JP7474572B2 - 小型時計部品の製造方法 - Google Patents
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Description
- 仕上げられた小型時計部品の表面状態を形成するために、複雑な段階を含む。
- レリーフを、より具体的には窪みレリーフを示す小型時計部品の場合、既存の方法は、異なるレリーフの異なる表面上に特定の異なる表面状態を形成するために、例えば特定の部分のマスキング段階を必要とするなど、適応が不十分である、または複雑である。
- 窪み表面を含む小型時計部品の場合、既存の方法は、異なるレリーフの異なる表面上に、特定の表面状態の結果が達成されることを不可能にする。
- 例えば容器に配置され、容器の動きを研磨剤混合物と処理すべき小型時計部品へ伝える役割を有する媒体であって、小型時計部品に研磨効果を生じさせることを可能にする機械的作用を発生するように伝える、媒体(またはキャリヤまたはチップとも称する)。媒体の化学的性質、形状及び初期寸法は、所望の結果を達成するために選択される。媒体は、研磨剤であってもよい。同様に、公差限界内に維持するために、媒体の経年劣化と摩耗が監視される。
- 摩擦と機械的作用の効果を、すなわち研磨効果を増大する役割を有する、粉またはペースト形状の研磨剤。サンドブラスティング及びまたはマイクロビーズブラスティング及びまたはウェットジェッティングで用いられる研磨剤粒子は、研磨剤媒体と見做される。
- 混合物を薄め、仕上げ作業中の温度上昇を制限する、液体(例えば、添加剤ありまたはなしの水または油、または液体の混合物)。これは、例えばサンドブラスティングの場合、任意でもよい。
- 凹部のまたは窪み表面の少なくとも一部との、好ましくは底を形成する第3表面2の完全性との接触を認めない、構造、より具体的には寸法と形状。例えば、媒体は、より具体的には当該凹部の第3表面2と接触しないように、少なくとも1つの凹部の上部において、第1表面1と凹部との境界面にある縁4と接触しやすいように適合された形状と寸法を有する。
- 凹部の縁を削ることなくトライボ仕上げを可能にする、質量と化学組成。
- トライボ仕上げの場合に媒体を均一に摩耗させる(そしてより具体的には破損させない)パラメータに依存する材料組成。この目的のため、上述のように、媒体は、例えば、より具体的にはガラス、セラミック、磁器、ステアタイト、アルミナまたはジルコン(ZrSiO4)製であってもよい。
- 任意に、ディスクの全体へサンドブラスティング及びまたはマイクロビーズブラスティング及びまたはウェットジェッティング。
- ディスクの全体へのPVDによる金属被覆の堆積。
- 凹部の被覆は抑制せずに第1表面1の被覆を選択的に抑制し、第1表面1の鏡面反射を最大化する、第1表面1の水準での均質且つ等方性のトポグラフィーの達成を可能にする、研磨。この研磨段階は、上述の中間段階に対応する。
- 750gの媒体(キャリヤ)(5mmの直径を有するガラスボール)、
- 20gの洗浄剤、
- 20gの研磨剤(3から5μmの間のグレードの炭化ホウ素粉末)、
- 300gの水、
と共に自由に入れられた。
回転は、異なる継続時間にわたり、300回転/分に調節される。
1)顆粒表面の場合
a. 粗度の平均高さ(算術)を表すパラメータRa(ISO 4287)、
b. 表面の等方性の度合いを表すパラメータStr(ISO 25178)。当該パラメータの値は0から1までの間であり、0に近いほど表面が好ましい方向を含むことを表し、1に近いほど観察された全ての方向が同一であることを表す。
2) 平滑表面の場合、粗度の平均高さ(算術)を表すパラメータRaのみが用いられる。
1)顆粒表面の場合
a. パラメータRa: 2nmの最低垂直解像度と0.26μmの水平解像度を有する測定装置を用いることが必要である。選択したISO標準規格4287のカットオフ(λc)は、0.25mmであり、これは1.4mm程度の評価長さを意味する。測定は、1000を超えるプロファイル数に対して実施される。もたらされたパラメータの値は、全プロファイルの平均に対応する。
b. パラメータStr: 最低2nmの垂直解像度と0.26μmの水平解像度を有する測定装置を用いることが必要である。測定は同数の行と列(>1000)を有する5つの四角の区域に行われる。多項式形(4ほど)の抑制と閾値化(0.5%から99.5%の間)が測定に実施される。もたらされた値は、5回の測定の平均に対応する。
2)平滑表面の場合、パラメータRaの計算は、最低0.2nmの垂直解像度と0.26μmの水平解像度を有する測定装置を用いることが必要である。選択したISO標準規格4287のカットオフ(λc)は0.25mmであり、これは1.4mm程度の評価長さを意味する。測定は1000を超えるプロファイル数に対して実施される。もたらされたパラメータの値は全プロファイルの平均に対応する。
ナノメートルで表される粗度Raの測定とその差は、光沢計を用いて測定され、グロスユニットで表される光沢と、CIELab色空間で表現される色と並び、以下の表でより詳細に説明される。
が含まれる。
加えて、部品は、
- 同一または異なる形状の、複数の凹部、及びまたは
- 異なる表面状態の、複数の凹部、
を含んでもよい。
- 部品の第1表面1は艶消しでもよく、または艶消しと光沢区域を有してもよい、及びまたは
- 凹部の表面は、被覆を含んでもよい、及びまたは
- 第1表面1の粗度は、凹部の少なくとも一部分の粗度よりも低くてもよい、または第1表面1の粗度は、凹部の粗度よりも高くてもよい、及びまたは
- 第1表面1の粗度は、例えば100nmから10μm(粗度Ra)の間の、または100nmから800nmの間の、均質且つ等方性であってもよい。
- サテン仕上げ、ブラシ仕上げ、
- 円形砂目立て、
- スネイル仕上げ、
- 異なる種類の円形砂目立て:ウイユ ド ペリドリ(ヤマウズラの目パターン)、スポッティング、...
- サンレイ仕上げ。
他の実施例によれば、これら表面状態は、他方では等方性タイプであってもよい。これらのいくつかは、研磨のように最大化された鏡面反射を提案し、または以下の1つを含む、最小化された鏡面反射を提案する。
- マイクロビーズブラスティング、
- 砂目立て、
- サンドブラスティング、
- ショットブラスティング。
このため、当該仕上げ段階は、レリーフのない、そして凹部のない、小型時計部品の連続する表面を形成するために、素材の余剰を除去する研磨と比較されてはならないことを注記する。実際、そのような場合には、意図した物体と異なり、最終部品がもはや凹部を有さない、すなわち窪みレリーフを有さないだけでなく、そのような研磨により表面の全部が不可避的に同一の態様で処理されるため、表面状態そのものも連続する。
2 第3表面
3 接続表面
10 小型時計部品
20 凹部
21 第2凹部
Claims (17)
- 時計用の小型時計部品(10)の製造方法であって、
少なくとも1つの凹部(20)、すなわち第1表面(1)から窪んだ表面が配置される、前記第1表面(1)を含む小型時計部品(10)の製造の第1段階と、
前記少なくとも1つの凹部(20)または前記少なくとも1つの凹部(20)の一部分を除く、前記第1表面(1)の表面状態の変更を引き起こす、前記小型時計部品の製造のための第2仕上げ段階と、
を含み、
前記製造の第1段階は、工業用セラミックに基づくパーツを含む前記小型時計部品(10)の製造を含み、前記凹部(20)はセラミックに基づく前記パーツに設置される、
時計用の小型時計部品(10)の製造方法。 - 時計用の小型時計部品(10)の製造方法であって、
少なくとも1つの凹部(20)、すなわち第1表面(1)から窪んだ表面が配置される、前記第1表面(1)を含む小型時計部品(10)の製造の第1段階と、
前記少なくとも1つの凹部(20)または前記少なくとも1つの凹部(20)の一部分を除く、前記第1表面(1)の表面状態の変更を引き起こす、前記小型時計部品の製造のための第2仕上げ段階と、
を含み、
前記第2仕上げ段階は、均質且つ等方性のトポグラフィーの第1表面(1)を形成するために、前記第1表面(1)の表面状態を変更する、
時計用の小型時計部品(10)の製造方法。 - 時計用の小型時計部品(10)の製造方法であって、
少なくとも1つの凹部(20)、すなわち第1表面(1)から窪んだ表面が配置される、前記第1表面(1)を含む小型時計部品(10)の製造の第1段階と、
前記少なくとも1つの凹部(20)または前記少なくとも1つの凹部(20)の一部分を除く、前記第1表面(1)の表面状態の変更を引き起こす、前記小型時計部品の製造のための第2仕上げ段階と、
を含み、
前記第2仕上げ段階は、媒体による前記凹部(20)の少なくとも一部分との全ての接触を防止するように定義された寸法及びまたは形状を有する媒体を含む研磨剤混合物を用いる、または前記第2仕上げ段階は、前記媒体による所定の距離dよりも遠い距離に位置する前記凹部(20)の部分との全ての接触を防止するように定義された寸法及びまたは形状を有する媒体を含む研磨剤混合物を用いる、
時計用の小型時計部品(10)の製造方法。 - 時計用の小型時計部品(10)の製造方法であって、
少なくとも1つの凹部(20)、すなわち第1表面(1)から窪んだ表面が配置される、前記第1表面(1)を含む小型時計部品(10)の製造の第1段階と、
前記少なくとも1つの凹部(20)または前記少なくとも1つの凹部(20)の一部分を除く、前記第1表面(1)の表面状態の変更を引き起こす、前記小型時計部品の製造のための第2仕上げ段階と、
を含み、
前記第2仕上げ段階は、前記第1表面(1)を、衝撃による研磨剤混合物の機械的作用に曝すことで前記第1表面(1)の表面状態を変更する、及びまたは前記第1表面(1)のトライボ仕上げ、及びまたは機械及び化学研磨及びまたはバレル仕上げ、及びまたは
振動バリ取り、及びまたはサンドブラスティング及びまたはマイクロビーズブラスティング及びまたはウェットジェッティングを含む、
時計用の小型時計部品(10)の製造方法。 - 前記第2仕上げ段階は、前記凹部(20)の深さより厳密に少ない距離dにわたり、前記凹部(20)の表面状態を変更する、
請求項1から4のいずれか一項に記載の時計用の小型時計部品(10)の製造方法。 - 前記少なくとも1つの凹部は、前記第2仕上げ段階の実施時点では被覆されない凹部表面を含み、前記凹部表面は、前記第2仕上げ段階の終わりに変更されない表面状態を維持する、及びまたは前記少なくとも1つの凹部は、接続表面(3)により前記第1表面(1)に接続される底面を形成する第3表面(2)を含み、前記第2仕上げ段階は、前記少なくとも1つの凹部(20)の前記第3表面(2)の表面状態を変更しない、
請求項1から5のいずれか一項に記載の時計用の小型時計部品(10)の製造方法。 - 前記第2仕上げ段階は、前記第1表面(1)の鏡面反射を低下または最小化することにより、前記第1表面(1)の表面状態を変更する、
請求項1から6のいずれか一項に記載の時計用の小型時計部品(10)の製造方法。 - 鏡面反射を増大または最大化することにより、主表面(5)の、または前記第1表面(1)の、場合により前記少なくとも1つの凹部(20)の、全部または一部の表面状態の変更を伴う中間段階を含む
請求項1から7のいずれか一項に記載の時計用の小型時計部品(10)の製造方法。 - 前記小型時計部品(10)の製造の第1段階は、前記少なくとも1つの凹部(20)内に第2凹部(21)を形成し、前記第2仕上げ段階は、前記第1表面(1)のみの表面状態の変更を引き起こす、及びまたは
前記小型時計部品(10)の製造の第1段階は、前記少なくとも1つの凹部(20)内に第2凹部(21)を形成し、前記第2仕上げ段階は、前記第1表面(1)と、前記少なくとも1つの凹部(20)の少なくとも一部分の表面状態の変更を引き起こすが、前記第2凹部(21)の表面状態の変更は引き起こさない、及びまたは
前記小型時計部品(10)の製造の第1段階は、前記第1表面に異なる形状を有する複数の凹部(20、20’)を形成し、前記第2仕上げ段階は、前記第1表面(1)の表面状態の変更を引き起こすが、前記凹部(20、20’)の表面状態の変更は引き起こさない、及びまたは
前記小型時計部品(10)の製造の第1段階は、前記第1表面(1)に異なる形状を有する第1及び第2凹部(20、20’)を形成し、前記第2仕上げ段階は、前記第1表面(1)と前記第2凹部(20’)の表面状態の変更を引き起こすが、前記第1凹部(20)または前記第1凹部(20)のみの一部分の表面状態の変更は引き起こさない、
請求項1から8のいずれか一項に記載の時計用の小型時計部品(10)の製造方法。 - 前記小型時計部品(10)の製造の第1段階は、工業用セラミック系均質且つ一体成形部品の前記製造を含む、またはセラミック製の異なるパーツの組み合わせを少なくとも部分的に含む、
請求項1から9のいずれか一項に記載の時計用の小型時計部品(10)の製造方法。 - 単層または多層方式による前記少なくとも1つの凹部(20)の被覆の段階を伴う、小型時計部品(10)の製造の中間段階を含む、
請求項1から10のいずれか一項に記載の時計用の小型時計部品(10)の製造方法。 - 前記被覆は、金属(複数の金属)及びまたは酸化物(複数の酸化物)及びまたは窒化物(複数の窒化物)及びまたは炭化物(複数の炭化物)及びまたは炭窒化物(複数の炭窒化物)及びまたは硫化物(複数の硫化物)及びまたは有機素材(複数の有機素材)、及びまたは無機素材(複数の無機素材)、及びまたはハイブリッド素材(複数のハイブリッド素材)、及びまたは塗料、及びまたはラッカー、及びまたはエナメル、及びまたはワニス及びまたはガラスセラミック、及びまたはポリマー系または接着剤系素材からなる層を含む、
請求項11に記載の時計用の小型時計部品(10)の製造方法。 - 少なくとも1つの凹部(20)が配置される第1表面(1)を含む、小型時計部品(10)であって、前記第1表面(1)の全部または一部は、トライボ仕上げにより及びまたは機械及び化学研磨により及びまたはバレル仕上げにより及びまたは振動バリ取りにより及びまたはサンドブラスティングにより及びまたはマイクロビーズブラスティングにより及びまたはウェットジェッティングにより製造された第1表面状態であって、前記少なくとも1つの凹部(20)の少なくとも一部分の第2表面状態とは異なる、第1表面状態を示し、
トライボ仕上げにより艶消し化された主表面(5)の全体を表現する第1表面(1)と、少なくとも1つの研磨されたまたは粗い凹部(20)、または
トライボ仕上げにより艶消し化された主表面(5)の部分を示す第1表面(1)と、少なくとも1つの研磨されたまたは粗い凹部(20)、
の特徴のうちの1つを含む、
小型時計部品(10)。 - 同一または異なる形状の、複数の凹部(20、21;20、20’)を含む、及びまたは
異なる表面状態を有する、複数の凹部(20、21;20、20’)を含む、及びまたは
一体成形である、または同一の化学的または非化学的性質を有する複数のセラミックを含む、及びまたは
前記第1表面(1)は艶消しである、または艶消し及び光沢区域を含む、及びまたは
前記少なくとも1つの凹部(20)は、被覆を含む、及びまたは
前記第1表面(1)の粗度は、前記凹部(20)の少なくとも一部分の粗度よりも低い、または前記第1表面(1)の粗度は、前記凹部(20)の少なくとも一部分の粗度よりも高い、及びまたは
前記第1表面(1)の粗度は、均質且つ等方性のトポグラフィーを有する、
の特徴のうちの全部または一部を含む、
請求項13に記載の小型時計部品(10)。 - 少なくとも1つの凹部(20)が配置される第1表面(1)を含む、小型時計部品(10)であって、前記第1表面(1)の全部または一部は、トライボ仕上げにより及びまたは機械及び化学研磨により及びまたはバレル仕上げにより及びまたは振動バリ取りにより及びまたはサンドブラスティングにより及びまたはマイクロビーズブラスティングにより及びまたはウェットジェッティングにより製造された第1表面状態であって、前記少なくとも1つの凹部(20)の少なくとも一部分の第2表面状態とは異なる、第1表面状態を示し、
同一または異なる形状の、複数の凹部(20、21;20、20’)を含む、及びまたは
異なる表面状態を有する、複数の凹部(20、21;20、20’)を含む、及びまたは
一体成形である、または同一の化学的または非化学的性質を有する複数のセラミックを含む、及びまたは
前記第1表面(1)は艶消しである、または艶消し及び光沢区域を含む、及びまたは
前記少なくとも1つの凹部(20)は、被覆を含む、及びまたは
前記第1表面(1)の粗度は、前記凹部(20)の少なくとも一部分の粗度よりも低い、または前記第1表面(1)の粗度は、前記凹部(20)の少なくとも一部分の粗度よりも高い、及びまたは
前記第1表面(1)の粗度は、均質且つ等方性のトポグラフィーを有する、
の特徴のうちの全部または一部を含む、
小型時計部品(10)。 - 前記小型時計部品(10)は、仕上げ要素である、
請求項13から15のいずれか一項に記載の小型時計部品(10)。 - 請求項13から16のいずれか一項に記載の小型時計部品(10)を含む、時計。
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