JP7496408B2 - 光源ユニット、表示装置、及び光源ユニット製造装置 - Google Patents
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Description
上記のように構成された特許文献1に記載のバックライトによれば、光出射面における輝度ムラを抑えて均一に光を照射することができる。
本発明は、上記従来技術の問題点を解決し、出射面での輝度の均一性を確保しつつ、より薄型化された光源ユニット及び表示装置を提供することを目的とする。また、本発明の他の目的は、上記の光源ユニットを製造するための光源ユニット製造装置を提供することである。
以上の点を踏まえて、本発明者らは、微小光源の周りに低反射パターンを設けることの効果として、光出射面における輝度の均一性を確保しつつ光源ユニットを薄型化することを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記の課題が解決されることを見出した。
[2] 基材において第一面とは反対側に位置する第二面と光源設置面との間隔が1mm以上且つ4mm以下である、[1]に記載の光源ユニット。
[3] 平面状の光源設置面を有する基板を有し、光源設置面において、少なくとも一つの微小光源としての複数の微小発光素子が、光源設置面の中央位置を基準として対称的に配置されている、[1]又は[2]に記載の光源ユニット。
[4] 第一面において、反射パターンを構成する複数の単位パターンが、第一面の中央位置を基準として対称的に形成されている、[1]乃至[3]のいずれかに記載の光源ユニット。
[5] 複数の単位パターンの各々が酸化チタンによって構成されている、[4]に記載の光源ユニット。
[6] 複数の単位パターンの各々は、光源設置面に向かって突出し、且つ、光源設置面に近付くにつれて直径が段階的に小さくなる形状を有する、[4]又は[5]に記載の光源ユニット。
[7] 複数の単位パターンの各々は、基材において第一面とは反対側に位置する第二面における輝度の分布に関する指標値が設定条件を満たすために第一面に形成されている、[4]乃至[6]のいずれかに記載の光源ユニット。
[8] 下記の第一条件及び第二条件が満たされることで、指標値が設定条件を満たし、複数の単位パターンの各々の厚み、サイズ及び配置位置が、第一条件及び第二条件を満たすように決められた厚み、サイズ及び配置位置である、[7]に記載の光源ユニット。
第一条件:基材において第一面とは反対側に位置する第二面のうち、少なくとも一つの微小光源と重なる位置にある特定領域、及び、特定領域を囲む周辺領域の各々での輝度が基準値以下になること。
第二条件:第二面における輝度の分散度合いが目標範囲内にあること。
[9] 低反射パターンのサイズは、光源設置面よりも第一面に近い位置に在る平面における輝度の分布に関する評価値に基づいて決められたサイズである、[8]に記載の光源ユニット。
[10] 第二面における輝度の分布が低反射パターンのサイズに応じて変化し、複数の単位パターンの各々の厚み、サイズ及び配置位置が、低反射パターンのサイズに応じて決められた厚み、サイズ及び配置位置である、[9]に記載の光源ユニット。
[11] 基材は、透光性を有するフィルム材料によって構成される、[1]乃至[10]のいずれかに記載の光源ユニット。
[12] 基材と反射パターンとが第一光散乱体を構成し、第一光散乱体と少なくとも一つの微小光源との間に、反射パターンが設けられていない第二光散乱体が配置されている、[1]乃至[11]のいずれかに記載の光源ユニット。
[13] 光源設置面と平行であり且つ互いに直交する2つの方向の各々において、光源設置面に対する第一光散乱体の正規の配置位置と、第一光散乱体の実配置位置とのずれ量が0.2mm以下である、[12]に記載の光源ユニット。
[14] 液晶ディスプレイを有し、[1]乃至[13]のいずれかに記載の光源ユニットがバックライトユニットとして液晶ディスプレイの背面側に備えられている表示装置。
[15] [1]乃至[13]のいずれかに記載の光源ユニットを製造する光源ユニット製造装置であって、少なくとも一つの微小光源の配光特性を取得する配光特性取得装置と、取得された配光特性に基づいて生成されたパターン形成データに従って、基材の第一面に反射パターンを形成し、且つ、光源設置面のうち、少なくとも一つの微小光源の周りに位置する領域に低反射パターンを形成するパターン形成装置と、を有する光源ユニット製造装置。
また、本発明によれば、上記の光源ユニットを製造する装置を提供することができる。
なお、以下に説明する装置構成、用途、及び用法は、本発明の代表的な実施態様に基づくものであるが、本発明は、そのような実施態様に限定されるものではない。すなわち、本発明は、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、以下に説明する実施形態から変更又は改良され得る。また、当然ながら、本発明には、その等価物が含まれる。
また、本明細書において、「同じ」、「同様」及び「同一」は、完全に同一である場合の他、多少の相違するものの、その相違が本発明の技術分野において一般的に許容される誤差範囲にある場合を含むものとする。
また、本明細書において、「全部」、「いずれも」及び「全面」等というとき、100%である場合のほか、本発明が属する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含み、例えば99%以上、95%以上、または90%以上である場合を含むものとする。
また、本明細書において、「平行」は、基準となるライン、面若しくは方向に対して平行である場合の他、数度の傾きがあるものの略平行である場合を含むものとする。
なお、配光は、光源が点として見える無限遠の距離から測定されるファーフィールド配光と、光源内の様々な点から出る光の分布が判別できる距離から測定されるニアフィールド配光とに分類される。以下では、特に断る場合を除き、配光は、ファーフィールド配光を意味することとする。
本実施形態に係る表示装置10は、図2に示すように、画像を表示する液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display:以下、LCDと表記)12と、LCD12の背面側に配置された光源ユニット14とを有する。
なお、図3に示す断面図では、図示を簡略化するために、微小光源16及び単位パターン32のそれぞれの個数を、実際とは異なる個数としている。
光源設置面22のうち、低反射パターン38が形成された領域での反射率は、それ以外の領域での反射率よりも小さく、例えば、前者の領域の反射率が約0.1%であるのに対し、後者の領域の反射率は、約90%である。反射率は、公知の測定方法、例えば公知の分光測定装置を用いた方法により測定可能である。
光の出射面(厳密には、後述する基材24の第二面28)において輝度の均一性を確保する一般的な方法としては、基材24の第一面26に反射パターン30を形成することが挙げられる。
一方、光源ユニット14及び表示装置10の厚みは、基材24において第一面26とは反対側に位置する第二面28と光源設置面22との間隔(図3中、記号dにて示す)に応じて決まる。
図5に示す指標値(縦軸の数値)は、第二面28における輝度の二次元分布から算出される標準偏差(シグマ)を、輝度の平均値で除した値であり、以下では便宜的に「規格化シグマ」という。
規格化ダイナミックレンジ及び規格化シグマは、いずれも、輝度の分布の均一性が高いほど小さくなる。
図10及び11は、第一光散乱体34の配置位置がずれた場合(厳密には、後述するXY方向に配置位置が0.2mmずれた場合)の指標値の変化を表しており、図10は、規格化ダイナミックレンジの変化を、図11は、規格化シグマの変化を示している。なお、図10及び11に示すケースでは、第一光散乱体34の配置位置がずれることで、指標値が図中の矢印の向きに上昇する。
詳しく説明すると、第二光散乱体36を第一光散乱体34と組み合わせることで、図12及び13に示すように、第二光散乱体36を設けない場合に比べて、第一光散乱体34の配置位置がずれた際の輝度の均一性低下をより緩和させることができる。このような第二光散乱体36を設けることの効果は、微小光源16からの配光強度が限定的な範囲で高くなる(すなわち、ピーキーな配光特性である)場合には、特に有効となる。
本実施形態に係る光源ユニット14は、図3に示すように、微小光源16が設置された基板20、反射パターン30を有する第一光散乱体34、光源設置面22に形成された低反射パターン38、及び第二光散乱体36を備える。
以下、光源ユニット14の各構成機器について説明する。
微小光源16は、指向性が強い点光源であり、本実施形態では、図3に示す微小発光素子18によって構成され、具体的にはミニLED(Light Emitting Diode)と呼ばれる、チップサイズが100~200μmであるLEDからなる。
ただし、微小光源16の種類については、ミニLEDに限定されるものではなく、例えば、チップサイズが100μm以下であるマイクロLEDを用いてもよく、あるいは、LED以外の微小発光素子、具体的には、微小なエレクトロルミネッセンス素子、又は微小な半導体レーザを用いてもよい。
基板20は、平面状の部材であり、LCD12のバックライトユニットとして通常用いられるリジッド基板、フレキシブル基板若しくはリジッドフレキシブル基板である。また、基板20は、不図示である平板状のベース層を有し、ベース層においてLCD12が位置する側に光源設置面22を有する。ベース層の材質については、特に制限されないが、例えばAGSP(Advanced Grade Solid-Bump Process)、アルミナ、ガラエポ、及びPCB(Polychlorinated Biphenyl)等が挙げられ、特に熱伝導率が高い材質が好ましい。
なお、光源設置面22の中央位置は、例えば、光源設置面22が長方形又は正方形であれば、対角線の交点の位置が該当し、光源設置面22が円であれば、円の中心位置が該当する。
なお、光源設置面22のうちの非パターン形成領域は、高反射率の反射層によって覆われてもよい。また、基板20のベース層が光拡散性を有する材料、例えば光拡散フィルムによって構成されてもよく、非パターン形成領域では、ベース層が露出していてもよい。その場合、ベース層の上に反射層を別途設ける必要がなくなる。
第一光散乱体34は、反射型透過体により構成され、図3に示すように、光透過性を有する透明又は半透明の基材24と、基材24の表面に形成された反射パターン30とを有する。
基材24は、透光性を有するフィルム材料からなるが、光を透過するものでれば、透明の基材、半透明の基材、並びに、その他の光拡散性を備えた基材のうち、いずれでもよい。
なお、基材24の中央位置は、例えば、基材24の表面が長方形又は正方形であれば、対角線の交点の位置が該当し、基材24の表面が円であれば、その円の中心位置が該当する。
ちなみに、本実施形態の基材24には、微小光源16が位置する側に、反射パターン30と同じ材質の反射層(不図示)が設けられている。この反射層は、厚みが均一であり且つ十分に小さい層である。
反射パターン30は、基材24の第一面26に形成(パターニング)され、複数の微小発光素子18からの入射光(厳密には、第二光散乱体36を透過した光)を反射する。反射パターン30は、基材24の-Z側で基材24と積層されている。
なお、図14に示す反射パターン30では、単位パターン32の個数が、図示の便宜上、実際とは異なる個数となっている。
なお、各単位パターン32は、図15に示すように光源設置面22に向かって漸次的に縮径したテーパ形状でもよく、図16に示すように複数の縮径箇所にて不連続に縮径することでステップ(段差)をなした形状でもよい。
また、各単位パターン32の形状は、略円錐形状に限られず、三角錐又は四角錐形状でもよく、円柱又は平面視で多角形をなす角柱形状等でもよく、あるいは不定形でもよい。
なお、本実施形態では、酸化チタンを反射材として用いて単位パターン32を形成することとする。
具体的には、反射パターン30をなす複数の単位パターン32の各々は、第二面28における輝度の分布に関する指標値(例えば、規格化ダイナミックレンジ及び規格化シグマ等)が設定条件を満たすように第一面26に形成される。ここで、設定条件とは、光源ユニット14の要求仕様として、規格化ダイナミックレンジ及び規格化シグマ等の指標値が満たすべき数値範囲である。
ここで、単位パターン32の厚みは、単位パターン32の底面(+Z側の端)から頂部(-Z側の端)までの長さであり、単位パターン32のサイズは、単位パターン32の最大直径である。また、単位パターン32の配置位置は、XY方向における単位パターン32の中心位置(円形をなす単位パターン32の底面の中心位置)である。
低反射パターン38は、光源設置面22のうち、微小光源16(すなわち、微小発光素子18)の周りに位置する領域に形成され、その領域以外の領域(非パターン形成領域)よりも反射率を下げている。低反射パターン38は、基板20の+Z側で基板20と積層されて設けられている。
第二光散乱体36は、その内部で微小光源16からの光を散乱させて拡散させる。本実施形態において、第二光散乱体36は、平板又は薄膜状であり、図3に示すようにZ方向において第一光散乱体34と少なくとも一つの微小光源16(すなわち、複数の微小発光素子18)との間で第一光散乱体34と平行となるように配置されている。
なお、第二光散乱体36は、上記の積層体に限定されず、例えば、透明な樹脂により形成された基材内に、基材とは屈折率が異なる光散乱粒子を分散させて構成される導光部材を第二光散乱体36として利用してもよい。
本実施形態では、基材24の+Z側の表面である第二面28が出射面であることとしたが、これに限定されるものではない。例えば、第二面28にプリズムシートを重ね、そのプリズムシートの+Z側の表面を出射面としてもよい。
また、本実施形態では、第二光散乱体36が設けられているが、第二光散乱体36が設けられていない構成であってもよい。
また、本実施形態に係る光源ユニット14は、表示装置10のバックライトユニットとして用いられるものであるが、これに限定されず、面発光の照明装置として用いられてもよい。
次に、本実施形態の光源ユニット14を製造する光源ユニット製造装置40について説明する。光源ユニット製造装置40は、図18に示すように配光特性取得装置42、パターン形成データ生成装置44、及びパターン形成装置46を有する。
配光特性取得装置42は、光源ユニット14に用いられる微小光源16の配光特性(厳密には、配光特性に関する情報)を取得する装置であり、例えば公知の配光特性測定装置によって構成される。配光特性測定装置としては、ゴニオメータ、回転ステージ又は回転ミラーによって光源を回転させ、その角度における照度(光度)を照度計又は輝度計によって測定する装置が利用可能である。その一例としては、システムエンジニアリング社製のLED照明配向測定システムNeoLight、及び浜松ホトニクス社製の輝度配光特性測定装置C9920-11等が挙げられる。
また、上記以外の配光特性測定装置として、LED素子又はLEDモジュールの配光分光分布特性を予め設定した条件で測定するLED配光測定装置(例えば、OptCom社の測定装置等)も利用可能である。この装置では、鉛直配光ステージ及び水平配光ステージを制御してLED放射角を調整し、光検出器に対向するように位置決めを行った上で、測定条件に応じて装置の点灯電源を制御して点灯させ、計測制御機器により分光分布を測定する。
パターン形成データ生成装置44は、反射パターン30及び低反射パターン38のそれぞれを形成するためのデータ(以下、パターン形成データと言う。)を生成する装置であり、例えば、不図示のプロセッサを備えたコンピュータによって構成される。プロセッサは、例えばCPU(Central Processing Unit)又はMPU(Micro-Processing Unit)等によって構成され、装置内の記憶装置(不図示)に記憶された光学シミュレーション用のプログラムを実行する。このシミュレーションプログラムの実行を通じて、パターン形成データ生成装置44は、微小光源16の配光特性に基づき、反射パターン30及び低反射パターン38の各々の形成条件を決める。その後、パターン形成データ生成装置44は、決定された各パターンの形成条件を示すパターン形成データを生成する。
なお、反射パターン30の形成条件を示すデータを生成する装置と、低反射パターン38の形成条件を示すデータを生成する装置とは、個別に分かれていてもよく、あるいは同一装置であってもよい。
図20から分かるように、シミュレーションされた輝度の分布において、近接領域R1では、輝度が急激に変化しており急峻な分布を示している。他方、非近接領域R2では、輝度の変化が緩慢であり、近接領域R1から離れるほど輝度が低下する。
上記の要領にて特定されたサイズは、実際に光源設置面22に形成される低反射パターン38のサイズとして採用される。
本実施形態では、近接領域R1の大きさ(換言すると、近接領域R1と非近接領域R2との境界の径)が、微小発光素子18の外径に設定長さαを加えた分の大きさとなっている。設定長さαは、微小発光素子18の外径に所定の係数βを乗じて求められ、係数βは、0.05~2.0の範囲内で微小発光素子18の配光特性に応じて決められる。
次いで、低反射パターン38が形成される場合(すなわち、半径xが0より大きい場合)の輝度分布をシミュレーションし、このときの近接領域R1におけるピーク輝度をnxとし、非近接領域R2における平均輝度をaxとする。
E(x)=k1×(nx-n0)+k2×(a0-ax)
k1,k2:重み係数
第一条件:第二面28のうち、少なくとも一つの微小光源16と重なる位置にある特定領域、及び、特定領域を囲む周辺領域の各々での輝度が基準値以下になること。
第二条件:第二面28における輝度の分散度合いが目標範囲内にあること。
なお、第一条件における「特定領域」は、第二面28のうち、各微小発光素子18とZ方向において重なる位置にある領域であり、分かり易くは各微小発光素子18の直上に位置する領域である。仮に第一面26に複数の単位パターン32が形成されない場合を想定すると、特定領域での輝度が最も高くなる。
第一条件における「周辺領域」は、第二面28において特定領域を取り囲むように配置された領域であり、特定領域と隣接する側から外側に向かって層状に並んで存在する。
第一条件における「基準値」は、特定領域での輝度に対して設定される目標値であり、例えば、第一面26に複数の単位パターン32が形成されない場合での第二面28の各領域における輝度を平均化した値(平均輝度)である。
第二条件における「目標範囲」とは、輝度の分散度合いに対して設定される数値範囲であり、例えば、分散度合いの目標値と同一又は同一とみなすことができる範囲(誤差範囲)である。なお、本実施形態において、目標範囲は、第一条件の基準値に基づいて設定される。
演算処理フローを実施するにあたり、第二面28を複数の計算単位に区画する。具体的に説明すると、第二面28を、XY方向において各微小発光素子18の配置位置を中心とする複数の領域に区切り、それぞれを計算単位とする。ここで、計算単位は、第二面28において微小発光素子18と同じ数だけ存在し、本実施形態では、図22A及び22Bに示すように方形状の領域となる。
各計算単位のうち、XY方向における各微小発光素子18の配置位置と同じ位置にある計算領域P1は、上述の特定領域に相当する。特定領域の外側で特定領域を取り囲む方形枠又は環をなすように並んだ計算領域P2~P6は、上述の周辺領域に相当する。
他方、ステップS005での判定結果が「No」である場合、計算領域Piにおける輝度が目標値を達成しているかどうかを判定する(S006)。なお、最初に行われるステップS006では、i=1であるため、特定領域における輝度が目標値を達成しているかどうかを判定することになる。
なお、厚みを変更する際には、厚みの変化量と輝度の変化量との関係(相関)を予め特定し、特定した相関関係をテーブルデータとして記憶するとよい。そして、ステップS009では、テーブルデータを参照して適正な輝度となるような厚みの変化量を求め、求めた変化量にて厚みを変更するのが好ましい。
また、この時点で、計算領域Piについての計算回数を+1だけ増やす(カウントアップする)。
なお、図23A及び23Bの各図では、上から下に向かって各計算領域での厚みが順次決められていく様子を表しており、新たに厚みが計算される計算領域(各図で新たに着色された部分)は、内側から外側に移っていく。
パターン形成装置46は、パターン形成データ生成装置44によって生成されたパターン形成データに従って、基材24の第一面26に反射パターン30を形成し、且つ、光源設置面22のうち、微小光源16の周りに位置する領域に低反射パターン38を形成する。
また、反射パターン30を形成する装置と、低反射パターン38を形成する装置とは、個別に分かれていてもよく、あるいは同一装置であってもよい。
なお、下記の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容及び処理手順等については、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は、下記の実施例によって限定的に解釈されるべきものではない。
実施例1~4及び比較例1~4では、対象面における輝度の分布を光学シミュレーションによって算出した。ここで、対象面各部の輝度は、変動するものとし、その平均値で除した相対的な値にて評価することとする。
なお、基板20の反射率、透過率及び吸収率については、それぞれ、90%、5%、5%とした。
第一光散乱体34の基材24としては、厚み0.1mmのポリエチレンテレフタレート(PET)製フィルムを用いた。PETフィルムは、平面視で正方形状であり、その屈折率nについては1.576とした。
また、シミュレーションモデルでは、PETフィルムの+Z側の表面(すなわち、光源設置面22とは反対側に位置する第二面)を光の出射面とし、出射面各部での広がり角については10度とした。
実施例1~3では、光源ユニットの出射面における輝度の分布を光学シミュレーションによって算出した。
実施例1~3では、シミュレーションモデルに用いられるPETフィルムの-Z側の表面(すなわち、第一面)に、複数の単位パターン32からなる反射パターン30を設けた。単位パターン32は、酸化チタンからなり、XY方向においてミニLEDの直上位置を中心として配置され、縦横3つずつ計9個の単位パターン32からなる反射パターン30を設けた。
なお、反射パターン30を設けたPETフィルムの屈折率nについては、1.4とし、吸収係数については、0とした。
低反射パターン38は、サイズ(半径)を0.2mm、厚みを略0mm(厳密には0.01mm程度)とし、ミニLED毎に形成した。
比較例1~3では、光源ユニットの出射面における輝度の分布を光学シミュレーションによって算出した。
比較例1~3では、表1に示すように、低反射パターン38を設けておらず、それ以外の点については実施例1~3と同様の条件とした。なお、比較例1では、実施例1と対応する条件とし、比較例2では、実施例2と対応する条件とし、比較例3では、実施例3と対応する条件とした。
比較例4は、比較例1の条件に加えて、光源設置面22と第一光散乱体34との間に第二光散乱体36を配置した。同様に、実施例4では、実施例1の条件に加えて、光源設置面22と第一光散乱体34との間に第二光散乱体36を配置した。
そして、比較例4及び実施例4では、第二光散乱体36の+Z側の表面における輝度の分布を光学シミュレーションによって算出した。
実施例1~3及び比較例1~3にてシミュレーションした出射面における輝度の分布を図25~30に示した。図25~30の各図は、輝度の大きさを白黒の濃淡で表すとともに(各図中の左側のグラフ)、輝度の平滑性をヒストグラムによって表している(各図中の右側のグラフ)。
また、実施例4及び比較例4にてシミュレーションした第二光散乱体36の表面における輝度の分布を、それぞれ、図8及び9に示す。
また、実施例1~3及び比較例1~3の各例における単位パターン32各部分の厚みを表1に示した。
例えば、間隔dが1mmである条件(つまり、実施例1及び比較例1の条件)において、単位パターン32各部の厚みは、表1に示すように、低反射パターン38を設けることで、より小さくなる。同様の傾向は、間隔dが2mm又は4mmである条件(つまり、実施例2及び比較例2の条件、又は実施例3及び比較例3の条件)でも確認される。
12 LCD(液晶ディスプレイ)
14 光源ユニット
16 微小光源
18 微小発光素子
20 基板
22 光源設置面
24 基材
26 第一面
28 第二面
30 反射パターン
32 単位パターン
34 第一光散乱体
36 第二光散乱体
38 低反射パターン
40 光源ユニット製造装置
42 配光特性取得装置
44 パターン形成データ生成装置
46 パターン形成装置
S 仮想平面
Claims (12)
- 少なくとも一つの微小光源が設置された光源設置面と、
前記光源設置面と並べて配置された透光性を有する基材と、
前記基材において前記光源設置面側に位置する第一面に、前記少なくとも一つの微小光源の配光特性に基づいて形成された反射パターンと、
前記光源設置面のうち、前記少なくとも一つの微小光源の周りに位置する領域に、前記配光特性に基づいて形成された低反射パターンと、を有する光源ユニットであって、
前記反射パターンは、複数の単位パターンからなり、前記複数の単位パターンの各々は、前記単位パターンの中心部に向かって厚みが大きくなる形状を有し、
前記第一面において、前記複数の単位パターンが、前記第一面の中央位置を基準として対称的に形成されており、
前記光源設置面のうち、前記低反射パターンが形成された領域での反射率が、前記低反射パターンが形成された領域以外の領域での反射率よりも小さく、
前記複数の単位パターンの各々は、前記基材において前記第一面とは反対側に位置する第二面における輝度の分布に関する指標値が、前記光源ユニットの要求仕様として前記指標値が満たすべき数値範囲である設定条件を満たすために前記第一面に形成されており、
下記の第一条件及び第二条件が満たされることで、前記指標値が前記設定条件を満たし、
前記複数の単位パターンの各々の厚み、サイズ及び配置位置が、前記第一条件及び前記第二条件を満たすように決められた厚み、サイズ及び配置位置である、光源ユニット。
第一条件:前記基材において第一面とは反対側に位置する第二面のうち、前記少なくとも一つの微小光源と重なる位置にある特定領域、及び、前記特定領域を囲む周辺領域の各々での輝度が、前記第一面に前記複数の単位パターンが形成されない場合での前記第二面の各領域における輝度を平均化した値である基準値以下になること。
第二条件:前記第二面における輝度の分散度合いが、前記第一条件の前記基準値に基づいて設定される目標範囲内にあること。 - 前記基材において前記第一面とは反対側に位置する第二面と前記光源設置面との間隔が1mm以上且つ4mm以下である、請求項1に記載の光源ユニット。
- 平面状の前記光源設置面を有する基板を有し、
前記光源設置面において、前記少なくとも一つの微小光源としての複数の微小発光素子が、前記光源設置面の中央位置を基準として対称的に配置されている、請求項1又は2に記載の光源ユニット。 - 前記複数の単位パターンの各々が酸化チタンによって構成されている、請求項1に記載の光源ユニット。
- 前記複数の単位パターンの各々は、前記光源設置面に向かって突出し、且つ、前記光源設置面に近付くにつれて直径が段階的に小さくなる形状を有する、請求項1又は4に記載の光源ユニット。
- 前記低反射パターンのサイズは、前記光源設置面よりも前記第一面に近い位置に在る平面における輝度の分布に関する評価値に基づいて決められたサイズであり、
前記評価値は、前記平面における輝度の分布を推算するための光学シミュレーションにより、前記低反射パターンのサイズを変えながら該サイズ毎に算出される、請求項1に記載の光源ユニット。 - 前記第二面における輝度の分布が前記低反射パターンのサイズに応じて変化し、
前記複数の単位パターンの各々の厚み、サイズ及び配置位置が、前記低反射パターンのサイズに応じて決められた厚み、サイズ及び配置位置である、請求項6に記載の光源ユニット。 - 前記基材は、透光性を有するフィルム材料によって構成される、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の光源ユニット。
- 前記基材と前記反射パターンとが第一光散乱体を構成し、
前記第一光散乱体と前記少なくとも一つの微小光源との間に、反射パターンが設けられていない第二光散乱体が配置されている、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の光源ユニット。 - 前記光源設置面と平行であり且つ互いに直交する2つの方向の各々において、前記光源設置面に対する前記第一光散乱体の正規の配置位置と、前記第一光散乱体の実配置位置とのずれ量が0.2mm以下である、請求項9に記載の光源ユニット。
- 液晶ディスプレイを有し、請求項1乃至10のいずれか一項に記載の光源ユニットがバックライトユニットとして前記液晶ディスプレイの背面側に備えられている表示装置。
- 請求項1乃至10のいずれか一項に記載の光源ユニットを製造する光源ユニット製造装置であって、
前記少なくとも一つの微小光源の配光特性を取得する配光特性取得装置と、
取得された前記配光特性に基づいて生成されたパターン形成データに従って、前記基材の前記第一面に前記反射パターンを形成し、且つ、前記光源設置面のうち、前記少なくとも一つの微小光源の周りに位置する領域に前記低反射パターンを形成するパターン形成装置と、
を有する光源ユニット製造装置。
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