JP7461842B2 - 基板洗浄装置およびそれを備える基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1は本発明の一実施の形態に係る基板洗浄装置の模式的平面図であり、図2は図1の基板洗浄装置1の内部構成を示す外観斜視図である。本実施の形態に係る基板洗浄装置1においては、位置関係を明確にするために互いに直交するX方向、Y方向およびZ方向を定義する。図1および図2以降の所定の図では、X方向、Y方向およびZ方向が適宜矢印で示される。X方向およびY方向は水平面内で互いに直交し、Z方向は鉛直方向に相当する。
図4~図15は、図1の基板洗浄装置1の動作の一例を説明するための模式図である。図4~図15の各々においては、上段に基板洗浄装置1の平面図が示される。また、中段にY方向に沿って見た下側保持装置20およびその周辺部の側面図が示され、下段にX方向に沿って見た下側保持装置20およびその周辺部の側面図が示される。中段の側面図は図1のA-A線側面図に対応し、下段の側面図は図1のB-B線側面図に対応する。なお、基板洗浄装置1における各構成要素の形状および動作状態の理解を容易にするために、上段の平面図と中段および下段の側面図との間では、一部の構成要素の拡縮率が異なる。また、図4~図15では、処理カップ61が二点鎖線で示されるとともに、基板Wの外形が太い一点鎖線で示される。
(1)本実施の形態に係る基板洗浄装置1においては、基板Wが上側保持装置10A,10Bにより保持された状態で、昇降支持部54が下面ブラシ51を昇降させることにより、下面ブラシ51が基板Wの下面に接触する。この状態で、下面ブラシ51が回転し、基板Wの下面に洗浄液が供給される。
図16は、図1の基板洗浄装置1を備える基板処理装置の一例を示す模式的平面図である。図16に示すように、本実施の形態に係る基板処理装置100は、インデクサブロック110および処理ブロック120を有する。インデクサブロック110および処理ブロック120は、互いに隣り合うように設けられている。
(1)上記実施の形態に係る気体噴出部53は、一方向に延びる気体噴出口を有するスリット状の気体噴射ノズルであり、下面ブラシ51と吸着保持部21との間に配置されるが、本発明はこれに限定されない。気体噴出部53は、以下の構成を有してもよい。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明する。上記実施の形態では、上側保持装置10A,10Bが第1の基板保持部の例であり、下側保持装置20が第2の基板保持部の例であり、受渡装置40が基板移動部の例であり、下面ブラシ51が洗浄具の例であり、昇降支持部54が洗浄具昇降部の例である。
Claims (8)
- 基板を回転させることなく第1の高さ位置で前記基板の外周端部を保持する第1の基板保持部と、
第1の高さ位置よりも下方の第2の高さ位置で前記基板の下面中央部を吸着保持しつつ上下方向の軸の周りで回転させる第2の基板保持部と、
前記第1の高さ位置と前記第2の高さ位置との間で前記基板を移動させる基板移動部と、
前記基板の下面に接触して前記基板の下面を洗浄する洗浄具と、
前記洗浄具を昇降させることにより、前記洗浄具が前記第1の基板保持部により保持された前記基板の下面に接触する第1の状態と、前記洗浄具が前記第2の基板保持部により保持された前記基板の下面に接触する第2の状態とに前記洗浄具を移行させる洗浄具昇降部と、
前記第1または第2の基板保持部により保持される前記基板の下方の位置で、前記洗浄具を前記基板に対して水平方向に移動させる洗浄具移動部と、
前記基板の下面に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
平面視で前記第2の基板保持部を取り囲むように設けられ、前記第2の基板保持部により吸着保持されつつ回転される前記基板に前記洗浄液供給部から洗浄液が供給される場合に前記基板から飛散する洗浄液を受け止める処理カップとを備え、
前記第1の高さ位置は、前記処理カップの上端部よりも高く、
前記第2の高さ位置は、前記基板が前記第2の基板保持部により保持された状態で前記洗浄具により洗浄されているときに、前記処理カップの上端部よりも低い、基板洗浄装置。 - 前記第1の基板保持部、前記第2の基板保持部、前記基板移動部、前記洗浄具昇降部、前記洗浄具移動部および前記洗浄液供給部を制御する制御部をさらに備え、
前記制御部は、
前記基板の下面中央部の洗浄時に、前記第1の基板保持部により保持される前記基板の前記下面中央部が前記洗浄具により洗浄されるように、前記第1の基板保持部、前記洗浄具昇降部および前記洗浄液供給部を制御し、
前記基板の前記下面中央部を取り囲む下面外側領域の洗浄時に、前記第2の基板保持部により保持される前記基板の下面に洗浄液が供給されつつ前記下面外側領域が前記洗浄具により洗浄されるように、前記第2の基板保持部、前記洗浄具昇降部、前記洗浄具移動部および前記洗浄液供給部を制御し、
前記第1の基板保持部と前記第2の基板保持部との間で前記基板が移動されるように、前記第1の基板保持部、前記第2の基板保持部および前記基板移動部を制御する、請求項1記載の基板洗浄装置。 - 前記洗浄具移動部は、前記第1の基板保持部により保持される前記基板の下面に前記洗浄具が接触する状態および前記第2の基板保持部により保持される前記基板の下面に前記洗浄具が接触する状態のうち少なくとも一方の状態で、前記洗浄具を前記基板に対して水平方向に移動させる、請求項1または2記載の基板洗浄装置。
- 前記第1の基板保持部に保持された前記基板の前記下面に気体を供給することが可能であるとともに、前記第2の基板保持部に保持された前記基板の前記下面に気体を供給することが可能に構成された気体供給部をさらに備える、請求項1~3のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄具を上下方向の軸の周りで回転させる洗浄具回転駆動部をさらに備える、請求項1~4のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記基板の下面に接触する前記洗浄具の接触部分の面積は、前記基板の下面中央部を吸着保持する前記第2の基板保持部の吸着部分の面積よりも大きい、請求項1~5のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記処理カップの上端部が前記第2の高さ位置よりも高い上カップ位置と、前記処理カップの上端部が前記第2の高さ位置よりも低い下カップ位置との間で前記処理カップを昇降させる処理カップ駆動部をさらに備え、
前記処理カップ駆動部は、前記基板が前記第2の基板保持部により保持された状態で前記洗浄具により洗浄されているときに前記処理カップを前記上カップ位置に保持し、前記第2の基板保持部により保持された前記基板の洗浄前または洗浄後に前記処理カップを前記下カップ位置に保持する、請求項1~6のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。 - 請求項1~7のいずれか一項に記載の基板洗浄装置と、
基板を保持可能に構成された第1の搬送保持部と前記第1の搬送保持部よりも下方で基板を保持可能に構成された第2の搬送保持部とを含む基板搬送部とを備え、
前記第1の搬送保持部は、前記基板洗浄装置の前記第1の基板保持部に対して基板の受け渡しを行い、
前記第2の搬送保持部は、前記基板洗浄装置の前記第2の基板保持部に対して基板の受け渡しを行う、基板処理装置。
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