JPH01111702A - 複合酸化物から放射線照射を利用して室温超伝導体を製造する方法 - Google Patents

複合酸化物から放射線照射を利用して室温超伝導体を製造する方法

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JPH01111702A
JPH01111702A JP62269000A JP26900087A JPH01111702A JP H01111702 A JPH01111702 A JP H01111702A JP 62269000 A JP62269000 A JP 62269000A JP 26900087 A JP26900087 A JP 26900087A JP H01111702 A JPH01111702 A JP H01111702A
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beams
contg
compound oxide
room temperature
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Hiroyuki Yoshida
博行 吉田
Kozo Atobe
跡部 紘三
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/01Manufacture or treatment
    • H10N60/0884Treatment of superconductor layers by irradiation, e.g. ion-beam, electron-beam, laser beam or X-rays

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  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ〕 産業上の利用分野 この発明は次のように広い分野への応用ができる。(1
)  宇宙や地下空間での電力貯蔵のための超伝導体へ
の利用、■ 電気エネルギーの損失が少ない発電、送電
又は配電のための超伝導体への利用、(3基板上の常伝
導体薄膜へ放射線を照射して、超伝導回路及びジョセフ
ソン接合素子形成への利用、(4)  その他超伝導を
応用する機器への利用。
(ロフ 従来の技術 従来の電気設備や電子装置では、電気エネルギーの発熱
による多大な損失と発熱によるllI害が常に付きまと
い、このI+Tl!flを克服することは非常に困難で
あった。酸化物を焼結するだけの従来の超伝導体の製造
方法では、最近開発された酸化物高温超伝導体でさえ、
その臨界温度が絶対温度で約90°に以下であるため超
伝導体の実用化にはなお問題があった。
(ハ)発明が解決しようとする問題点 この発明は放射線照射を利用して液体窒素温度から室温
までの温度範囲で、超伝導現象が安定に発現する超伝導
体を製造することを目的とする。
(ニ)問題を解決するための手段 従来の材料と技術では絶対温度が約100°に以上で安
定に超伝導環1を起こしうる焼結法による材料のwJ造
が不可能であった。以下にこの発明による高温で安定な
超伝導体を!+2造する方法を述べる。
1)先駆物質の合成法 ■    イ  ッ  ト リ ウ ム 系  (Y−
Ba−Cu−0系)、スカンジウム系(Sc−Ba−C
u−0系)及びランタニド系(Ln−Ba−Cu−0系
)の複合酸化物が、焼成後ペロブスカイト構造を構成す
るようにするには、イツトリア(Y to s) 、ス
カンジア(SC201)、又はランタニドオキサイド(
L n 20 i>をそれぞれ炭酸バリウム(BaCO
,)及び酸化第2tjA(CuO)の粉末と調合するの
が基本である。そのためには、イオン半径や化学的性質
が近似のイツトリウム、スカンジウム又はランタニドの
元素量を1とすると、元素量比でバリウム2. WA3
の割合で混合し、次に述べるように焼成する。
■ 調合済みの粉末は通常の混合粉砕機で混合及び粉砕
を行い、粒子径が約1ミクロン以下の均質な混合粉末と
する。この混合粉末を約1100〜1200’にの大気
中で約10h仮焼する。この仮焼粉末を再び粒子径約1
ミクロン以下に粉砕して仮焼済み粉末とする0次に高温
超伝導体を形成する手段は、超伝導体の形態にもよるが
、(1)  粉末、■ プレスによる固形体、(3) 
 基板上の薄膜、(4)  中空管への充てんなどの状
態で本焼成する。この焼成条件は超伝導体の形状、寸法
にもよるが、たとえば1200〜1400”Kの空気中
で約25hである。
2)放射線による処理法 上記の焼成体に超伝導特性を発揮するのに必要な構造す
なわち超伝導相を生じさせるために、焼成体を、室温か
ら約600°にの温度範囲でヘリウムガス雰囲気中に保
持し、焼成体に対し放射線を照射する。適正な放射線の
照射量は、荷電粒子線で10′6〜10”個/ c m
 ”、又非荷電粒子線で1019〜l Q IS個/ 
c m ”の範囲に入る。照射量がこれらの上限を超え
ると超伝導相が破壊される。
(ホ〕 作用 先駆物質に電気抵抗測定リード線を付け、放射線照射装
置内で、照射面と照射後の電気抵抗値を室温から20°
Kまでの冷却過程で長時間連続的に測定してそれぞれの
過程で電気抵抗の温度依存性を調べることにより第1図
と第2図を得た。第1図と第2図は、いずれも横軸に絶
対温度を、縦軸に電気抵抗¥1(Ω)をとったもので、
この発明の例として、ランタン−バリウム−銅−酸素系
へロブスカイト構造の複合酸化物に原子炉の放射線(中
性子線など)を照射する前と照射したt&の材料の電気
抵抗の温度変化を示したものである。第1図は比較的低
量の放射線照射の結果であり、第2図は第1図より高い
放射線照射の結果である。
両図において、材料の電気抵抗値は冷却過程で矢印のよ
うに変化していて、放射線照射により材料の超伝導性が
液体窒素温度から室温までの温度範囲で明らかに安定に
発現しているのがわかる。な明細書の浄書1 お第1表と第2表はそれぞれ第1図と第2図での先駆物
質に対する放射線照射の条件を示したものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は放射照射量が比較的低い場合の、放射線照射前
の先駆物質の電気抵抗と温度の関係 (a)及び放射線
照射後の同物質の電気抵抗と温度の関係(bとC)を示
し、第2図は放射線照射量が比較的高い場合の、放射線
照射前の先駆物質の電気抵抗と温度の間係(a’)及び
放射線照射後の同物質の電気抵抗と温度の間係(b’と
c′)を示す。 手続補正歯(方式) 昭和63年2月12日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ペロブスカイト構造をもつイットリウム系スカンジ
    ウム系及びランタニド系複合酸化物に放射線すなわち原
    子変位を起こしうる電子線、陽子線、重イオン線の荷電
    粒子又は中性子線などの非荷電粒子を照射して、液体窒
    素温度から室温までの温度範囲で安定に超伝導現象を発
    現する超伝導体を製造する方法。
JP62269000A 1987-10-24 1987-10-24 複合酸化物から放射線照射を利用して室温超伝導体を製造する方法 Pending JPH01111702A (ja)

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