JP7460676B2 - 基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、および、プログラム - Google Patents
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Description
(a)処理容器内に収容された基板に対して第1処理ガスを供給し、基板上に、所定の組成を有する第1膜を形成する工程と、
(b)前記処理容器内に収容された基板に対して第2処理ガスを供給するサイクルを繰り返し、基板上に、前記第1膜とは組成の異なる第2膜を形成する工程と、
を有し、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜が付着している第2の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルの繰り返しを所定のm回行い、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第1膜が付着している第1の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルの繰り返しを前記m回とは異なるm±回行うか、前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜を形成するプリコート工程サイクルの繰り返しをm回行う技術が提供される。
以下、本開示の一態様について、主に、図1~図6を用いて説明する。なお、以下の説明において用いられる図面は、いずれも模式的なものであり、図面上の各要素の寸法の関係、各要素の比率等は、現実のものとは必ずしも一致していない。また、複数の図面の相互間においても、各要素の寸法の関係、各要素の比率等は必ずしも一致していない。
図1に示すように、処理炉202は加熱機構(温度調整部)としてのヒータ207を有する。ヒータ207は円筒形状であり、保持板に支持されることにより垂直に据え付けられている。ヒータ207は、ガスを熱で活性化(励起)させる活性化機構(励起部)としても機能する。
上述の基板処理装置を用い、半導体装置の製造工程の一工程として、処理容器内に収容された基板としてのウエハ200に対して第1処理ガスを供給し、ウエハ200上に、所定の組成を有する第1膜を形成する工程(以下、第1膜形成とも称する)が行われる場合がある。また、処理容器内に収容されたウエハ200に対して第2処理ガスを供給するサイクルを繰り返し、ウエハ200上に、第1膜とは組成の異なる第2膜を形成する工程(以下、第2膜形成とも称する)が行われる場合もある。また、処理容器内にウエハ200が存在しない状態で、処理容器内の部材の最表面に所定の組成を有する膜を形成する処理(プリコート)が行われる場合もある。
まず、第1膜形成の処理手順、処理条件について、図4を用いて説明する。以下では、一例として、処理容器内にウエハ200が搬入されていない状態で第1膜形成処理を新たに開始する場合について説明する。
処理容器内に収容されたウエハ200に対して原料を供給するステップA1と、
処理容器内に収容されたウエハ200に対して窒化剤を供給するステップA2と、
を非同時に行うサイクルを所定回数(n回、nは1以上の整数)行うことで、ウエハ200上に、所定の組成を有する第1膜を形成する。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)される。その後、シャッタ開閉機構115sによりシャッタ219sが移動させられて、マニホールド209の下端開口が開放される(シャッタオープン)。ウエハ200は、製品ウエハやダミーウエハを含む。
その後、図1に示すように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内へ搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219は、Oリング220bを介してマニホールド209の下端をシールした状態となる。
ボートロードが終了した後、処理室201内、すなわち、ウエハ200が存在する空間が所望の圧力(真空度)となるように、真空ポンプ246によって真空排気(減圧排気)される。この際、処理室201内の圧力は圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づきAPCバルブ244がフィードバック制御される(圧力調整)。また、処理室201内のウエハ200が所望の処理温度となるように、ヒータ207によって加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電具合がフィードバック制御される(温度調整)。また、回転機構267によるウエハ200の回転を開始する。処理室201内の排気、ウエハ200の加熱および回転は、いずれも、少なくともウエハ200に対する処理が終了するまでの間は継続して行われる。
その後、ステップA1,A2を順次実行する。
ステップA1では、処理室201内のウエハ200に対して原料(原料ガス)を供給する。
処理温度:550~800℃、好ましくは550~650℃
処理圧力:1~2666Pa、好ましくは67~931Pa
原料供給流量:0.01~2slm、好ましくは0.1~1slm
原料供給時間:1~20秒、好ましくは1~10秒
不活性ガス供給流量(ガス供給管毎):0~10slm
が例示される。
不活性ガス供給流量(ガス供給管毎):1~20slm
不活性ガス供給時間:1~20秒、好ましくは1~10秒
が例示される。他の処理条件は、本ステップにて原料を供給する際における処理条件と同様な処理条件とする。
これらの点は、後述するステップB1,C1においても同様である。
ステップA1が終了した後、処理室201内のウエハ200、すなわち、ウエハ200上に形成されたSi含有層に対して、窒化剤を供給する。
処理圧力:1~4000Pa、好ましくは1~1200Pa
窒化剤供給流量:0.1~20slm、好ましくは1~10slm
窒化剤供給時間:1~120秒、好ましくは1~60秒
が例示される。他の処理条件は、ステップA1にて原料を供給する際における処理条件と同様な処理条件とする。
上述のステップA1,A2を非同時に、すなわち、同期させることなく行うサイクルを所定回数(n回、nは1以上の整数)行うことにより、ウエハ200の表面を下地として、この下地上に、第1膜として、例えば、第1元素としてのSiおよび第2元素としてのNを含む、所定の厚さのシリコン窒化膜(SiN膜)を形成することができる。上述のサイクルは、複数回繰り返すことが好ましい。すなわち、1サイクルあたりに形成されるSiN層の厚さを所望の膜厚よりも薄くし、SiN層を積層することで形成されるSiN膜の厚さが所望の厚さになるまで、上述のサイクルを複数回繰り返すことが好ましい。
ウエハ200上へ所望の厚さの第1窒化膜を形成する処理が完了した後、ノズル249a,249bのそれぞれからパージガスとして不活性ガスを処理室201内へ供給し、排気口231aより排気する。これにより、処理室201内がパージされ、処理室201内に残留するガスや反応副生成物等が処理室201内から除去される(アフターパージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降され、マニホールド209の下端が開口される。そして、処理済のウエハ200が、ボート217に支持された状態でマニホールド209の下端から反応管203の外部に搬出(ボートアンロード)される。ボートアンロードの後は、シャッタ219sが移動させられ、マニホールド209の下端開口がOリング220cを介してシャッタ219sによりシールされる(シャッタクローズ)。
ボートアンロード後、すなわち、シャッタクローズ後、処理済のウエハ200は、ボート217に支持された状態で、取り出し可能な所定の温度となるまで冷却される(ウエハ冷却)。
ウエハ冷却後、取り出し可能な所定の温度となるまで冷却された処理済のウエハ200は、ボート217より取り出される(ウエハディスチャージ)。
次に、第2膜形成の処理手順、処理条件について、図5を用いて説明する。以下では、処理容器内にウエハ200が搬入されていない状態で第2膜形成処理を新たに開始する場合について説明する。
処理容器内に収容されたウエハ200に対して原料を供給するステップB1と、
処理容器内に収容されたウエハ200に対してN及びC含有ガスを供給するステップB2と、
処理容器内に収容されたウエハ200に対して窒化剤を供給するステップB3と、
を非同時に行うサイクルを所定回数(m回、mは2以上の整数)行うことで、すなわち、このサイクルを繰り返すことで、ウエハ200上に、第1膜とは組成の異なる第2膜を形成する。
その後、ステップB1,B2を順次実行する。
ステップB1では、上述のステップA1における処理手順、処理条件と同様の処理手順、処理条件により、処理室201内のウエハ200に対して、原料を供給する(原料供給)。これにより、ウエハ200の最表面上にSi含有層が形成される。Si含有層が形成された後、処理室201内への原料の供給を停止し、ステップA1におけるパージと同様の処理手順により、処理室201内に残留するガス等を処理室201内から排除する(パージ)。
ステップB1が終了した後、処理室201内のウエハ200、すなわち、ウエハ200上に形成されたSi含有層に対して、N及びC含有ガスを供給する。
処理圧力:1~4000Pa、好ましくは1~1200Pa
N及びC含有ガス供給流量:0.1~1slm
N及びC含有ガス供給時間:1~120秒、好ましくは1~60秒
が例示される。他の処理条件は、ステップA1にて原料を供給する際における処理条件と同様な処理条件とする。
ステップB2が終了した後、上述のステップA2における処理手順、処理条件と同様の処理手順、処理条件により、処理室201内のウエハ200、すなわち、ウエハ200上に形成されたSiCN層に対して、窒化剤を供給する(窒化剤供給)。これにより、ウエハ200上に形成されたSiCN層中に、さらにN成分を取り込ませ、この層を、N濃度のより高いSiCN層に改質させることが可能となる。SiCN層が改質された後、処理室201内への窒化剤の供給を停止し、ステップA1におけるパージと同様の処理手順により、処理室201内に残留するガス等を処理室201内から排除する(パージ)。
上述のステップB1~B3を非同時に、すなわち、同期させることなく行うサイクルを所定回数(m回、mは2以上の整数)行うことにより、ウエハ200の表面を下地として、この下地上に、第2膜として、例えば、第1元素としてのSi、第2元素としてのNおよび第3元素としてのCを含む、所定の厚さのシリコン炭窒化膜(SiCN膜)を形成することができる。上述のサイクルは、複数回繰り返すことが好ましい。すなわち、1サイクルあたりに形成されるSiCN層の厚さを所望の膜厚よりも薄くし、SiCN層を積層することで形成されるSiCN膜の厚さが所望の厚さになるまで、上述のサイクルを複数回繰り返すことが好ましい。
次に、プリコートの処理手順、処理条件について説明する。以下では、処理容器内にウエハ200が搬入されていない状態で、処理容器内の部材の最表面に第2膜を形成する場合について説明する。
処理容器内へ原料を供給するステップC1と、
処理容器内へN及びC含有ガスを供給するステップC2と、
処理容器内へ窒化剤を供給するステップC3と、
を非同時に行うサイクルを所定回数(m回、mは1以上の整数)行うことで、処理容器内の部材の最表面に、第2膜を形成する。
その後、ステップC1~C3を順次実行する。
ステップC1では、上述のステップA1における処理手順、処理条件と同様の処理手順、処理条件により、処理容器内へ原料を供給する(原料供給)。これにより、処理容器内の部材の最表面上にSi含有層が形成される。Si含有層が形成された後、処理室201内への原料の供給を停止し、ステップA1におけるパージと同様の処理手順により、処理室201内に残留するガス等を処理室201内から排除する(パージ)。
ステップC1が終了した後、上述のステップB2における処理手順、処理条件と同様の処理手順、処理条件により、処理容器内へN及びC含有ガスを供給する(N及びC含有ガス供給)。これにより、処理容器内の部材の最表面に形成されたSi含有層の少なくとも一部が改質される。結果として、処理容器内の部材の最表面上にSi、C、およびNを含む層として、シリコン炭窒化層(SiCN層)が形成される。SiCN層を形成する際、Si含有層に含まれていたCl等の不純物は、N及びC含有ガスによるSi含有層の改質反応の過程において、少なくともClを含むガス状物質を構成し、処理室201内から排出される。これにより、SiCN層は、ステップC1で形成されたSi含有層に比べて、Cl等の不純物が少ない層となる。
ステップC2が終了した後、上述のステップA2における処理手順、処理条件と同様の処理手順、処理条件により、処理容器内へ窒化剤を供給する(窒化剤供給)。これにより、処理容器内の部材の最表面に形成されたSiCN層中に、さらにN成分を取り込ませ、この層を、N濃度のより高いSiCN層に改質させることが可能となる。SiCN層が改質された後、処理室201内への窒化剤の供給を停止し、ステップA1におけるパージと同様の処理手順により、処理室201内に残留するガス等を処理室201内から排除する(パージ)。
上述のステップC1~C3を非同時に、すなわち、同期させることなく行うサイクルを所定回数(m回、mは1以上の整数)行うことにより、処理容器内の部材の表面を下地として、この下地上に、第2膜として、例えば、第1元素としてのSi、第2元素としてのNおよび第3元素としてのCを含む、所定の厚さのシリコン炭窒化膜(SiCN膜)を形成することができる。上述のサイクルは、複数回繰り返すことが好ましい。すなわち、1サイクルあたりに形成されるSiCN層の厚さを所望の膜厚よりも薄くし、SiCN層を積層することで形成されるSiCN膜の厚さが所望の厚さになるまで、上述のサイクルを複数回繰り返すことが好ましい。
上述の第1膜、第2膜形成は、同一のウエハ200に対して任意の順序で連続して行うことが可能である。例えば、所定のウエハ200に対して第1膜形成を行った後、同一のウエハ200に対して第2膜形成を続けて行うことが可能である。また例えば、所定のウエハ200に対して第2膜形成を行った後、同一のウエハ200に対して第2膜形成を続けて行うことが可能である。
本態様によれば、以下に示す一つ又は複数の効果が得られる。
以上、本開示の態様を具体的に説明した。しかしながら、本開示は上述の態様に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
(原料→N及びC含有ガス+窒化剤)×m
(Si及びCを含む原料→窒化剤)×m
(原料→C含有ガス→窒化剤)×m
以下、本開示の好ましい態様について付記する。
本開示の一態様によれば、
(a)処理容器内に収容された基板に対して第1処理ガスを供給し、基板上に、所定の組成を有する第1膜を形成する工程と、
(b)前記処理容器内に収容された基板に対して第2処理ガスを供給するサイクルを繰り返し、基板上に、前記第1膜とは組成の異なる第2膜を形成する工程と、
を有し、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜が付着している第2の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルの繰り返しを所定のm回行い、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第1膜が付着している第1の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルの繰り返しを前記m回とは異なるm±回行うか、前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜を形成するプリコート工程を行ってから前記サイクルの繰り返しを前記m回行う
半導体装置の製造方法または基板処理方法が提供される。
好ましくは、付記1に記載の方法であって、
前記サイクルの繰り返しを前記m回行うことは、前記サイクルの繰り返し回数を前記m回に設定する通常設定工程に基づいて実行され、
前記サイクルの繰り返しを前記m±回行うことは、前記サイクルの繰り返し回数を前記m±回に設定する例外設定工程に基づいて実行される。
本開示の他の態様によれば、
(a)処理容器内に収容された基板に対して第1処理ガスを供給し、基板上に、所定の組成を有する第1膜を形成する工程と、
(b)前記処理容器内に収容された基板に対して第2処理ガスを供給するサイクルを繰り返し、基板上に、前記第1膜とは組成の異なる第2膜を形成する工程と、
を有し、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜が付着している第2の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルの繰り返し回数を所定のm回に設定する通常設定工程を行ってから前記サイクルの繰り返しを開始し、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第1膜が付着している第1の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルの繰り返し回数を前記m回とは異なるm±回に設定する例外設定工程を行ってから前記サイクルの繰り返しを開始するか、前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜を形成するプリコート工程、および、前記通常設定工程を行ってから前記サイクルの繰り返しを開始する
半導体装置の製造方法または基板処理方法が提供される。
好ましくは、付記2または3に記載の方法であって、
所定の基板に対して前記(a)を行った後、前記所定の基板に対して前記(b)を続けて行う場合は、前記例外設定工程を行ってから前記サイクルの繰り返しを開始する。
好ましくは、付記2~4のいずれかに記載の方法であって、
所定の基板に対して前記(b)を行った後、前記所定の基板に対して前記(b)を続けて行う場合は、前記通常設定工程を行ってから前記サイクルの繰り返しを開始する。
好ましくは、付記2~5のいずれかに記載の方法であって、
所定の基板に対して前記(a)を行った後、前記所定の基板とは異なる基板に対して前記(b)を行う場合は、前記プリコート工程、および、前記通常設定工程を行ってから前記サイクルの繰り返しを開始する。
好ましくは、付記2~6のいずれかに記載の方法であって、
所定の基板に対して前記(b)を行った後、前記所定の基板とは異なる基板に対して前記(b)を行う場合は、前記通常設定工程を行ってから前記サイクルの繰り返しを開始する。
好ましくは、付記2~7のいずれかに記載の方法であって、
前記処理容器内の部材の表面にクリーニング後の清浄面が露出している第3の状態で前記(b)を行う場合は、前記プリコート工程、および、前記通常設定工程を行ってから前記サイクルの繰り返しを開始する。
好ましくは、付記2~8のいずれかに記載の方法であって、
前記プリコート工程では、前記処理容器内に基板が存在しない状態で、前記処理容器内へ前記第2処理ガスを供給する前記サイクルを繰り返す。
好ましくは、付記2~9のいずれかに記載の方法であって、
前記(a)では、前記第1膜として、第1元素(例えばSi)および第2元素(例えばN)を含む膜を形成し、
前記(b)では、前記第2膜として、前記第1元素、前記第2元素、および、第3元素(例えばC)を含む膜を形成し、
前記例外設定工程では、前記サイクルの繰り返し回数を、前記m回よりも少ないm-回に設定する。
好ましくは、付記10に記載の方法であって、
前記(a)では、前記第1膜としてシリコン窒化膜を形成し、
前記(b)では、前記第2膜としてシリコン炭窒化膜を形成する。
本開示の他の態様によれば、
基板を収容する処理容器と、
前記処理容器内へ第1処理ガスおよび第2処理ガスを供給する処理ガス供給系と、
前記付記1または3の各処理(各工程)を行わせるように、前記処理ガス供給系を制御することが可能なよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置が提供される。
本開示のさらに他の態様によれば、
前記付記1または3の各手順(各工程)をコンピュータによって基板処理装置に実行させるプログラム、または、該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
Claims (18)
- (a)処理容器内に収容された基板に対して第1処理ガスを供給し、基板上に、所定の組成を有する第1膜を形成する工程と、
(b)前記処理容器内に収容された基板に対して第2処理ガスを供給するサイクルを実行し、基板上に、前記第1膜とは組成の異なる第2膜を形成する工程と、
を有し、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜が付着している第2の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルを所定のm回行い、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第1膜が付着している第1の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルを前記m回とは異なるm±回行うか、又は前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜を形成するプリコート工程を行ってから前記サイクルを前記m回行う
基板処理方法。 - 請求項1に記載の基板処理方法であって、
前記サイクルを前記m回行うことは、前記サイクルの実行回数を前記m回に設定する通常設定工程に基づいて実行され、
前記サイクルを前記m±回行うことは、前記サイクルの実行回数を前記m±回に設定する例外設定工程に基づいて実行される。 - 請求項2に記載の基板処理方法であって、
所定の基板に対して前記(a)を行った後、前記所定の基板に対して前記(b)を続けて行う場合は、前記例外設定工程を行ってから前記サイクルの実行を開始する。 - 請求項2に記載の基板処理方法であって、
所定の基板に対して前記(b)を行った後、前記所定の基板に対して前記(b)を続けて行う場合は、前記通常設定工程を行ってから前記サイクルの実行を開始する。 - 請求項2に記載の基板処理方法であって、
所定の基板に対して前記(a)を行った後、前記所定の基板とは異なる基板に対して前記(b)を行う場合は、前記プリコート工程、および、前記通常設定工程を行ってから前記サイクルの実行を開始する。 - 請求項2に記載の基板処理方法であって、
所定の基板に対して前記(b)を行った後、前記所定の基板とは異なる基板に対して前記(b)を行う場合は、前記通常設定工程を行ってから前記サイクルの実行を開始する。 - 請求項2に記載の基板処理方法であって、
前記処理容器内の部材の表面にクリーニング後の清浄面が露出している第3の状態で前記(b)を行う場合は、前記プリコート工程、および、前記通常設定工程を行ってから前記サイクルの実行を開始する。 - 請求項1に記載の基板処理方法であって、
前記プリコート工程では、前記処理容器内に基板が存在しない状態で、前記処理容器内へ前記第2処理ガスを供給する前記サイクルを実行する。 - 請求項1に記載の基板処理方法であって、
前記(a)では、前記第1膜として、第1元素および第2元素を含む膜を形成し、
前記(b)では、前記第2膜として、前記第1元素、前記第2元素、および、第3元素を含む膜を形成し、
前記第1の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルを前記m回よりも少ないm-回行う。 - 請求項9に記載の基板処理方法であって、
前記(a)では、前記第1膜としてシリコン窒化膜を形成し、
前記(b)では、前記第2膜としてシリコン炭窒化膜を形成する。 - 請求項1に記載の基板処理方法であって、
前記第1の状態で前記(b)を行う場合、前記サイクルを前記m回とは異なるm±回行う。 - 請求項1に記載の基板処理方法であって、
前記第1の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルを前記m回よりも多いm+回行う。 - 請求項2に記載の基板処理方法であって、
前記例外設定工程では、前記サイクルの実行回数を、前記m回よりも多いm+回に設定する。 - 請求項1に記載の基板処理方法であって、
前記処理容器内の部材の表面にクリーニング後の清浄面が露出している第3の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルの実行回数を前記m回よりも多いm+回行う。 - 請求項2に記載の基板処理方法であって、
前記処理容器内の部材の表面にクリーニング後の清浄面が露出している第3の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルの実行回数を前記m回よりも多いm+回に設定する前記例外設定工程を行ってから前記サイクルの実行を開始する。 - (a)処理容器内に収容された基板に対して第1処理ガスを供給し、基板上に、所定の組成を有する第1膜を形成する工程と、
(b)前記処理容器内に収容された基板に対して第2処理ガスを供給するサイクルを実行し、基板上に、前記第1膜とは組成の異なる第2膜を形成する工程と、
を有し、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜が付着している第2の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルを所定のm回行い、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第1膜が付着している第1の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルを前記m回とは異なるm±回行うか、又は前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜を形成するプリコート工程を行ってから前記サイクルを前記m回行う
半導体装置の製造方法。 - 基板を収容する処理容器と、
前記処理容器内へ第1処理ガスおよび第2処理ガスを供給する処理ガス供給系と、
(a)前記処理容器内に収容された基板に対して前記第1処理ガスを供給し、基板上に、所定の組成を有する第1膜を形成する処理と、
(b)前記処理容器内に収容された基板に対して前記第2処理ガスを供給するサイクルを実行し、基板上に、前記第1膜とは組成の異なる第2膜を形成する処理と、を含み、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜が付着している第2の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルを所定のm回行い、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第1膜が付着している第1の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルを前記m回とは異なるm±回行うか、又は前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜を形成するプリコート工程を行ってから前記サイクルを前記m回行うように、前記処理ガス供給系を制御することが可能なよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - (a)処理容器内に収容された基板に対して第1処理ガスを供給し、基板上に、所定の組成を有する第1膜を形成する手順と、
(b)前記処理容器内に収容された基板に対して第2処理ガスを供給するサイクルを実行し、基板上に、前記第1膜とは組成の異なる第2膜を形成する手順と、
を有し、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜が付着している第2の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルを所定のm回行い、
前記処理容器内の部材の最表面に前記第1膜が付着している第1の状態で前記(b)を行う場合は、前記サイクルを前記m回とは異なるm±回行うか、又は前記処理容器内の部材の最表面に前記第2膜を形成するプリコート手順を行ってから前記サイクルを前記m回行う手順を、
コンピュータによって基板処理装置に実行させるプログラム。
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US18/172,772 US20230307229A1 (en) | 2022-03-24 | 2023-02-22 | Method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium |
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006024666A (ja) | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP2011134781A (ja) | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体装置の製造方法および基板処理装置 |
JP2014192484A (ja) | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体装置の製造方法及び基板処理装置 |
JP2021002556A (ja) | 2019-06-20 | 2021-01-07 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム |
JP2021027227A (ja) | 2019-08-07 | 2021-02-22 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
JP2021088735A (ja) | 2019-12-03 | 2021-06-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法および処理装置 |
-
2022
- 2022-03-24 JP JP2022048484A patent/JP7460676B2/ja active Active
-
2023
- 2023-02-01 CN CN202310049412.3A patent/CN116805570A/zh active Pending
- 2023-02-22 US US18/172,772 patent/US20230307229A1/en active Pending
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JP2006024666A (ja) | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP2011134781A (ja) | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体装置の製造方法および基板処理装置 |
JP2014192484A (ja) | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体装置の製造方法及び基板処理装置 |
JP2021002556A (ja) | 2019-06-20 | 2021-01-07 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム |
JP2021027227A (ja) | 2019-08-07 | 2021-02-22 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
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Also Published As
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