JP7449485B2 - 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 - Google Patents
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Description
第1面と、
前記第1面の反対側に位置する第2面と、
前記第1面に位置する端である第1端と前記第2面に位置する端である第2端とを含む壁面と、を備え、
前記壁面が、前記貫通孔を画成しており、
前記壁面は、前記第1端から前記第2面に向かって広がる第1壁面と、前記第2端から前記第1面に向かって広がる第2壁面と、前記第1壁面と前記第2壁面とが接続される接続部と、を含み、
前記第1面の法線方向に沿って前記第1面側から前記貫通孔を見た場合、前記貫通孔の前記第1端は、第1方向に延び、第1寸法を有する第1部分と、前記第1方向に交差する第2方向に延び、第1寸法よりも短い第2寸法を有する第2部分と、を含み、
前記第1壁面は、前記第1部分から前記接続部に向かって広がる第1壁面区画と、前記第2部分から前記接続部に向かって広がる第2壁面区画と、を含み、
前記第1壁面区画の高さが、前記第2壁面区画の高さよりも小さい。
第1面と、
前記第1面の反対側に位置する第2面と、
前記第1面に位置する端である第1端と前記第2面に位置する端である第2端とを含む壁面と、を備え、
前記壁面が、前記貫通孔を画成しており、
前記壁面は、前記第1端から前記第2面に向かって広がる第1壁面と、前記第2端から前記第1面に向かって広がる第2壁面と、前記第1壁面と前記第2壁面とが接続される接続部と、を含み、
前記第1面の法線方向に沿って前記第1面側から前記貫通孔を見た場合、前記貫通孔の前記第1端は、第1方向に延び、第1寸法を有する第1部分と、前記第1方向に交差する第2方向に延び、第1寸法よりも短い第2寸法を有する第2部分と、を含み、
前記第1壁面は、前記第1部分から前記接続部に向かって広がる第1壁面区画と、前記第2部分から前記接続部に向かって広がる第2壁面区画と、を含み、
前記第1壁面区画の高さが、前記第2壁面区画の高さよりも小さい、蒸着マスクである。
前記第1壁面区画の高さが、前記第2壁面区画の高さよりも1μm以上小さくてもよい。
第1面と、前記第1面の反対側に位置する第2面と、を有する金属板を準備する工程と、
前記金属板をエッチングすることによって前記金属板に前記貫通孔を形成するエッチング工程と、を備え、
前記貫通孔は、前記第1面側に位置する端である第1端と前記第2面側に位置する端である第2端とを含む壁面を備え、
前記壁面は、前記第1端から前記第2面に向かって広がる第1壁面と、前記第2端から前記第1面に向かって広がる第2壁面と、前記第1壁面と前記第2壁面とが接続される接続部と、を含み、
前記エッチング工程は、エッチング液を用いて前記第1面をエッチングすることによって前記第1壁面を形成する第1面エッチング工程と、エッチング液を用いて前記第2面をエッチングすることによって前記第2壁面を形成する第2面エッチング工程と、を含み、
前記第1面の法線方向に沿って前記第1面側から前記貫通孔を見た場合、前記貫通孔の前記第1端は、第1方向に延び、第1寸法を有する第1部分と、前記第1方向に交差する第2方向に延び、第1寸法よりも短い第2寸法を有する第2部分と、を含み、
前記第1壁面は、前記第1部分から前記接続部に向かって広がる第1壁面区画と、前記第2部分から前記接続部に向かって広がる第2壁面区画と、を含み、
前記第1壁面区画の高さが、前記第2壁面区画の高さよりも小さい、蒸着マスクの製造方法である。
前記第1壁面区画の高さが、前記第2壁面区画の高さよりも1μm以上小さくてもよい。
前記第2レジストパターンは、前記第1端の前記第1部分に沿って延び、第1幅を有するレジスト第1部分と、前記第1端の前記第2部分に沿って延び、第2幅を有するレジスト第2部分と、を含み、
前記第1幅は、前記第2幅よりも大きくてもよい。
まず、図18に示すように、第1面エッチング工程を実施する。第1面エッチング工程においては、金属板51の第1面51aのうち第1レジストパターン53cによって覆われていない領域を、第1エッチング液を用いてエッチングする。例えば、第1エッチング液を、搬送される金属板51の第1面51aに対面する側に配置されたノズルから、第1レジストパターン53c越しに金属板51の第1面51aに向けて噴射する。この際、金属板51の第2面51bは、第1エッチング液に対する耐性を有するフィルムなどによって覆われていてもよい。
第1面エッチング工程の結果、図18に示すように、金属板51のうちの第1レジストパターン53cによって覆われていない領域で、第1エッチング液による浸食が進む。これによって、金属板51の第1面51aに多数の第1凹部30が形成される。第1エッチング液としては、例えば塩化第2鉄溶液及び塩酸を含むものを用いる。
複数のサンプルは、上述のように、1つの蒸着マスク20の複数の検査箇所Pにおいて採取されてもよい。若しくは、複数のサンプルは、複数の蒸着マスク20の検査箇所Pにおいて採取されてもよい。例えば図26に示すように、複数のサンプルは、金属板51の長さ方向F1における前端51e側において金属板51の幅方向F2に並ぶ複数の蒸着マスク20の複数の検査箇所Pにおいて採取されてもよい。また、複数のサンプルは、金属板51の長さ方向F1における後端51f側において金属板51の幅方向F2に並ぶ複数の蒸着マスク20の複数の検査箇所Pにおいて採取されてもよい。また、複数のサンプルは、金属板51の前端51eと後端51fとの間の中間部において金属板51の幅方向F2に並ぶ複数の蒸着マスク20の複数の検査箇所Pにおいて採取されてもよい。このように採取された複数のサンプルにおいて測定された高さの値の平均値を、貫通孔25の第1凹部30の第1壁面31の上述の高さH1及び高さH2として用いることができる。
上述の実施の形態の図13においては、第2の蒸着層99B及び第3の蒸着層99Cが、第1の蒸着層99Aの長辺が延びる方向に沿って並ぶ例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図27に示すように、第2の蒸着層99B及び第3の蒸着層99Cが、第1の蒸着層99Aの長辺が延びる方向に直交する方向において並んでいてもよい。この場合、図27に示すように、第2の蒸着層99B及び第3の蒸着層99Cも、第1の蒸着層99Aと同様に、一対の長辺及び一対の短辺を有していてもよい。このような第2の蒸着層99B及び第3の蒸着層99Cは、第1の蒸着層99Aと同様に、異なる長さを有する第1部分32a及び第2部分32bを含む第1端32を備えるように構成された蒸着マスク20を用いることによって形成されてもよい。
上述の実施の形態の図13においては、第1の蒸着層99Aの一対の辺の長さを、その他の一対の辺の長さに比べて大きくすることによって、第1の蒸着層99Aの面積がその他の蒸着層99B,99Cの面積に比べて拡大される例を示した。しかしながら、第1の蒸着層99Aの面積をその他の蒸着層99B,99Cの面積よりも大きくするための具体的な方法は特には限られない。例えば、図28Aに示すように、第1の蒸着層99Aが、寸法M1を有する4つの辺を含み、第3の蒸着層99Cが、寸法M1よりも小さい寸法M2を有する4つの辺を含んでいてもよい。第2の蒸着層99Bが、寸法M3を有する一対の辺と、寸法M3よりも小さい寸法M4を有する一対の辺と、を含んでいてもよい。寸法M3を有する第2の蒸着層99Bの辺は、第1方向D1又は第2方向D1において第1の蒸着層99Aの辺に対向していてもよい。寸法M4を有する第2の蒸着層99Bの辺は、第1方向D1又は第2方向D1において第3の蒸着層99Cの辺に対向していてもよい。寸法M3は、寸法M1と同一であってもよい。寸法M4は、寸法M2と同一であってもよい。第2の蒸着層99Bは、図29に示すように、異なる長さを有する第1部分32a及び第2部分32bを含む第1端32を備える蒸着マスク20を用いることによって形成されてもよい。
上述の実施の形態及び変形例においては、蒸着層99の輪郭の形状、及び蒸着マスク20の貫通孔25の第1端32の形状が四角形である例を示した。しかしながら、異なる長さを有する第1部分32a及び第2部分32bを含む第1端32を貫通孔25が備える限りにおいて、蒸着層99の輪郭及び貫通孔25の形状やパターンは特には限定されない。例えば、図30に示すように、蒸着層99A,99B,99Cは、六角形の輪郭を有していてもよい。
また、高さH1が高さH2よりも小さくなることを、第2間隔C2が第1間隔C1よりも小さいことに基づいて以下のように説明することもできる。ここでは、隣り合う2つの貫通孔25の間には少なくとも部分的にトップ部43が存在していると仮定する。この場合、第2間隔C2が第1間隔C1よりも小さいので、貫通孔25の第2部分32bからトップ部43までの距離は、貫通孔25の第1部分32aからトップ部43までの距離よりも短い。この結果、貫通孔25のうち第2部分32bに対応する部分では、第1部分32aに対応する部分に比べて、接続部41の位置が第2面51b側になる。すなわち、高さH1が高さH2よりも小さくなる。
上述の実施の形態及び変形例においては、蒸着マスク20の貫通孔25の第1端32の第1部分32a及び第2部分32bがそれぞれ、第1方向D1及び第2方向D2に延びる例を示した。しかしながら、第1方向D1における第1部分32aの第1寸法L1が、第2方向D2における第2部分32bの第2寸法L2よりも大きい限りにおいて、第1部分32a及び第2部分32bの具体的な形状は特には限られない。例えば、図35に示すように、第1端32は、平面視において楕円形を有していてもよい。この場合、第1部分32aの第1寸法L1は、第1方向D1に延びる一対の辺及び第2方向D2に延びる一対の辺を含むとともに第1端32に外接する四角形32pの、第1方向D1に延びる辺の長さである。また、第2部分32bの第2寸法L2は、第1端32に外接する上述の四角形32pの、第2方向D2に延びる辺の長さである。
上述の実施の形態及び変形例においては、貫通孔25の第1壁面31の第1壁面区画31aの高さH1が、第1壁面31の第2壁面区画31bの高さH2よりも小さい例を示した。また、平面視において第2部分53d2を挟んで隣り合う二つの第2凹部35は、平面視において第1部分53d1を挟んで隣り合う二つの第2凹部35に比べて、より早い段階で接続される例を示した。このため、第2部分53d2と金属板51との間の隙間は、第1部分53d1と金属板51との間の隙間よりも早く形成される例を示した。この場合、図9に示す第1高さH11は、図10に示す第2高さH12よりも大きくてもよい。なぜなら、第2レジストパターン53dと金属板51との間に隙間が形成されるタイミングが遅いほど、壁面全体の高さが大きく維持されるからである。第1高さH11と第2高さH12との差は、例えば0μm以上であり、0.1×T以上であってもよく、0.2×T以上であってもよく、0.3×T以上であってもよい。Tは、蒸着マスク20の厚みである。また、第1高さH11と第2高さH12との差は、例えば0.7×T以下であり、0.5×T以下であってもよく、0.4×T以下であってもよい。これにより、蒸着マスク20の強度が低下することを抑制しながら、有機EL基板92に形成される蒸着層99の有効面積を増加させることができる。
図8乃至図10に示す構造を有する蒸着マスク20を準備した。蒸着マスク20の各部分の寸法は下記の通りである。
・第1壁面区画31aの高さH1:3μm
・第2壁面区画31bの高さH2:4μm
・第1部分32aの第1寸法L1:48μm
・第2部分32bの第2寸法L2:46μm
図8乃至図10に示す構造を有する蒸着マスク20を準備した。蒸着マスク20の各部分の寸法は下記の通りである。
・第1壁面区画31aの高さH1:2μm
・第2壁面区画31bの高さH2:4μm
・第1部分32aの第1寸法L1:48μm
・第2部分32bの第2寸法L2:46μm
図8乃至図10に示す構造を有する蒸着マスク20を準備した。蒸着マスク20の各部分の寸法は下記の通りである。
・第1壁面区画31aの高さH1:2μm
・第2壁面区画31bの高さH2:3μm
・第1部分32aの第1寸法L1:48μm
・第2部分32bの第2寸法L2:46μm
図8乃至図10に示す構造を有する蒸着マスク20を準備した。蒸着マスク20の各部分の寸法は下記の通りである。
・第1壁面区画31aの高さH1:4μm
・第2壁面区画31bの高さH2:4μm
・第1部分32aの第1寸法L1:48μm
・第2部分32bの第2寸法L2:46μm
図8乃至図10に示す構造を有する蒸着マスク20を準備した。蒸着マスク20の各部分の寸法は下記の通りである。
・第1壁面区画31aの高さH1:2μm
・第2壁面区画31bの高さH2:2μm
・第1部分32aの第1寸法L1:48μm
・第2部分32bの第2寸法L2:46μm
Claims (18)
- 貫通孔を有する蒸着マスクであって、
第1面と、
前記第1面の反対側に位置する第2面と、
前記第1面に位置する端である第1端と前記第2面に位置する端である第2端とを含む壁面と、を備え、
前記壁面が、前記貫通孔を画成しており、
前記壁面は、前記第1端から前記第2面に向かって広がる第1壁面と、前記第2端から前記第1面に向かって広がる第2壁面と、前記第1壁面と前記第2壁面とが接続される接続部と、を含み、
前記第1壁面と前記第2壁面とが合流する部分は、前記貫通孔の中心側に張り出しており、
平面視における前記貫通孔の開口面積は、前記接続部において最小になり、
隣り合う2つの前記貫通孔の前記第1壁面は、接続されておらず、
隣り合う2つの前記貫通孔の前記第2壁面は、部分的に接続されており、
前記第1面の法線方向に沿って前記第1面側から前記貫通孔を見た場合、前記貫通孔の前記第1端は、第1方向に延び、第1寸法を有する第1部分と、前記第1方向に交差する第2方向に延び、第1寸法よりも短い第2寸法を有する第2部分と、を含み、
前記第1壁面は、前記第1部分から前記接続部に向かって広がる第1壁面区画と、前記第2部分から前記接続部に向かって広がる第2壁面区画と、を含み、
前記第1壁面区画の高さが、前記第2壁面区画の高さよりも小さく、
前記第1部分の中央部を含み前記第1方向に直交する断面における前記壁面の高さである第1高さ、及び、前記第2部分の中央部を含み前記第2方向に直交する断面における前記壁面の高さである第2高さが、前記蒸着マスクの厚みよりも小さく、
前記第1高さが、前記第2高さよりも大きい、蒸着マスク。 - 前記第2寸法が、前記第1寸法よりも2μm以上短く、
前記第1壁面区画の高さが、前記第2壁面区画の高さよりも1μm以上小さい、請求項1に記載の蒸着マスク。 - 前記第1面の法線方向に沿って前記第1面側から前記貫通孔を見た場合、前記第1方向に直交する方向において隣り合う2つの前記貫通孔の間の間隔である第1間隔が、前記第2方向に直交する方向において隣り合う2つの前記貫通孔の間の間隔である第2間隔よりも大きい、請求項1又は2に記載の蒸着マスク。
- 前記第1間隔と前記第2間隔との差が2μm以上である、請求項3に記載の蒸着マスク。
- 前記第1間隔と前記第2間隔との差が5μm以上である、請求項3に記載の蒸着マスク。
- 前記第1間隔と前記第2間隔との差が100μm以下である、請求項3乃至5のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
- 前記第1高さと前記第2高さとの差が、前記蒸着マスクの厚みの0.3倍以上である、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
- 前記第1高さと前記第2高さとの差が、前記蒸着マスクの厚みの0.7倍以下である、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
- 前記第1壁面区画の高さ、及び、前記第2壁面区画の高さが、5μm以下である、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
- 前記蒸着マスクの厚みは、30μm以下である、請求項1乃至9のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
- 貫通孔を有する蒸着マスクの製造方法であって、
第1面と、前記第1面の反対側に位置する第2面と、を有する金属板を準備する工程と、
前記金属板をエッチングすることによって前記金属板に前記貫通孔を形成するエッチング工程と、を備え、
前記貫通孔は、前記第1面側に位置する端である第1端と前記第2面側に位置する端である第2端とを含む壁面を備え、
前記壁面は、前記第1端から前記第2面に向かって広がる第1壁面と、前記第2端から前記第1面に向かって広がる第2壁面と、前記第1壁面と前記第2壁面とが接続される接続部と、を含み、
前記第1壁面と前記第2壁面とが合流する部分は、前記貫通孔の中心側に張り出しており、
平面視における前記貫通孔の開口面積は、前記接続部において最小になり、
隣り合う2つの前記貫通孔の前記第1壁面は、接続されておらず、
隣り合う2つの前記貫通孔の前記第2壁面は、部分的に接続されており、
前記エッチング工程は、エッチング液を用いて前記第1面をエッチングすることによって前記第1壁面を形成する第1面エッチング工程と、エッチング液を用いて前記第2面をエッチングすることによって前記第2壁面を形成する第2面エッチング工程と、を含み、
前記第1面の法線方向に沿って前記第1面側から前記貫通孔を見た場合、前記貫通孔の前記第1端は、第1方向に延び、第1寸法を有する第1部分と、前記第1方向に交差する第2方向に延び、第1寸法よりも短い第2寸法を有する第2部分と、を含み、
前記第1壁面は、前記第1部分から前記接続部に向かって広がる第1壁面区画と、前記第2部分から前記接続部に向かって広がる第2壁面区画と、を含み、
前記第1壁面区画の高さが、前記第2壁面区画の高さよりも小さく、
前記第1部分の中央部を含み前記第1方向に直交する断面における前記壁面の高さである第1高さ、及び、前記第2部分の中央部を含み前記第2方向に直交する断面における前記壁面の高さである第2高さが、前記蒸着マスクの厚みよりも小さく、
前記第1高さが、前記第2高さよりも大きい、蒸着マスクの製造方法。 - 前記第2寸法が、前記第1寸法よりも2μm以上短く、
前記第1壁面区画の高さが、前記第2壁面区画の高さよりも1μm以上小さい、請求項11に記載の蒸着マスクの製造方法。 - 前記第2面エッチング工程は、第2レジストパターンによって覆われていない前記第2面の領域を、エッチング液を用いてエッチングする工程を含み、
前記第2レジストパターンは、前記第1端の前記第1部分に沿って延び、第1幅を有するレジスト第1部分と、前記第1端の前記第2部分に沿って延び、第2幅を有するレジスト第2部分と、を含み、
前記第1幅は、前記第2幅よりも大きい、請求項11又は12に記載の蒸着マスクの製造方法。 - 前記第1幅と前記第2幅との差が2μm以上である、請求項13に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記第1幅と前記第2幅との差が5μm以上である、請求項13に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記第1幅と前記第2幅との差が100μm以下である、請求項13乃至15のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記第2面エッチング工程は、前記金属板と前記レジスト第1部分及び前記レジスト第2部分との間に隙間が形成されるまで実施される、請求項13乃至16のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記金属板の厚みは、50μm以下である、請求項11乃至17のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
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