JPH01124929A - 螢光面形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はプラズマディスプレイ等の螢光面形成方法に関
し、特にプラズマディスプレイのセル陣壁面に螢光面を
形成する方法に関する。

〔従来の技術〕

第４図は従来のＤＣ型プラズマディスプレイを示したも
ので、ガラスからなる平板状の前面板１と背面板２とを
互いに平行にかつ対向して配設し、上記背面板２の前面
には、この背面板２に直交するセル障壁３が固着されて
おり、このセル障壁３により上記前面板１と背面板２と
の間隙は適正に保持されている。また、上記前面板１の
背面側には、陽極４が形成されるとともに、上記背面板
２の前面側には上記陽極４と直交して陰極５が形成され
ており、上記陽極４の両側には、螢光面６が隣接して形
成されている。

上記従来のプラズマディスプレイにおいては、上記陽極
４と陰極５との間で電場を印加させることにより、上記
前面板１と背面板２とセル障壁３との間の各空間内で放
電を発生させる。そして、この放電により生じる紫外線
が上記螢光面６を発光させ、上記前面板１を透過する光
を観察者７が視認するようにしている。

この場合、螢光面６から発光した光は、螢光面６自身を
透過して観察者７に視認されるため、螢光面６の透過時
に光量が減少してしまう。そのため輝度を上げる目的で
、従来からセルＶ４壁３の壁面に螢光面６を形成し、螢
光面６から発光した光の反射光を視認しようとするプラ
ズマディスプレイが開発されている。

これは、第５図に示すように、断面台形状の孔部８が形
成されたスペーサ９をセル障壁として使用するもので、
このスペーサ９の上記孔部８の拡開側からスクリーン印
刷あるいはスプレー等により螢光体塗料を入れ、上記孔
部８の反対側から吸引することにより、上記螢光体塗料
をスペーサ９の孔部８壁面に塗布し、螢光面６を形成す
るようにしている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、上記従来の螢光面形成方法では、スペーサ９に
螢光面６を形成する場合に螢光体塗料の塗布、吸引を行
なう必要があり、そのためスペーサ９単独で螢光面６を
形成した後に、前面板１および背面板２を組立てること
になり、３つの部材で構成することになる。そのため、
上記前面板１、背面板２およびスペーサ９の位置合わせ
が著しく困難となり、スペーサ９の製造に高精度な技術
が要求されるという問題を有している。また、上記スペ
ーサ９は、感光性ガラスにふり酸により穿設加工を施し
ているが、感光性ガラスは、現在のところ、３０ｃ１１
平方程度の大きさのものしがなく、近年特に要望されて
いる大型プラズマディスプレイに適応することができな
い。さらに、・プラズマディスプレイの放電空間は、１
００〜２００μ乳程度の厚さが主流であるため、この厚
さでのスペーサ９の組立て作業が非常に困難であるとい
う問題をも有している。

また、上記第４図に示す従来のプラズマディスプレイは
、前面板１とセル障壁３が取付けられた背面板２とから
なる２層構造であり、上記背面板２には、陰極５が形成
されているため、上記従来の螢光面形成方法をそのまま
適用することができない。

本発明は上記の問題点を解決するもので、セル障壁の壁
面に容易に、かつ適正に螢光面を形成することができる
螢光面形成方法を提供することを目的とするものである
。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するために鋭意研究の結果、本発明者は
セル障壁の表面に幅の狭い間隙を設け、そこに螢光体を
流し込むことによりセル障壁に螢光面を簡単に形成する
ことができることを発見し、本発明に想到した。

すなわち、前面板と、複数のマトリックス状の表示要素
を構成するセル障壁を有する背面板とを互いに平行に対
向するように配設してなるプラズマディスプレイの前記
セル障壁の表面に螢光面を形成する本発明の方法は、（
ａ）前記背面板上に前記セル障壁とほぼ同じ高さまでフ
ォトレジストの層を形成し、（ｂ）前記フォトレジスト
層を前記セル障壁と隣接する幅の狭い部分を除いて露光
現像することにより、前記セル障壁と前記フォトレジス
ト層との間に幅の狭い間隙を形成し、（ｃ３前記セル障
壁と前記フォトレジストとの間隙に螢光体を充填し、（
ｄ）前記フォトレジストを除去することを特徴とする特 （作　用〕 本発明によれば、フォトレジストを用い、上記フォトレ
ジストをセル障壁の表面部分のみを除去するように露光
した後、上記セル障壁と上記フォトレジストとの間隙に
螢光体を充填することにより螢光面を形成するようにし
たので、容易にセル障壁の壁面に螢光面を形成すること
ができる。その結果、反射光によるプラズマディスプレ
イを得ることができ、輝度効率を著しく高めることがで
きる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を第１図乃至第３図を参照して説
明する。なお第４図および第５図と同一部分には同一符
号を付しである。

第１図は本発明の一実施例を示したもので、背面板２の
前面側に前面板（図示せず）との間隙を規制するセル陣
！！３を固着する。なお背面板２上には陰極５が形成さ
れている。

（ａ）この背面板２に上記セル障壁３とほぼ同じ高さを
有するようにフォトレジスト層１０を塗布する。これは
、セル障壁３上からフォトレジストを流し込み、余分な
フォトレジストを背面板２を傾斜させて流出させるか、
ゴム等からなるスキージで削り取るようにすればよい。

（ｂ）次に、上記フォトレジスト層１０を乾燥させた　
後、セル障壁３の上方にマスク１１を配置し、上記フォ
トレジスト１０の外周部分（セル障ｖ３に隣接する部分
）を除いた部分のみに紫外線又は電子線等の光を照射し
てフォトレジスト層１０を硬化させる。

（ｃ）次に、フォトレジスト層１０の現像を行ない、上
記セル障壁３の表面に隣接する部分のみのフォトレジス
ト層１０を除去することにより、フォトレジストブロッ
ク１２を形成する。この現像にはフォトレジスト用現像
液、例えば水にアルカリを含有させたもの等を用いる。

（ｄ）その後、上記セル障壁３と上記フォトレジストブ
ロック１２との間隙部分に、螢光体を充填する。螢光体
としては螢光体粉末を樹脂及び溶剤に混合してなる螢光
体塗料を用い、スクリーン印刷法やスプレー等により充
填するのが好ましい。

（ｅ）そして、上記フォトレジストブロック１２を加熱
による焼失法または薬品処理により除去することにより
、セル陣！！３の壁面に螢光面６を形成する。

以上の方法において、上記マスク１１の開口寸法は、充
填される螢光体の粘性、充填手段、螢光面６の肉厚に応
じて調整するものであり、また上記螢光面６を赤、緑、
青の３色に形成する場合は、位置選択性を有するマスク
１１を用いるようにすればよい。また、上記フォトレジ
ストブロック１２を除去する手段として、加熱による焼
失法を用いる場合は、螢光面６の焼成と同時に行なうよ
うにすればよく、この場合には、フォトレジスト１０に
焼成温度以下で焼失する材料を選択すればよい。

また、第２図および第３図は本発明の他の実施例を示し
たもので、断面台形状の孔部８が穿設されたスペーサ９
をセル障壁として用い、このスペーサ９の孔部８の表面
に螢光面６を形成する場合を示したものである。

本実施例においては、スペーサ９をあらかじめ充填する
。次に、上記フォトレジストの層１０を乾燥硬化させた
優、スペーサ９の上方にマスク１１を配置し、上記フォ
トレジスト層１０の外周部分のみに光を照射してフォト
レジスト層１０を分解させる。このとき、本実施例にお
いては、孔部８の表面が傾斜しているので、スペーサ９
を上記孔部８の傾斜面が垂直となるように傾斜させなが
ら回転させることにより、フォトレジスト層１０の露光
を行なう。そして、フォトレジスト層１０の現像を行な
い、上記スペーサ９の表面部分のみのフォトレジスト層
１０を除去することにより、第３図に示すように、断面
台形状の７オトレジストブロツク１２を形成する。なお
、露光は基板２側からも行うことができる（但し陰極が
ないときのみ）。その後、上記スペーサ９と上記フォト
レシストブロック１２との間隙部分に、螢光体（螢光体
塗料）をスクリーン印刷やスプレー等により充填する。

そして、上記フォトレジストブロック１２を加熱焼失法
等により除去することにより、スペーサ９の壁面に螢光
面を形成する。

したがって、本実施例においても、上記実施例と同様に
、容易にかつ適正に螢光面を形成することができ、輝度
効率のよい反射光を視認することができる。

本発明に使用する螢光体として、螢光体粉末をビヒクル
とともに溶剤に溶解してなるものを使用するのが好まし
い。螢光体としては種々のものを使用することができる
が、例えば赤色としてＹ２Ｏ３：　Ｅｕ、Ｙ２Ｓ　ｉ０
５　：　Ｅｕ、Ｙ３Ａ　ｌ　５０１２：Ｅｕ、Ｚｎ３（
ＰＯ４）２：Ｍｎ、ＹＢＯ３：　Ｅｕ、（Ｙ、Ｇｄ）８
０３：Ｅｕ、ＧｄＢＯ３：ＥＵ、５ＣＢＯ３：Ｅｔａ、
Ｌｕ８０３：Ｅｕ等があり、青色としてＹ２Ｓ　！０５
　：　Ｃｅ、ＣａＷＯ：Ｐｂ、ＢａＭｑＡ１１４０２３
：Ｅｕ等があり、緑色としてＺｎ２５　ｉｏ４：Ｍｎ、
ＢａＡｔ１２０１ｇＭｎ、５ｒＡ１１３０１９：Ｍｎ。

ＺｎＡｌ　　　　Ｏ：Ｍｎ、ＣａＡｌ　　　　Ｏ。

１２　　１９　　　　　　　　　　　　１２　　１９　
　。

Ｍｎ、ＹＢＯ３：　Ｔｂ、８ａｌｌｌＡ　ｌ　１４０２
３　：Ｍｎ、ＬｕＢＯ３：Ｔｂ、　　ＧｄＢＯ３：Ｔｂ
。

５ｃ８０３：Ｔｂ、　　５ｒ６８ｉ３０８Ｃ１４：Ｅｕ
等を使用することが好ましい。またビヒクルとしてはＰ
ＶＡ−ジアゾニウム塩、ＰＶＡ−ＡＤＣ等を使用するこ
とができる。さらに溶剤としては水、アルコール類を使
用することができる。このような成分からなる螢光体イ
ンキの組成は、螢光体５〜４０重量％、好ましくは２０
〜３０！ｌ量％、ビヒクル０．５〜８重量％、好ましく
は２〜５！１ｍ％、及び残部溶剤である。

なお、本発明は、上記各実施例のものに限定されるもの
ではなく、円形状、四角形状、線状等いずれの形状のも
のにも、マスクの形状を変えるだけで、容易に対応する
ことができる。

実施例１ ガラス基板上にフリットガラス入りペーストをスクリー
ン印刷により重ね塗りすることにより、ピッチ１ｍｍ、
！３００μ乳、高さ１００μ乳のマトリックス構造の、
セル障壁を形成した。次にＰＶＡ−ジアゾニウム塩のフ
ォトレジストを用い、マスクの開口が５００μ乳平方で
、セル障壁とフォトレジストブロックとの間隙が２００
μ扉となるようにして露光し、温水により現像を行ない
、間隙を形成した。そして、螢光体としてそれぞれ（Ｇ
ｄ、Ｙ）ＢＯ：　Ｅｕ　（赤色＞、　　ＢａｔＶ１ＡＩ
　　　Ｏ：Ｅｕ（青色）及びＺｎＳ＋０４：１４ｎ（緑
色）をＰＶＡからなるビヒクルとアルコールからなる溶
剤を加えて各色の螢光体塗料とし、スクリーン印刷法に
より所定の間隙に充填乾燥した後、４４０℃で焼成した
。その結果、セル障壁に螢光面が塗布されたプラズマデ
ィスプレイを得ることができた。

このように本実施例により、セル障壁３の壁面に、容易
かつ適確に螢光面６を形成することが可能となり、螢光
面６の反射光を視認することにより、輝度効率のよいプ
ラズマディスプレイを得ることができた。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明に係る螢光面形成方法は、セル
障壁の間に７オトレジストを充填後セル障壁に隣接する
幅の狭い部分を除いて露光、現像し、上記セル障壁と上
記フォトレジストの層との間隙に螢光体を充填し、最後
にフォトレジスト層を除去することによりセル障壁面上
に螢光面を形成するようにしたので、容易かつ適確にセ
ル障壁の壁面に螢光面を形成することができる。その結
果、反射光を視認する輝度効率のよいプラズマディスプ
レイを得ることができる等の効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す螢光面形成工程の説明
図であり、 第２図および第３図はそれぞれ本発明の他の実施例を示
す説明図であり、 第４図は従来のプラズマディスプレイを示す縦断面図で
あり、 第５図は従来のスペーサを示す断面図である。 １・・・前面板、２・・・背面板、３・・・セル障壁、
４・・・陽極、５・・・陰極、６・・・螢光面、８・・
・孔部、９・・・スペーサ、１０・・・フォトレジスト
層、１１・・・マスク、１２・・・フォトレジストブロ
ック。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）前面板と、複数のマトリックス状の表示要素用セ
   ルを構成するセル障壁を有する背面板とを互いに平行に
   対向するように配設してなるプラズマディスプレイの前
   記セル障壁の表面に螢光面を形成する方法において、 （ａ）前記背面板上に前記セル障壁とほぼ同じ高さまで
   フォトレジストの層を形成し、 （ｂ）前記フォトレジスト層を前記セル障壁と隣接する
   幅の狭い部分を除いて露光現像することにより、前記セ
   ル障壁と前記フォトレジスト順との間に幅の狭い間隙を
   形成し、 （ｃ）前記セル障壁と前記フォトレジストとの間隙に螢
   光体を充填し、 （ｄ）前記フォトレジストを除去する ことを特徴とする螢光面形成方法。
2. （２）特許請求の範囲第１項に記載の螢光面形成方法に
   おいて、工程（ｂ）において光が当ると分解するフォト
   レジストを用いてセル障壁と隣接する部分を露光現像す
   ることを特徴とする方法。
3. （３）特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の螢光面
   形成方法において、前記螢光体を前記間隙内にスクリー
   ン印刷法又はスプレー法により充填することを特徴とす
   る方法。
4. （４）特許請求の範囲第１項乃至第３項のいずれかに記
   載の方法において、前記フォトレジスト層の除去を焼成
   又は薬品処理により行うことを特徴とする方法。