JPH01134336A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置およびその製造方法Info
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- JPH01134336A JPH01134336A JP62292363A JP29236387A JPH01134336A JP H01134336 A JPH01134336 A JP H01134336A JP 62292363 A JP62292363 A JP 62292363A JP 29236387 A JP29236387 A JP 29236387A JP H01134336 A JPH01134336 A JP H01134336A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
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- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、文字あるいは画像表示用の液晶表示装置に関
し、特に液晶分子の配列を定める配向膜上にスペーサを
固定した電極付基板を有する液晶表示装置およびその製
造方法に関するものである。
し、特に液晶分子の配列を定める配向膜上にスペーサを
固定した電極付基板を有する液晶表示装置およびその製
造方法に関するものである。
従来の技術
従来の液晶表示装置の製造方法として、配向膜を形成す
る方法は凸版印刷法等による印刷方式と、スピナーある
いはガンスプレー等による塗布方式があった。また液晶
表示装置内の電極付基板間に介在するスペーサに、材質
がガラスあるいは有機樹脂等からなり、形状が円柱や球
であるものを用いた。この時ガラスの組成として液晶と
の信頼性の点でアルカリ系の元素を極めて少なくするこ
とが望ましく、例えばS10□を主成分としてム(12
05+Fe 203. Na2O、に20等が含まれ、
NaおよびKが0.7 ppm 程度のものを用いて
いる。また有機樹脂にベンゾグアナミン・ホルムアルデ
ヒド縮合物(既存化学物質構造別分類整理番号7−31
)を成分とした硬化球状微粒子を用いた。スペーサの分
散方法として、気中法と液中法がある。気中法は、スペ
ーサを装置内で気流とともに分散する方式で、吐出気流
を0.3Ks+/i程度、1ts d/win程度とし
自由落下させるものや、逆に吐出気流を4Kg/crl
程度、200 l/win程度で強制落下させるものが
ある。前者は比較的均一に分散できるが落下時間に長時
間を必要とした。また後者は落下時間を比較的短縮でき
るが、工夫を要し、ともするとスペーサの固まりを吐出
することになる。
る方法は凸版印刷法等による印刷方式と、スピナーある
いはガンスプレー等による塗布方式があった。また液晶
表示装置内の電極付基板間に介在するスペーサに、材質
がガラスあるいは有機樹脂等からなり、形状が円柱や球
であるものを用いた。この時ガラスの組成として液晶と
の信頼性の点でアルカリ系の元素を極めて少なくするこ
とが望ましく、例えばS10□を主成分としてム(12
05+Fe 203. Na2O、に20等が含まれ、
NaおよびKが0.7 ppm 程度のものを用いて
いる。また有機樹脂にベンゾグアナミン・ホルムアルデ
ヒド縮合物(既存化学物質構造別分類整理番号7−31
)を成分とした硬化球状微粒子を用いた。スペーサの分
散方法として、気中法と液中法がある。気中法は、スペ
ーサを装置内で気流とともに分散する方式で、吐出気流
を0.3Ks+/i程度、1ts d/win程度とし
自由落下させるものや、逆に吐出気流を4Kg/crl
程度、200 l/win程度で強制落下させるものが
ある。前者は比較的均一に分散できるが落下時間に長時
間を必要とした。また後者は落下時間を比較的短縮でき
るが、工夫を要し、ともするとスペーサの固まりを吐出
することになる。
ここでいう工夫とは例えば基板を除電し静電的に中和す
ること、スペーサの供給に霧吹き原理等を用いて流速を
高めスペーサの固まりを防止すること、スペーサをフィ
ルターに通し予め固まりを除去すること等である。まだ
形状が円柱であれ、球であれスペーサに用いる微粉体は
静電気の影響を受けやすいので、気中法では特に静電気
対策が必要になる。
ること、スペーサの供給に霧吹き原理等を用いて流速を
高めスペーサの固まりを防止すること、スペーサをフィ
ルターに通し予め固まりを除去すること等である。まだ
形状が円柱であれ、球であれスペーサに用いる微粉体は
静電気の影響を受けやすいので、気中法では特に静電気
対策が必要になる。
液中法はスピナー等を用いて分散する方法が一般に知ら
れている。スペーサを混入させる液にアルコールやアセ
トンを用いると配向膜表面を侵し配向特性を劣化させる
ことになる。したがって化学的に安定なフロン液を用い
、スペーサを混入した溶液をスピンナーに設置した電極
付基板上の配向膜の上に滴化し、100 r、p、m、
程度、60秒程度後、200 Or、p、m、程度、3
分程度稼動させスペーサを分散する。また滴下する代り
に配向膜表面にまんべんなくスペーサを混入した液を落
下させた後スピンナーヲ稼動させるとよりいっそう均一
な分散を実現する。
れている。スペーサを混入させる液にアルコールやアセ
トンを用いると配向膜表面を侵し配向特性を劣化させる
ことになる。したがって化学的に安定なフロン液を用い
、スペーサを混入した溶液をスピンナーに設置した電極
付基板上の配向膜の上に滴化し、100 r、p、m、
程度、60秒程度後、200 Or、p、m、程度、3
分程度稼動させスペーサを分散する。また滴下する代り
に配向膜表面にまんべんなくスペーサを混入した液を落
下させた後スピンナーヲ稼動させるとよりいっそう均一
な分散を実現する。
配向膜にポリイ°ミド、ポリビニルアルコール等の有機
材料を用いる。例えば凸版印刷法を用いて印刷する場合
、ポリイミドの重量と溶剤の重量の比は約7.54 W
を程度であり、スピナー塗布する場合、約4.51
W tであり、スプレーガン塗布する場合、約3%wt
である。配向膜塗布後硬化するのに加熱炉を用いN2中
で、170’C程度から350℃程度の範囲で数時間加
熱する。
材料を用いる。例えば凸版印刷法を用いて印刷する場合
、ポリイミドの重量と溶剤の重量の比は約7.54 W
を程度であり、スピナー塗布する場合、約4.51
W tであり、スプレーガン塗布する場合、約3%wt
である。配向膜塗布後硬化するのに加熱炉を用いN2中
で、170’C程度から350℃程度の範囲で数時間加
熱する。
このようにして配向膜を形成後、スペーサを分散した状
態を第7図に示す。カラー液晶テレビ等の液晶表示装置
にカラーフィルタ付の電極付基板とTPT素子(薄膜ス
イッチング素子)付の電極付基板を用いるが、第7図に
おいて、そのTPT素子素子型極付基板上に配向膜を形
成した後、気中法でスペーサ24を分散した状態を示し
ている。
態を第7図に示す。カラー液晶テレビ等の液晶表示装置
にカラーフィルタ付の電極付基板とTPT素子(薄膜ス
イッチング素子)付の電極付基板を用いるが、第7図に
おいて、そのTPT素子素子型極付基板上に配向膜を形
成した後、気中法でスペーサ24を分散した状態を示し
ている。
スペーサ24は、TFT素子部26.配線部26゜画素
部27にまんべんなくほぼ均一に分散されている。分散
方法を気中法にせよ液中法にせよほぼ同じ結果を得る。
部27にまんべんなくほぼ均一に分散されている。分散
方法を気中法にせよ液中法にせよほぼ同じ結果を得る。
また画素部にスペーサを存在させないような選択分散を
これらの方法にて行うのは困難であった。
これらの方法にて行うのは困難であった。
発明が解決しようとした問題点
このように従来の液晶表示装置の製造方法では、液晶表
示装置内で1組の電極付基板間の間隙を形成するのに円
柱まだは球の形状をしたスペーサを分散したが、電極付
基板上にまんべんなくほぼ均一に分散できるものの画素
部にスペーサが存在させないように選択分散することが
困難であった。
示装置内で1組の電極付基板間の間隙を形成するのに円
柱まだは球の形状をしたスペーサを分散したが、電極付
基板上にまんべんなくほぼ均一に分散できるものの画素
部にスペーサが存在させないように選択分散することが
困難であった。
したがって画素部に存在するスペーサによりその部分に
液晶が存在せず光抜けが生じコントラストの低下等を招
いた結果として画質が劣化した。
液晶が存在せず光抜けが生じコントラストの低下等を招
いた結果として画質が劣化した。
本発明はかかる点に鑑みてなされたもので、簡易な構成
で、スペーサを画素部に存在させず、配向膜上に固定し
、かつ配向度を劣化させることがないという液晶表示装
置およびその製造方法を提供することを目的とした。
で、スペーサを画素部に存在させず、配向膜上に固定し
、かつ配向度を劣化させることがないという液晶表示装
置およびその製造方法を提供することを目的とした。
問題点を解決するだめの手段
本発明は上記問題点を解決するため、1組の電極付基板
と、前記電極付基板上に形成された配向膜と、スペーサ
とから構成され、前記スペーサが少なくとも一方の前記
電極付基板上に形成された前記配向膜上に固定され、前
記スペーサが島状に配置されることを特徴とした液晶表
示装置である。
と、前記電極付基板上に形成された配向膜と、スペーサ
とから構成され、前記スペーサが少なくとも一方の前記
電極付基板上に形成された前記配向膜上に固定され、前
記スペーサが島状に配置されることを特徴とした液晶表
示装置である。
また本発明は1組の電極付基板と、前記電極付基板上に
形成された配向膜と、スペーサとから構成された液晶表
示装置を製造する際、前記基板上に前記配向膜を塗布す
る工程と、前記配向膜を硬化する工程と、前記スペーサ
を形成する材料を塗布する工程と、フォトリングラフィ
により前記スペーサを所定の形状に露光する工程と、エ
ツチングにより前記スペーサを所定の形状に加工する工
程とからなることを特徴とした液晶表示装置の製造方法
である。
形成された配向膜と、スペーサとから構成された液晶表
示装置を製造する際、前記基板上に前記配向膜を塗布す
る工程と、前記配向膜を硬化する工程と、前記スペーサ
を形成する材料を塗布する工程と、フォトリングラフィ
により前記スペーサを所定の形状に露光する工程と、エ
ツチングにより前記スペーサを所定の形状に加工する工
程とからなることを特徴とした液晶表示装置の製造方法
である。
作用
本発明の液晶表示装置は、配向膜を形成した後にスペー
サを配向膜上の画素部以外に形成する構成であり、画素
部においてスペーサによる光抜けを防止し画質を向上さ
せるという効果を有するものである。また、本発明の液
晶表示装置の製造方法は、配向膜を形成した後スペーサ
を形成する際配向膜の表面を予め硬化しているので配向
膜表面の配向特性を劣化させることがなく、かつ画素部
以外にスペーサを選択して形成するので画素部において
スペーサによる光抜けを防止し画質を向上させるという
効果を有するものである。
サを配向膜上の画素部以外に形成する構成であり、画素
部においてスペーサによる光抜けを防止し画質を向上さ
せるという効果を有するものである。また、本発明の液
晶表示装置の製造方法は、配向膜を形成した後スペーサ
を形成する際配向膜の表面を予め硬化しているので配向
膜表面の配向特性を劣化させることがなく、かつ画素部
以外にスペーサを選択して形成するので画素部において
スペーサによる光抜けを防止し画質を向上させるという
効果を有するものである。
実施例
以下、本発明の一実施例について、図面に基づいて説明
する。本発明の製造方法に基づいて製造した液晶表示装
置を第6図と第6図に示す。
する。本発明の製造方法に基づいて製造した液晶表示装
置を第6図と第6図に示す。
第5図において、液晶表示装置は透明電極13とその上
に配向膜14が付いた前面ガラス板16と、TPT素子
(薄膜トランジスタで構成され画素電極の印加電圧のス
イッチングに用いるトランジスタ素子)部16および画
素部17とその上に配向膜18が付いた液晶表示用基板
19との間に、周辺部には予め所定のスペーサが混合さ
れたシール剤20があり、シール剤20に囲まれたパネ
ル中に液晶21が存在している。そして偏光板22゜2
3が前面ガラス板16と液晶表示用基板19の両面に貼
り付けられることにより構成される。
に配向膜14が付いた前面ガラス板16と、TPT素子
(薄膜トランジスタで構成され画素電極の印加電圧のス
イッチングに用いるトランジスタ素子)部16および画
素部17とその上に配向膜18が付いた液晶表示用基板
19との間に、周辺部には予め所定のスペーサが混合さ
れたシール剤20があり、シール剤20に囲まれたパネ
ル中に液晶21が存在している。そして偏光板22゜2
3が前面ガラス板16と液晶表示用基板19の両面に貼
り付けられることにより構成される。
第6図は、基板19側の構造を示すもので、GはTPT
素子のゲート電極、Iは絶縁膜、ムはアモルファスシリ
コンよりなるチャンネル活性部、Mはソース、ドレイン
電極である。
素子のゲート電極、Iは絶縁膜、ムはアモルファスシリ
コンよりなるチャンネル活性部、Mはソース、ドレイン
電極である。
第1図は本発明の液晶表示装置の製造方法により製造し
た配向膜近傍の断面図である。各工程をaからdまで示
している。第1図aは電極付基板上に配向膜を形成する
工程の基板の断面図である。
た配向膜近傍の断面図である。各工程をaからdまで示
している。第1図aは電極付基板上に配向膜を形成する
工程の基板の断面図である。
配向膜1を電極付基板2上に形成する方法として、凸版
印刷法、スピナー塗布法、ガンスプレー法等がある。本
発明では感光性ポリイミドをスピナー塗布法により塗布
した。スピンナー条件として約10Or、p、m、 、
約30秒後約400 Or、p、m、、約180秒を行
った。感光性ポリイミドは膜厚約20oO人のほぼ均一
な膜に塗布できた。約90℃、10秒で膜表面を速乾し
た後、所定のパターンのみ露光した。露光光源はHa−
(、d レーザを用いた。配線部分と対向電極取出部
分に配向膜が塗布されているが露光されないと感光性ポ
リイミドはネガタイプであるため除去できる。また平滑
な面の配向膜が得られ、エツチング洗浄後、所定のパタ
ーンを形成できた。さらに加熱炉に入れてポリイミド部
分を硬化した。
印刷法、スピナー塗布法、ガンスプレー法等がある。本
発明では感光性ポリイミドをスピナー塗布法により塗布
した。スピンナー条件として約10Or、p、m、 、
約30秒後約400 Or、p、m、、約180秒を行
った。感光性ポリイミドは膜厚約20oO人のほぼ均一
な膜に塗布できた。約90℃、10秒で膜表面を速乾し
た後、所定のパターンのみ露光した。露光光源はHa−
(、d レーザを用いた。配線部分と対向電極取出部
分に配向膜が塗布されているが露光されないと感光性ポ
リイミドはネガタイプであるため除去できる。また平滑
な面の配向膜が得られ、エツチング洗浄後、所定のパタ
ーンを形成できた。さらに加熱炉に入れてポリイミド部
分を硬化した。
次に第1図すは形成された配向膜上にさらに感光性ポリ
イミドを塗布した電極付基板の断面図を示す。感光性ポ
リイミド3をスピナー塗布する。
イミドを塗布した電極付基板の断面図を示す。感光性ポ
リイミド3をスピナー塗布する。
約3μmの膜厚を得るのに数回塗布する方法と1回塗布
する方法を試みた。1回塗布する場合、粘度の管理が難
しかったが、原液の状態で比較的低速の約a o r、
p、m、、約30秒後約50 Or、p、m、、約12
0秒の条件で膜厚を実現できだ。
する方法を試みた。1回塗布する場合、粘度の管理が難
しかったが、原液の状態で比較的低速の約a o r、
p、m、、約30秒後約50 Or、p、m、、約12
0秒の条件で膜厚を実現できだ。
第1図Cは所定のスペーサ部分のみ露光する様子を示し
た電極付基板の断面図を示す。露光された部分4は所定
の形状のスペーサである。光源にHe−Cdレーザを用
いた。露光時間は約30秒である。
た電極付基板の断面図を示す。露光された部分4は所定
の形状のスペーサである。光源にHe−Cdレーザを用
いた。露光時間は約30秒である。
第1図dは、エツチング処理後スペーサを加熱硬化した
様子を示した電極付基板の断面図である。
様子を示した電極付基板の断面図である。
エツチング処理すると前工程で露光された部分がスペー
サ6として形成される。さらに加熱硬化すると図のよう
なスペーサが形成される。
サ6として形成される。さらに加熱硬化すると図のよう
なスペーサが形成される。
以上のようにしてスペーサは、1組の電極付基板の対向
する所定の場所に形成される。第2図は対向するスペー
サ゛が当接した様子を示しだ1組の電極付基板の断面図
である。スペーサ6は1組の電極付基板をアライメント
することにより容易に所定の位置合せができる。
する所定の場所に形成される。第2図は対向するスペー
サ゛が当接した様子を示しだ1組の電極付基板の断面図
である。スペーサ6は1組の電極付基板をアライメント
することにより容易に所定の位置合せができる。
第3図aはTPT素子部付電極基板の平面図、第3図す
は同基板の断面図である。TPT素子部T上にスペーサ
を形成した場合、スペーサ8はbに示すように半導体部
9を被膜することができる。
は同基板の断面図である。TPT素子部T上にスペーサ
を形成した場合、スペーサ8はbに示すように半導体部
9を被膜することができる。
この感光性ポリイミドに予め顔料を混入させたスペーサ
を形成すると、遮光膜になりTPT特性を向上させる。
を形成すると、遮光膜になりTPT特性を向上させる。
この場合、スペーサは各TPT素子部上に形成するのが
望ましい。スペーサの抑圧が約0.6Kg/6i程度に
するのに相当数のスペーサが必要である。各素子部にス
ペーサが存在すると素子部を傷つけることがない。
望ましい。スペーサの抑圧が約0.6Kg/6i程度に
するのに相当数のスペーサが必要である。各素子部にス
ペーサが存在すると素子部を傷つけることがない。
第4図aはTPT素子部付電極基板の平面図、第4図す
は同基板の断面図である。TPT素子部以外の配線部1
oにスペーサ11を形成した場合、第2図すに示すよう
な状態でスペーサ11を形成できる。スペーサ11は所
定の数を自在に形成でき、スペーサの所定の押圧力に見
合うだけの所定数のスペーサを形成できる。配線部10
にスペーサ11を形成した場合、TPT素子部12が傷
つくことによりソースとドレインが短絡したり、破損し
たりするのを防止することができる。
は同基板の断面図である。TPT素子部以外の配線部1
oにスペーサ11を形成した場合、第2図すに示すよう
な状態でスペーサ11を形成できる。スペーサ11は所
定の数を自在に形成でき、スペーサの所定の押圧力に見
合うだけの所定数のスペーサを形成できる。配線部10
にスペーサ11を形成した場合、TPT素子部12が傷
つくことによりソースとドレインが短絡したり、破損し
たりするのを防止することができる。
したがって以上のように配向膜上の画素部以外にスペー
サを形成することができ、しがも配向膜表面を傷つける
ことがないため、液晶分子の配向に支障がなく、画質を
向上させるという効果を有する。
サを形成することができ、しがも配向膜表面を傷つける
ことがないため、液晶分子の配向に支障がなく、画質を
向上させるという効果を有する。
発明の効果
以上のように本発明によれば次の効果を得ることができ
る。
る。
(1)スペーサを電極付基板上の画素部以外の配向膜表
面に固定することにより、光抜は等がなくなる。
面に固定することにより、光抜は等がなくなる。
(2)配向膜表面とスペーサの境界に塗り垂れ等がない
ため良好な液晶の配向が得られる。
ため良好な液晶の配向が得られる。
(3)表示品質の優れた液晶表示装置が得られる。
(4)比較的安定に大量の処理を行うことができる。
第1図は本発明の一実施例である液晶表示装置の製造方
法に基づいた工程における基板の断面図、第2図は本発
明の一実施例である液晶表示装置の断面図、第3図&、
bはそれぞれ本発明の一実施例である液晶表示装置の平
面図とx −x’断面図、第4図a、bばそれぞれ本発
明の他の実施例である液晶表示装置の平面図とY−Y’
断面図、第6図は本発明の液晶表示装置の製造方法を用
いて製造した液晶表示装置の断面図、第6図は同装置の
TPT素子部および画素部の断面図、第7図は従来例に
おける液晶表示装置の平面図である。 1・・・・・・配向膜、2・・・・・・電極付基板、3
・・・・・・感光性ポリイミド、4・・・・・・露光さ
れた部分、5・・・・・・スペーサ、6・・・・・・ス
ペーサ、7・山・・TFT素子部、8・・・・・・スペ
ーサ、9・・・・・・半導体部、1o・・・・・・配線
部、11・・・・・・スペーサ、12・・・・・・TF
T素子部、13・・・・・・透明電極、14・・・・・
・配向膜、16・・・・・・前面ガラス板、16・・・
・・・TFT素子部、17・・・・・・画素部、18・
・・・・・配向膜、19・・・・・・液晶表示用基板、
20・・・・・・シール剤、21・・川・液晶、22.
23・・・・・・偏光板、24・・・・・・スペーサ、
25・・印・TFT素子部、26・・・・・・配線部、
27・・・・・・TFT素子部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はが1名第1
図 Cα) (b) (d) 第2図 第3図 (0L) (b) 94導体初 第4図 (α)
法に基づいた工程における基板の断面図、第2図は本発
明の一実施例である液晶表示装置の断面図、第3図&、
bはそれぞれ本発明の一実施例である液晶表示装置の平
面図とx −x’断面図、第4図a、bばそれぞれ本発
明の他の実施例である液晶表示装置の平面図とY−Y’
断面図、第6図は本発明の液晶表示装置の製造方法を用
いて製造した液晶表示装置の断面図、第6図は同装置の
TPT素子部および画素部の断面図、第7図は従来例に
おける液晶表示装置の平面図である。 1・・・・・・配向膜、2・・・・・・電極付基板、3
・・・・・・感光性ポリイミド、4・・・・・・露光さ
れた部分、5・・・・・・スペーサ、6・・・・・・ス
ペーサ、7・山・・TFT素子部、8・・・・・・スペ
ーサ、9・・・・・・半導体部、1o・・・・・・配線
部、11・・・・・・スペーサ、12・・・・・・TF
T素子部、13・・・・・・透明電極、14・・・・・
・配向膜、16・・・・・・前面ガラス板、16・・・
・・・TFT素子部、17・・・・・・画素部、18・
・・・・・配向膜、19・・・・・・液晶表示用基板、
20・・・・・・シール剤、21・・川・液晶、22.
23・・・・・・偏光板、24・・・・・・スペーサ、
25・・印・TFT素子部、26・・・・・・配線部、
27・・・・・・TFT素子部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はが1名第1
図 Cα) (b) (d) 第2図 第3図 (0L) (b) 94導体初 第4図 (α)
Claims (4)
- (1)1組の電極付基板と、前記電極付基板上に形成さ
れた配向膜と、スペーサとから構成され、前記スペーサ
が少なくとも一方の前記電極付基板上に形成された前記
配向膜上に固定され、前記スペーサが島状に配置される
ことを特徴とした液晶表示装置。 - (2)配向膜が紫外線硬化型あるいは熱硬化型のポリイ
ミドからなることを特徴とした特許請求の範囲第1項記
載の液晶表示装置。 - (3)スペーサが紫外線硬化型ポリイミドからなるか、
あるいは顔料と紫外線硬化型ポリイミドの混合材料から
なることを特徴とした特許請求の範囲第1項記載の液晶
表示装置。 - (4)1組の電極付基板と、前記電極付基板上に形成さ
れた配向膜と、スペーサとから構成された液晶表示装置
を製造する際、前記基板上に前記配向膜を塗布する工程
と、前記配向膜を硬化する工程と、前記スペーサを形成
する材料を塗布する工程と、フォトリソグラフィにより
前記スペーサを所定の形状に露光する工程と、エッチン
グにより前記スペーサを所定の形状に加工する工程とか
らなることを特徴とした液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62292363A JPH01134336A (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62292363A JPH01134336A (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01134336A true JPH01134336A (ja) | 1989-05-26 |
Family
ID=17780835
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62292363A Pending JPH01134336A (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01134336A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5235446A (en) * | 1989-02-09 | 1993-08-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Projection type liquid crystal display apparatus with pixels of one panel |
EP0649046A2 (en) * | 1993-10-19 | 1995-04-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | A liquid crystal display device and a production method for the same |
JPH10104640A (ja) * | 1996-08-05 | 1998-04-24 | Toray Ind Inc | 液晶表示素子用基板及びそれを含むカラー液晶表示素子 |
WO1999047967A1 (fr) * | 1998-03-19 | 1999-09-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Corps constitue de resine et de cristaux liquides, dispositif a cristaux liquides, affichage a cristaux liquides comportant ledit dispositif et procedes de fabrication |
US6184959B1 (en) | 1997-10-24 | 2001-02-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device having alignment film that provides alignment upon irradiation and manufacturing method the same |
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JP2022118095A (ja) * | 2011-05-05 | 2022-08-12 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
JP2022120136A (ja) * | 2008-12-03 | 2022-08-17 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
-
1987
- 1987-11-19 JP JP62292363A patent/JPH01134336A/ja active Pending
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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