミノアルキルアルコキシシラン、ジアルキルスズ
ジカルボキシレート及び充填剤から製造されるシステム
は、日本特許出願46−11272の主題である。
別の特許、EP−PS90409は、上で引用された日
本特許出願中で開示されたものと同様な組成物を述べて
いる。これらの組成物は、ジアルキルスズジカルボキシ
レートとアルコキシシランとのカルボン酸エステルの除
去を伴う反応によって生成されるスズ触媒を含む。
最後に、DE−PS 3524452は、アミノアルキ
ルアルコキシシラン及びジブチルスズジカルボキシレー
トに加えて、比較的小量のカルボン酸またはそれらのシ
ラン誘導体を含むオキシムシステムを述べている。これ
らの添加物は、大気の水分の効果の下で橋かけを促進す
る。
先行技術に従って得られる生成物は欠点を有する。かく
して、ジアルキルスズジカルボキシレートを含む、日本
特許46−11272またはドイツ特許DE−PS 3
524452による組成物はシーラントとして使用され
るかもしれないが、それらは、金属、特に銅に変色及び
その他の腐食現象を確かに生じる。
ヨーロッパ特許90409による組成物は、銅表面に適
用される時より好ましく振る舞う。しかしながら、これ
らの組成物は、しばしば、未硬化の状態における限られ
た貯蔵性を示す。
従って本発明の目的は、貯蔵において良好な安定性を示
しそして金属表面、特に銅を攻撃しないオキシムシステ
ムを提供することである。
本発明は、 (1)0.1ないし1o00Pasの粘度を有するα、
ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン100重量部
、 (2)可星剤として、0.04ないし10Pasの粘度
を有するα、ω−ビス−(トリメチルシロキシ)−ポリ
ジメチルシロキサン0ないし100重量部、 (3)以下の式 式中、 RはC、−C4のアルキルまたはアル ケニル基を表し、 R1及びR2は各々C、−C、のアルキル基または水素
を表し、あるいはR1 とR2は一緒にC3またはC5アルキレン基を表し、そ
して aはOまたはlの値を表すことがで きる、 に対応するオキシイミノシランlないし10重量部、 (4)強化または非強化充填剤または充填剤混合物5な
いし250重量部、 (5)少なくとも3のC原子を介してシリコンに結合し
た一またはそれ以上の塩基性窒素原子を含むアミノアル
キルアルコキシシランOないし2.5重量部、そして (6)スズ触媒の形でのスズ0.OIないし0.5重量
部、 を混合することによって得られる、水分の非存在下で貯
蔵できかつ水分の存在下で急速に硬化するポリオルガノ
シロキサン組成物であって、アミノアルキルアルコキシ
シラン中の、以下の式2式% 式中、 R3は、線状のまたは分岐したCs−CImのアルキル
基を表すことができる、 に対応する酸化ジアルキルスズの溶液が使用されること
を特徴とする、ポリオルガノシロキサン組成物に関する
本発明に従ってアミノアルキルアルコキシシラン中の酸
化ジアルキルスズの溶液が使用されると、必要な性質の
組み合わせが得られることを見い出したのは驚くべきこ
とであった。
酸化ジアルキルスズは、1CRTV組成物のだめの触媒
として別のことに関して文献中にすでに述べられている
けれども、それらは、これまでのところ、実際には、特
にオキシムシステムの製造においては知られていなかっ
た。この理由は、なかんずく、酸化ジブチルスズのシリ
コーンオイル中への低い溶解度にあると考えられるかも
しれない。
従って、オキシムシステムにおける本発明による触媒混
合物の使用が、例えばジアルキルスズジカルボキシレー
トとアルコキシシランとのカルボン酸エステルの除去を
伴う加熱によって生成されたスズ触媒と比較して、金属
、特に銅へのそれらの腐食効果を減らしたり、または貯
蔵における高い安定性を促進“したりすることは予期さ
れなかった。
成分(1)及び(2)として述べられたヒドロキシ及び
トリメチルシロキシで末端停止されたポリジメチルシロ
キサンは、公知でありそして商業的に入手できる。加え
て、本発明は、メチル基に加えてその他の置換基、例え
ばフェニル基を含むポリシロキサンにも適用されるべき
である。
適当なオキシイミノシラン(3)は、 CH35i [0N=C(CJs)CHdi、CHz=
CH3i [0N=C(CJs)CH31i、CHsS
i[0N=C(CJ)zl、CJsSi(ON=CHC
Hs)x、Si [0N=C(CzHs)21いSi[
0N=(CHzCHs)CHx] 4及びまたはこのよ
うなシランの混合物のような化合物である。
これらの化合物及びそれらの製造は、US 3,189
゜576で述べられている。メチルトリス−(ブタノン
オキシイミノ)−シランが特に好ましい。
適当な充填剤(4)は、強化充填剤、例えば燃焼及び沈
澱シリカ、そして変色させないまたは実質的に変色させ
ない鉱物材料、例えば炭酸塩(チョーク、ドロマイト)
、ケイ酸塩(粘土、スレート粉、マイカ、タルカム、ケ
イ灰石)、Sin、(石英、ケイ藻土)、そしてまたカ
ーボンブラックである。充填剤の表面を、公知の疎水化
剤、例えば長鎖のカルボン酸及び反応性シランによって
改変してよい。
適当なアミノアルキルアルコキシシラン(5)は、H!
 N CHz CHz CHz S 1 (OCz H
s ) s、H2N CHzCH2NHCHxCHxC
HzS i(OCHz”)s及びH2NCH2CH2C
Has iCR3(OC2H6)2のような化合物であ
る。しかしながら、その他のアミノアルキルアルコキシ
シランもまた、本発明による組成物の製造のために使用
されてよい。これらの化合物の多くは、シリコーンシス
テムのためのプライマーとしてまたは橋かけ剤として、
例えばUS 3,888.815中に述べられてきた。
適当な酸化ジアルキルスズは、(n−CaH*)zSn
Ol(n−CsH+5)zsnos  (n−CaI(
+y)zSn、O及び[CaH* (C2HS) CH
] zs n Oのような化合物である。酸化ジブチル
スズ及び酸化ジオクチルスズが特に好ましい。
アミノアルキルアルコキシシラン中の酸化ジアルキルス
ズの溶液は、これらの成分を混合しそして約150℃に
加熱することによって得られる。1モルの酸化ジアルキ
ルスズあたり少なくとも0.5モルのアミノシランを使
用しなければならない。過剰のアミノシランは溶解工程
を促進する。溶媒を使用してもよいが、それらは必要で
はない。
シーラントの製造においては、アミノアルキルアルコキ
シシランは、このシランそれ自身中の酸化ジブチルスズ
の溶液の形で全部を添加してもよい。しかしながら、そ
れ以上のシランを、何等悪い影響なしに添加することが
できる。最終のシーラントを基にして、0.2ないし1
.0%のアミノアルキルアルコキシシランの総濃度が、
特に好ましい。
特に好ましいスズ濃度は、0.05ないし0,15%で
ある。
水分で硬化するシリコーンペーストに関して通常そうで
あるように、本発明による組成物は、遊星(plane
tary)ミキサー、/くタフライミキサー、溶解機(
dissolvers)、連続混合スクリューまたはペ
ーストの製造のために適当なその他の機械で製造されて
よい。生成物は、密封してソールできる容器、例えばカ
ートリッジ中に詰める。製造工程においては、大気の水
分との接触をできるかぎり避けなければならない。
本発明による組成物は、金属、特に銅と接触する接着剤
及びコーティングのために使用することができる。電子
分野での応用か例として述べられる。
本発明を以下の実施例によって説明する。
実施例1 50.7gの酸化ジブチルスズを、乾燥アルゴン下で7
0.3gの3−アミノプロピルトリエトキシシラン中に
懸濁し、そして撹拌しなから150°Cに90分間加熱
する。温度を30分間維持し、冷却してももう固体が沈
澱しない液体を生成させた。
実施例2 50Pa、sの粘度を有するσ、ω−ジヒドロキシポリ
ジメチルシロキサン62重量部及びO,lPa、sの粘
度を有するα、ω−ヒス−(トリメチルシロキシ)−ポ
リジメチルシロキサン23.1重量部を、CH35i[
0N=C(C2H4)CH2F 3の5.3重量部及び
疎水性にされた燃焼シリカ(BET表面110m 2/
 g )8.4重量部と一緒に遊星ミキサー中で混合し
た。
次にHzNCHxCHzCHzSi(OC2Hs)xの
帆7重量部及び実施例1で得られた溶液0.35重量部
を添加した。
銅に関するその挙動を試験するために、この組成物を、
約1cm厚さの玉(bead)の形で銅板に塗布した。
3日後、銅の表面は、眼に見える色の変化を示さなかっ
た。
25℃150%相対空気湿度での14日間の硬化の後で
、機械的強さの試験は以下の結果を与えた(DIN 5
3504) = 硬さ           =21ショアAE係数  
       : 0.47 N / m m 2極限
引張り強さ     :1.5N/mm”破壊での伸び
      :450% 加えて、このシーラントを、約1cm厚さの玉の形で、
ガラス、タイル、アルミニウム、銅、硬質PVC及びマ
クロロン(Makrolon)板に塗布した。7日間の
硬化後、このシーラントが基体から接着的に裂けるかど
うかを決定するための試験を実施した。
−どの基体に関してもそのようではなかった。第ニジリ
ーズの匹敵する試験板を、シーラントの硬化後、室温で
1週間水の下に貯蔵した。これらの条件下でさえも、接
着剤の裂けは観察されなかった。
貯蔵におけるその安定性を試験するために、このペース
トを加速試験にかけた。この試験においては、材料はチ
ューブに詰められ、100°Cで貯蔵され、そして毎日
小量を絞り出して初期のゲル化及び橋かけ結合性に関し
て試験した。100°Cで6日後、このシーラントはま
だゲル化していなかったし、満足に硬化して弾性の硬化
物を生成した。
表1に示したスズ溶液及びアミノシランを使用した以外
は、実施例2の手順に従った。スズ溶液の組成を表2に
示す。試験は実施例2で述べたように実施した。結果を
表1に示す。
比較例6 3−アミノプロピルトリエトキシシラン0.9重量部を
使用し、そして本発明によるスズ溶液を、以下のように
して製造された触媒混合物1.7重量部で置き換えた以
外は、実施例2の手順に従った=21.8gのジブチル
スズジラウレートを78.2gのテトラエトキシシラン
と一緒に150°Cに1.5時間加熱した。その後で、
スズ上のラウレート残基を、実質的に定量的にラウリン
酸エチルエステルとして反応除去した(結果:表1)。
比較例7 3−アミノプロピルトリエトキシシラン0.9重量部を
使用した以外は、実施例2の手順に従った。
本発明によるスズ溶液の代わりに、ジブチルスズジー2
−エチルヘキサノエート0.19重量部を触媒として使
用した。加えて、2−エチルヘキサン酸0.49重量部
を硬化促進剤として添加した(結果2表1)。
比較例8 2−エチルヘキサン酸を省略し、そしてジブチルスズジ
ー2−エチルヘキサノエートをジブチルスズジアセテー
ト0.21重量部によって置き換えた以外は、実施例7
0手順に従った(結果2表1)。
表1 実施例3ないし5のスズ溶液の組成: A : 78g酸化ジオクチルスズ50gH2NCH2
CH2CH2S i(OCzH&)3 B : 51g酸化ジブチルスズ70g H2NCH2
CH。
CH2S iCH3(OCzH5)z C: 51g酸化ジブチルスズ70g H2NCH2C
H。
N HCHxCHzCHzS i(OCH3)3本発明
の主なる特徴及び態様は以下の通りである。
l。
(1)0.1ないし1000Pasの粘度を有するα、
ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン100重量部
、 (2)可塑剤として、0.04ないし10Pasの粘度
を有するα、ω−ビス−(トリメチルシロキシ)−ポリ
ジメチルシロキサンOないし100重量部、 (3)以下の式 式中、 RはC、−C、のアルキルまたはアル ケニル基を表し、 R1及びR2は各々C、−C、のアルキル基または水素
を表すことができ、あ るいはR1とR2は一緒に04またはC。
アルキレン基を表すことができ、そし て aは0またはlの値を表すことがで きる、 を存するオキシ−イミノシラン1ないLIO重量部、 (4)強化または非強化充填剤または充填剤混合物5な
いし250重量部、 (5)少なくとも3のC0原子を介してシリコンに結合
した一またはそれ以上の塩基性窒素原子を含むアミノア
ルキルアルコキシシラン0ないし2.5重量部、そして (6)スズ触媒の形でのスズ0.Olないし0.5重量
部、 の混合物を含有して成る、水分の非存在下で貯蔵できか
つ水分の存在下で硬化するポリオルガノシロキサン組成
物であって、該スズ触媒は、(5)の下で定義されたア
ミノアルキルアルコキシシラン中の、式 %式% 式中、 R3は、線状のまたは分岐したC、−C,sのアルキル
基であることができる、 を有する酸化ジアルキルスズの溶液である、ポリオルガ
ノシロキサン組成物。
2、酸化ジアルキルスズの該溶液が、酸化ジアルキルス
ズ1モルあたり少なくとも0.5モルのアミノシランを
含有して成る、上記lに記載のポリオルガノシロキサン

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)0.1ないし1000Pasの粘度を有するα,
    ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン10 0重量部、
  2. (2)可塑剤として、0.04ないし10Pasの粘度
    を有するα,ω−ビス−(トリメチルシロキシ)−ポリ
    ジメチルシロキサン0ないし100重量部、
  3. (3)以下の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、 RはC_1−C_4のアルキルまたはアル ケニル基を表し、 R^1及びR^2は各々C_1−C_4のアルキル基ま
    たは水素を表すことができ、あ るいはR^1とR^2は一緒にC_4またはC_5アル
    キレン基を表すことができ、そし て aは0または1の値を表すことがで きる、 を有するオキシイミノシラン1ないし10 重量部、
  4. (4)強化または非強化充填剤または充填剤混合物5な
    いし250重量部、
  5. (5)少なくとも3のC原子を介してシリコンに結合し
    た一またはそれ以上の塩基性窒 素原子を含むアミノアルキルアルコキシ シラン0ないし2.5重量部、そして
  6. (6)スズ触媒の形でのスズ0.01ないし0.5重量
    部、 の混合物を含有して成る、水分の非存在下で貯蔵できか
    つ水分の存在下で硬化するポリオルガノシロキサン組成
    物であって、該スズ触媒は、(5)の下で定義されたア
    ミノアルキルアルコキシシラン中の、式 R^3_2SnO 式中、 R^3は、線状のまたは分岐したC_3−C_1_8の
    アルキル基であることができる、 を有する酸化ジアルキルスズの溶液である、ポリオルガ
    ノシロキサン組成物。
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