JPH01123884A - 粘着シート - Google Patents

粘着シート

Info

Publication number
JPH01123884A
JPH01123884A JP62282196A JP28219687A JPH01123884A JP H01123884 A JPH01123884 A JP H01123884A JP 62282196 A JP62282196 A JP 62282196A JP 28219687 A JP28219687 A JP 28219687A JP H01123884 A JPH01123884 A JP H01123884A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sheet
electron beam
adhesive
sensitive adhesive
pressure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62282196A
Other languages
English (en)
Inventor
Susumu Yamamoto
進 山本
Susumu Tsuchiko
土子 進
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical Toyo Ink Mfg Co Ltd
Priority to JP62282196A priority Critical patent/JPH01123884A/ja
Publication of JPH01123884A publication Critical patent/JPH01123884A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68327Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (卒業上の利用分野) 本発明は粘着シートに関し、さらに詳しくは2本発明は
、半導体ウェハを小片に切断分離する際に用いられるウ
ェハ貼着用粘着シートすなわちグイシングテープなどと
して好適に用いられる粘着シートに関する。
(従来の技術) 半導体ウェハのダイシング工程からピックアップ工程に
至る工程において用いられる粘着シートの粘着剤には、
その接着強度の経時変化の防止のために。
近年、紫外線照射前には粘着性が高く、照射後には硬化
して微粘着性となる紫外線硬化型粘着剤が用いられるよ
うになってきた。しかしながら、このような紫外線硬化
型粘着剤には、貯蔵時、暗反応によって高粘度となった
りゲル化したりして貯蔵安定性が悪い、粘着剤の組成に
もよるが2通常、硬化効率が十分高(ないために紫外線
を照射した後に十分微粘着性とならないなどの欠点があ
った。
これらの欠点を改良するために1本発明者らは。
このような粘着シートの粘着剤として、電子線照射前に
は粘着性が高く、照射後には硬化して微粘着性となる電
子線硬化型粘着剤の使用を検討した。このような電子線
硬化型粘着剤を用いた場合には、貯蔵安定性や硬化効率
の問題は解決できるものの、これらの粘着シートの基材
として通常用いられるポリ塩化ビニルシートでは、電子
線照射による分解により異臭の発生および着色がおこり
、ポリプロピレンシート、ポリブテンシート、分岐低密
度ポリエチレンシート、高密度ポリエチレンシートなど
では電子線照射による分解により異臭が発生するという
欠点があった。また、これらの粘着シートの基材として
ポリエチレンテレフタレートシートを用いた場合には。
電子線照射による異臭の発生はないものの、電子線照射
によって着色する。エキスバンドしようとしてもエキス
バンドしにくいという欠点があった。 −方、特開昭5
8−2371号公報、特開昭60−255873号公報
、特開昭60−179484号公報、特開昭60−44
570号公報などにみられる。
電子線照射前には粘着性を示さず、電子照射することに
よって凝集力が高くなり粘着性が発現する電子線硬化型
粘着剤の場合にも、基材としてポリ塩化ビニルシート、
ポリプロピレンシート、ポリブテンシート、分岐低密度
ポリエチレンシート、高密度ポリエチレンシートポリエ
チレンテレフタレートシートなど粘着シートの基材とし
て通常用いられるプラスチックシートを用いると、上記
のような異臭の発生や着色の問題がおこるという欠点が
あった。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明者らは、鋭意検討の結果、電子線硬化型粘着剤層
を設けた粘着シートの基材として線状低密度ポリエチレ
ンシートを用いることにより、電子線照射しても基材の
着色や基材からの異臭の発生がないことを見出し2本発
明に至ったもので2本発明は。
電子線照射しても基材の着色や基材からの異臭の発生が
なく、ウェハ貼着用粘着シートとして用いた場合にも、
ウェハ貼着用粘着シートとしての性能、たとえば、十分
にエキスバンドできること、そしてそのために硬化後の
粘着剤の粘着性がさらに低くなってピックアップ後のウ
ェハに粘着剤が付着しないことなどを十分満足しうる粘
着シートを提供するものである。
〔発明の構成〕
(問題点を解決するための手段) 本発明は、線状低密度ポリエチレン(以下、LLDPE
という。)シート上に電子線硬化型粘着剤層を設けてな
る粘着シートである。
本発明において用いられるLLDPEシートとは。
エチレンとα−オレフィンとを共重合することによって
得られる。炭素数が1〜10個の側鎖アルキル基数が主
鎖炭素原子1000個当り3〜35個程度である低密度
ポリエチレンのシートである。 LLDPEの密度は1
通常0.900〜0.940g/cmであり、得られる
粘着シートをウェハ貼着用粘着シートとして用いる場合
には、0.905〜0.940g/−が好ましく、特に
0.910〜0.930g/−が好適である。
LLDPEの密度が0.900g/c11未満モは、得
られる粘着シートをウェハ貼着用粘着シートとして用い
た場合に基材としての剛性が十分ではなく、0゜940
g/aaを超えると、得られた粘着シートをウェハ貼着
用粘着シートとして用い、エキスバンドする場合には、
伸長率が不十分となる。
また、LLDPEのメルトインデクス(Ml)は通常0
.01〜100 g / 10分であり、得られる粘着
シートをウェハ貼着用粘着シートとして用いる場合には
、0.1〜50g/10分が好ましく、特に0゜5〜3
0g/10分が好適である。LLDPEのMIが0.0
1g/10分未満では、得られる粘着シートをウェハ貼
着用粘着シートとして用い、エキスバンドする場合に、
伸長率が低くなり、十分なエキスバンドができず、10
0g/10分を超えると、エキスバンド性は良いが、適
性な剛性がないために良好な製品が得られない。
LLDPEの製造に用いられるα−オレフィンは。
通常、炭素数が多くとも12個のα−オレフィンであり
1代表例としてプロピレン、ブテン−1,ヘキセン−1
,4−メチルペンテン−1,オクテン−1などがあげら
れる。LLDPEにおけるα−オレフィンの共重合割答
は通常1.0〜18重景%である。
本発明において電子線硬化型粘着剤としては、電子線照
射前には粘着性が高く、照射後には硬化して微粘着性と
なるもの、あるいは電子照射前には粘着性を示さず、電
子線照射によって硬化して凝集力が高くなり粘着性が発
現するものを用いることができ。
目的に応じてこれらの中から適宜選ばれる。得られる粘
着シートをウェハ貼着用粘着シートとして用いる場合に
は、電子線硬化型粘着剤として、電子線照射前には粘着
性が高く、照射後には硬化して微粘着性となるものを用
いることが好ましい。電子線照射前には粘着性が高く、
照射後には硬化して微粘着性となる電子線硬化型粘着剤
としては、ウレタンアクリレート系オリゴマー、通常の
アクリルウレタン系粘着剤と多官能アクリレートモノマ
ー(またはオリゴマー)とを混合したもの1通常のアク
リル系粘着剤とウレタンアクリレート系オリゴマーとを
混合したもの、ゴム系またはアクリル系ポリマー、ポリ
イソシアネートやアルキルエーテル化メラミン化合物な
どの架橋剤およびエチレン不飽和二重結合を2個以上有
する化合物を混合したもの、あるいはこれらの混合物を
代表例としてあげることができる。電子線照射前には粘
着性を示さず、電子線照射によって硬化して凝集力が高
くなり粘着性が発現する電子線硬化型粘着剤としては、
従来公知のものを用いることができ、このような粘着剤
としては、酢酸ビニル。
アクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレー
トおよびポリマーからなるもの、アクリル酸イソオクチ
ル単独からなるもの、アクリル酸ブチルとアクリル酸と
の混合物、メタクリル酸エチル、メタクリル酸および粘
着性付与剤からなるもの、ポリブタジェン、アクリロニ
トリル−ブタジェンコポリマー、アクリル酸およびフェ
ノールテルペンからなるもの、アクリル変性ポリブタジ
ェン、アクリロニトリル−ブタジェンコポリマーおよび
アクリル酸またはそのエステルからなるもの、ポリブタ
ジェン、アクリル酸、粘着性付与剤および必要に応じて
酢酸ビニルからなるもの、 (メタ)アクリル酸エステ
ルポリマー、多官能(メタ)アクリル酸エステルモノマ
ー、粘着性付与剤および必要に応じて可塑剤か・らなる
もの、アクリル系重合体、多官能(メタ)アクリル酸エ
ステルモノマーおよび単官能(メタ)アクリル酸エステ
ルモノマーからなるものなど、あるいはこれらの混合物
をあげることができる。電子線硬化型粘着剤には、上記
の成分の他、染顔料、無機充填剤、有機溶剤、界面活性
剤などを含んでいてもよい。
電子線硬化型粘着剤が電子線照射前には粘着性を示さず
、電子線照射によって硬化して凝集力が高くなり粘着性
が発現するものの場合には、LLDPEシート上に電子
線硬化型粘着剤層を設け、電子線照射により上記粘着剤
層を硬化する方法としては、■LLDPEシート上に電
子線硬化型粘着剤を塗布し。
必要なら有機溶剤を揮発させた後、電子線を照射する方
法、■LLDPEシート上に電子線硬化型粘着剤を塗布
し、必要なら有機溶剤を揮発させた後、LLDPEシー
ト、ポリエチレンテレフタレートシートなどの剥離性シ
ートを貼着し、電子線を照射する方法、および■LLD
PEシート、ポリエチレンテレフタレートシートなどの
剥離性シート上に電子線硬化型粘着剤を塗布し、必要な
ら有機溶剤を揮発させた後、LLDPEシートを貼着し
、電子線を照射する方法がある。
このようにして得られたシートは、剥離性シートを有さ
ない場合にはそのままで、剥離性シートを有する場合に
は使用時に剥離性シートを剥離して本発明の粘着シート
とされる。
また、電子線照射前には粘着性が高く、照射後には硬化
して微粘着性となる電子線硬化型粘着剤をウェハ貼着用
に用いる場合には次の6通りの方法がある。すなわち、
■LLDPEシート上に電子線硬化型粘着剤を塗布し、
必要なら有機溶剤を揮発させた後、電子線を照射し、半
導体ウェハを固定し、小片に切断分離し、LLDPEシ
ートをエキスバンドする方法、■LLDPEシート上に
電子線硬化型粘着剤を塗布し、必要なら有機溶剤を揮発
させた後、ポリエチレンテレフタレートシート、LLD
PEシートなどの剥離性シートを貼着し、電子線を照射
し。
使用時に剥離性シートを剥離し、半導体ウェハを固定し
、小片に切断分離し、LLDPEシートをエキスバンド
する方法、■ポリエチレンテレフタレートシート、LL
DPEシートなどの剥離性シート上に電子線硬化型粘着
剤を塗布し、必要なら有機溶剤を揮発させた後、LLD
PEシートを貼着し、電子線を照射し、使用時に剥離性
シートを剥離し、半導体ウェハを固定し、小片に切断分
離し、LLDPEシートをエキスバンドする方法、■L
LDPEシート上に電子線硬化型粘着剤を塗布し、必要
なら有機溶剤を揮発させ、半導体ウェハを固定し、小片
に切断分離し、LLDPEシートをエキスバンドしてか
ら。
電子線を照射する方法、■LLDPEシート上に電子線
硬化型粘着剤を塗布し、必要なら有機溶剤を揮発させ、
ポリプロピレンシート、高密度ポリエチレンシート、分
岐低密度ポリエチレンシート、LLDPEシート、ポリ
エチレンテレフタレートシート。
ポリブテンシート、ポリ塩化ビニルシートなどの剥離性
シートを貼着し、使用時に剥離性シートを剥離させ、半
導体ウェハを同定し、小片に切断分離し。
LLDPEシートをエキスバンドしてから、電子線を照
射する方法、および■ポリプロピレンシート。
高密度ポリエチレンシート、分岐低密度ポリエチレンシ
ート、LLDPEシート、ポリエチレンテレフタレート
シート、ポリブテンシート、ポリ塩化ビニルシートなど
の剥離性シート上に電子線硬化型粘着剤を塗布し、必要
なら有機溶剤を揮発させ、LLDPEシートを貼着し、
使用時に剥離性シートを剥離させ、半導体ウェハを同定
し、小片に切断分離し。
LLDPEシートをエキスバンドしてから、電子線を照
射する方法がある。エキスバンドは加熱して行なっても
よい。アクリル系ポリマーおよび多官能アクリルモノマ
ーまたはオリゴマーからなる電子線硬化型粘着剤を用い
る場合、アクリル系ポリマーの分子量が30万以上のと
きには上記■〜■の方法が適用でき、上記■〜■の方法
を適用するときにはアクリル系ポリマーの分子量には格
別な制限はない。
本発明において電子線硬化型粘着剤を塗布する方法とし
て特に制限はなく、ロールコータ−、ナイフコーター、
コンマコーターなどの従来公知の塗装機で塗装すること
ができる。印刷機によりパターン状に印刷してもよい。
また、電子線照射についても特に制限はなく、スキャン
型、カーテン型などの電子線加速器を用いて電子線を照
射することができる。
適切なマスクを用いて電子線硬化型粘着剤層をパターン
状に硬化させてもよい。電子線の照射前、照射時、また
は照射後に加熱を行なってもよい。
(実 施 例) 以下、実施例により本発明を説明する。例中2部とは重
量部を表わす。
実施例1 アクリル酸n−ブチル40.7部、アクリル酸2−エチ
ルヘキシル58.5部およびアクリル酸0.8部を共重
合させた平均分子量約20万のアクリル系共重合体10
0部にメタクリル酸グリシジル0.2部を付加させて得
られたアクリル共重合体100部、酢酸ブチル150部
、ポリエチレングリコール#400ジアクリレート4.
5部およびトリメチロールプロパントリアクリレート3
部からなる電子線硬化型粘着剤を、ロールコータ−によ
り、剥離性シートとしての厚さ50μmのポリエチレン
テレフタレートシート上に、乾燥塗膜厚10μmとなる
ように塗布し。
100℃で2分間乾燥し、これに基材としてのLLDP
Eシート「トーセロTUX−HC#60J  (東京セ
ロファン祇■製、商品名、シート厚60μm)を貼着し
た。得られたシートに、リニアフィラメント型電子線照
射装置「エレクトロカーテン」 (エナジー・サイエン
ス社製、商品名)により、加速電圧160kV、ビーム
電流5mA、ちっ紫雲囲気中で10Mradの電子線を
剥離性シート側より照射し。
剥離性シートを剥離して粘着シートを得た。得られた粘
着シートにおいて、異臭の発生および基材の着色は認め
られなかった。
得られた粘着シートを幅25mmの切片に切断し。
得られた切片を厚さ2mmのステンレススチール板に貼
着し、JIS  Z−0237に準拠して粘着強度を測
定したところ、ウェハ粘着用粘着シートの粘着剤の粘着
強度として適切な75g/25mmを示した。測定後、
切片を剥離したステンレススチール板の表面には粘着剤
の残存はなかった。
得られた粘着シートにシリコン半導体ウェハを固定し、
シリコン半導体ウェハを切断分離(ダイシング)L、L
LDPEシートをエキスバンドしたが。
ウェハチップのずれ、脱離などはなく9次工程のピック
アッ゛プを支障なく行なうことができた。なお。
エキスバンド後の粘着剤の粘着強度は45 g/25m
mであった。
比較例1 基材として「トーセl:ITUX−HC#60Jの代り
にポリ塩化ビニルシート「ハイニスフィルム」(日本カ
ーバイド工業■製、商品名、シート厚60μm)を用い
た以外は実施例1と同様にして粘着シートを得た。得ら
れた粘着シートの粘着強度は、ウェハ貼着用粘着シート
の粘着剤の粘着強度として適切な80g/25mmを示
したが、得られた粘着シートからは異臭を発生し、基材
も赤褐色に着色した。
比較例2 基材として[トーセロTUX−HC#60Jの代りに分
岐低密度ポリエチレンフィルム「タマポリ・ポリエチレ
ンN−5l−Cl  (タマポリ■製、商品名、フィル
ム厚4011m)を用いた以外は実施例1と同様にして
粘着シートを得た。得られた粘着シートの粘着強度は、
ウェハ貼着用粘着シートの粘着剤の粘着強度として適切
な80g/25mmを示したが、得られた粘着シートは
異臭を発生するものであった。
実施例2 アクリル酸n−ブチル90部およびメタクリル酸10部
を共重合させた平均分子量約40万のアクリル系共重合
体100部にメタクリル酸グリシジル5部を付加させて
得られたアクリル共重合体100部。
酢酸ブチル150部およびトリメチロールプロパントリ
アクリレート15部からなる電子線硬化型粘着剤を、コ
ンマコーターにより、「トーセロTUX−HC#60J
上に乾燥塗膜厚10μmとなるように塗布し、100℃
で2分間乾燥し、粘着シートを得た。得られた粘着シー
トの粘着剤の粘着強度は700g/25mmであった。
得られた粘着シートにシリコン半導体ウェハを固定し、
シリコン半導体ウェハを小片に切断分離(ダイシング)
L、LLDPEシートをエキスバンドした後、実施例1
と同様の条件で電子線を照射した。
このとき、ウェハチップのずれ、脱離などはなく。
次工程のピックアップを支障なく行なうことができた。
なお、エキスバンド後の粘着剤の粘着強度は20g/2
5mmであった。
〔発明の効果〕
本発明により、電子線照射しても基材の着色や基材から
の異臭の発生がなく、ウェハ貼着用粘着シートとして用
いた場合にも、ウェハ貼着用粘着シートとしての性能、
たとえば、十分にエキスバンドできること、そしてその
ために硬化後の粘着剤の粘着性がさらに低くなってピッ
クアップ後のウェハに粘着剤が付着しないことなどを十
分満足しうる。電子線硬化型粘着剤層を設けた粘着シー
トが得られるようになった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  線状低密度ポリエチレンシート上に電子線硬化型粘着
    剤層を設けてなる粘着シート。
JP62282196A 1987-11-10 1987-11-10 粘着シート Pending JPH01123884A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62282196A JPH01123884A (ja) 1987-11-10 1987-11-10 粘着シート

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62282196A JPH01123884A (ja) 1987-11-10 1987-11-10 粘着シート

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01123884A true JPH01123884A (ja) 1989-05-16

Family

ID=17649324

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62282196A Pending JPH01123884A (ja) 1987-11-10 1987-11-10 粘着シート

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01123884A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH036437U (ja) * 1989-06-07 1991-01-22
US6235387B1 (en) 1998-03-30 2001-05-22 3M Innovative Properties Company Semiconductor wafer processing tapes
KR100412020B1 (ko) * 2001-03-12 2003-12-24 박광민 반도체 웨이퍼용 점착테이프

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH036437U (ja) * 1989-06-07 1991-01-22
US6235387B1 (en) 1998-03-30 2001-05-22 3M Innovative Properties Company Semiconductor wafer processing tapes
US6478918B2 (en) 1998-03-30 2002-11-12 3M Innovative Properties Company Semiconductor wafer processing tapes
KR100412020B1 (ko) * 2001-03-12 2003-12-24 박광민 반도체 웨이퍼용 점착테이프

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3776120B2 (ja) 新規のシート材料
GB2184741A (en) Adhesive sheet suitable for use in the preparation of semiconductor chips
JPS60223139A (ja) 半導体ウエハ固定用接着薄板
JP2009538380A (ja) 紫外線重合性組成物類
JP2003327945A (ja) アクリル系剥離剤前駆体、剥離剤物品及び剥離剤物品の製造方法
JP2009155625A (ja) 保護膜、積層フィルム及びそれを用いた加工方法
JP5717320B2 (ja) 再剥離型粘着シート
JP3473769B2 (ja) 放射線硬化性飽和ポリオレフィン感圧接着剤
JP2010209168A (ja) 粘着シート
JPH0661346A (ja) 半導体ウエハダイシング用粘着シート
JPS5850164B2 (ja) 表面保護方法
JPH01123884A (ja) 粘着シート
JPH10212461A (ja) 粘着シート及び粘着シート積層体
JPH0561314B2 (ja)
JP3574524B2 (ja) フォトマスク保護用粘着フィルムの製造方法
JP2000345129A (ja) 半導体ウエハ用シート
JPH023833B2 (ja)
JPH05311130A (ja) 電子部品連設用テープ
JPS6161873B2 (ja)
JPS58219283A (ja) 易剥離性粘着シ−トの製造法
KR100231654B1 (ko) 박리 시이트
JPH0461947A (ja) マスキングテープ
JP2829414B2 (ja) 粘着部材及びその製造方法
JPS6028481A (ja) 物品の固定方法
JPH0657216A (ja) 放射線硬化型粘着剤と粘着テ―プ