JPH01132890A

JPH01132890A - パルプの処理方法及び装置

Info

Publication number: JPH01132890A
Application number: JP63190501A
Authority: JP
Inventors: Kaj Henricson; カジ　ヘンリクソン; Seppo Kokkonen; セッポ　コッコネン; Olavi Pikka; オラビ　ピッカ; Harri Qvintus; ハーリー　クビンツス; Erkki Ruuskanen; エルッキ　ルースカネン; Erkki Savolainen; エルッキ　サボライネン
Original assignee: Ahlstrom Corp
Current assignee: Ahlstrom Corp
Priority date: 1987-11-11
Filing date: 1988-07-29
Publication date: 1989-05-25
Also published as: DE3865807D1; US4952314A; FI81136B; FI874967A0; FI874967A; EP0315737B1; ATE68837T1; FI81136C; US5120398A; EP0315737A1; CA1325352C

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産１ムＬΔ泗」し交互本発明は、異なるパルプ処理装置に関連して粘稠度、即
ちコンシステンシー、が中位のパルプを処理するための
方法及び装置に関する。パルプ洗浄に使用される洗浄機
、即ちワッシャー、を以下に例として記載する。

従来の技術幾つかの形式の洗浄装置並びに方法が従来技術で知られ
ている。これらの知られている構成には、デフユーザ、
ドラムワッシャー／ディスクワッシャー、フオードリニ
エワツシャー（長網抄紙洗浄機）が含まれ、これらのワ
ッシャーは明らかに互いに異なるものである。パルプは
１０％の粘稠度（コンシステンシー）でデフユーザワッ
シャーへ給送される。ドラムワッシャー並びにフオード
リニエワツシャーに関してのコンシステンシーは、通常
は１〜３％の間とされる。現在使用されているドラム表
面上Ａ７−には、例えば吸引ワッシャー、洗浄プレス及
び加圧ワッシャーがある。

従来の吸引ワッシャーは、バット即らドラム内で回転で
きるワイヤー被覆ドラムを含んでいる。

このドラムのケーシングは、穿孔プレートのド側に形成
された収集コンパートメントを含んでいる。

各コンパートメントはそれ自体に設けられてるパイプを
通して、ドラム端部にてシャフト上に配置されているパ
ルプシステムと連通している。濾過液は、このパルプか
らドロップレッグを通して濾過液チエストへ導かれる。

このパルプ構成により、ドロップレッグの吸引効果をウ
ェブ形成に於る別の位置に与えることができる。

吸引ワッシャーに於るウェブ形成は、バット内で回転す
るドラムの内部に減圧力を与えること一ドロップレッグ
による−によって遂行されるのであり、この減圧力がバ
ットからドラム内へパルプ懸濁液を吸入する。液体がド
ラム内部に流入することでドラム表面上にパルプ！１ａ
ＨＳ堆積される。

バット内に於る繊維懸濁液のコンシステンシーは約０．
５〜２％であり、ドラム上に堆積されたパルプ層のコン
システンシーは約１０〜１２％である。バット内部で繊
維懸濁液に没るウェブ形成領域、即ち別の言葉で表せば
ドラムのリムの部分、は約１４０°である。ドラムの最
大回転速度は２〜２．５ｒｐＩｌである。この回転速度
が速すぎると、収集コンパートメント及び濾過液パイプ
を空にすることが不司能となる。

洗浄は、バットから付き出たドラムの表面に洗浄液のシ
ャ′ノーをかけることによって置換洗浄（ｄｉｓｐｌａ
ｃｅｌｌｌｅｎｔ　ｗａｓｈ　）として遂行されるので
あり、この洗浄液は減圧力によってパルプ層を通して吸
収され、その殆どが化学液剤と置換されるのである。こ
の置換領域の幅は、はぼ１２０°である。この吸引ワッ
シャーの典型的な単位面積当りの比容１ｆｉ　（ｓｐｅ
ｃｉｆｉｃ　５ｑｕａｒｅ　ｃａｐａｃｉｔｙ）は約５
８ＤＨＴ／ｍ２／ｄであり、これに於るパルプウェブの
厚さは約２５＃Ｉ＃Ｉである。漂白工程に於いては、比
容量は約８８ＤＨＴ／ｍ２／ｄ　テあり、パルプウェブ
の厚さは約３０ＦＭである。

洗浄プレスはワイヤー被覆又はドリル穿孔されたプレー
トケーシングを備えたドラムを含んでいる。パルプの給
送は、コンシステンシーが３〜４％の状態で遂行される
のであり、節目、打たれていない部分、並びに望ましく
ないそれぞれの部分がワッシャーに至る前にパルプから
除去される。

ドラムのケーシング上にコンパートメントが形成されて
おり、濾過液はこれらのコンパートメントから端部リム
のチャンバーを経て導びき出される。

このドラムは又、ドラム内部に濾過液を収集するように
開口されることができ、この端部のこの開口を通して濾
過液が導びき出されるようになっている。

ウェブ形成ステージの長さは約９０°であり、除去ステ
ージの長さは約１５０”である。ドラムの回転速度は約
２ｒｐｍであり、単位面積当りの比容量は約１５〜２０
ＢＤＨ■／ＴｒＬ２／ｄテある。洗浄されたパルプのコ
ンシステンシーは、プレスロールが使用される場合には
３０％に迄も高まる。しかしながら置換は、コンシステ
ンシーが１０％でパルプウェブの厚さが約５０ｍのＩ；
で遂行される。

加圧ワッシャーの例としてフィンランド国特許第７１９
６１号による装置が注［１される。この装置は互いに約
２００ｊＩ１１の間隔で表面に取り付けられた１５〜２
０繻の高さのモール下部品を備えたドリル穿孔プレート
ドラムを主に含んでいる。濾過コンパートメントはパル
プコンパートメントの下側のドラムのケーシングに配置
されている。ドラムの端部の外側リムはパルプ構造を備
えており、これを通して濾過液が排出される。このワッ
シャーは３〜５段階のステージを有しており、別の言葉
で表ぼば濾過液がステージからステージへと上流へポン
プ圧送により導びかれるようになっている。別のステー
ジとの間では洗浄液のチャンバ−はシールされている。

ウェブの形成はパルプを給送ボックス内へ給送すること
で遂行される。この給送ボックスの底部は穿孔されたプ
レートで作られており、その上に無端のワイヤー布が配
置されている。この給送ボックスは洗浄ドラムへ向かっ
て下ろされる。この給送ボックス内のパルプからワイヤ
ー布及び穿孔プレートを通して液体が排出され、パルプ
はこのようにしてワイＸ７−布の上に厚く堆積される。

このワイヤー布はドラムの方向へ移動するので、降）さ
れた給送ボックスによって発生される圧力によっても懸
濁液から連続的に排出されるのである。

給送ボックスが終点に至ると、パルプはモール下部品の
間のコンパートメント内へ導びかれ、このようにしてド
ラムの長手部分の軸線方向の「ブランク」がコンパート
メント内部で形成される。給送位置の直ぐ下流にドラム
は第一の洗浄領域を有している。前記特許公報による装
置では、五つの区別された洗浄領域を有している。洗浄
液の流れは各領域へ導びかれるのであり、これらは）ｆ
縮されるときに洗浄ドラムのコンバートメン１〜内のパ
ルプ層を通してそれ迄の液体を排出ザるのである。

上述のように濾過液は一つの領域から他の領域へと上流
方向へ導びかれるのである。換言すれば、純粋な洗浄液
が最後の洗浄領域へとポンプ圧送されるのであり、この
洗浄液の流入によって排出された濾過液が最後から二番
目の領域へ導ひかれるのである。この最後の洗浄領域に
引き続いて「パルプブランク」が例えば圧縮空気を吹き
つけることでドラムから除去され、スクリューコンベヤ
によって前方へ運ばれ゛るのである。

四つのステージを備えたこの形式の加圧ワッシャーの単
位面積当りの比容積は、約２　、４８０ＭＴ／ｍ２／ｄ
である。「パルプブランク」の厚さは約５５ｍ＋であり
、又、そのコンシステンシーは１５〜１７％に達する。

しかしながら、コンパートメントからの洗浄液の流れは
フンシスチンシーを１０〜１２％に希釈する。洗浄ドラ
ムへ給送されるパルプのコンシステンシーは３〜６％で
ある。ドラムに使用されている回転速度は約Ｑ、３ｒｐ
ｍである。

従来の技術の問題。

、上述した全ての装置はデフユーザとは相違して、ワッ
シャーへ給送されるパルプのコンシステンシーが比較的
小さく、最大６％であることを特徴としている。換言す
れば、パルプはワッシャーへ至る前に、先行する処理ス
テージでのコンシステンシーの値１０〜１５％の半分以
下に希釈されねばならないのである。このようにして、
パルプ内の液体酊は少な（とも倍とされる。高いコンシ
ステンシーにて洗浄することが可能とするならば、装置
の寸法並びに消費エネルギの両方を節減することができ
るとともに、蒸発のために導びかれねばならない濾過液
のＧも節減することが可能となる。

しかしながら、６％を超える高いコンシステンシーのパ
ルプをワッシャーへ給送するのに適当な装置がないとい
う問題があった。他方に於ては、パルプが厚くなるに従
って、懸濁液に含有される空気量が増え、洗浄工程にて
泡立ちの問題が引き起こされるという事実が知られてい
る。又、例えばスイツクナーのような他のパルプ処理装
置も同様な問題を有しているのである。

発明が解決しようとする課題本発明の目的は、これらの問題を解消もしくは低減し、
約８〜２０％の中位のフンシスチンシーにてパルプを処
理できるようにすることである。

本発明による方法及び装置は中位のコンシステンシーの
パルプから空気を排除し、これを制御した状態の下に処
理装置へ給送することである。

課題を解決するための手段本発明による方法は、前記装置へのパルプの給送、該装
置でのパルプの処理、及びその排出並びにそれ以晴の搬
送がコンシステンシー８〜２０％の範囲で遂行されるこ
とを特徴とする。

本発明による装置は、パルプを処理装置へ給送するため
の装置が少なくとも一つの圧力室、この圧力室へ至る少
なくとも一つの入口ダクト、及び、前記圧力室から前記
装置へ至る少なくとも一つのパルプの給送ダクトを主要
部品として含むことを特徴とする特本発明の他の実施例は、処理装置からパルプを排出する
装置がスクリューコンベヤと、該スクリューコンベヤの
排出端部に密に接近されて配置された遠心ポンプとを含
むことを特徴とする。

本発明による方法及び装置は以ドに実施例を挙げ且つ添
付図面を参照して詳しく説明される。ワッシャーが例と
されるのである。

実施例の説明第１図によるワッシャー１は、米国特許願第９２１７８
６号のドラムを基本的に含んでおり、このドラムの外側
リムはチャンバー２〜６に区画されている。これらのチ
ャンバーに導管が導びかれている。チャンバー２〜６の
内側リムの表面はドラム７によって形成されており、こ
れには液体が浸透できるようになされているのが有利で
ある。

このドラムの内部にはシリンダ８が回転可能に取り付け
られており、このシリンダは外側リム１８に液体が浸透
できる表面を備えている。軸線方向へ延在された半径方
向の隔壁９は、シリンダの表面からドラム７の表面へ向
けて突出されており、これらの隔壁がシリンダ表面７及
び８の部分と共にパルプ処理コンパートメント１０を形
成している。シリンダ８の外側リム１８の内部には液体
室１１が配置されており、この液体室から液体はワッシ
ャーの一端に位置されているパルプシステム（図示せず
）を経て、各洗浄領域（室２〜６に対応する）から先行
の領域へと導ひかれるようになっている。換言すれば、
最後の洗浄領域から、チャンバー６の面積部分からチャ
ンバー５へ、チャンバー５の面積部分からチャンバー４
へ・・・・・・等のように導びくようになっている。

前述した特許による装置と比較すれば、本発明のワッシ
ャーでは給送側及び排出側の両方に於て相違がある。こ
れらの相違は図面に於ても見ることができる。第１図は
パルプ送給装置２０の概略的な輪郭を示している。これ
は形式には無関係にパルプのコンシステンシーが迅速処
理の収容タワー又は洗浄領域に於るコンシステンシー、
換言すれＧｆ空気の含有されない８〜２０％のコンシス
テンシー、の状態の下でパルプをワッシャーへ給送でき
るようにすることを特徴としている。

第２図は給送装置を示しており、この給送装置は圧力室
２１を含んでいる。この圧力室に対してパルプは収容タ
ワーから例えばダクト２２によってポンプ圧送される。

パルプの搬送装置はガス排除装置を備えているのが有利
である。このようにして、圧力室２１へ流されるパルプ
は、この目的は流入パルプを水平方向へ分けてドラム上
に均等化することであるが、有害となる空気量を含んで
おらず、連続的な洗浄に於て濾過液を泡立てる心配も無
いのである。圧力室内では、洗浄ドラム長さ、即ち穿孔
ラインの長さ、の連続するスロットとされたパルプの排
出間口２３に接近して、流動化部材２６が配置されてい
る。この部材はローターとされるのが有利であり、パル
プを流動状態になし、排出開口２３を通してワッシャー
のコンパートメント１０へ流すことができるようになし
ている。部材２６はワッシャーと同じ長さとされ、又は
各開口はそれ自体゛に流動化部材を備えることができる
。圧力学内に僅かな連続的な過大圧力を維持することに
よって、このステージでパルプ内に空気が混入するのを
防止することができる。

第３図は第二の実施例によるパルプの給送装置３０を示
している。この装置に於ては、パルプは膨張室、即ち拡
張室３１、へ向けてバイブ３２に沿ってポンプ圧送され
る。この膨張室からパルプは上記バイブ３２に比較して
横断面積を減少された細いバイブ又は平たいダクト３３
に沿って圧送され、ワッシャーのコンパートメント１０
へ流される。動的速度によってパルプは流動状態に維持
され、迅速且つ均等にコンパートメント１０を充満する
。

第４図は第三の実施例をなすパルプ給送装置４０を示し
ている。この装置はパルプ入口ダクト４２及び圧力室４
１を含み、内部には少なくとも一つの回転可能なロール
４５が配置されている。このロールはプレート４４と共
にパルプのための給送スロット４３の寸法を定めている
。更に、圧力室４１は給送開口４３の近（に流動化部品
４６を備えて、例え圧力室４１の圧力及び回転ロール４
５が不十分であっても、この開口からワッシャーのコン
パートメント１０へ流れるパルプの流れを確実にするこ
とができる。この流動化部品４６はローター或いは同様
な伯の形式の振動器とすることができる。

第５図は更に他の構成を示している。これに於ては、ワ
ッシャーへのパルプの給送は洗浄ドラムの全長に至る幾
つかの給送開目を通してのみ遂行されるようになってい
る。この実施例の場合、例えば国際特許出願ＷＯ８６１
０４３６９に記載の装置５１が使用される。この装置に
よって、ポンプ（図示せず）からパイプ５２に沿って流
れる高いコンシステンシーのパルプの流れがパイプ５３
〜５６を経て複数の流れに分けられる。説明した給送装
置ｆｆ２０．３０及び４０の一つがワッシャー側の端部
に取り付けられ、この給送装置からのパルプの流れはノ
ズル５７によって給送ボックスへ導かれて、均等なウェ
ブが形成されるのである。

第１図は又、ワッシャーからのパルプの排出を全体的に
示している。第６図及び第７図はワッシャーからのパル
プの排出、及びこのパルプの以降の搬送に関する二つの
実施例を示している。

第６図による構成に於ては、ワッシャードラム８から除
去されたパルプはシュート６０へ落ドされるのであり、
このシュートの底部にはスクリューコンベヤ６１が備え
られている。このコンベヤは、パルプをコンシステンシ
ーの高いパルプ用のポンプ６２の吸引ダクトの前方の収
集チャンバー即ちバット６３内に搬送する。この収集ブ
ンバー即ちバットからパルプは更に他の処理を受けるた
めに流動化ポンプにより搬送されるのである。

第７図の構成に於ては、コンシステンシーの高いパルプ
用のポンプ６２がワツシ）７−の中央部に配置され、こ
れによりスクリュー］ンベ）アロ１がパルプをワッシャ
ーの端部からポンプ６２のためのバット６３へ搬送する
。スクリューコンベヤの両側はこのようにして自然にパ
ルプをワッシャーの中央部へ向けて搬送するのである。

第７図のスクリュー６１を二つの傾斜スクリューに置換
することは勿論ｍ能ある。この傾斜スクリューはパルプ
をコンシステンシーの高いパルプ用のポンプへ給送する
。

第８図はパルプ排出のための構成の更に他の実施例を概
略的に示している。パルプは処理装置から知られている
方法でスクリュー６１へ排出される。このスクリューは
パルプを比較的小さな収容タワー７１へ搬送する。この
タワーは処理装置（第７図参照）の側か、或いは端部（
第６図参照）に配置されている。更に詳しくは、このス
クリューはパルプを実質的にタワー７１の下部へ搬送す
るのであり、パルプを更に搬送するために配置されてい
る遠心ポンプ６２と同じ高さ位置で搬送するのが有利で
ある。円筒形又は多少円錐状のパイプ部分７３がタワー
７１の直前でスクリュー６１を囲んでいる。このパイプ
部分の目的は、パルプがタワーから処理装置へ向けて排
出されないようにスクリュー６１をシールすることであ
る。更に、スロットパルプ７５、或いは調整可能なバッ
ク循環パルプ７６がポンプ６２の排出ダクト７４に配置
され、これも又タワー７１内のパルプ面のレベル位置の
維持を確実となす。

一つの可能な有利な構成は、スクリューによって直接に
ポンプの吸引開口へパルプを給送し、これによりタワー
へのパルプの流動ブーヤンネルが搬送スクリューとポン
プの吸引開口との間、或いは例えば搬送スクリューのケ
ーシング上で比較的小さな開口となるようにすることで
ある。このよう°　な場合には、ポンプの吸引開口にス
クリューで生じる給送圧力を使用することが可能となる
。上述した実施例は装置コスト及びポンプのデリバリ−
高さの両方に於てかなりの節減を達成する利点を有する
。従来技術の装置の全てはパルプがド［１ツブレツグへ
排出されるのであり、このドロップレッグは連続的なポ
ンプ圧送のためにポンプの吸引開口に十分な圧力を保証
するには、数メートルにも達し、最も普通に約１０ｍに
達りるのである。

処理装置は普通は同じレベル位置であることから、％パ
ルプを次の処理装置へ給送可能とされる前にパルプを底
部から先ず最初に後ろへポンプ圧送する必要が常にあっ
た。

例えばワツシャーヘパルプを給送するのに本発明の方法
及び装置を使用する場合には、実際の洗浄工程にて大き
なドラム面を使用することができる。何故ならば、給送
及び排出装置はたった６０’をカバーするだけであり、
従って残る３００°は洗浄に使用されるからである。ド
ラムのウェブ厚さが３０ｓ＋でドラム回転速度が７．５
ｒｏｍであると仮定すれば、単位面積当りのドラム容量
は３２　ＢＤＨＴ／ｍ”　／ｄ以下となる。出口のコン
システンシーは作動の乱れを伴わずに１５％とすること
ができる。何故ならば、排出装置がこの状態の下が高い
信頼性で作動するからである。このようにして、例えば
ワッシャーに給送するためにパルプを薄めることなく、
８０〜２０％のコンシステンシーにてパルプを連続的に
処理することが可能となるのである。同時に、高いフン
シスチンシー用のポンプから空気を排除するために流動
化遠心ポンプを使用することが可能となる。このポンプ
により、ワッシャー内での濾過液の形成は防止され或い
は最小限に抑えられるのである。

最後に、本発明の方法及び装置はワッシャーに関しての
み適用されるのではなく、パルプがウェブとして装置に
給送されるようなその他のパルプ処理装置にも適用でき
ることに注意されねばならない。このようなパルプ処理
装置は、例えばスイツカーとされることができる。又、
理解されねばならないこととして、上述した説明はドラ
ム形式のパルプ処理装置にのみに対する適用に関するが
、本発明をディスク形式の処理装置に適用することは完
全に可能である。換言すれば、回転する濾過面にてパル
プ処理が遂行される全ての装置に対して適用することが
できるのである。このように、ワッシャーにのみ係わる
上述した例は従来技術に関して本発明がかなり改良され
たことを示すことだけを意図しており、本発明を制限す
ることを意図しているのではなく、特許請求の範囲だけ
が本発明の範囲を定めるのである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の好ましい実施例による処理装置とし
て洗浄装置即ちワッシャーを示す概略的な断面図。第２図から第４回連は、有利な給送装置を示す概略図。第５図は、幾つかの位置にて処理装置にパルプを給送す
るための構成を示す概略図。第６図及び第７図は、処理装置からパルプを排出するた
めの二つの異なる方法を示す概略図。第８図は、処理装置からパルプを排出するための別の第
三の方法を示す概略図。１・・・・・・ワッシャー、２〜６・・・・・・チャン
バー、７・・・・・・ドラム、８・・・・・・シリンダ
、９・・・・・・隔壁、１０・・・・・・処理コンパー
トメント、１１・・・・・・チャンバー、１８・・・・
・・外側リム、２０．３０．４０・・・・・・パルプ給
送装置、２１．４１・・・・・・圧力室、２２・・・・
・・ダクト、２３・・・・・・排出開口、２６・・・・
・・流動化部品、３１・・・・・・膨張室、３２・・・
・・・パイプ、３３．４２・・・・・・ダクト、４３・
・・・・・スロット、４４・・・・・・プレート、４５
・・・・・・回転ロール、４６・・・・・・流動化部品
、５２〜５６・・・・・・パイプ、６０・・・・・・シ
ュート、６１・・・・・・スクリューコンベヤ、６２・・・・・
・ポンプ、６３・・・・・・バット、７１・・・・・・
収容タワー、７３・・・・・・円錐状パイプ部分、７５・・・・・・スロットルパルプ。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）コンパートメントに区画されているのが好ましい
濾過表面を有する装置で、該装置にパルプが給送され、
回転する濾過表面上に実質的に均等な層として拡げられ
該表面から除去される迄の間に処理が行われるようにな
された前記装置に於てパルプを処理する方法であつて、
前記装置に対するパルプの給送、該装置に於るパルプの
処理、及び、パルプの排出及び以降への搬送が約８〜２
０％のコンシステンシーの範囲にて行われることを特徴
とするパルプの処理方法。
（２）パルプが先行する処理装置から約８〜２０％のコ
ンシステンシーにてポンプ圧送されて前記装置へ給送さ
れ、該装置から一段又は複数段の処理ステージを経た後
排出されて約８〜２０％の同じコンシステンシーレベル
にて更に以降へ搬送されることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の方法。
（３）前記装置へパルプが給送される前に約８〜２０％
のコンシステンシーを有するパルプから空気が排除され
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項に
記載の方法。
（４）前記装置に対してパルプが高圧及び高速にて給送
され、これにより該装置へのパルプの流入が処理空間を
等しく充満するようになすことを特徴とする特許請求の
範囲第１項から第３項迄の何れか一項に記載の方法。
（５）前記装置に対するパルプの給送、処理及び該装置
からのパルプの排出がパルプを希釈せずに遂行されるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項から第４項迄の何
れか一項に記載の方法。
（６）洗浄又はその他の処理工程に関連してパルプを処
理するための装置であり、該装置が一つ又はそれ以上の
パルプ給送装置と、該パルプ給送装置からパルプを受け
止める一つ又はそれ以上の回転濾過表面と、前記装置か
らパルプを排出するための排出装置とを含んでいる前記
装置であつて、前記装置（１）にパルプを給送するため
の給送装置（２０、３０、４０）が少なくとも一つの圧
力室（２１、３１、４１）と、前記圧力室に対するパル
プの少なくとも一つの入口ダクトと、前記圧力室から前
記装置（１）へパルプを給送する少なくとも一つの給送
ダクト（２３、３３、４３）と、を含んでいることを特
徴とする装置。
（７）圧力室（２１、３１、４１）へパルプを給送する
給送装置が空気排除装置を備えた流動化のための遠心ポ
ンプであることを特徴とする特許請求の範囲第６項記載
の装置。
（８）流動化のための部材（２６、４５、４６）がパル
プの給送ダクト（２３、４３）の開口に接近させて圧力
室（２１、３１、４１）に取り付けられていることを特
徴とする特許請求の範囲第６項記載の装置。
（９）流動化のための部材（２６、４６）がローターで
あることを特徴とする特許請求の範囲第８項記載の装置
。
（１０）開口（２３、３３、４３）からウェブ状のパル
プ懸濁液が流れるように圧力室が形成されていることを
特徴とする特許請求の範囲第６項記載力装置。
（１１）パルプが装置（５１）によつて分流され、パイ
プ（５６〜５３）によつてノズル（５７）へ導びかれ、
これに於てウェブとして拡げられ、該ウェブが装置の給
送ボックス（５８）内に合流されることを特徴とする特
許請求の範囲第６項記載の装置。
（１２）装置（１）が濾過表面（８）を備えた回転可能
なドラムを含み、該ドラムの表面は半径方向の隔壁（９
）によつてコンパートメント（１０）に区画されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第６項記載の装置。
（１３）濾過表面を備えた複数の回転ディスク／ディス
クセクターを含んでいることを特徴とする特許請求の範
囲第６項記載の装置。
（１４）入口ダクト（２２、３２、４２）の流動表面部
分が一つ又はそれ以上の給送ダクト（２３、３３、４３
）の合計面積部分よりも大きなことを特徴とする特許請
求の範囲第６項記載の装置。
（１５）洗浄、スイツクニング或いは同様な及びその他
のパルプ処理工程、処理領域へパルプを給送する給送装
置、及び前記処理領域からパルプを排出するための排出
装置に関連してパルプを処理する装置に於て、パルプを
排出するための一つ又はそれ以上の排出装置がスクリュ
ーコンベヤ（６１）と、該スクリューコンベヤ（６１）
の排出端部の近くで前記装置の処理領域に接近させて配
置された遠心ポンプ（６２）と、を含んでいることを特
徴とする装置。
（１６）スクリュー（６１）の排出端部が収容タワー（
６３、７１）に接続され、該タワーに連通して遠心ポン
プ（６２）が配置されていることを特徴とする特許請求
の範囲第１５項記載の装置。
（１７）スクリュー（６１）がポンプ（６２）の吸引開
口の近くで収容タワー（７１）の下部と接続されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第１５項記載の装置。
（１８）スクリュー（６１）の排出端部及びポンプ（６
２）の吸引開口が実質的に互いに連合されていることを
特徴とする特許請求の範囲第１７項記載の装置。
（１９）スクリュー（６１）の排出端部が円筒形又は円
錐形のケーシング（７３）によつて取り巻かれており、
該ケーシングが収容タワー（７１）を装置から分離して
いることを特徴とする特許請求の範囲第１７項記載の装
置。