JP7448757B1

JP7448757B1 - Photosensitive compositions, films, optical filters, solid-state imaging devices, image display devices, and infrared sensors

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Publication number: JP7448757B1
Application number: JP2022171938A
Authority: JP
Inventors: 駿平鈴木; 慶一近藤; 寛之吉田
Original assignee: Artience Co Ltd
Current assignee: Artience Co Ltd
Priority date: 2022-10-27
Filing date: 2022-10-27
Publication date: 2024-03-13
Anticipated expiration: 2042-10-27
Also published as: JP2024063827A

Abstract

【課題】パターン形成性、電気特性に優れ、低温ポストベーク後に優れた耐溶剤性を有する膜を形成できる感光性組成物を提供する。【解決手段】上記課題は、着色剤（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、及び重合開始剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、前記重合開始剤（Ｄ）が、下記一般式（１）で表される重合開始剤（Ｄ１）、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中での波長３６５ｎｍの光の吸光係数が５．０×１０３Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以上の重合開始剤（Ｄ２）を含む感光性組成物によって解決できる。一般式（１）JPEG0007448757000032.jpg3390【選択図】図１The present invention provides a photosensitive composition that has excellent pattern formability and electrical properties and can form a film having excellent solvent resistance after low-temperature post-baking. The above object is to provide a photosensitive composition containing a colorant (A), an alkali-soluble resin (B), a polymerizable compound (C), and a polymerization initiator (D), the photosensitive composition comprising the polymerization initiator (D). D) is a polymerization initiator (D1) represented by the following general formula (1) and a polymerization in which the extinction coefficient of light with a wavelength of 365 nm is 5.0 x 10 L/mol cm or more in propylene glycol monomethyl ether acetate. This problem can be solved by a photosensitive composition containing an initiator (D2). General formula (1) JPEG0007448757000032.jpg3390 [Selection diagram] Figure 1

Description

本発明は、感光性組成物及びその用途に関する。 The present invention relates to a photosensitive composition and its uses.

液晶表示装置、スマートフォン、赤外線センサ等の需要増によりこれらに使用されるカラーフィルタ等の光学フィルタの需要も伸びている。カラーフィルタの製造は、例えば、感光性組成物のフォトリソグラフィー法による膜形成後に２００～２６０℃で加熱処理（以下、ポストベーク）する工程が行われている。 Due to the increasing demand for liquid crystal display devices, smartphones, infrared sensors, etc., the demand for optical filters such as color filters used in these devices is also increasing. In the production of color filters, for example, a step of heat-treating (hereinafter referred to as post-baking) at 200 to 260° C. is performed after film formation of a photosensitive composition by photolithography.

近年、画像表示装置や固体撮像素子の高画素化によって１画素あたりの面積が小さくなるため感光性組成物に含まれる着色剤の濃度を高める薄膜化、およびパターンの高精細化が必要になる。しかし、着色剤を高濃度化した場合、塗膜内部まで紫外線等がとどかないため、光硬化不足によりパターンの底部が必要以上に除去されることや基材からパターンが剥がれるなどパターン形状に欠陥が発生する問題があった。また、光硬化不足により、電気特性が悪化し画像表示がチラつくというような問題もあった。 In recent years, as the number of pixels in image display devices and solid-state imaging devices has increased, the area per pixel has become smaller, so it is necessary to make the photosensitive composition thinner by increasing the concentration of the coloring agent and to make the pattern more precise. However, when the colorant is highly concentrated, ultraviolet rays etc. do not reach inside the coating film, resulting in defects in the pattern shape such as the bottom of the pattern being removed more than necessary or the pattern peeling off from the base material due to insufficient photocuring. There was a problem that occurred. In addition, there were also problems such as deterioration of electrical properties and flickering of image display due to insufficient photocuring.

また、ＯＬＥＤ（ＯｒｇａｎｉｃＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇＤｉｏｄｅ）等を用いた有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ－Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置に用いられる有機発光層の耐熱性は低いため、その光学フィルタの形成に使用する感光性組成物は、ポストベークを従来よりも低温、例えば１５０℃以下で行う必要がある。しかし、低温では膜の硬化が不十分になり、耐溶剤性が悪化する問題があった。 Furthermore, since the heat resistance of the organic light-emitting layer used in organic EL (Electro-Luminescence) display devices using OLED (Organic Light Emitting Diode) etc. is low, the photosensitive composition used to form the optical filter is It is necessary to perform baking at a lower temperature than conventionally, for example, 150° C. or lower. However, at low temperatures, the film is insufficiently cured, resulting in poor solvent resistance.

これに対して、例えば、パターン形成性の改善の取り組みとして、特許文献１には、多官能チオール化合物およびアセトフェノン化合物を含む着色感光性樹脂組成物が開示されている。特許文献２には、アルキレンオキサイド構造を有する重合性化合物とラクトン構造を有する重合性化合物を含む着色組成物が開示されている。
また、電気特性の改善の取り組みとして、特許文献３には、緑色着色剤と、環状エーテル構造含有成分を含み、全着色剤の含有率が着色樹脂組成物の固形分に対して４５．５質量％以上である着色樹脂組成物が開示されている。
また、光学フィルタを低温で製造する取り組みとして、特許文献４には、赤色着色剤と、ブロックイソシアネート基を含む繰り返し単位を有する樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤を含み、波長４００～５００ｎｍの光に対する吸光度の最大値Ａｍａｘ１と波長５５０～７００ｎｍの光に対する吸光度の最小値Ａｍｉｎ１との比Ａｍａｘ１／Ａｍｉｎ１が２５以上で、波長５００ｎｍの光に対する吸光度を１としたとき、吸光度が０．３となる波長が５７０～６２０ｎｍの範囲に存在する着色組成物が開示されている。 On the other hand, for example, as an effort to improve pattern forming properties, Patent Document 1 discloses a colored photosensitive resin composition containing a polyfunctional thiol compound and an acetophenone compound. Patent Document 2 discloses a colored composition containing a polymerizable compound having an alkylene oxide structure and a polymerizable compound having a lactone structure.
In addition, as an effort to improve electrical properties, Patent Document 3 discloses that a green colorant and a component containing a cyclic ether structure are included, and the content of the total colorant is 45.5% by mass based on the solid content of the colored resin composition. % or more are disclosed.
In addition, as an effort to manufacture optical filters at low temperatures, Patent Document 4 discloses a red colorant, a resin having a repeating unit containing a blocked isocyanate group, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator. The ratio Amax1/Amin1 of the maximum value Amax1 of absorbance for light with a wavelength of 500 nm and the minimum value Amin1 of absorbance for light with a wavelength of 550 to 700 nm is 25 or more, and when the absorbance for light with a wavelength of 500 nm is 1, the absorbance is 0.3 A colored composition having a wavelength in the range of 570 to 620 nm is disclosed.

特開２００４－８３８５７号公報Japanese Patent Application Publication No. 2004-83857 特開２０１４－１４２５８２号公報Japanese Patent Application Publication No. 2014-142582 特開２０２１－０３９３３６号公報JP2021-039336A 国際公開第２０２１／０５４２４８号International Publication No. 2021/054248

しかしながら、特許文献１～４に記載の組成物は、パターン形状、電気特性、及び低温ポストベーク後の耐溶剤性の全てを満足できなかった。 However, the compositions described in Patent Documents 1 to 4 could not satisfy all of the pattern shape, electrical properties, and solvent resistance after low-temperature post-baking.

本発明は、パターン形成性、電気特性に優れ、低温ポストベーク後に優れた耐溶剤性を有する膜を形成できる感光性組成物の提供を目的とする。 An object of the present invention is to provide a photosensitive composition that has excellent pattern formability and electrical properties and can form a film having excellent solvent resistance after low-temperature post-baking.

本発明は、着色剤（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、及び重合開始剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、
前記重合開始剤（Ｄ）が、下記一般式（１）で表される重合開始剤（Ｄ１）、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中での波長３６５ｎｍの光の吸光係数が５．０×１０^３Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以上の重合開始剤（Ｄ２）を含む感光性組成物に関する。
一般式（１）

The present invention is a photosensitive composition comprising a colorant (A), an alkali-soluble resin (B), a polymerizable compound (C), and a polymerization initiator (D),
The polymerization initiator (D) is a polymerization initiator (D1) represented by the following general formula (1), and has an extinction coefficient of 5.0×10 ³ L for light with a wavelength of 365 nm in propylene glycol monomethyl ether acetate. The present invention relates to a photosensitive composition containing a polymerization initiator (D2) in an amount of /mol·cm or more.
General formula (1)

一般式（１）中、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立してカルボニル結合、又は単結合を表す。Ｒ^１は、炭素数１～２０のアルキル基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～３０の複素環、炭素数６～３０のアリール基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表す。Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立して炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～３０の複素環基、炭素数６～３０のアリール基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表す。 In general formula (1), X ¹ and X ² each independently represent a carbonyl bond or a single bond. R ¹ represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms. R ² and R ³ are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a heterocycle having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms. represents a group. R ⁴ and R ⁵ each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms. represent.

上記の本発明によれば、パターン形成性、電気特性に優れ、低温ポストベーク後に優れた耐溶剤性を有する膜を形成できる感光性組成物を提供できる。また、本発明は、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、及び赤外線センサを提供できる。 According to the present invention described above, it is possible to provide a photosensitive composition that has excellent pattern formability and electrical properties, and can form a film having excellent solvent resistance after low-temperature post-baking. Further, the present invention can provide an optical filter, a solid-state image sensor, an image display device, and an infrared sensor.

図１は、本発明の光学フィルタを備えた赤外線センサの概略断面図を示す。FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of an infrared sensor equipped with an optical filter of the present invention.

以下に、本発明の感光性組成物を実施するための形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に制限されるものではなく、課題を解決可能な範囲内で変形して実施できる。 Below, modes for carrying out the photosensitive composition of the present invention will be explained in detail. Note that the present invention is not limited to the following embodiments, and can be modified and implemented within the scope that can solve the problem.

本明細書において、「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリル」、「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリレート」、又は「（メタ）アクリルアミド」とは、特に説明がない限り、それぞれ、「アクリロイル及び／又はメタアクリロイル」、「アクリル及び／又はメタアクリル」、「アクリル酸及び／又はメタアクリル酸」、「アクリレート及び／又はメタクリレート」、又は「アクリルアミド及び／又はメタアクリルアミド」を意味する。また、「Ｃ．Ｉ．」は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；ＴｈｅＳｏｃｉｅｔｙｏｆＤｙｅｒｓａｎｄＣｏｌｏｕｒｉｓｔｓ発行）を意味する。重合性不飽和基は、エチレン性不飽和二重結合である。
本発明における化合物の分子量に関しては、分子量が特定できる低分子化合物は、計算により算出した値（式量）、若しくはＥＳＩ－ＭＳ（エレクトロスプレーイオン化質量分析法）により測定した分子量であり、分子量の分布を持つ化合は、テトラヒドロフランを溶剤とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量である。
単量体は、重合により樹脂を形成する化合物である。単量体は、未反応状態であり、単量体単位は、単量体が重合後に樹脂を形成している状態である。 In this specification, "(meth)acryloyl", "(meth)acrylic", "(meth)acrylic acid", "(meth)acrylate", or "(meth)acrylamide" means, unless otherwise specified, respectively mean "acryloyl and/or methacryloyl", "acrylic and/or methacrylic", "acrylic acid and/or methacrylic acid", "acrylate and/or methacrylate", or "acrylamide and/or methacrylamide" do. Further, "C.I." means Color Index (C.I.; published by The Society of Dyers and Colorists). The polymerizable unsaturated group is an ethylenically unsaturated double bond.
Regarding the molecular weight of the compound in the present invention, low molecular weight compounds whose molecular weight can be specified have a calculated value (formula weight) or a molecular weight measured by ESI-MS (electrospray ionization mass spectrometry), and the molecular weight distribution The weight average molecular weight of a compound with polystyrene standards is measured by gel permeation chromatography using tetrahydrofuran as a solvent.
Monomers are compounds that form resins upon polymerization. The monomers are in an unreacted state, and the monomer units are in a state where the monomers form a resin after polymerization.

＜感光性組成物＞
本発明の一実施形態である感光性組成物は、着色剤（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、及び重合開始剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、
前記重合開始剤（Ｄ）が、下記一般式（１）で表される重合開始剤（Ｄ１）、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中での波長３６５ｎｍの光の吸光係数が５．０×１０^３Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以上の重合開始剤（Ｄ２）を含むことを特徴とする。なお、前記重合開始剤（Ｄ２）は、前記重合開始剤（Ｄ１）以外の化合物である。
一般式（１）

<Photosensitive composition>
A photosensitive composition that is an embodiment of the present invention is a photosensitive composition containing a colorant (A), an alkali-soluble resin (B), a polymerizable compound (C), and a polymerization initiator (D). ,
The polymerization initiator (D) is a polymerization initiator (D1) represented by the following general formula (1), and has an extinction coefficient of 5.0×10 ³ L for light with a wavelength of 365 nm in propylene glycol monomethyl ether acetate. It is characterized by containing a polymerization initiator (D2) of /mol·cm or more. Note that the polymerization initiator (D2) is a compound other than the polymerization initiator (D1).
General formula (1)

上記構成の感光性組成物で、本発明の課題を解決できるメカニズムは明らかではないが、以下のように推測している。 Although the mechanism by which the photosensitive composition having the above structure can solve the problems of the present invention is not clear, it is speculated as follows.

感光性組成物は、光や熱により重合開始剤が分解し活性種を生成する。この活性種が、重合性化合物に付加して新たに活性種を生成し、これが連鎖的に進行して重合する。しかし、この活性種は、外部要因により不活性化されると、重合反応が停止してしまう。活性種が、ラジカルの場合、酸素が重合を阻害する（酸素阻害ともいう）。酸素は、基底状態で三重項状態にあるためラジカルとの反応性が高く、ラジカル活性種と容易に反応してヒドロキシペルオキシラジカルを形成する。このヒドロキシペルオキシラジカルは、重合性化合物との反応性に劣るため、重合反応の進行が阻害される。
通常、光学フィルタは、大気雰囲気下で製造されるため、露光工程で酸素による重合阻害を受け、膜の表面の重合が進み難く、現像工程でパターンに欠陥が生じやすい。また、低温ポストベークでは、十分に硬化が進まず溶剤耐性が悪化する。
しかし、重合開始剤（Ｄ１）は、分子内に２個のラジカル発生基を有するため、ラジカル発生量が多く酸素阻害を受け難く、表面の光硬化が進むと推測する。更に、光学フィルタの作製に用いられる超高圧水銀灯の主波長である３６５ｎｍ付近の光の吸収能力が高い重合開始剤（Ｄ２）を含むことで、着色剤濃度が高く光が届きにくい膜の底部まで十分に光硬化が進み、膜耐性が向上すると推測する。また、十分に光硬化することでポストベークでの着色剤の凝集・会合を抑制でき、電気特性が向上すると推測する。 In a photosensitive composition, a polymerization initiator is decomposed by light or heat to generate active species. This active species is added to the polymerizable compound to generate a new active species, which progresses in a chain and polymerizes. However, if this active species is inactivated by an external factor, the polymerization reaction will stop. When the active species is a radical, oxygen inhibits polymerization (also referred to as oxygen inhibition). Since oxygen is in a triplet state in the ground state, it has high reactivity with radicals, and easily reacts with radical active species to form hydroxyperoxy radicals. Since this hydroxyperoxy radical has poor reactivity with polymerizable compounds, the progress of the polymerization reaction is inhibited.
Since optical filters are usually manufactured under an atmospheric atmosphere, polymerization is inhibited by oxygen during the exposure process, making it difficult for polymerization to proceed on the surface of the film, and defects are likely to occur in the pattern during the development process. Further, in low-temperature post-baking, curing does not proceed sufficiently and solvent resistance deteriorates.
However, since the polymerization initiator (D1) has two radical-generating groups in its molecule, it is assumed that the amount of radicals generated is large and is less likely to be inhibited by oxygen, resulting in the progress of photocuring of the surface. Furthermore, by including a polymerization initiator (D2) that has a high ability to absorb light in the vicinity of 365 nm, which is the main wavelength of ultra-high pressure mercury lamps used in the production of optical filters, the colorant concentration is high and light reaches the bottom of the film where it is difficult to reach. It is assumed that photocuring progresses sufficiently and film resistance improves. It is also assumed that sufficient photocuring can suppress aggregation and association of the colorant during post-baking, improving electrical properties.

以下、一実施形態の感光性組成物に含まれるか、又は含まれ得る成分を詳細に説明する。 Components that are or can be included in the photosensitive composition of one embodiment will be described in detail below.

［着色剤（Ａ）］
着色剤（Ａ）は、特に限定されるものではなく、顔料及び染料のいずれでもよく、併用できる。顔料は、有機顔料、及び無機顔料があり、光学フィルタ用途には耐性の観点から顔料を含むことが好ましい。 [Colorant (A)]
The colorant (A) is not particularly limited, and may be either a pigment or a dye, and can be used in combination. Pigments include organic pigments and inorganic pigments, and it is preferable for optical filter applications to include pigments from the viewpoint of durability.

赤色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１，２，３，４，５，６，７，８，９，１２，１４，１５，１６，１７，２１，２２，２３，３１，３２，３７，３８，４１，４７，４８，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５０：１，５２：１，５２：２，５３，５３：１，５３：２，５３：３，５７，５７：１，５７：２，５８：４，６０，６３，６３：１，６３：２，６４，６４：１，６８，６９，８１，８１：１，８１：２，８１：３，８１：４，８３，８８，９０：１，１０１，１０１：１，１０４，１０８，１０８：１，１０９，１１２，１１３，１１４，１２２，１２３，１４４，１４６，１４７，１４９，１５１，１６６，１６８，１６９，１７０，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８１，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，１９３，１９４，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１４，２１６，２２０，２２１，２２４，２３０，２３１，２３２，２３３，２３５，２３６，２３７，２３８，２３９，２４２，２４３，２４５，２４７，２４９，２５０，２５１，２５３，２５４，２５５，２５６，２５７，２５８，２５９，２６０，２６２，２６３，２６４，２６５，２６６，２６７，２６８，２６９，２７０，２７１，２７２，２７３，２７４，２７５，２７６，２７７，２７８，２７９，２８０，２８１，２８２，２８３，２８４，２８５，２８６，２８７，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料等が挙げられる。 The red pigment is, for example, C.I. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 52:2, 53, 53:1, 53:2, 53: 3,57,57:1,57:2,58:4,60,63,63:1,63:2,64,64:1,68,69,81,81:1,81:2,81: 3,81:4,83,88,90:1,101,101:1,104,108,108:1,109,112,113,114,122,123,144,146,147,149,151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276, 277, 278, 279, 280, 281,282,283,284,285,286,287,291,295,296, pigments described in JP-A-2014-134712, pigments described in Japanese Patent No. 6368844, and the like.

橙色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６，３８，４３，６４，７１，７３等が挙げられる。 The orange pigment is, for example, C.I. I. Pigment Orange 36, 38, 43, 64, 71, 73 and the like.

黄色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１，２，３，４，５，６，１０，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２６，１２７，１２８，１２９，１３８，１３９，１４７，１５０，１５１，１５２、１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９２，１９３，１９４，１９６，１９８，１９９，２１３，２１４，２３１，２３３、特開２０１２－２２６１１０号公報に記載された顔料が挙げられる。 Yellow pigments include, for example, C.I. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 126, 127, 128, 129, 138, 139, 147, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180, 181, 182, 185, 187, 188, 192, 193, 194, 196, 198, 199, 213, 214, 231, 233, and pigments described in JP 2012-226110A.

また、黄色顔料は、下記一般式（２）で表されるアゾ化合物及びそれの互変異性構造のアゾ化合物のモノ、ジ、トリ及びテトラアニオンからなる群から選ばれる少なくとも１種のアニオンと、Ｃｄ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｃｒ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｚｎ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｕ及びＭｎから選ばれる少なくとも２種の金属イオンと、下記一般式（３）で表される化合物を含む顔料が挙げられる。 In addition, the yellow pigment includes at least one anion selected from the group consisting of mono, di, tri, and tetra anions of an azo compound represented by the following general formula (2) and an azo compound having a tautomeric structure thereof; Examples include pigments containing at least two metal ions selected from Cd, Co, Al, Cr, Sn, Pb, Zn, Fe, Ni, Cu, and Mn and a compound represented by the following general formula (3).

一般式（２）

General formula (2)

一般式（２）中、２つのＲ_１は、それぞれ独立して－ＯＨ、－ＮＨ_２、－ＮＨ－ＣＮ、アシルアミノ基、アルキルアミノ基、又はアリールアミノ基を表し、２つのＲ_２は、それぞれ独立して－ＯＨ、又は－ＮＨ_２を表す。 In general formula (2), the two R ₁ 's each independently represent -OH, -NH ₂ , -NH-CN, an acylamino group, an alkylamino group, or an arylamino group, and the two R ₂ 's each independently represent -OH, -NH 2 , -NH-CN, an acylamino group, an alkylamino group, or an arylamino group; It independently represents -OH or -NH ₂ .

一般式（３）
General formula (3)

一般式（３）中、３つのＲ_３は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基を表す。 In general formula (3), three R ₃ 's each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group.

緑色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１，２，４，７，８，１０，１３，１４，１５，１７，１８，１９，２６，３６，３７，４５，４８，５０，５１，５４，５５，５８，５９，６２，６３等が挙げられる。 The green pigment is, for example, C.I. I. Pigment Green 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 37, 45, 48, 50, 51, 54, 55, 58, 59, 62, 63 etc. are mentioned.

青色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１，１：２，９，１４，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，１７，１９，２５，２７，２８，２９，３３，３５，３６，５６，５６：１，６０，６１，６１：１，６２，６３，６６，６７，６８，７１，７２，７３，７４，７５，７６，７８，７９等が挙げられる。 The blue pigment is, for example, C.I. I. Pigment Blue 1, 1: 2, 9, 14, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, Examples include 35, 36, 56, 56:1, 60, 61, 61: 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79, and the like.

紫色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１，１：１，２，２：２，３，３：１，３：３，５，５：１，１４，１５，１６，１９，２３，２５，２７，２９，３１，３２，３７，３９，４２，４４，４７，４９，５０等が挙げられる。 The purple pigment is, for example, C.I. I. Pigment Violet 1, 1: 1, 2, 2: 2, 3, 3: 1, 3: 3, 5, 5: 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50, etc.

黒色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１，６，７，１２，２０，３１等が挙げられる。 The black pigment is, for example, C.I. I. Pigment Black 1, 6, 7, 12, 20, 31 and the like.

また、シリカ、タルク、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら（赤色酸化鉄（ＩＩＩ））、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、合成鉄黒等の無機顔料が挙げられる。 In addition, silica, talc, titanium oxide, zinc oxide, barium sulfate, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red iron oxide (red iron oxide (III)), cadmium red, ultramarine blue, dark blue, chromium oxide green, cobalt green. , amber, synthetic iron black, and other inorganic pigments.

顔料（特に有機顔料）は、微細化して用いることが好ましい。微細化方法は、特に限定されるものではなく、例えば、湿式磨砕、乾式磨砕、溶解析出法いずれも使用できる。これらの中でも、湿式磨砕の１種であるニーダー法によるソルトミリング処理が好ましい。微細化顔料のＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）により求められる平均一次粒子径は、５～９０ｎｍが好ましい。なお、分散性、コントラスト比の観点から、平均一次粒子径は１０～７０ｎｍがより好ましい。 Pigments (particularly organic pigments) are preferably used after being made fine. The refinement method is not particularly limited, and, for example, any of wet milling, dry milling, and dissolution precipitation methods can be used. Among these, salt milling treatment using a kneader method, which is a type of wet milling, is preferred. The average primary particle diameter of the finely divided pigment determined by TEM (transmission electron microscope) is preferably 5 to 90 nm. Note that from the viewpoint of dispersibility and contrast ratio, the average primary particle diameter is more preferably 10 to 70 nm.

ソルトミリング処理には、必要に応じて樹脂を添加してもよい。樹脂を添加することにより、顔料が樹脂で被覆され、安定性、耐光性等が向上する。前記樹脂の種類は特に限定されず、天然樹脂、変性天然樹脂、合成樹脂、天然樹脂で変性された合成樹脂等が挙げられる。これらの中でも、室温で固体であり、水不溶性であることが好ましく、かつ有機溶剤に一部可溶であることが好ましい。樹脂の添加量は、顔料１００質量部に対して、２～２００質量部が好ましい。 A resin may be added to the salt milling treatment if necessary. By adding a resin, the pigment is coated with the resin, and stability, light resistance, etc. are improved. The type of resin is not particularly limited, and examples include natural resins, modified natural resins, synthetic resins, and synthetic resins modified with natural resins. Among these, it is preferably solid at room temperature, insoluble in water, and partially soluble in organic solvents. The amount of resin added is preferably 2 to 200 parts by weight per 100 parts by weight of the pigment.

（染料）
染料は、例えば、酸性染料、直接染料、塩基性染料、造塩染料、油溶性染料、分散染料、反応染料、媒染染料、建染染料、硫化染料等が挙げられる。また、これらの誘導体や、染料をレーキ化したレーキ顔料も挙げられる。 (dye)
Examples of the dye include acid dyes, direct dyes, basic dyes, salt-forming dyes, oil-soluble dyes, disperse dyes, reactive dyes, mordant dyes, vat dyes, and sulfur dyes. Also included are derivatives of these and lake pigments obtained by forming dyes into lakes.

酸性染料は、スルホン酸やカルボン酸等の酸性基を有することが好ましい。また、酸性染料と、四級アンモニウム塩化合物、三級アミン化合物、二級アミン化合物、又は一級アミン化合物等の含窒素化合物との塩である造塩化合物が好ましい。また、これらの官能基を有する樹脂成分と酸性染料との塩である造塩化合物も好ましい。また、造塩化合物は、スルホンアミド化してスルホン酸アミド化合物に変性することで耐性（耐光性、耐溶剤性）に優れた感光性組成物を得やすい。
また、酸性染料とオニウム塩基を有する化合物との造塩化合物も、耐性（耐光性、溶剤耐性）に優れるため好ましい。なお、オニウム塩基を有する化合物は、カチオン性基を有する樹脂が好ましい。 It is preferable that the acidic dye has an acidic group such as sulfonic acid or carboxylic acid. Further, a salt-forming compound which is a salt of an acidic dye and a nitrogen-containing compound such as a quaternary ammonium salt compound, a tertiary amine compound, a secondary amine compound, or a primary amine compound is preferable. Also preferred are salt-forming compounds that are salts of resin components having these functional groups and acidic dyes. Further, by converting the salt-forming compound into a sulfonamide compound and modifying it into a sulfonic acid amide compound, a photosensitive composition with excellent resistance (light resistance, solvent resistance) can be easily obtained.
Further, a salt-forming compound of an acidic dye and a compound having an onium base is also preferable because it has excellent resistance (light resistance, solvent resistance). Note that the compound having an onium base is preferably a resin having a cationic group.

塩基性染料は、そのままでも使用できるが、有機酸や過塩素酸又はその金属塩と塩を形成する造塩化合物が好ましい。塩基性染料の造塩化合物は、耐性（耐光性、耐溶剤性）や、顔料との親和性が優れているため好ましい。また、塩基性染料の造塩化合物で、カウンタイオンとしてはたらくアニオン成分は、有機スルホン酸、有機硫酸、フッ素基含有リンアニオン化合物、フッ素基含有ホウ素アニオン化合物、シアノ基含有窒素アニオン化合物、ハロゲン化炭化水素基を有する有機酸の共役塩基を有するアニオン化合物、酸性染料とを造塩した造塩化合物が好ましい。なお、造塩化合物は、分子中に重合性不飽和基を含有すると耐性がより向上する。 Although the basic dye can be used as it is, it is preferably a salt-forming compound that forms a salt with an organic acid, perchloric acid, or a metal salt thereof. Salt-forming compounds of basic dyes are preferable because they have excellent resistance (light resistance, solvent resistance) and affinity with pigments. In addition, the anion components that act as counter ions in the salt-forming compounds of basic dyes include organic sulfonic acids, organic sulfuric acids, fluorine group-containing phosphorus anion compounds, fluorine group-containing boron anion compounds, cyano group-containing nitrogen anion compounds, and carbonized halides. Preferred are salt forming compounds obtained by forming salts with an anionic compound having a conjugate base of an organic acid having a hydrogen group and an acidic dye. Note that the resistance of the salt-forming compound is further improved when it contains a polymerizable unsaturated group in the molecule.

染料の化学構造は、例えば、アゾ系染料、ジスアゾ系染料、アゾメチン系染料（インドアニリン系染料、インドフェノール系染料など）、ジピロメテン系染料、キノン系染料（ベンゾキノン系染料、ナフトキノン系染料、アントラキノン系染料、アントラピリドン系染料など）、カルボニウム系染料（ジフェニルメタン系染料、トリフェニルメタン系染料、キサンテン系染料、アクリジン系染料など）、キノンイミン系染料（オキサジン系染料、チアジン系染料など）、アジン系染料、ポリメチン系染料（オキソノール系染料、メロシアニン系染料、アリーリデン系染料、スチリル系染料、シアニン系染料、スクアリリウム系染料、クロコニウム系染料など）、キノフタロン系染料、フタロシアニン系染料、サブフタロシアニン系染料、ペリノン系染料、インジゴ系染料、チオインジゴ系染料、キノリン系染料、ニトロ系染料、ニトロソ系染料、ローダミン系染料、及びそれらの金属錯体系染料等から選ばれる染料に由来する色素構造が挙げられる。 The chemical structures of dyes include, for example, azo dyes, disazo dyes, azomethine dyes (indoaniline dyes, indophenol dyes, etc.), dipyrromethene dyes, quinone dyes (benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, etc.). dyes, anthrapyridone dyes, etc.), carbonium dyes (diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, acridine dyes, etc.), quinone imine dyes (oxazine dyes, thiazine dyes, etc.), azine dyes , polymethine dyes (oxonol dyes, merocyanine dyes, arylidene dyes, styryl dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, croconium dyes, etc.), quinophthalone dyes, phthalocyanine dyes, subphthalocyanine dyes, perinone dyes Examples include dye structures derived from dyes selected from dyes, indigo dyes, thioindigo dyes, quinoline dyes, nitro dyes, nitroso dyes, rhodamine dyes, and metal complex dyes thereof.

これらの中でも、色相、色分離性、色むらなどの色特性の観点から、アゾ系染料、キサンテン系染料、シアニン系染料、トリフェニルメタン系染料、アントラキノン系染料、ジピロメテン系染料、スクアリリウム系染料、キノフタロン系染料、フタロシアニン系染料、サブフタロシアニン系染料から選ばれる色素に由来する色素構造が好ましく、キサンテン系染料、シアニン系染料、トリフェニルメタン系染料、アントラキノン系染料、ジピロメテン系染料、フタロシアニン系染料から選ばれる色素に由来する色素構造がより好ましい。 Among these, from the viewpoint of color characteristics such as hue, color separation, and color unevenness, azo dyes, xanthene dyes, cyanine dyes, triphenylmethane dyes, anthraquinone dyes, dipyrromethene dyes, squarylium dyes, A dye structure derived from a dye selected from quinophthalone dyes, phthalocyanine dyes, and subphthalocyanine dyes is preferable, and dyes derived from xanthene dyes, cyanine dyes, triphenylmethane dyes, anthraquinone dyes, dipyrromethene dyes, and phthalocyanine dyes are preferred. A dye structure derived from the selected dye is more preferred.

着色剤（Ａ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The colorant (A) can be used alone or in combination of two or more.

着色剤（Ａ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、２０～６０質量％が好ましく、２５～５５質量％がより好ましく、３０～５０質量％が特に好ましい。 The content of the colorant (A) is preferably 20 to 60% by weight, more preferably 25 to 55% by weight, particularly preferably 30 to 50% by weight based on 100% by weight of the nonvolatile content of the photosensitive composition.

［アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）］
アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）は、アルカリ現像液に溶解すれば特に制限がなく、公知の樹脂を使用できる。アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）は、例えば、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、スチレン／（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、環状オレフィン樹脂等が挙げられる。 [Alkali-soluble resin (B)]
The alkali-soluble resin (B) is not particularly limited as long as it is dissolved in an alkaline developer, and any known resin can be used. Examples of the alkali-soluble resin (B) include (meth)acrylic resin, styrene resin, styrene/(meth)acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyether resin, polyimide resin, polyamideimide resin, Examples include cyclic olefin resins.

アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３，０００～５０，０００が好ましく、４，０００～４０，０００がより好ましい。 The weight average molecular weight (Mw) of the alkali-soluble resin (B) is preferably 3,000 to 50,000, more preferably 4,000 to 40,000.

アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）の酸価は、３０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、４０～１８０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。 The acid value of the alkali-soluble resin (B) is preferably 30 to 200 mgKOH/g, more preferably 40 to 180 mgKOH/g.

アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The alkali-soluble resin (B) can be used alone or in combination of two or more types.

アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、１～９５質量％が好ましく、５～８０質量％がより好ましい。 The alkali-soluble resin (B) is preferably 1 to 95% by weight, more preferably 5 to 80% by weight based on 100% by weight of the nonvolatile content of the photosensitive composition.

（アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１））
本発明の感光性組成物は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）としてブロックイソシアネート基含有単量体単位（ｂ１）及び水酸基含有単量体単位（ｂ２）を有するアルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）（以下、単にアルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）ともいう）を含むことが好ましい。アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）中の水酸基による水素結合により、樹脂同士が近くに存在し、加熱でブロック剤が脱離したイソシアネート基と水酸基が反応し易く、低温ポストベークでも耐溶剤性が向上すると推測する。 (Alkali-soluble resin (B1))
The photosensitive composition of the present invention contains a blocked isocyanate group-containing monomer unit (b1) and a hydroxyl group-containing monomer unit (b2) as the alkali-soluble resin (B) from the viewpoint of solvent resistance during low-temperature post-baking. (hereinafter also simply referred to as alkali-soluble resin (B1)). Due to the hydrogen bonding between the hydroxyl groups in the alkali-soluble resin (B1), the resins are located close to each other, and the isocyanate groups from which the blocking agent is removed by heating are likely to react with the hydroxyl groups, which is expected to improve solvent resistance even during low-temperature post-baking. do.

〔ブロックイソシアネート基含有単量体単位（ｂ１）〕
ブロックイソシアネート基含有単量体は、イソシアネート基含有単量体のイソシアネート基を、熱で脱離する化合物（以下、ブロック剤ともいう）で保護した単量体である。ブロック剤の脱離温度は、６０～１６０℃が好ましく、７０～１３０℃がより好ましく、８０～１００℃が特に好ましい。 [Blocked isocyanate group-containing monomer unit (b1)]
The blocked isocyanate group-containing monomer is a monomer in which the isocyanate group of an isocyanate group-containing monomer is protected with a compound that is removed by heat (hereinafter also referred to as a blocking agent). The desorption temperature of the blocking agent is preferably 60 to 160°C, more preferably 70 to 130°C, particularly preferably 80 to 100°C.

イソシアネート基含有単量体は、例えば、２－イソシアナトエチル（メタ）アクリレート、２－イソシアナトプロピル（メタ）アクリレート、３－イソシアナトプロピル（メタ）アクリレート、２－イソシアナト－１－メチルエチル（メタ）アクリレート、２－イソシアナト－１，１－ジメチルエチル（メタ）アクリレート、４－イソシアナトシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メタクリロイルイソシアネート等が挙げられる。また、２－ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとジイソシアネート化合物との等モル反応生成物も使用できる。こられの中でも、２－イソシアナトエチル（メタ）アクリレート、２－イソシアナトプロピル（メタ）アクリレートが好ましい。 Isocyanate group-containing monomers include, for example, 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate, 2-isocyanatopropyl (meth)acrylate, 3-isocyanatopropyl (meth)acrylate, and 2-isocyanato-1-methylethyl (meth)acrylate. ) acrylate, 2-isocyanato-1,1-dimethylethyl (meth)acrylate, 4-isocyanatocyclohexyl (meth)acrylate, methacryloyl isocyanate, and the like. Equimolar reaction products of 2-hydroxyalkyl (meth)acrylates and diisocyanate compounds can also be used. Among these, 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate and 2-isocyanatopropyl (meth)acrylate are preferred.

ブロック剤は、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物、メルカプタン化合物、イミダゾール化合物、イミド化合物、尿素化合物、イミン化合物、及び重亜硫酸塩化合物等が挙げられる。 Examples of blocking agents include oxime compounds, lactam compounds, phenol compounds, alcohol compounds, amine compounds, active methylene compounds, pyrazole compounds, mercaptan compounds, imidazole compounds, imide compounds, urea compounds, imine compounds, and bisulfite compounds. .

オキシム化合物は、例えば、ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、メチルイソブチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム等が挙げられ、メチルエチルケトオキシムが好ましい。
ラクタム化合物は、例えば、ε－カプロラクタム、δ－バレロラクタム、γ－ブチロラクタム、β－プロピオラクタム等が挙げられる。
フェノール化合物は、例えば、フェノール、クレゾール、２，６－キシレノール、３，５－キシレノール、エチルフェノール、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール、ノニルフェノール、２－ヒドロキシ安息香酸メチル、４－ヒドロキシ安息香酸メチル、ｐ－ナフトール、ｐ－ニトロフェノール等が挙げられ、３，５－キシレノール、２－ヒドロキシ安息香酸メチル、４－ヒドロキシ安息香酸メチルが好ましい。
アルコール化合物は、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ベンジルアルコール、フェニルセロソルブ、フルフリルアルコールが挙げられる。
アミン化合物は、例えば、ジフェニルアミン、フェニルナフチルアミン、アニリン、カルバゾール等が挙げられる。
活性メチレン化合物は、例えば、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン等が挙げられる。これらの中でも、マロン酸ジエチルが好ましい。
ピラゾール化合物は、例えば、ピラゾール、メチルピラゾール、３，５－ジメチルピラゾール等が挙げられ、３，５－ジメチルピラゾールが好ましい。
メルカプタン化合物は、例えば、ブチルメルカプタン、チオフェノール、ｔｅｒｔ－ドデシルメルカプタン等が挙げられる。
イミダゾール化合物は、例えば、イミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチルイミダゾール、１，２－ジメチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－ベンジル－２－フェニルイミダゾール等が挙げられる。
イミド化合物は、例えば、コハク酸イミド、マレイン酸イミド、マレイミド、フタルイミド等が挙げられる。
尿素化合物は、例えば、尿素、チオ尿素、エチレン尿素等が挙げられる。
イミン化合物は、例えば、エチレンイミン、ポリエチレンイミン等が挙げられる。
重亜硫酸塩化合物は、例えば、重亜硫酸ソーダ、重亜硫酸カリウム等が挙げられる。これらのブロック剤は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 Examples of the oxime compound include formaldoxime, acetaldoxime, acetoxime, methyl ethyl ketoxime, methyl isobutyl ketoxime, cyclohexanone oxime, and benzophenone oxime, with methyl ethyl ketoxime being preferred.
Examples of the lactam compound include ε-caprolactam, δ-valerolactam, γ-butyrolactam, and β-propiolactam.
Phenol compounds include, for example, phenol, cresol, 2,6-xylenol, 3,5-xylenol, ethylphenol, p-tert-butylphenol, nonylphenol, methyl 2-hydroxybenzoate, methyl 4-hydroxybenzoate, p-naphthol. , p-nitrophenol, etc., with 3,5-xylenol, methyl 2-hydroxybenzoate, and methyl 4-hydroxybenzoate being preferred.
Examples of alcohol compounds include methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol, benzyl alcohol, phenyl cellosolve, and furfuryl alcohol.
Examples of the amine compound include diphenylamine, phenylnaphthylamine, aniline, carbazole, and the like.
Examples of the active methylene compound include dimethyl malonate, diethyl malonate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, and acetylacetone. Among these, diethyl malonate is preferred.
Examples of the pyrazole compound include pyrazole, methylpyrazole, 3,5-dimethylpyrazole, and the like, with 3,5-dimethylpyrazole being preferred.
Examples of the mercaptan compound include butyl mercaptan, thiophenol, tert-dodecyl mercaptan, and the like.
Examples of the imidazole compound include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and 1-benzyl-2-phenylimidazole.
Examples of the imide compound include succinimide, maleimide, maleimide, and phthalimide.
Examples of the urea compound include urea, thiourea, and ethylene urea.
Examples of the imine compound include ethyleneimine and polyethyleneimine.
Examples of the bisulfite compound include sodium bisulfite and potassium bisulfite. These blocking agents can be used alone or in combination of two or more.

ブロック剤は、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物、メルカプタン化合物、イミダゾール化合物、及びイミド化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましく、保護反応、脱保護反応の観点から、オキシム化合物、フェノール化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種がより好ましい。 The blocking agent is preferably at least one selected from the group consisting of oxime compounds, lactam compounds, phenol compounds, alcohol compounds, amine compounds, active methylene compounds, pyrazole compounds, mercaptan compounds, imidazole compounds, and imide compounds; From the viewpoint of deprotection reaction, at least one selected from the group consisting of oxime compounds, phenol compounds, active methylene compounds, and pyrazole compounds is more preferable.

ブロックイソシアネート基含有単量体は、例えば、以下の化合物が挙げられる。なお、本発明はこれらに限定されない。 Examples of the blocked isocyanate group-containing monomer include the following compounds. Note that the present invention is not limited to these.

ブロックイソシアネート基含有単量体の市販品は、例えば、昭和電工社製のカレンズＭＯＩ－ＤＥＭ（ブロック剤の脱離温度：８５～９５℃）、ＭＯＩ－ＢＰ（ブロック剤の脱離温度：１０５～１１５℃）、ＭＯＩ－ＢＭ（ブロック剤の脱離温度：１２５～１３５℃）等が挙げられる。 Commercially available monomers containing blocked isocyanate groups include Karenz MOI-DEM (blocking agent desorption temperature: 85 to 95°C) manufactured by Showa Denko, MOI-BP (blocking agent desorption temperature: 105 to 95°C), 115°C), MOI-BM (blocking agent desorption temperature: 125-135°C), etc.

ブロックイソシアネート基含有単量体単位（ｂ１）の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）の全単量体単位中、１～５０モル％が好ましく、３～４０モル％がより好ましい。 The content of the blocked isocyanate group-containing monomer unit (b1) is preferably 1 to 50 mol%, more preferably 3 to 40 mol%, based on the total monomer units of the alkali-soluble resin (B1).

〔水酸基含有単量体単位（ｂ２）〕
水酸基含有単量体は、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート、２－アクリロイロキシエチル－２－ヒドロキシエチルフタル酸、４－ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、４－ビニルフェノール、４－イソプロペニルフェノール等が挙げられる。 [Hydroxyl group-containing monomer unit (b2)]
Examples of the hydroxyl group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate. meth)acrylate, 2,3-dihydroxypropyl (meth)acrylate, glycerol mono(meth)acrylate, cyclohexanedimethanol mono(meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl-2- Examples include hydroxyethylphthalic acid, 4-hydroxyphenyl (meth)acrylate, 4-vinylphenol, 4-isopropenylphenol and the like.

ブロックイソシアネート基含有単量体単位（ｂ１）及び水酸基含有単量体単位（ｂ２）の合計含有量は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）の全構成単位中、１０～６０モル％が好ましく、２０～５０モル％がより好ましい。 The total content of the block isocyanate group-containing monomer unit (b1) and the hydroxyl group-containing monomer unit (b2) is determined from the viewpoint of solvent resistance in low-temperature post-baking in all constituent units of the alkali-soluble resin (B1). , preferably 10 to 60 mol%, more preferably 20 to 50 mol%.

ブロックイソシアネート基含有単量体単位（ｂ１）及び水酸基含有単量体単位（ｂ２）のモル比は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、１０：９０～５０：５０が好ましく、１５：８５～４５：５５がより好ましい。 The molar ratio of the blocked isocyanate group-containing monomer unit (b1) and the hydroxyl group-containing monomer unit (b2) is preferably 10:90 to 50:50, and 15: More preferably 85-45:55.

アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）は、ブロックイソシアネート基含有単量体単位（ｂ１）、水酸基含有単量体単位（ｂ２）以外の単量体単位を有してよい。例えば、脂肪族縮合環構造含有単量体単位（ｂ３）、酸性基含有単量体単位（ｂ４）、エポキシ基含有単量体単位（ｂ５）、重合性不飽和基含有単量体単位（ｂ６）、その他単量体単位単位（ｂ７）が挙げられる。これらの中でも、パターン形成性の観点から、脂肪族縮合環構造含有単量体単位（ｂ３）、酸性基含有単量体単位（ｂ４）を有することが好ましい。 The alkali-soluble resin (B1) may have monomer units other than the blocked isocyanate group-containing monomer unit (b1) and the hydroxyl group-containing monomer unit (b2). For example, an aliphatic condensed ring structure-containing monomer unit (b3), an acidic group-containing monomer unit (b4), an epoxy group-containing monomer unit (b5), a polymerizable unsaturated group-containing monomer unit (b6) ), and other monomer units (b7). Among these, from the viewpoint of pattern formation, it is preferable to have an aliphatic condensed ring structure-containing monomer unit (b3) and an acidic group-containing monomer unit (b4).

〔脂肪族縮合環構造含有単量体単位（ｂ３）〕
脂肪族縮合環構造含有単量体は、例えば、イソボロニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレートが好ましい。 [Aliphatic fused ring structure-containing monomer unit (b3)]
Examples of monomers containing aliphatic condensed ring structures include isoboronyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate, and dicyclopentenyl. Examples include oxyethyl (meth)acrylate and adamantyl (meth)acrylate. Among these, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, and dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate are preferred.

脂肪族縮合環構造含有単量体単位（ｂ３）の含有量は、パターン形成性の観点から、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）の全構成単位中、１～４０モル％が好ましく、５～３０モル％がより好ましい。 From the viewpoint of pattern formation, the content of the aliphatic condensed ring structure-containing monomer unit (b3) is preferably 1 to 40 mol%, and 5 to 30 mol% of the total constituent units of the alkali-soluble resin (B1). is more preferable.

〔酸性基含有単量体単位（ｂ４）〕
酸性基含有単量体は、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、プロピオール酸、けい皮酸、イタコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピル、無水マレイン酸、フマル酸、２－メタクリロイロキシエチルコハク酸、２－アクリロイロキシエチルフタル酸、２－アクリロイロキシエチルヘキシルヒドロフタル酸、ｐ－スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、ｔｅｒｔ－ブチルアクリルアミドスルホン酸、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート等が挙げられる。 [Acidic group-containing monomer unit (b4)]
Examples of acidic group-containing monomers include (meth)acrylic acid, crotonic acid, propiolic acid, cinnamic acid, itaconic acid, itaconic anhydride, maleic acid, monomethyl maleate, monoethyl maleate, monoisopropyl maleate, and anhydrous Maleic acid, fumaric acid, 2-methacryloyloxyethylsuccinic acid, 2-acryloyloxyethyl phthalic acid, 2-acryloyloxyethylhexylhydrophthalic acid, p-styrenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, 2-acrylamide-2- Examples include methylpropanesulfonic acid, tert-butylacrylamide sulfonic acid, and 2-(meth)acryloyloxyethyl acid phosphate.

酸性基含有単量体単位（ｂ４）の含有量は、パターン形成性の観点から、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）の全構成単位中、１～４０モル％が好ましく、５～３０モル％がより好ましい。 From the viewpoint of pattern formation, the content of the acidic group-containing monomer unit (b4) is preferably 1 to 40 mol%, more preferably 5 to 30 mol%, of the total constitutional units of the alkali-soluble resin (B1). .

〔エポキシ基含有単量体単位（ｂ５）〕
エポキシ基含有単量体は、例えば、オキシラニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２－メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－エチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－オキシラニルエチル（メタ）アクリレート、２－グリシジルオキシエチル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（３，４－エポキシシクロヘキシルメチルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、３－（３，４－エポキシシクロヘキシルメチルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。 [Epoxy group-containing monomer unit (b5)]
Examples of the epoxy group-containing monomer include oxiranyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, 2-methylglycidyl (meth)acrylate, 2-ethylglycidyl (meth)acrylate, and 2-oxiranylethyl (meth)acrylate. , 2-glycidyloxyethyl (meth)acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth)acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl (meth)acrylate, Examples include 2-(3,4-epoxycyclohexylmethyloxy)ethyl (meth)acrylate, 3-(3,4-epoxycyclohexylmethyloxy)propyl (meth)acrylate, and the like.

〔重合性不飽和基含有単量体単位（ｂ６）〕
重合性不飽和基含有単量体単位（ｂ６）は、例えば、以下に示す（ｉ）～（ｉｉｉ）の方法によって導入した単位が挙げられる。 [Polymerizable unsaturated group-containing monomer unit (b6)]
Examples of the polymerizable unsaturated group-containing monomer unit (b6) include units introduced by methods (i) to (iii) shown below.

＜方法（ｉ）＞
酸性基含有単量体単位（ｂ４）を有する樹脂の酸性基に、上述のエポキシ基含有単量体を付加させる方法（ｉ）がある。 <Method (i)>
There is a method (i) in which the above-mentioned epoxy group-containing monomer is added to the acidic group of the resin having the acidic group-containing monomer unit (b4).

＜方法（ｉｉ）＞
エポキシ基含有単量体単位（ｂ５）を有する樹脂のエポキシ基に、上述の酸性基含有単量体を付加させる方法（ｉｉ）がある。 <Method (ii)>
There is a method (ii) in which the above-mentioned acidic group-containing monomer is added to the epoxy group of the resin having the epoxy group-containing monomer unit (b5).

また、方法（ｉ）、（ｉｉ）の反応によって生じた水酸基に、更に、酸無水物を反応させた重合性不飽和基含有単量体単位（ｂ６）も好ましい。 Also preferred is a polymerizable unsaturated group-containing monomer unit (b6) in which the hydroxyl group produced by the reaction of methods (i) and (ii) is further reacted with an acid anhydride.

酸無水物は、例えば、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等が挙げられる。 Examples of the acid anhydride include tetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, maleic anhydride, and the like.

＜方法（ｉｉｉ）＞
水酸基含有単量体単位（ｂ２）を有する樹脂の水酸基に、イソシアネート基含有単量体のイソシアネート基を反応させる方法（ｉｉｉ）がある。 <Method (iii)>
There is a method (iii) in which the isocyanate group of the isocyanate group-containing monomer is reacted with the hydroxyl group of the resin having the hydroxyl group-containing monomer unit (b2).

イソシアネート基含有単量体は、例えば、２－（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、又は１，１－ビス〔メタアクリロイルオキシ〕エチルイソシアネート等が挙げられる。 Examples of the isocyanate group-containing monomer include 2-(meth)acryloyl ethyl isocyanate, 2-(meth)acryloyloxyethyl isocyanate, and 1,1-bis[methacryloyloxy]ethyl isocyanate.

〔その他単量体単位単位（ｂ７）〕
その他単量体は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノールのエチレンオキサイド（ＥＯ）変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノールのＥＯ又はプロピレンオキサイド（ＰＯ）変性（メタ）アクリレート、パラクミルフェノールのＥＯ又はＰＯ変性（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のアクリル酸エステル類；
スチレン、α－メチルスチレン、ｐ－ビニルトルエン、ｐ－クロロスチレン、ビニルナフタレン等の芳香族ビニル化合物類；
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、又はアクリロイルモルホリン等の（メタ）アクリルアミド類；
エチルビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、又はイソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；
酢酸ビニル、又はプロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニル類；
フェニルマレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、１，２－ビスマレイミドエタン１，６－ビスマレイミドヘキサン、６，７－メチレンジオキシ－４－メチル－３－マレイミドクマリン、４，４’－ビスマレイミドジフェニルメタン、ビス（３－エチル－５－メチル－４－マレイミドフェニル）メタン、Ｎ，Ｎ’－１，３－フェニレンジマレイミド、Ｎ，Ｎ’－１，４－フェニレンジマレイミド、Ｎ－（１－ピレニル）マレイミド、Ｎ－（２，４，６－トリクロロフェニル）マレイミド、Ｎ－（４－アミノフェニル）マレイミド、Ｎ－（４－ニトロフェニル）マレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、Ｎ－ブロモメチル－２，３－ジクロロマレイミド、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドベンゾエート、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドプロピオナート、Ｎ－スクシンイミジル－４－マレイミドブチラート、Ｎ－スクシンイミジル－６－マレイミドヘキサノアート、Ｎ－［４－（２－ベンゾイミダゾリル）フェニル］マレイミド、９－マレイミドアクリジン等のＮ－置換マレイミド類；
ジメチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジエチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ｎ－プロピル）－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（イソプロピル）－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（２－エチルヘキシル）－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート等が挙げられる。これらの単量体は、単独又は２種以上併用して使用できる。 [Other monomer units (b7)]
Other monomers include, for example, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, tert- Butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate , phenoxydiethylene glycol (meth)acrylate, ethylene oxide (EO)-modified (meth)acrylate of phenol, EO- or propylene oxide (PO)-modified (meth)acrylate of nonylphenol, EO- or PO-modified (meth)acrylate of paracumylphenol, dimethyl Acrylic acid esters such as aminoethyl (meth)acrylate and diethylaminoethyl (meth)acrylate;
Aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, vinylnaphthalene;
(Meth)acrylamides such as (meth)acrylamide, N,N-dimethyl (meth)acrylamide, N,N-diethyl (meth)acrylamide, N-isopropyl (meth)acrylamide, diacetone (meth)acrylamide, or acryloylmorpholine. ;
Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, or isobutyl vinyl ether;
Fatty acid vinyls such as vinyl acetate or vinyl propionate;
Phenylmaleimide, methylmaleimide, ethylmaleimide, 1,2-bismaleimidoethane 1,6-bismaleimidehexane, 6,7-methylenedioxy-4-methyl-3-maleimidocoumarin, 4,4'-bismaleimidodiphenylmethane, Bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl)methane, N,N'-1,3-phenylene dimaleimide, N,N'-1,4-phenylene dimaleimide, N-(1-pyrenyl) Maleimide, N-(2,4,6-trichlorophenyl)maleimide, N-(4-aminophenyl)maleimide, N-(4-nitrophenyl)maleimide, N-benzylmaleimide, N-bromomethyl-2,3-dichloro Maleimide, N-succinimidyl-3-maleimidobenzoate, N-succinimidyl-3-maleimidopropionate, N-succinimidyl-4-maleimidobutyrate, N-succinimidyl-6-maleimidohexanoate, N-[4-(2 -N-substituted maleimides such as benzimidazolyl)phenyl]maleimide and 9-maleimidoacridine;
Dimethyl-2,2'-[oxybis(methylene)]bis-2-propenoate, diethyl-2,2'-[oxybis(methylene)]bis-2-propenoate, di(n-propyl)-2,2'- [oxybis(methylene)]bis-2-propenoate, di(isopropyl)-2,2'-[oxybis(methylene)]bis-2-propenoate, di(2-ethylhexyl)-2,2'-[oxybis(methylene) )] bis-2-propenoate and the like. These monomers can be used alone or in combination of two or more.

アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、４，０００～５０，０００が好ましく、４，０００～４０，０００がより好ましい。 The weight average molecular weight (Mw) of the alkali-soluble resin (B1) is preferably 4,000 to 50,000, more preferably 4,000 to 40,000.

アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）の酸価は、３０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、４０～１８０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。 The acid value of the alkali-soluble resin (B1) is preferably 30 to 200 mgKOH/g, more preferably 40 to 180 mgKOH/g.

アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The alkali-soluble resin (B1) can be used alone or in combination of two or more types.

アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）の含有量は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）１００質量％中、３０～１００質量％が好ましい。 The content of the alkali-soluble resin (B1) is preferably 30 to 100% by mass based on 100% by mass of the alkali-soluble resin (B) from the viewpoint of solvent resistance in low-temperature post-baking.

［重合性化合物（Ｃ）］
本発明の感光性組成物は、重合性化合物（Ｃ）を含む。 [Polymerizable compound (C)]
The photosensitive composition of the present invention contains a polymerizable compound (C).

重合性化合物（Ｃ）は、１個以上の重合性不飽和基を有するモノマー、オリゴマーである。重合性不飽和基は、例えば、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。重合性化合物（Ｃ）は、例えば、アミン構造を有する重合性化合物、水酸基を有する重合性化合物、酸性基を有する重合性化合物、ラクトン変性された重合性化合物、ウレタン結合を有する重合性化合物、デンドリマー構造又はハイパーブランチ構造を有する重合性化合物、その他重合性化合物等が挙げられる。 The polymerizable compound (C) is a monomer or oligomer having one or more polymerizable unsaturated groups. Examples of the polymerizable unsaturated group include a vinyl group, a (meth)allyl group, a (meth)acryloyl group, and a (meth)acryloyloxy group. Examples of the polymerizable compound (C) include a polymerizable compound having an amine structure, a polymerizable compound having a hydroxyl group, a polymerizable compound having an acidic group, a lactone-modified polymerizable compound, a polymerizable compound having a urethane bond, and a dendrimer. Examples include polymerizable compounds having a structure or hyperbranched structure, and other polymerizable compounds.

（アミン構造を有する重合性化合物）
本発明の感光性組成物は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、重合性化合物（Ｃ）としてアミン構造を有する重合性化合物を含むことが好ましい。 (Polymerizable compound with amine structure)
The photosensitive composition of the present invention preferably contains a polymerizable compound having an amine structure as the polymerizable compound (C) from the viewpoint of solvent resistance during low-temperature post-baking.

アミン構造を有する重合性化合物は、分子内に窒素原子を有するため、水素が引き抜かれ炭素ラジカルが生成しやすい。そのため、酸素阻害で発生したヒドロキシペルオキシラジカルが、アミン構造を有する重合性化合物から水素を引き抜くことで、新たに生成する炭素ラジカルが重合を開始する。また、生成した炭素ラジカルが、酸素を捕捉することもできるため、酸素濃度を低減する効果もある。そのため、酸素による重合阻害が抑制され、硬化が進み、低温ポストベークでも優れた耐溶剤性が得られると推測する。 Since a polymerizable compound having an amine structure has a nitrogen atom in the molecule, hydrogen is easily extracted and carbon radicals are easily generated. Therefore, the hydroxyperoxy radicals generated due to oxygen inhibition abstract hydrogen from the polymerizable compound having an amine structure, and the newly generated carbon radicals start polymerization. Furthermore, since the generated carbon radicals can also capture oxygen, there is also the effect of reducing the oxygen concentration. Therefore, it is presumed that inhibition of polymerization by oxygen is suppressed, curing progresses, and excellent solvent resistance is obtained even during low-temperature post-baking.

アミン構造を有する重合性化合物が有するアミン構造は、１級アミン、２級アミン、３級アミンが挙げられる。これらの中でも３級アミンが好ましい。なお、アミン構造を有する重合性化合物が有するアミン構造は、カルボニル基が窒素原子と直接結合しているアミド構造、イミド構造及びウレタン構造は含まれない。 The amine structures of the polymerizable compound having an amine structure include primary amines, secondary amines, and tertiary amines. Among these, tertiary amines are preferred. Note that the amine structure of the polymerizable compound having an amine structure does not include an amide structure, an imide structure, or a urethane structure in which a carbonyl group is directly bonded to a nitrogen atom.

アミン構造を有する重合性化合物が有する重合性不飽和基は、反応性の観点から、（メタ）アクリロイル基が好ましく、（メタ）アクリロイル基の数は、３～１８個であることが好ましい。 From the viewpoint of reactivity, the polymerizable unsaturated group possessed by the polymerizable compound having an amine structure is preferably a (meth)acryloyl group, and the number of (meth)acryloyl groups is preferably 3 to 18.

アミン構造を有する重合性化合物は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The polymerizable compound having an amine structure can be used alone or in combination of two or more kinds.

アミン構造を有する重合性化合物の含有量は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、重合性化合物（Ｃ）１００質量％中、１～８０質量％が好ましく、３～６０質量％がより好ましい。 The content of the polymerizable compound having an amine structure is preferably 1 to 80% by mass, more preferably 3 to 60% by mass based on 100% by mass of the polymerizable compound (C) from the viewpoint of solvent resistance in low-temperature post-baking. preferable.

アミン構造を有する重合性化合物は、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。例えば、トリス（アクリロイルオキシエチル）アミン、トリス（メタアクリロイルオキシエチル）アミン、トリス（２－ヒドロキシ－３－メタクリロイルオキシプロピル）アミンや、（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）とアミン化合物（Ｙ）とのマイケル付加反応生成物等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）とアミン化合物（Ｙ）とのマイケル付加反応生成物が好ましい。 The polymerizable compound having an amine structure may be appropriately synthesized or a commercially available product. For example, tris(acryloyloxyethyl)amine, tris(methacryloyloxyethyl)amine, tris(2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl)amine, and combinations of (meth)acrylate compound (X) and amine compound (Y). Examples include Michael addition reaction products. Among these, a Michael addition reaction product of a (meth)acrylate compound (X) and an amine compound (Y) is preferred.

（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）は、例えば、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジグリセリントリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンアルキレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンアルキレンオキサイド変性トリ及びテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールアルキレンオキサイド変性トリ及びテトラ（メタ）アクリレート、ジグリセリンアルキレンオキサイド変性トリ及びテトラ（メタ）アクリレート、ジペンエリスリトールアルキレンオキサイド変性テトラ、ペンタ及びヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
前記アルキレンオキサイド変性における、アルキレンオキサイド単位は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド及びブチレンオキサイド等が挙げられる。
また、（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）としては、酸性基を有する（メタ）アクリレート化合物も挙げられる。 The (meth)acrylate compound (X) is, for example, glycerin tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate, ) acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, diglycerin tri(meth)acrylate, diglycerin tetra (meth)acrylate, trimethylolpropane alkylene oxide modified tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane alkylene oxide modified tri and tetra(meth)acrylate, pentaerythritol alkylene oxide modified tri and tetra(meth)acrylate, diglycerin alkylene oxide modified tri and tetra(meth)acrylate, dipeneerythritol alkylene oxide modified tetra, penta and hexa(meth)acrylate, and the like.
Examples of the alkylene oxide unit in the alkylene oxide modification include ethylene oxide, propylene oxide, and butylene oxide.
Further, examples of the (meth)acrylate compound (X) include (meth)acrylate compounds having an acidic group.

（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The (meth)acrylate compound (X) can be used alone or in combination of two or more types.

アミン化合物（Ｙ）は、例えば、ｎ－プロピルアミン、ｎ－ブチルアミン、ｎ－ヘキシルアミン、ベンジルアミン、アミノカプロン酸、モノエタノールアミン、２－（２－アミノエトキシ）エタノール、ｏ－アミノフェノール、ｍ－アミノフェノール、ｐ－アミノフェノール等の１級アミン；
ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、シクロヘキシルアミン、モルフォリン、ピペリジン、１－メチルピペラジン、プロリン、Ｎ－メリルエタノールアミン、Ｎ－アセチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、３－アニリンフェノール、４－アニリンフェノール等の２級アミン等が挙げられる。 Amine compounds (Y) include, for example, n-propylamine, n-butylamine, n-hexylamine, benzylamine, aminocaproic acid, monoethanolamine, 2-(2-aminoethoxy)ethanol, o-aminophenol, m- Primary amines such as aminophenol and p-aminophenol;
Dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, diisopropylamine, dibutylamine, cyclohexylamine, morpholine, piperidine, 1-methylpiperazine, proline, N-merylethanolamine, N-acetylethanolamine, diethanolamine, 3-anilinephenol, 4 - Secondary amines such as aniline phenol, etc.

（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）とアミン化合物（Ｙ）とのマイケル付加反応生成物の製造方法は、特に制限はなく、公知の方法を使用できる。例えば、国際公開第２００６／０７５７５４号、特表２００８－５４５８５９号公報、特開２０１７－０６６３４７号公報等に記載の方法が挙げられる。 The method for producing the Michael addition reaction product between the (meth)acrylate compound (X) and the amine compound (Y) is not particularly limited, and any known method can be used. For example, methods described in International Publication No. 2006/075754, Japanese Translated Patent Publication No. 2008-545859, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-066347, etc. can be mentioned.

アミン構造を有する重合性化合物は、パターン形成性の観点から、更に、酸性基又は／及び水酸基を有する化合物を含むことが好ましく、少なくとも水酸基を有する化合物を含むことがより好ましい。水酸基による水素結合により、重合性化合物同士が近くに存在し反応性が向上すると推測する。酸性基又は／及び水酸基を導入する方法は、例えば、（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）やアミン化合物（Ｙ）に、酸性基又は／及び水酸基を有する化合物を使用する方法や、マイケル付加反応後に、酸無水物を付加させる方法等が挙げられる。 From the viewpoint of pattern-forming properties, the polymerizable compound having an amine structure preferably further contains a compound having an acidic group and/or a hydroxyl group, and more preferably contains a compound having at least a hydroxyl group. It is presumed that the polymerizable compounds are located close to each other due to hydrogen bonding caused by the hydroxyl groups, thereby improving reactivity. The method of introducing an acidic group and/or a hydroxyl group is, for example, a method of using a compound having an acidic group or/and a hydroxyl group in a (meth)acrylate compound (X) or an amine compound (Y), or a method of introducing a compound having an acidic group and/or a hydroxyl group after a Michael addition reaction. Examples include a method of adding an acid anhydride.

アミン構造を有する重合性化合物が酸性基を有する場合、その酸価は１～２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、５～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましい。
アミン構造を有する重合性化合物が水酸基を有する場合、その水酸基価は１～５００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、５～２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましい。 When the polymerizable compound having an amine structure has an acidic group, its acid value is preferably 1 to 200 mgKOH/g, more preferably 5 to 150 mgKOH/g.
When the polymerizable compound having an amine structure has a hydroxyl group, the hydroxyl value thereof is preferably from 1 to 500 mgKOH/g, more preferably from 5 to 250 mgKOH/g.

アミン構造を有する重合性化合物の市販品は、例えば、東亞合成社製のアロニックスＭＴ－３０４１，３０４２等が挙げられる。 Examples of commercially available polymerizable compounds having an amine structure include Aronix MT-3041 and 3042 manufactured by Toagosei Co., Ltd.

（水酸基を有する重合性化合物）
本発明の感光性組成物は、パターン形成性の観点から、重合性化合物（Ｃ）として水酸基を有する重合性化合物を含むことが好ましい。なお、水酸基を有する重合性化合物は、アミン構造を有する重合性化合物を含まない。 (Polymerizable compound having hydroxyl group)
The photosensitive composition of the present invention preferably contains a polymerizable compound having a hydroxyl group as the polymerizable compound (C) from the viewpoint of pattern-forming properties. Note that the polymerizable compound having a hydroxyl group does not include a polymerizable compound having an amine structure.

水酸基を有する重合性化合物が有する重合性不飽和基は、反応性の観点から、（メタ）アクリロイル基が好ましく、（メタ）アクリロイル基の数は、３～１２個であることが好ましい。 The polymerizable unsaturated group possessed by the polymerizable compound having a hydroxyl group is preferably a (meth)acryloyl group from the viewpoint of reactivity, and the number of (meth)acryloyl groups is preferably 3 to 12.

水酸基を有する重合性化合物の含有量は、パターン形成性の観点から、重合性化合物（Ｃ）１００質量％中、１～９０質量％が好ましく、３～８０質量％がより好ましい。 The content of the polymerizable compound having a hydroxyl group is preferably 1 to 90% by weight, more preferably 3 to 80% by weight based on 100% by weight of the polymerizable compound (C), from the viewpoint of pattern formation.

水酸基を有する重合性化合物は、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２，３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ又はＰＯ変性（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ又はＰＯ変性ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールＥＯ又はＰＯ変性ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ペンタ（メタ）アクリレート等のアクリル酸エステル、エポキシ化合物のエポキシ基と（メタ）アクリル酸のカルボキシル基を反応させたエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。 Examples of polymerizable compounds having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2,3-hydroxypropyl (meth)acrylate, glycerol mono(meth)acrylate, glycerol di(meth)acrylate, cyclohexanedimethanol mono(meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, isocyanuric Acid EO or PO modified (meth)acrylate, isocyanuric acid EO or PO modified di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, polypentaerythritol penta(meth)acrylate, dipenta Acrylic acid esters such as erythritol EO or PO modified penta(meth)acrylate, dipentaerythritol caprolactone modified penta(meth)acrylate, epoxy(meth)acrylate made by reacting the epoxy group of an epoxy compound with the carboxyl group of (meth)acrylic acid. etc. Among these, pentaerythritol tri(meth)acrylate and dipentaerythritol penta(meth)acrylate are preferred.

水酸基を有する重合性化合物の市販品は、例えば、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤＲ－１２８Ｈ，Ｒ－１６７、日油製のブレンマーＧＬＭ，ＧＬＭ－Ｒ，ＧＭＲ－Ｍ，ＧＭＲ－Ｒ，ＧＡＭ，ＧＡＭ－Ｒ，Ｇ－ＦＡ８０、東亞合成社製のアロニックスＭ－５７００，Ｍ－９２０、新中村化学社製のＮＫエステル７０１Ａ、共栄社化学社製のライトエステルＨＯＰ（Ｎ）、ＨＯＡ（Ｎ），ＨＯＰ－Ａ（Ｎ），ＨＯＢ（Ｎ），Ｇ－２０１Ｐ、エポキシエステルＭ－６００Ａ，４０ＥＭ，７０ＰＡ，２００ＰＡ，８０ＭＦＡ，３００２Ｍ（Ｎ），３００２Ａ（Ｎ），３０００Ａ、大阪ガスケミカル社製のＯＧＳＯＬＧＡ－５０６０Ｐ，ＧＡ－２８００等が挙げられる。 Commercial products of polymerizable compounds having hydroxyl groups include, for example, KAYARAD R-128H and R-167 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and Blenmar GLM, GLM-R, GMR-M, GMR-R, GAM, and GAM manufactured by NOF Corporation. -R,G-FA80, Aronix M-5700, M-920 manufactured by Toagosei Co., Ltd., NK ester 701A manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Light Ester HOP (N), HOA (N), HOP manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. A(N), HOB(N), G-201P, Epoxy ester M-600A, 40EM, 70PA, 200PA, 80MFA, 3002M(N), 3002A(N), 3000A, OGSOL GA-5060P manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd. , GA-2800, etc.

（酸性基を有する重合性化合物）
本発明の感光性組成物は、パターン形成性の観点から、重合性化合物（Ｃ）として酸性基を有する重合性化合物を含むことが好ましい。なお、酸性基を有する重合性化合物は、アミン構造を有する重合性化合物、及び後述するウレタン結合を有する重合性化合物を含まない。 (Polymerizable compound having acidic group)
The photosensitive composition of the present invention preferably contains a polymerizable compound having an acidic group as the polymerizable compound (C) from the viewpoint of pattern forming properties. Note that the polymerizable compound having an acidic group does not include a polymerizable compound having an amine structure and a polymerizable compound having a urethane bond, which will be described later.

酸性基を有する重合性化合物の酸性基は、例えば、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基等を挙げられる。これらの中でも、カルボキシル基が好ましい。 Examples of the acidic group of the polymerizable compound having an acidic group include a sulfonic acid group, a carboxyl group, and a phosphoric acid group. Among these, carboxyl groups are preferred.

酸性基を有する重合性化合物が有する重合性不飽和基は、反応性の観点から、（メタ）アクリロイル基が好ましく、（メタ）アクリロイル基の数は、１～１２個であることが好ましい。 From the viewpoint of reactivity, the polymerizable unsaturated group possessed by the polymerizable compound having an acidic group is preferably a (meth)acryloyl group, and the number of (meth)acryloyl groups is preferably 1 to 12.

酸性基を有する重合性化合物の含有量は、パターン形成性の観点から、重合性化合物（Ｃ）１００質量％中、１～８０質量％が好ましく、３～７０質量％がより好ましい。 The content of the polymerizable compound having an acidic group is preferably 1 to 80% by mass, more preferably 3 to 70% by mass based on 100% by mass of the polymerizable compound (C), from the viewpoint of pattern forming properties.

酸性基を有する重合性化合物は、例えば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸との遊離水酸基含有ポリ（メタ）アクリレート類と、ジカルボン酸類とのエステル化物；多価カルボン酸と、モノヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類とのエステル化物等が挙げられる。 Polymerizable compounds having acidic groups include, for example, esterification products of free hydroxyl group-containing poly(meth)acrylates of polyhydric alcohols and (meth)acrylic acid, and dicarboxylic acids; polyhydric carboxylic acids and monohydroxyalkyl ( Examples include esterified products with meth)acrylates.

上記多価アルコールは、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。 Examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, propylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and the like.

上記ジカルボン酸類は、例えば、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、フタル酸、イタコン酸等が挙げられる。 Examples of the dicarboxylic acids include malonic acid, succinic acid, maleic acid, glutaric acid, phthalic acid, and itaconic acid.

上記多価カルボン酸は、例えば、トリメリット酸、ピロメリット酸等が挙げられる。 Examples of the polyhydric carboxylic acids include trimellitic acid and pyromellitic acid.

上記モノヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類は、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピルメタクリレート等が挙げられる。 Examples of the above monohydroxyalkyl (meth)acrylates include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, and pentahydroxybutyl (meth)acrylate. Examples include erythritol triacrylate and 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate.

酸性基を有する重合性化合物の市販品は、大阪有機化学工業社製のビスコート＃２５００Ｐ、東亞合成社製のアロニックスＭ－５３００，Ｍ－５４００，Ｍ－５１０，Ｍ－５２０，Ｍ－５２１、共栄社化学社製のライトアクリレートＨＯＡ－ＨＨ（Ｎ），ＨＯＡ－ＭＳ（Ｎ），ＨＯＡ－ＭＰＬ（Ｎ）,Ｐ－１Ａ（Ｎ）、ライトエステルＨＯ－ＭＳ（Ｎ），Ｐ－１Ｍ、ダイセル・オルネクス社製のβ－ＣＥＡ等が挙げられる。 Commercial products of polymerizable compounds having acidic groups include Viscoat #2500P manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Aronix M-5300, M-5400, M-510, M-520, M-521 manufactured by Toagosei Co., Ltd., and Kyoeisha Co., Ltd. Light acrylate HOA-HH (N), HOA-MS (N), HOA-MPL (N), P-1A (N), light ester HO-MS (N), P-1M, Daicel Allnex manufactured by Kagaku Co., Ltd. Examples include β-CEA manufactured by Co., Ltd.

（ラクトン変性された重合性化合物）
ラクトン変性された重合性化合物は、分子内にラクトンで変性された構造を有する化合物である。ラクトン変性された重合性化合物は、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエチスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸およびε－カプロラクトンもしくはその他のラクトン化合物をエステル化することにより得られる。 (Lactone-modified polymerizable compound)
A lactone-modified polymerizable compound is a compound that has a lactone-modified structure in its molecule. Lactone-modified polymerizable compounds include polyhydric alcohols such as trimethylolethane, ditrimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaethythritol, tripentaerythritol, glycerin, diglycerol, and trimethylolmelamine; It is obtained by esterifying meth)acrylic acid and ε-caprolactone or other lactone compounds.

ラクトン変性された重合性化合物の市販品は、例えば、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０等が挙げられる。 Examples of commercially available lactone-modified polymerizable compounds include KAYARAD DPCA-20, DPCA-30, and DPCA-60 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.

（ウレタン結合を有する重合性化合物）
ウレタン結合を有する重合性化合物は、例えば、水酸基含有（メタ）アクリレートに多官能イソシアネートを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレートや、多価アルコールに多官能イソシアネートを反応させ、さらに水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。 (Polymerizable compound with urethane bond)
Polymerizable compounds having urethane bonds are, for example, urethane (meth)acrylate obtained by reacting a hydroxyl group-containing (meth)acrylate with a polyfunctional isocyanate, or urethane (meth)acrylate obtained by reacting a polyhydric alcohol with a polyfunctional isocyanate, which is obtained by reacting a hydroxyl group-containing (meth)acrylate with a polyfunctional isocyanate, ) Urethane (meth)acrylates obtained by reacting acrylates and the like.

上記水酸基含有（メタ）アクリレートは、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールエチレンオキサイド（ＥＯ）変性ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールプロピレンオキサイド（ＰＯ）変性ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ペンタ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－アクリロイルプロピルメタクリレート、エポキシ基含有化合物とカルボキシ（メタ）アクリレートの反応物、水酸基含有ポリオールポリアクリレート等が挙げられる。 Examples of the hydroxyl group-containing (meth)acrylates include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate. (meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol ethylene oxide (EO) modified penta(meth)acrylate, dipentaerythritol propylene oxide (PO) modified penta(meth)acrylate, dipentaerythritol caprolactone modified penta(meth)acrylate (meth)acrylate, glycerol tri(meth)acrylate, glycerol di(meth)acrylate, glycerol mono(meth)acrylate, 2-hydroxy-3-acryloylpropyl methacrylate, reaction product of an epoxy group-containing compound and carboxy(meth)acrylate, Examples include hydroxyl group-containing polyol polyacrylate.

上記多官能イソシアネートは、例えば、芳香族ジイソシアネートであるトリレンジイソシアネート、ジフェニルメチレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネートであるトリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、脂環式ジイソシアネートであるイソホロンジイソシアネートや、これらのビュレット体、イソシアネートヌレート体、トリメチロールプロパンアダクト体等が挙げられる。 Examples of the polyfunctional isocyanates include aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethylene diisocyanate, and xylene diisocyanate, aliphatic diisocyanates such as trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, and hexamethylene diisocyanate, and alicyclic diisocyanate such as isophorone diisocyanate. , their burette bodies, isocyanate nurate bodies, trimethylolpropane adducts, and the like.

ウレタン結合を有する重合性化合物は、更に、酸性基を含有できる。酸性基は、例えば、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基等を挙げられる。これらの中でも、カルボキシル基が好ましい。 The polymerizable compound having a urethane bond can further contain an acidic group. Examples of acidic groups include sulfonic acid groups, carboxyl groups, and phosphoric acid groups. Among these, carboxyl groups are preferred.

ウレタン結合を有する重合性化合物に酸性基を導入する方法は、例えば、まず、上記水酸基含有（メタ）アクリレートと上記多官能イソシアネートとを反応させる。次いで、生成物にカルボキシル基を有するメルカプト化合物を付加させる方法で合成できる。 A method for introducing an acidic group into a polymerizable compound having a urethane bond is, for example, by first reacting the hydroxyl group-containing (meth)acrylate with the polyfunctional isocyanate. Next, it can be synthesized by adding a mercapto compound having a carboxyl group to the product.

上記カルボキシル基を有するメルカプト化合物は、例えば、メルカプト酢酸、２－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプトプロピオン酸、ｏ－メルカプト安息香酸、２－メルカプトニコチン酸、メルカプトコハク酸等が挙げられる。 Examples of the above-mentioned mercapto compounds having a carboxyl group include mercaptoacetic acid, 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, o-mercaptobenzoic acid, 2-mercaptonicotinic acid, and mercaptosuccinic acid.

ウレタン結合を有する重合性化合物の市販品は、例えば、共栄社化学社製のＡＨ－６００、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－５１０Ｈ、ＵＦ－８００１Ｇ、新中村化学社製のＵＡ－１１００Ｈ、Ｕ－６ＬＰＡ、ＵＡ－３３Ｈ、Ｕ－１０ＨＡ、Ｕ－１５ＨＡ、ダイセル・オルネクス社製のＥＢＥＣＲＹＬ１２９０、ＫＲＭ８４５２等が挙げられる。 Commercial products of polymerizable compounds having urethane bonds include, for example, AH-600, UA-306H, UA-306T, UA-306I, UA-510H, UF-8001G manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., and UA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. -1100H, U-6LPA, UA-33H, U-10HA, U-15HA, EBECRYL1290 and KRM8452 manufactured by Daicel Allnex.

（デンドリマー構造又はハイパーブランチ構造を有する重合性化合物）
デンドリマー構造を有する重合性化合物は、コアを構成する化学構造（以下、コア部ともいう）から、その外側へ規則的に分岐を繰り返し、その末端に重合性不飽和基が結合した化学構造を有するものであり、球状の高度に制御された化学構造及び分子量を有している。ハイパーブランチ構造は、デンドリマー構造と類似の化学構造を有する。 (Polymerizable compound having dendrimer structure or hyperbranched structure)
A polymerizable compound having a dendrimer structure has a chemical structure in which branches are regularly repeated outward from a chemical structure constituting the core (hereinafter also referred to as the core part), and a polymerizable unsaturated group is bonded to the end of the chemical structure. It has a spherical, highly controlled chemical structure and molecular weight. Hyperbranched structures have chemical structures similar to dendrimer structures.

デンドリマー構造又はハイパーブランチ構造を有する重合性化合物の市販品は、例えば、大阪有機化学工業社製のビスコート＃１０００ＬＴ（デンドリマー構造、平均アクリロイル基数１４）、ＭｉｗｏｎＳｐｅｃｉａｌｔｙＣｈｅｍｉｃａｌ社製のＭｉｒａｍｅｒＳＰ－１１０６（デンドリマー構造、平均アクリロイル基数１８）、ＭｉｒａｍｅｒＳＰ－１１０８（デンドリマー構造、平均アクリロイル基数１３）、ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製のＣＮ２３０１（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数９）、ＣＮ２３０２（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数１６）、ＣＮ２３０３（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数６）、ＣＮ２３０４（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数１８）、ＥｔｅｒｎａｌＭａｔｅｒｉａｌｓ社製のＥｔｅｒｃｕｒｅ６３６１－１００（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数８）、Ｅｔｅｒｃｕｒｅ６３６２－１００（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数１２）、Ｅｔｅｒｃｕｒｅ６３６３（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数１６）、ＥｔｅｒｃｕｒｅＤＲ－Ｅ５２２（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数１５）等が挙げられる。 Commercial products of polymerizable compounds having a dendrimer structure or hyperbranched structure include, for example, Viscoat #1000LT (dendrimer structure, average number of acrylic groups 14) manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., and Miramer SP-1106 (dendrimer Structure, average number of acryloyl groups 18), Miramer SP-1108 (dendrimer structure, average number of acryloyl groups 13), CN2301 manufactured by SARTOMER (hyperbranched structure, average number of acryloyl groups 9), CN2302 (hyperbranched structure, average number of acryloyl groups 16), CN2303 (hyperbranched structure, average acryloyl base number 6), CN2304 (hyperbranch structure, average acryloyl base number 18), Etercure 6361-100 (hyperbranch structure, average acryloyl base number 8) manufactured by Eternal Materials, Etercure 6362-100 (hyperbranch structure , average acryloyl base number 12), Etercure 6363 (hyperbranched structure, average acryloyl base number 16), and Etercure DR-E522 (hyperbranch structure, average acryloyl base number 15).

（その他重合性化合物）
その他重合性化合物は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性又はＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性又はＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールＥＯ又はＰＯ変性ヘキサ（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、メチロール化メラミンの（メタ）アクリル酸エステル等の各種（メタ）アクリル酸エステル、スチレン、酢酸ビニル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ビニルホルムアミド、アクリロニトリル等が挙げられる。 (Other polymerizable compounds)
Examples of other polymerizable compounds include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, and triethylene glycol di(meth)acrylate. (meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, phenoxytetraethylene glycol (meth)acrylate, phenoxyhexaethylene glycol (meth)acrylate, glycerol tri(meth)acrylate, trimethylolpropane PO-modified tri(meth)acrylate, trimethylolpropane EO-modified or PO-modified tri(meth)acrylate, isocyanuric acid EO-modified or PO-modified tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate Various (meth)acrylics such as acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol EO or PO modified hexa(meth)acrylate, tricyclodecanyl (meth)acrylate, and (meth)acrylic acid ester of methylolated melamine. Examples include acid esters, styrene, vinyl acetate, ethylene glycol divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, (meth)acrylamide, N-vinylformamide, acrylonitrile, and the like.

その他重合性化合物の市販品は、例えば、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤＮＰＧＤＡ，ＰＥＧ４００ＤＡ，ＦＭ－４００，ＨＸ－２００，ＨＸ－６２０，Ｒ－５５１，Ｒ－７１２，Ｒ－６０４，Ｒ－６８４，ＧＰＯＤ－３０３，ＴＭＰＴＡ，Ｔ－１４２０（Ｔ），ＲＰ－１０４０，ＤＰＥＡ－１２，Ｄ－３１０、東亞合成社製のアロニックスＭ－１０１Ａ，Ｍ－１０２，Ｍ－１１１，Ｍ－１１３，Ｍ－１２０，Ｍ－１４０，Ｍ－２０８，Ｍ－２１１Ｂ，Ｍ－２２０，Ｍ－２２５，Ｍ－２７０，Ｍ－２４０，Ｍ－３０９，Ｍ－３１０，Ｍ－３２１，Ｍ－３５０，Ｍ－３６０，Ｍ－４０８，Ｍ－４６０，Ｍ－９３０、大阪有機化学工業社製のビスコート＃１５０，＃１５５，＃１６０，＃１９２，＃ＭＴＧ，＃２００，＃１９６，＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃３１０、＃７００ＨＶ、＃２９５、大阪ガスケミカル社製のＯＧＳＯＬＥＡ－０２００，ＥＡ－０３００、ＭｉｗｏｎＳｐｅｃｉａｌｔｙＣｈｅｍｉｃａｌＣｏ．，Ｌｔｄ社製のＭｉｒａｍｅｒＨＲ６０６０，６１００，６２００、新中村化学工業社製のＮＫエステルＡ－ＨＤ－Ｎ，Ａ－ＮＰＧ，Ａ－２００，Ａ－４００，ＡＰＧ－２００，ＡＰＧ－４００，Ａ－ＤＣＰ，ＡＢＥ－３００，Ａ－ＢＰＥ－４，Ａ－ＢＰＥ－１０，Ａ－ＴＭＰＴ，Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ，Ａ－ＧＬＹ－３Ｅ，Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ，Ａ－ＴＭＭＴ，ＡＴＭ－３５Ｅ，ＡＤ－ＴＭＰ等が挙げられる。 Other commercially available polymerizable compounds include, for example, KAYARAD NPGDA, PEG400DA, FM-400, HX-200, HX-620, R-551, R-712, R-604, R-684, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. GPOD-303, TMPTA, T-1420(T), RP-1040, DPEA-12, D-310, Aronix M-101A, M-102, M-111, M-113, M-120 manufactured by Toagosei Co., Ltd. , M-140, M-208, M-211B, M-220, M-225, M-270, M-240, M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M -408, M-460, M-930, Viscoat #150, #155, #160, #192, #MTG, #200, #196, #195, #230, #260, # manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. 310, #700HV, #295, OGSOL EA-0200, EA-0300 manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., Miwon Specialty Chemical Co. , Ltd. Miramer HR6060, 6100, 6200, Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd. NK Ester A-HD-N, A-NPG, A-200, A-400, APG-200, APG-400, A-DCP , ABE-300, A-BPE-4, A-BPE-10, A-TMPT, A-TMPT-9EO, A-GLY-3E, A-GLY-9E, A-TMMT, ATM-35E, AD-TMP etc.

重合性化合物（Ｃ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The polymerizable compound (C) can be used alone or in combination of two or more types.

重合性化合物（Ｃ）は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、アミン構造を有する重合性化合物を含み、更に、パターン形成性の観点から、水酸基を有する重合性化合物及び酸性基を有する重合性化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことがより好ましい。併用することで、膜の表面及び内部の硬化性がより向上し、優れた耐性の膜が得られると推測する。 The polymerizable compound (C) includes a polymerizable compound having an amine structure from the viewpoint of solvent resistance in low-temperature post-baking, and further includes a polymerizable compound having a hydroxyl group and an acidic group from the viewpoint of pattern formation. It is more preferable that at least one kind selected from the group consisting of polymerizable compounds is included. It is presumed that by using these in combination, the surface and internal hardenability of the film will be further improved, and a film with excellent resistance will be obtained.

重合性化合物（Ｃ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、１～８０質量％が好ましく、５～７０質量％がより好ましい。 The content of the polymerizable compound (C) is preferably 1 to 80% by weight, more preferably 5 to 70% by weight based on 100% by weight of the nonvolatile content of the photosensitive composition.

［重合開始剤（Ｄ）］
本発明の感光性組成物は、重合開始剤（Ｄ）として下記一般式（１）で表される重合開始剤（Ｄ１）、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中での波長３６５ｎｍの光の吸光係数が５．０×１０^３Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以上の重合開始剤（Ｄ２）を含む。なお、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中での波長３６５ｎｍの光の吸光係数が５．０×１０^３Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以上の重合開始剤（Ｄ２）は、一般式（１）で表される重合開始剤（Ｄ１）以外の重合開始剤である。 [Polymerization initiator (D)]
The photosensitive composition of the present invention includes a polymerization initiator (D1) represented by the following general formula (1) as a polymerization initiator (D), and an absorption coefficient of light with a wavelength of 365 nm in propylene glycol monomethyl ether acetate. Contains a polymerization initiator (D2) of 5.0×10 ³ L/mol·cm or more. In addition, the polymerization initiator (D2) having an extinction coefficient of 5.0×10 ³ L/mol·cm or more for light at a wavelength of 365 nm in propylene glycol monomethyl ether acetate is a polymerization initiator represented by general formula (1). It is a polymerization initiator other than agent (D1).

（一般式（１）で表される重合開始剤（Ｄ１））
本発明の感光性組成物は、重合開始剤（Ｄ）として一般式（１）で表される重合開始剤（Ｄ１）を含む（以下、単に重合開始剤（Ｄ１）ともいう）。 (Polymerization initiator (D1) represented by general formula (1))
The photosensitive composition of the present invention contains a polymerization initiator (D1) represented by general formula (1) as a polymerization initiator (D) (hereinafter also simply referred to as a polymerization initiator (D1)).

一般式（１）

General formula (1)

一般式（１）中、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立してカルボニル結合、又は単結合を表す。なかでも、有機溶剤への溶解性の観点から、Ｘ^１及びＸ^２の少なくとも１つはカルボニル結合であることが好ましく、２つともカルボニル結合であることがより好ましい。 In general formula (1), X ¹ and X ² each independently represent a carbonyl bond or a single bond. Among these, from the viewpoint of solubility in organic solvents, at least one of X ¹ and X ² is preferably a carbonyl bond, and more preferably both are carbonyl bonds.

一般式（１）中、Ｒ^１は、炭素数１～２０のアルキル基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表す。
炭素数１～２０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状、又はこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよく、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアルキル基であってもよい。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基等が挙げられる。
炭素数７～３０のアリールアルキル基は、例えば、ベンジル基、α－メチルベンジル基、α，α―ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、９－フルオレニルメチル基等が挙げられる。アリールアルキル基は、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換された基であってもよい。
これらの中でも、Ｒ^１は、炭素数４～１６の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数６～１２の直鎖状のアルキル基が好ましい。これにより、膜表面に配向しやすくなり、表面の硬化性が向上すると推測する。 In the general formula (1), R ¹ represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms.
The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be linear, branched, cyclic, or a combination thereof, and may also be an alkyl group substituted with a halogen atom, an amino group, a nitro group, etc. It may be a base. For example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, amyl group, isoamyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, isooctyl group, 2-ethylhexyl group , nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, cyclopentyl group, cyclopentylmethyl group, cyclohexyl group, cyclohexylmethyl group, cyclohexylmethyl group, etc. Can be mentioned.
Examples of the arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms include benzyl group, α-methylbenzyl group, α,α-dimethylbenzyl group, phenylethyl group, and 9-fluorenylmethyl group. The arylalkyl group may be a group substituted with a halogen atom, an amino group, a nitro group, or the like.
Among these, R ¹ is preferably a linear alkyl group having 4 to 16 carbon atoms, and preferably a linear alkyl group having 6 to 12 carbon atoms. It is presumed that this facilitates orientation on the film surface and improves surface hardenability.

一般式（１）中、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～３０の複素環、炭素数６～３０のアリール基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表す。
炭素数１～２０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状、又はこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよく、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアルキル基であってもよい。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基等が挙げられる。
炭素数２～３０の複素環基は、例えば、ピリジル基、ピリミジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、ジオキソラニル基、イミダゾリジル基、オキサゾリジル基、ピペリジル基、モルホリニル基等が挙げられる。
炭素数６～３０のアリール基は、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられる。アリール基は、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換された基であってもよい。
炭素数７～３０のアリールアルキル基は、例えば、ベンジル基、α－メチルベンジル基、α，α―ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、９－フルオレニルメチル基等が挙げられる。アリールアルキル基は、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換された基であってもよい。
これらの中でも、Ｒ^２及びＲ^３は、２つとも同一の基が好ましく、２つとも炭素数１～６の直鎖状のアルキル基であることがより好ましい。これにより、膜中での相溶性が低下し表面に配向しやすくなり、表面の硬化性が向上すると推測する。 In general formula (1), R ² and R ³ are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a heterocycle having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a carbon Represents an arylalkyl group having a number of 7 to 30.
The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be linear, branched, cyclic, or a combination thereof, and may also be an alkyl group substituted with a halogen atom, an amino group, a nitro group, etc. It may be a base. For example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, amyl group, isoamyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, isooctyl group, 2-ethylhexyl group , nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, cyclopentyl group, cyclopentylmethyl group, cyclohexyl group, cyclohexylmethyl group, cyclohexylmethyl group, etc. Can be mentioned.
Examples of the heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms include pyridyl group, pyrimidyl group, furyl group, tetrahydrofuryl group, dioxolanyl group, imidazolidyl group, oxazolidyl group, piperidyl group, and morpholinyl group.
Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms include phenyl group, tolyl group, xylyl group, ethylphenyl group, naphthyl group, and anthryl group. The aryl group may be a group substituted with a halogen atom, an amino group, a nitro group, or the like.
Examples of the arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms include benzyl group, α-methylbenzyl group, α,α-dimethylbenzyl group, phenylethyl group, and 9-fluorenylmethyl group. The arylalkyl group may be a group substituted with a halogen atom, an amino group, a nitro group, or the like.
Among these, R ² and R ³ are preferably both the same group, and more preferably both are linear alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms. It is presumed that this reduces the compatibility in the film and makes it easier to align on the surface, improving the hardenability of the surface.

一般式（１）中、Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立して炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～３０の複素環基、炭素数６～３０のアリール基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表す。
炭素数１～２０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状、又はこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよく、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアルキル基であってもよい。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基等が挙げられる。
炭素数２～３０の複素環基は、例えば、ピリジル基、ピリミジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、ジオキソラニル基、イミダゾリジル基、オキサゾリジル基、ピペリジル基、モルホリニル基等が挙げられる。
炭素数６～３０のアリール基は、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられる。アリール基は、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換された基であってもよい。
炭素数７～３０のアリールアルキル基は、例えば、ベンジル基、α―メチルベンジル基、α，α―ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、９－フルオレニルメチル基等が挙げられる。アリールアルキル基は、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換された基であってもよい。
これらの中でも、Ｒ^４及びＲ^５は、反応性の観点から、メチル基、エチル基、又はフェニル基が好ましく、メチル基、又はエチル基がより好ましい。 In general formula (1), R ⁴ and R ⁵ are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a C 7 ~30 arylalkyl groups.
The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be linear, branched, cyclic, or a combination thereof, and may also be an alkyl group substituted with a halogen atom, an amino group, a nitro group, etc. It may be a base. For example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, amyl group, isoamyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, isooctyl group, 2-ethylhexyl group , nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, cyclopentyl group, cyclopentylmethyl group, cyclohexyl group, cyclohexylmethyl group, cyclohexylmethyl group, etc. Can be mentioned.
Examples of the heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms include pyridyl group, pyrimidyl group, furyl group, tetrahydrofuryl group, dioxolanyl group, imidazolidyl group, oxazolidyl group, piperidyl group, and morpholinyl group.
Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms include phenyl group, tolyl group, xylyl group, ethylphenyl group, naphthyl group, and anthryl group. The aryl group may also be a group substituted with a halogen atom, an amino group, a nitro group, or the like.
Examples of the arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms include benzyl group, α-methylbenzyl group, α,α-dimethylbenzyl group, phenylethyl group, and 9-fluorenylmethyl group. The arylalkyl group may be a group substituted with a halogen atom, an amino group, a nitro group, or the like.
Among these, from the viewpoint of reactivity, R ⁴ and R ⁵ are preferably a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group, and more preferably a methyl group or an ethyl group.

以下、重合開始剤（Ｄ１）の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the polymerization initiator (D1) are shown below. Note that the present invention is not limited to these.

重合開始剤（Ｄ１）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The polymerization initiator (D1) can be used alone or in combination of two or more types.

重合開始剤（Ｄ１）の含有量は、パターン形成性、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、重合開始剤（Ｄ）１００質量％中、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましい。 The content of the polymerization initiator (D1) is preferably 10 to 90% by mass, and 20 to 80% by mass based on 100% by mass of the polymerization initiator (D), from the viewpoint of pattern formation properties and solvent resistance in low-temperature post-baking. % is more preferable.

（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中での波長３６５ｎｍの光の吸光係数が５．０×１０^３Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以上の重合開始剤（Ｄ２））
本発明の感光性組成物は、重合開始剤（Ｄ）としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中での波長３６５ｎｍの光の吸光係数が５．０×１０^３Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以上の重合開始剤（Ｄ２）（以下、単に重合開始剤（Ｄ２）ともいう）を含む。本明細書では、重合開始剤（Ｄ２）は、波長３６５ｎｍの光の吸光係数が５．０×１０^３Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以上であるため高感度である。重合開始剤（Ｄ１）及び重合開始剤（Ｄ２）の併用により膜の表面及び底部まで光硬化が可能になると推測する。 (Polymerization initiator (D2) with an extinction coefficient of light at a wavelength of 365 nm in propylene glycol monomethyl ether acetate of 5.0×10 ³ L/mol・cm or more)
The photosensitive composition of the present invention uses, as a polymerization initiator (D), ^a polymerization initiator (D2 ) (hereinafter also simply referred to as a polymerization initiator (D2)). In this specification, the polymerization initiator (D2) has high sensitivity because it has an extinction coefficient of 5.0×10 ³ L/mol·cm or more for light at a wavelength of 365 nm. It is presumed that the combined use of the polymerization initiator (D1) and the polymerization initiator (D2) enables photocuring to the surface and bottom of the film.

重合開始剤（Ｄ２）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中での波長３６５ｎｍの光の吸光係数は、５．０×１０^３Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以上５．０×１０^４ｍＬ／ｇｃｍ以下であることが好ましく、１．０×１０^４Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以上４．０×１０^４Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以下あることがより好ましい。 The extinction coefficient of light with a wavelength of 365 nm in the propylene glycol monomethyl ether acetate of the polymerization initiator (D2) is 5.0 × 10 ³ L/mol·cm or more and 5.0 × 10 ⁴ mL/gcm or less. It is preferably 1.0×10 ⁴ L/mol·cm or more and 4.0×10 ⁴ L/mol·cm or less.

重合開始剤（Ｄ２）は、特に制限がなく、公知の化合物を使用できる。例えば、国際公開第２００８／０７８６７８号、特開２００９－１３４２８９号公報、特許４６００６００号公報、特開２０１１－１３２２１５号公報、特表２０１４－５００８５２号公報、特表２０１５－５２３３１８号公報、国際公開第２０１５／０３６９１０号、国際公開第２０１７／０５１６８０号、国際公開第２０２１／１７５８５５号等に記載の化合物が挙げられる。なかでも、オキシム化合物が好ましい。 The polymerization initiator (D2) is not particularly limited, and known compounds can be used. For example, International Publication No. 2008/078678, Japanese Patent Application Publication No. 2009-134289, Japanese Patent No. 4600600, Japanese Patent Application Publication No. 2011-132215, Special Publication No. 2014-500852, Special Publication No. 2015-523318, International Publication No. Examples include compounds described in International Publication No. 2015/036910, International Publication No. 2017/051680, International Publication No. 2021/175855, and the like. Among these, oxime compounds are preferred.

重合開始剤（Ｄ２）は、電気特性の観点から、ベンゾフラン構造を有するオキシム化合物、カルバゾール構造を有するオキシム化合物、及びフルオレン構造を有するオキシム化合物からなる群から選ばれる１種以上を含むことがより好ましい。 From the viewpoint of electrical properties, the polymerization initiator (D2) more preferably contains one or more selected from the group consisting of an oxime compound having a benzofuran structure, an oxime compound having a carbazole structure, and an oxime compound having a fluorene structure. .

以下、重合開始剤（Ｄ２）の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the polymerization initiator (D2) are shown below. Note that the present invention is not limited to these.

上記化合物の中でも、（Ｄ２－１）～（Ｄ２－７）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことが特に好ましい。 Among the above compounds, it is particularly preferable to include at least one compound selected from the group consisting of (D2-1) to (D2-7).

重合開始剤（Ｄ２）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The polymerization initiator (D2) can be used alone or in combination of two or more types.

重合開始剤（Ｄ２）の含有量は、重合開始剤（Ｄ）１００質量％中、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましい。
更に、重合開始剤（Ｄ１）と重合開始剤（Ｄ２）の合計含有量は、重合開始剤（Ｄ）１００質量％中、５０～１００質量％であることが好ましい。 The content of the polymerization initiator (D2) is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass based on 100% by mass of the polymerization initiator (D).
Further, the total content of the polymerization initiator (D1) and the polymerization initiator (D2) is preferably 50 to 100% by mass based on 100% by mass of the polymerization initiator (D).

（その他重合開始剤（Ｄ３））
重合開始剤（Ｄ）は、重合開始剤（Ｄ１）及び重合開始剤（Ｄ２）以外の重合開始剤（Ｄ３）（以下、単にその他重合開始剤（Ｄ３）ともいう）を含むことができる。 (Other polymerization initiators (D3))
The polymerization initiator (D) can contain a polymerization initiator (D3) other than the polymerization initiator (D1) and the polymerization initiator (D2) (hereinafter also simply referred to as other polymerization initiator (D3)).

その他重合開始剤（Ｄ３）は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。例えば、光又は熱の作用によってラジカルを発生させて、ラジカル重合反応を開始又は促進させる化合物が挙げられる。
光によってラジカルを発生させる化合物（以下、光重合開始剤ともいう）は、紫外線から可視領域の光線に対してラジカルを発生させる化合物が好ましい。
熱によってラジカルを発生させる化合物（以下、熱重合開始剤ともいう）は、熱及び光の作用によってラジカルを発生させる化合物であってもよい。 Other polymerization initiators (D3) are not particularly limited, and known compounds can be used. Examples include compounds that generate radicals by the action of light or heat to initiate or accelerate radical polymerization reactions.
The compound that generates radicals when exposed to light (hereinafter also referred to as a photopolymerization initiator) is preferably a compound that generates radicals when exposed to light in the visible range from ultraviolet rays.
The compound that generates radicals by heat (hereinafter also referred to as a thermal polymerization initiator) may be a compound that generates radicals by the action of heat and light.

光重合開始剤は、例えば、４－フェノキシジクロロアセトフェノン、４－ｔ－ブチル－ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－（ジメチルアミノ）－１－［４－（４－モルホリノ）フェニル］－２－（フェニルメチル）－１－ブタノン、又は２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン等のアセトフェノン系化合物；
２，４，６－トリクロロ－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－トリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ピペロニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－スチリル－ｓ－トリアジン、２－（ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシ－ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－トリクロロメチル－（ピペロニル）－６－トリアジン、２，４－トリクロロメチル－（４’－メトキシスチリル）－６－トリアジン等のトリアジン系化合物；
１，２－オクタンジオン，１－〔４－（フェニルチオ）フェニル－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）〕、エタノーン，１－〔９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール３－イル〕－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等のオキシム系化合物；
ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ジフェニル－２，４，６－トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン系化合物；
９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物；ボレート系化合物；カルバゾール系化合物等が挙げられる。 Examples of photopolymerization initiators include 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1 -Hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-(dimethylamino)-1-[4-(4-morpholino)phenyl] -2-(phenylmethyl)-1-butanone, or 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone, etc. Acetophenone compounds;
2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s -triazine, 2-(p-tolyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-piperonyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-triazine methyl)-6-styryl-s-triazine, 2-(naphth-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxy-naphth-1-yl)-4 , 6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2,4-trichloromethyl-(piperonyl)-6-triazine, 2,4-trichloromethyl-(4'-methoxystyryl)-6-triazine, etc. Compound;
1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)phenyl-,2-(O-benzoyloxime)], ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazole 3 -yl]-, 1-(O-acetyloxime) and other oxime compounds;
Acyl phosphine compounds such as bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide and diphenyl-2,4,6-trimethylbenzoylphosphine oxide;
Examples include quinone compounds such as 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, and ethyl anthraquinone; borate compounds; carbazole compounds, and the like.

市販品では、アセトフェノン系化合物として、ＩＧＭＲｅｓｉｎｓ社製のＯｍｎｉｒａｄ９０７，３６９Ｅ，３７９ＥＧ，１２７，１８４，１１７３，２９５９、アシルホスフィン系化合物として、ＩＧＭＲｅｓｉｎｓ社製のＯｍｎｉｒａｄ８１９，ＴＰＯ、オキシム系化合物として、ＢＡＳＦジャパン社製のＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０１，０２、ＡＤＥＫＡ社製のアデカアークルズＮ－１９１９Ｔ，ＮＣＩ－９３０、常州強力新材料社製のＴＲＯＮＬＹＴＲ－ＰＢＧ－３０１，３０４，３０５，３０９，３８０，３０５４，３０５７、ＩＧＭＲｅｓｉｎｓ社製のＯｍｎｉｒａｄ１３１４、サムヤンコーポレーション社製のＳＰＩ－０３，０４，０６，０７、ダイトーケミックス社製のＤＦＩ－３０６，ＥＯＸ－０１等が挙げられる。 Commercially available products include Omnirad 907, 369E, 379EG, 127, 184, 1173, 2959 manufactured by IGM Resins as an acetophenone compound, Omnirad 819, TPO manufactured by IGM Resins as an acylphosphine compound, and Omnirad 819, TPO manufactured by IGM Resins as an oxime compound. IRGACURE OXE-01, 02 manufactured by ADEKA, ADEKA ARCURE N-1919T, NCI-930, TRONLY TR-PBG-301, 304, 305, 309, 380, 3054, 3057 manufactured by Changzhou Strong New Materials , Omnirad 1314 manufactured by IGM Resins, SPI-03, 04, 06, 07 manufactured by Samyang Corporation, and DFI-306 and EOX-01 manufactured by Daito Chemix.

また、光重合開始剤は、下記一般式（４）で表される化合物も好ましい。 Moreover, the photopolymerization initiator is also preferably a compound represented by the following general formula (4).

一般式（４）

General formula (4)

一般式（４）中、Ｒ_１及びＲ_２は、それぞれ独立して水素原子、又は炭素数１～８のアルキル基を表す。Ｒ_３は、水素原子、又は１価の置換基を表す。 In the general formula (4), R ₁ and R ₂ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R ₃ represents a hydrogen atom or a monovalent substituent.

一般式（４）中、Ｒ_１及びＲ_２は、それぞれ独立して水素原子、又は炭素数１～８のアルキル基を表す。
炭素数１～８のアルキル基としては、直鎖状でも、分岐状でも、環状でも、それらが結合したものであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基等が挙げられる。なかでも、炭素数３～８の直鎖のアルキル基が好ましく、炭素数４～６の直鎖のアルキル基がより好ましい。 In the general formula (4), R ₁ and R ₂ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
The alkyl group having 1 to 8 carbon atoms may be linear, branched, cyclic, or a combination thereof; for example, a methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group. , isobutyl group, t-butyl group, pentyl group, isopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, cyclopentyl group, cyclopentylmethyl group, cyclohexyl group, cyclohexylmethyl group, cyclohexylmethyl group, etc. . Among these, straight-chain alkyl groups having 3 to 8 carbon atoms are preferred, and straight-chain alkyl groups having 4 to 6 carbon atoms are more preferred.

一般式（４）中、Ｒ_３は、水素原子、又は任意の１価の置換基を表す。
１価の置換基としては、メチル基、エチル基等の炭素数１～２０のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１～２０のアルコキシ基；Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等のハロゲン原子；炭素数１～２０のアシル基；炭素数１～２０のアルキルエステル基；炭素数１～２０のアルコキシカルボニル基；炭素数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素数４～２０の芳香族環基；アミノ基；炭素数１～２０のアミノアルキル基；水酸基；ニトロ基；シアノ基；置換基を有してよいベンゾイル基；置換基を有してよいテノイル基等が挙げられる。ベンゾイル基、又はテノイル基が有してよい置換基としては、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。なかでも、ラジカル生成効率の観点から、水素原子、ニトロ基が好ましく、水素原子がより好ましい。 In general formula (4), R ₃ represents a hydrogen atom or an arbitrary monovalent substituent.
Monovalent substituents include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms such as methyl and ethyl groups; alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms such as methoxy and ethoxy groups; halogens such as F, Cl, Br, and I. Atom; Acyl group having 1 to 20 carbon atoms; Alkyl ester group having 1 to 20 carbon atoms; Alkoxycarbonyl group having 1 to 20 carbon atoms; Halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, aromatic group having 4 to 20 carbon atoms Examples include a cyclic group; an amino group; an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms; a hydroxyl group; a nitro group; a cyano group; a benzoyl group that may have a substituent; and a thenoyl group that may have a substituent. Examples of substituents that the benzoyl group or thenoyl group may have include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the like. Among these, from the viewpoint of radical generation efficiency, a hydrogen atom and a nitro group are preferred, and a hydrogen atom is more preferred.

一般式（４）で表される化合物の製造方法は、例えば、特表２０１９－５０７１０８号公報、特表２０１９－５２８３３１号公報等に記載の方法が挙げられる。 Examples of the method for producing the compound represented by general formula (4) include the methods described in Japanese Patent Application Publication No. 2019-507108, Japanese Patent Application Publication No. 2019-528331, and the like.

以下、一般式（４）で表される化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the compound represented by general formula (4) are shown below. Note that the present invention is not limited to these.

熱重合開始剤は、例えば、ベンゾピナコール、１，２－ジメトキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジメトキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジフェノキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジメトキシ－１，１，２，２－テトラ（４－メチルフェニル）エタン、１，２－ジフェノキシ－１，１，２，２－テトラ（４－メトキシフェニル）エタン、１，２－ビス（トリメチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ビス（トリエチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－トリメチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－トリエチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン等のピナコール系化合物；
２，２’－アゾビス（４－メトキシ２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、ジメチル－２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、２，２’－アゾビス［Ｎ－（２－プロペニル）２－メチルプロピオンアミド］、１－［（１－シアノ－１－メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’－アゾビス（Ｎ－ブチル－２－メチルプロピオンアミド）、２，２’－アゾビス（Ｎ－シクロヘキシル－２－メチルプロピオンアミド）等のアゾ系化合物；
メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）ブタン、過酸化コハク酸、過酸化ベンゾイル等の有機過酸化物等が挙げられる。 Examples of the thermal polymerization initiator include benzopinacol, 1,2-dimethoxy-1,1,2,2-tetraphenylethane, 1,2-dimethoxy-1,1,2,2-tetraphenylethane, and 1,2-dimethoxy-1,1,2,2-tetraphenylethane. -diphenoxy-1,1,2,2-tetraphenylethane, 1,2-dimethoxy-1,1,2,2-tetra(4-methylphenyl)ethane, 1,2-diphenoxy-1,1,2, 2-tetra(4-methoxyphenyl)ethane, 1,2-bis(trimethylsiloxy)-1,1,2,2-tetraphenylethane, 1,2-bis(triethylsiloxy)-1,1,2,2 -tetraphenylethane, 1,2-bis(tert-butyldimethylsiloxy)-1,1,2,2-tetraphenylethane, 1-hydroxy-2-trimethylsiloxy-1,1,2,2-tetraphenylethane , 1-hydroxy-2-triethylsiloxy-1,1,2,2-tetraphenylethane, 1-hydroxy-2-tert-butyldimethylsiloxy-1,1,2,2-tetraphenylethane, and other pinacol-based compounds ;
2,2'-azobis(4-methoxy2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), dimethyl-2,2'-azobis(2-methylpropionate) ), 2,2'-azobis(2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis(cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2'-azobis[N-(2-propenyl)2-methylpropion amide], 1-[(1-cyano-1-methylethyl)azo]formamide, 2,2'-azobis(N-butyl-2-methylpropionamide), 2,2'-azobis(N-cyclohexyl-2 -Azo compounds such as methylpropionamide);
Methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis(tert-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, Examples include organic peroxides such as 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane, 2,2-bis(tert-butylperoxy)butane, succinic peroxide, and benzoyl peroxide.

その他重合開始剤（Ｄ３）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 Other polymerization initiators (D3) can be used alone or in combination of two or more.

重合開始剤（Ｄ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～２０質量％が好ましく、１～１０質量％がより好ましい。 The content of the polymerization initiator (D) is preferably 0.5 to 20% by weight, more preferably 1 to 10% by weight based on 100% by weight of nonvolatile content of the photosensitive composition.

［近赤外線吸収化合物（Ｅ）］
本発明の感光性組成物は、近赤外線吸収化合物（Ｅ）を含有できる。これにより、近赤外線領域の光の透過率を制御できる。 [Near infrared absorbing compound (E)]
The photosensitive composition of the present invention can contain a near-infrared absorbing compound (E). Thereby, the transmittance of light in the near-infrared region can be controlled.

近赤外線吸収化合物（Ｅ）は、波長７００～２，０００ｎｍに極大吸収を有する化合物であり、顔料（近赤外線吸収顔料ともいう）であってもよく、染料（近赤外線吸収染料ともいう）であってもよい。また、近赤外線吸収顔料と近赤外線吸収染料を併用してもよい。耐熱性、耐光性の観点から、近赤外線吸収顔料が好ましい。
本明細書で近赤外線吸収顔料は、２５℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００ｇに対する溶解度が、２ｇ未満が好ましく、１ｇ未満がより好ましく、０．５ｇ以下が特に好ましい。 The near-infrared absorbing compound (E) is a compound having maximum absorption in the wavelength range of 700 to 2,000 nm, and may be a pigment (also referred to as a near-infrared absorbing pigment) or a dye (also referred to as a near-infrared absorbing dye). It's okay. Further, a near-infrared absorbing pigment and a near-infrared absorbing dye may be used together. From the viewpoint of heat resistance and light resistance, near-infrared absorbing pigments are preferred.
In this specification, the near-infrared absorbing pigment has a solubility in 100 g of propylene glycol monomethyl ether acetate at 25° C. that is preferably less than 2 g, more preferably less than 1 g, and particularly preferably 0.5 g or less.

近赤外線吸収化合物（Ｅ）は、例えば、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、インジゴ化合物、インモニウム化合物、アントラキノン化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、酸化亜鉛、Ａｌドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、セシウム酸化タングステン、銅、ニッケル、銀、金等の金属酸化物粒子又は金属粒子等が挙げられる。 Near-infrared absorbing compounds (E) include, for example, cyanine compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, indigo compounds, immonium compounds, anthraquinone compounds, pyrrolopyrrole compounds, squarylium compounds, croconium compounds, indium tin oxide, antimony tin oxide, and tin oxide. Examples include metal oxide particles or metal particles such as zinc, Al-doped zinc oxide, fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, cesium tungsten oxide, copper, nickel, silver, and gold.

シアニン化合物は、国際公開第２００６／００６５７３号、国際公開第２０１０／０７３８５７号、特開２０１３－２４１５９８号公報、特開２０１６－１１３５０１号公報、特開２０１６－１１３５０４号公報等；フタロシアニン化合物は、特開平４－２３８６８号公報、特開平０６－１９２５８４号公報、特開２０００－６３６９１号公報、国際公開第２０１４／２０８５１４号等；ナフタロシアニン化合物は、特開平１１－１５２４１４号公報、特開２０００－８６９１９号公報、特開２００９－２９９５５号公報、国際公開第２０１８／１８６４９０号、特開２０２２－９１０９９号公報、特開２０２２－０７２５５８号公報等；インジゴ化合物は、特開２０１２－２２４５９３号公報、特開２０１３－８７２３３号公報、特開２０１３－２３０４１２号公報等；インモニウム化合物は、特開２００５－３３６１５０号公報、特開２００７－１９７４９２号公報、特開２００８－８８４２６号公報等；アントラキノン化合物は、特開昭６２－９０３号公報、特開平１－１７２４５８号公報等；ピロロピロール化合物は、特開２００９－２６３６１４号公報、特開２０１０－９０３１３号公報、特開２０１１－０６８７３１号公報、特開２０１４－１３０３４８号公報、国際公開第２０１５／１６６８７３号等；スクアリリウム化合物は、特開２０１１－１３２３６１号公報、特開２０１６－１４２８９１号公報、国際公開第２０１７／１３５３５９号、国際公開第２０１８／２２５８３７号、特開２０１９－００１９８７号公報、国際公開第２０２０／０５４７１８号、国際公開２０２１／０２９１９５号等；クロコニウム化合物は、国際公開第２０１９／０２１７６７号等に記載の化合物が挙げられる。
これらの中でも、耐光性の観点から、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、インジゴ化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物からなる群から選ばれる１種以上を含むことが好ましい。 Cyanine compounds are disclosed in International Publication No. 2006/006573, International Publication No. 2010/073857, JP 2013-241598, JP 2016-113501, JP 2016-113504, etc.; Phthalocyanine compounds are JP-A-4-23868, JP-A-06-192584, JP-A-2000-63691, International Publication No. 2014/208514, etc.; Naphthalocyanine compounds are disclosed in JP-A-11-152414, JP-A-2000-86919, etc. No., JP 2009-29955, WO 2018/186490, JP 2022-91099, JP 2022-072558, etc.; indigo compounds are disclosed in JP 2012-224593, JP 2013-87233, JP 2013-230412, etc.; Immonium compounds are disclosed in JP 2005-336150, JP 2007-197492, JP 2008-88426, etc.; anthraquinone compounds are disclosed in JP 2008-88426, etc.; JP-A No. 62-903, JP-A-1-172458, etc.; Pyrrolopyrrole compounds are disclosed in JP-A No. 2009-263614, JP-A No. 2010-90313, JP-A No. 2011-068731, JP-A No. 2014- 130348, International Publication No. 2015/166873, etc.; squarylium compounds are disclosed in JP2011-132361, 2016-142891, WO2017/135359, WO2018/225837, etc. International Publication No. 2019-001987, International Publication No. 2020/054718, International Publication No. 2021/029195, etc.; Examples of the croconium compound include compounds described in International Publication No. 2019/021767, etc.
Among these, from the viewpoint of light resistance, it is preferable to include one or more selected from the group consisting of phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, indigo compounds, pyrrolopyrrole compounds, and squarylium compounds.

近赤外線吸収化合物（Ｅ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。２種類以上併用して用いる場合、極大吸収波長の異なる少なくとも２種の化合物を用いることが好ましい。これにより、１種類の近赤外線吸収化合物（Ｅ）を使用した場合に比べて、吸収スペクトルの波形が広がり、幅広い波長範囲の近赤外線を吸収できる。 The near-infrared absorbing compound (E) can be used alone or in combination of two or more types. When two or more kinds of compounds are used in combination, it is preferable to use at least two kinds of compounds having different maximum absorption wavelengths. As a result, compared to the case where one type of near-infrared absorbing compound (E) is used, the waveform of the absorption spectrum is broadened, and near-infrared rays in a wide wavelength range can be absorbed.

近赤外線吸収化合物（Ｅ）の含有量は、近赤外線吸収性の観点から、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．１～７０質量％が好ましく、０．５～５０質量％がより好ましい。 From the viewpoint of near-infrared absorption, the content of the near-infrared absorbing compound (E) is preferably 0.1 to 70% by mass, and 0.5 to 50% by mass based on 100% by mass of the nonvolatile content of the photosensitive composition. More preferred.

［色素誘導体（Ｆ）］
本発明の感光性組成物は、色素誘導体（Ｆ）を含有できる。 [Dye derivative (F)]
The photosensitive composition of the present invention can contain a dye derivative (F).

色素誘導体（Ｆ）は、特に制限はなく、公知の化合物を用いることができる。例えば、色素の一部が、酸性基、塩基性基、中性基等で置換された構造を有する化合物が挙げられる。具体的には、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基などの酸性置換基を有する化合物、及びこれらのアミン塩や、スルホンアミド基や末端に３級アミノ基などの塩基性置換基を有する化合物、フェニル基やフタルイミドアルキル基などの中性置換基を有する化合物が挙げられる。
色素としては、例えば、ジケトピロロピロール化合物、フタロシアニン化合物、アントラキノン化合物、キナクリドン化合物、ジオキサジン化合物、ペリノン化合物、ペリレン化合物、チアジンインジゴ化合物、トリアジン化合物、ベンズイミダゾロン化合物、ベンゾイソインドール化合物、イソインドリン化合物、イソインドリノン化合物、キノフタロン化合物、ナフトール化合物、スクアリリウム化合物、スレン化合物、ナフタロシアニン化合物等が挙げられる。 The dye derivative (F) is not particularly limited, and known compounds can be used. For example, there may be mentioned a compound having a structure in which a part of the dye is substituted with an acidic group, a basic group, a neutral group, or the like. Specifically, compounds having acidic substituents such as sulfo groups, carboxy groups, phosphoric acid groups, and amine salts thereof, and compounds having basic substituents such as sulfonamide groups and tertiary amino groups at the terminals, Examples include compounds having a neutral substituent such as a phenyl group or a phthalimidoalkyl group.
Examples of dyes include diketopyrrolopyrrole compounds, phthalocyanine compounds, anthraquinone compounds, quinacridone compounds, dioxazine compounds, perinone compounds, perylene compounds, thiazine indigo compounds, triazine compounds, benzimidazolone compounds, benzisoindole compounds, and isoindolines. compounds, isoindolinone compounds, quinophthalone compounds, naphthol compounds, squarylium compounds, threne compounds, naphthalocyanine compounds, and the like.

具体的には、ピロロピロール系色素誘導体としては、特開２００１－２２０５２０号公報、国際公開第２００９／０８１９３０号、国際公開第２０１１／０５２６１７号、国際公開第２０１２／１０２３９９号、特開２０１７－１５６３９７号公報、国際公開第２０１８／１０１１８９号、フタロシアニン系色素誘導体としては、特開２００７－２２６１６１号公報、国際公開第２０１６／１６３３５１号、特開２０１７－１６５８２０号公報、特許第５７５３２６６号公報、アントラキノン系色素誘導体としては、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０９－２７２８１２号公報、特開平１０－２４５５０１号公報、特開平１０－２６５６９７号公報、特開２００７－０７９０９４号公報、国際公開第２００９／０２５３２５号、キナクリドン系色素誘導体としては、特開昭４８－５４１２８号公報、特開平０３－９９６１号公報、特開２０００－２７３３８３号公報、ジオキサジン系色素誘導体としては、特開２０１１－１６２６６２号公報、チアジンインジゴ系色素誘導体としては、特開２００７－３１４７８５号公報、トリアジン系色素誘導体としては、特開昭６１－２４６２６１号公報、特開平１１－１９９７９６号公報、特開２００３－１６５９２２号公報、特開２００３－１６８２０８号公報、特開２００４－２１７８４２号公報、特開２００７－３１４６８１号公報、ベンゾイソインドール系色素誘導体としては、特開２００９－５７４７８号公報、キノフタロン系色素誘導体としては、特開２００３－１６７１１２号公報、特開２００６－２９１１９４号公報、特開２００８－３１２８１号公報、特開２０１２－２２６１１０号公報、ナフトール系色素誘導体としては、特開２０１２－２０８３２９号公報、特開２０１４－５４３９号公報、スクアリリウム系色素誘導体としては、国際公開第２０２０／０５４７１８号、アゾ系色素誘導体としては、特開２００１－１７２５２０号公報、特開２０１２－１７２０９２号公報、酸性置換基としては、特開２００４－３０７８５４号公報、塩基性置換基としては、特開２００２－２０１３７７号公報、特開２００３－１７１５９４号公報、特開２００５－１８１３８３号公報、特開２００５－２１３４０４号公報等に記載の公知の色素誘導体が挙げられる。なお、これらの文献には、誘導体、顔料誘導体、分散剤、分散助剤、顔料分散剤若しくは単に化合物などと記載している場合があるが、色素誘導体（Ｆ）と同義である。 Specifically, as pyrrolopyrrole dye derivatives, JP 2001-220520 A, WO 2009/081930, WO 2011/052617, WO 2012/102399, JP 2017-156397 No. Publication, International Publication No. 2018/101189, phthalocyanine dye derivatives include JP 2007-226161, WO 2016/163351, JP 2017-165820, Patent No. 5753266, anthraquinone-based Examples of dye derivatives include JP-A-63-264674, JP-A-09-272-812, JP-A-10-245501, JP-A-10-265697, JP-A-2007-079094, and International Publication No. 2009. /025325, quinacridone dye derivatives in JP-A-48-54128, JP-A-03-9961, JP-A-2000-273383, and dioxazine-based dye derivatives in JP-A-2011-162662. , as thiazine indigo dye derivatives, JP-A-2007-314785; as triazine-based dye derivatives, JP-A-61-246261, JP-A-11-199796, JP-A-2003-165922; JP-A-2003-168208, JP-A 2004-217842, JP-A 2007-314681, benzisoindole dye derivatives in JP-A 2009-57478, quinophthalone dye derivatives in JP-A 2009-57478, 2003-167112, JP 2006-291194, JP 2008-31281, JP 2012-226110, as naphthol dye derivatives, JP 2012-208329, JP 2014-5439. Publication No. 2020/054718 for squarylium dye derivatives, JP2001-172520A and JP2012-172092A for azo dye derivatives, JP2001-2004A for acidic substituents. -307854, and as the basic substituent, known dyes described in JP 2002-201377, JP 2003-171594, JP 2005-181383, JP 2005-213404, etc. Examples include derivatives. Incidentally, in these documents, the term "derivative, pigment derivative, dispersant, dispersion aid, pigment dispersant, or simply compound" may be described, but it has the same meaning as the pigment derivative (F).

色素誘導体（Ｆ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The dye derivative (F) can be used alone or in combination of two or more types.

色素誘導体（Ｆ）の含有量は、着色剤（Ａ）１００質量部に対して、１～４０質量部が好ましく、２～２０質量部がより好ましい。 The content of the dye derivative (F) is preferably 1 to 40 parts by weight, more preferably 2 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the colorant (A).

［分散樹脂（Ｇ）］
本発明の感光性組成物は、分散樹脂（Ｇ）を含有できる。分散樹脂（Ｇ）は、重合性化合物や有機溶剤への溶解性が低い成分である着色剤（Ａ）等を安定して分散する目的で用いる。なお、本明細書では分散樹脂（Ｇ）は、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）に含まれない。 [Dispersion resin (G)]
The photosensitive composition of the present invention can contain a dispersion resin (G). The dispersion resin (G) is used for the purpose of stably dispersing the colorant (A), which is a component with low solubility in polymerizable compounds and organic solvents. In addition, in this specification, the dispersion resin (G) is not included in the alkali-soluble resin (B).

分散樹脂（Ｇ）は、着色剤（Ａ）に親和性が高い吸着基を有している樹脂が好ましい。吸着基は、塩基性基及び酸性基のうち１種以上有していることが好ましい。 The dispersion resin (G) is preferably a resin having an adsorption group with high affinity for the colorant (A). It is preferable that the adsorption group has one or more types of basic groups and acidic groups.

塩基性基は、例えば、１級アミノ基、２級アミノ基、３級アミノ基、４級アンモニウム塩基、及び含窒素複素環など窒素原子を含有する基等が挙げられる。 Examples of the basic group include a primary amino group, a secondary amino group, a tertiary amino group, a quaternary ammonium base, and a nitrogen atom-containing group such as a nitrogen-containing heterocycle.

酸性基は、例えば、カルボキシル基、リン酸基、及びスルホン酸基等が挙げられる。 Examples of acidic groups include carboxyl groups, phosphoric acid groups, and sulfonic acid groups.

分散樹脂（Ｇ）の樹脂種は、例えば、ウレタン樹脂、ポリアクリレート等のポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸（部分）アミン塩、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸アルキルアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアマイドリン酸塩、水酸基含有ポリカルボン酸エステルや、これらの変性物、ポリ（低級アルキレンイミン）と遊離のカルボキシル基を有するポリエステルとの反応により形成されたアミドやその塩等、（メタ）アクリル酸－スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸－（メタ）アクリル酸エステル共重合体、スチレン－マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート系、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド付加化合物、リン酸エステル系等が挙げられる。 The resin species of the dispersion resin (G) include, for example, urethane resins, polycarboxylic acid esters such as polyacrylates, unsaturated polyamides, polycarboxylic acids, polycarboxylic acid (partial) amine salts, polycarboxylic acid ammonium salts, and polycarboxylic acids. Alkylamine salts, polysiloxanes, long-chain polyaminoamide phosphates, hydroxyl group-containing polycarboxylic acid esters, modified products thereof, and amides formed by the reaction of poly(lower alkylene imine) with polyesters having free carboxyl groups. water-soluble resins such as (meth)acrylic acid-styrene copolymer, (meth)acrylic acid-(meth)acrylic acid ester copolymer, styrene-maleic acid copolymer, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, etc. Examples include water-soluble polymer compounds, polyesters, modified polyacrylates, ethylene oxide/propylene oxide adducts, phosphate esters, and the like.

分散樹脂（Ｇ）の構造は、例えば、ランダム構造、ブロック構造、グラフト構造、くし型構造及び星型構造等が挙げられる。これらの中でも、分散安定性の観点から、ブロック構造、くし型構造が好ましい。 Examples of the structure of the dispersed resin (G) include a random structure, a block structure, a graft structure, a comb structure, and a star structure. Among these, block structures and comb structures are preferred from the viewpoint of dispersion stability.

分散樹脂（Ｇ）は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、熱硬化性基及び／又は重合性不飽和基を有することが好ましい。熱硬化性基は、例えば、水酸基、エポキシ基、オキセタニル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、及びブロックイソシアネート基等が挙げられる。 It is preferable that the dispersion resin (G) has a thermosetting group and/or a polymerizable unsaturated group from the viewpoint of solvent resistance in low-temperature post-baking. Examples of the thermosetting group include a hydroxyl group, an epoxy group, an oxetanyl group, a tert-butyl group, and a blocked isocyanate group.

分散樹脂（Ｇ）は、例えば、国際公開第２０１３／１７５９７８号の段落番号０１２２～０１５５に記載の樹脂、特開２０１９－７８８７８号公報の段落番号０３１７～０３２１に記載の樹脂、国際公開第２０１８／１３９５３４号の段落番号００８３に記載の樹脂、国際公開第２０１９／１６３５０５号の段落番号０１６７～０１９１に記載の樹脂、国際公開第２０２１／１３１９２７号の段落番号０２９９～０３１０に記載の樹脂、国際公開第２０２２／１０２３６７号の段落番号００８０～００８５に記載の樹脂、国際公開第２０２２／１７２６０７号の段落番号００９９～０１０９に記載の樹脂等が挙げられる。 The dispersion resin (G) is, for example, the resin described in paragraph numbers 0122 to 0155 of International Publication No. 2013/175978, the resin described in paragraph numbers 0317 to 0321 of JP2019-78878, and the resin described in International Publication No. 2018/175978, paragraph numbers 0317 to 0321. Resin described in Paragraph No. 0083 of International Publication No. 139534, Resin described in Paragraph No. 0167 to 0191 of International Publication No. 2019/163505, Resin described in Paragraph No. 0299 to 0310 of International Publication No. 2021/131927, Resin described in Paragraph No. 0299 to 0310 of International Publication No. 2021/131927, Examples include resins described in paragraph numbers 0080 to 0085 of No. 2022/102367, resins described in paragraph numbers 0099 to 0109 of International Publication No. 2022/172607, and the like.

分散樹脂（Ｇ）の市販品は、例えば、ビックケミー・ジャパン社製のＤｉｓｐｅｒｂｙｋ－１０１，１０３，１０７，１０８，１１０，１１１，１１６，１３０，１４０，１５４，１６１，１６２，１６３，１６４，１６５，１６６，１６７，１６８，１７０，１７１，１７４，１８０，１８１，１８２，１８３，１８４，１８５，１９０，２０００，２００１，２００９，２０１０，２０２０，２０２５，２０５０，２０７０，２０９５，２１５０，２１５５，２１６３，２１６４、又はＡｎｔｉ－Ｔｅｒｒａ－Ｕ２０３，２０４、又はＢＹＫ－Ｐ１０４，Ｐ１０４Ｓ，２２０Ｓ、又はＬａｃｔｉｍｏｎ、Ｌａｃｔｉｍｏｎ－ＷＳ、又はＢｙｋｕｍｅｎ等、日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥ－３０００，９０００，１３０００，１３２４０，１３６５０，１３９４０，１６０００，１７０００，１８０００，２００００，２１０００，２４０００，２６０００，２７０００，２８０００，３１８４５，３２０００，３２５００，３２５５０，３３５００，３２６００，３４７５０，３５１００，３６６００，３８５００，４１０００，４１０９０，５３０９５，５５０００，５６０００，７６５００等、ＢＡＳＦジャパン社製のＥＦＫＡ－４６，４７，４８，４５２，４００８，４００９，４０１０，４０１５，４０２０，４０４７，４０５０，４０５５，４０６０，４０８０，４４００，４４０１，４４０２，４４０３，４４０６，４４０８，４３００，４３１０，４３２０，４３３０，４３４０，４５０，４５１，４５３，４５４０，４５５０，４５６０，４８００，５０１０，５０６５，５０６６，５０７０，７５００，７５５４，１１０１，１２０，１５０，１５０１，１５０２，１５０３等、味の素ファインテクノ社製のアジスーパーＰＡ１１１，ＰＢ７１１，ＰＢ８２１，ＰＢ８２２，ＰＢ８２４等、特開２００８－０２９９０１号公報、特開２００９－１５５４０６号公報、特開２０１０－１８５９３４号公報、特開２０１１－１５７４１６号公報、国際公開第２００８／００７７７６号、特開２００８－０２９９０１号公報、特開２００９－１５５４０６号公報、特開２０１０－１８５９３４号公報、特開２０１１－１５７４１６号公報、特開２００９－２５１４８１号公報、特開２００７－２３１９５号公報、特開１９９６－１４３６５１号公報等に記載の樹脂が挙げられる。 Commercially available products of the dispersion resin (G) include, for example, Disperbyk-101, 103, 107, 108, 110, 111, 116, 130, 140, 154, 161, 162, 163, 164, 165, manufactured by BYK Chemie Japan Co., Ltd. 166, 167, 168, 170, 171, 174, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 190, 2000, 2001, 2009, 2010, 2020, 2025, 2050, 2070, 2095, 2150, 2155, 2163, 2164, or Anti-Terra-U203, 204, or BYK-P104, P104S, 220S, or Lactimon, Lactimon-WS, or Bykumen, SOLSPERSE-3000, 9000, 13000, 13240, 13650 manufactured by Lubrizol Japan. ,13940 ,16000,17000,18000,20000,21000,24000,26000,27000,28000,31845,32000,32500,32550,33500,32600,34750,35100,36600,38500,41000,41 090,53095,55000,56000,76500 etc., EFKA-46, 47, 48, 452, 4008, 4009, 4010, 4015, 4020, 4047, 4050, 4055, 4060, 4080, 4400, 4401, 4402, 4403, 4406, 4408, 4300 manufactured by BASF Japan. , 4310, 4320, 4330, 4340, 450, 451, 453, 4540, 4550, 4560, 4800, 5010, 5065, 5066, 5070, 7500, 7554, 1101, 120, 150, 1501, 1502, 1503, etc., Ajinomoto Fine Ajisuper PA111, PB711, PB821, PB822, PB824, etc. manufactured by Techno Co., Ltd., JP 2008-029901, JP 2009-155406, JP 2010-185934, JP 2011-157416, International Publication No. 2008/007776, JP 2008-029901, JP 2009-155406, JP 2010-185934, JP 2011-157416, JP 2009-251481, JP 2007 Examples include resins described in JP-A-23195, JP-A-1996-143651, and the like.

分散樹脂（Ｇ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The dispersion resin (G) can be used alone or in combination of two or more types.

分散樹脂（Ｇ）の含有量は、分散安定性の観点から、着色剤（Ａ）１００質量部に対して、３～２００質量部が好ましく、５～１００質量部がより好ましい。
分散樹脂（Ｇ）の含有量は、分散安定性の観点から、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、１～３０質量％が好ましく、５～２０質量％がより好ましい。 From the viewpoint of dispersion stability, the content of the dispersion resin (G) is preferably 3 to 200 parts by weight, more preferably 5 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the colorant (A).
From the viewpoint of dispersion stability, the content of the dispersion resin (G) is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 5 to 20% by mass, based on 100% by mass of the nonvolatile content of the photosensitive composition.

［増感剤（Ｈ）］
本発明の感光性組成物は、増感剤（Ｈ）を含有できる。 [Sensitizer (H)]
The photosensitive composition of the present invention can contain a sensitizer (H).

増感剤（Ｈ）は、例えば、カルコン系化合物、ジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される１，２－ジケトン系化合物、ベンゾイン系化合物、フルオレン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、キサンテン系化合物、チオキサンテン系化合物、キサントン系化合物、チオキサントン系化合物、クマリン系化合物、ケトクマリン系化合物、シアニン系化合物、メロシアニン系化合物、オキソノール系化合物等のポリメチン色素、アクリジン系化合物、アジン系化合物、チアジン系化合物、オキサジン系化合物、インドリン系化合物、アズレン系化合物、アズレニウム系化合物、スクアリリウム系化合物、ポルフィリン系化合物、テトラフェニルポルフィリン系化合物、トリアリールメタン系化合物、テトラベンゾポルフィリン系化合物、テトラピラジノポルフィラジン系化合物、フタロシアニン系化合物、テトラアザポルフィラジン系化合物、テトラキノキサリロポルフィラジン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、サブフタロシアニン系化合物、ピリリウム系化合物、チオピリリウム系化合物、テトラフィリン系化合物、アヌレン系化合物、スピロピラン系化合物、スピロオキサジン系化合物、チオスピロピラン系化合物、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体、又はベンゾフェノン系化合物等が挙げられる。これらの中でも、チオキサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物が好ましい。 Examples of the sensitizer (H) include chalcone compounds, unsaturated ketones such as dibenzalacetone, 1,2-diketone compounds such as benzyl and camphorquinone, benzoin compounds, and fluorenes. Polymethine compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, xanthene compounds, thioxanthene compounds, xanthone compounds, thioxanthone compounds, coumarin compounds, ketocoumarin compounds, cyanine compounds, merocyanine compounds, oxonol compounds, etc. Pigments, acridine compounds, azine compounds, thiazine compounds, oxazine compounds, indoline compounds, azulene compounds, azulenium compounds, squarylium compounds, porphyrin compounds, tetraphenylporphyrin compounds, triarylmethane compounds, Tetrabenzoporphyrin compounds, tetrapyrazinoporphyrazine compounds, phthalocyanine compounds, tetraazaporphyrazine compounds, tetraquinoxalylloporphyrazine compounds, naphthalocyanine compounds, subphthalocyanine compounds, pyrylium compounds, thiopyrylium compounds compounds, tetraphylline compounds, annulene compounds, spiropyran compounds, spirooxazine compounds, thiospiropyran compounds, metal arene complexes, organic ruthenium complexes, and benzophenone compounds. Among these, thioxanthone compounds and benzophenone compounds are preferred.

チオキサントン系化合物は、例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン等が挙げられる。これらの中でも、２，４－ジエチルチオキサントンが好ましい。 Examples of thioxanthone compounds include 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, and 1-chloro-4-propoxythioxanthone. Among these, 2,4-diethylthioxanthone is preferred.

ベンゾフェノン系化合物は、例えば、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２－アミノベンゾフェノン等が挙げられる。これらの中でも、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。 Examples of the benzophenone compounds include 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, and 2-aminobenzophenone. Among these, 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone is preferred.

増感剤（Ｈ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The sensitizer (H) can be used alone or in combination of two or more.

増感剤（Ｈ）の含有量は、重合開始剤（Ｄ）１００質量部に対して、１０～４００質量部が好ましく、２０～３００質量部がより好ましい。 The content of the sensitizer (H) is preferably 10 to 400 parts by weight, more preferably 20 to 300 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymerization initiator (D).

［熱硬化性化合物（Ｉ）］
本発明の感光性組成物は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、熱硬化性化合物（Ｉ）を含むことが好ましい。これにより、ポストベークで熱硬化性化合物（Ｉ）が架橋し、耐性が向上すると推測する。 [Thermosetting compound (I)]
The photosensitive composition of the present invention preferably contains thermosetting compound (I) from the viewpoint of solvent resistance during low-temperature post-baking. It is presumed that this causes crosslinking of the thermosetting compound (I) during post-baking and improves the resistance.

熱硬化性化合物（Ｉ）は、低分子化合物や、樹脂のような高分子量化合物でもよい。熱硬化性化合物（Ｉ）は、例えば、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ベンゾグアナミン化合物、ロジン変性マレイン酸化合物、ロジン変性フマル酸化合物、メラミン化合物、尿素化合物、及びフェノール化合物が挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、エポキシ化合物、オキセタン化合物、メラミン化合物が好ましく、エポキシ化合物がより好ましい。 The thermosetting compound (I) may be a low molecular weight compound or a high molecular weight compound such as a resin. Examples of the thermosetting compound (I) include epoxy compounds, oxetane compounds, benzoguanamine compounds, rosin-modified maleic acid compounds, rosin-modified fumaric acid compounds, melamine compounds, urea compounds, and phenol compounds. Among these, from the viewpoint of reactivity, epoxy compounds, oxetane compounds, and melamine compounds are preferred, and epoxy compounds are more preferred.

（エポキシ化合物）
エポキシ化合物は、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ビフェノール、ビスフェノールＡＤ等）、フェノール類（フェノール、アルキル置換フェノール、芳香族置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、アルキル置換ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等）と各種アルデヒド（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アルキルアルデヒド、ベンズアルデヒド、アルキル置換ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、ナフトアルデヒド、グルタルアルデヒド、フタルアルデヒド、クロトンアルデヒド、シンナムアルデヒド等）との重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物（ジシクロペンタジエン、テルペン類、ビニルシクロヘキセン、ノルボルナジエン、ビニルノルボルネン、テトラヒドロインデン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロペニルビフェニル、ブタジエン、イソプレン等）との重合物、フェノール類とケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン等）との重縮合物、フェノール類と芳香族ジメタノール類（ベンゼンジメタノール、α，α，α’，α’－ベンゼンジメタノール、ビフェニルジメタノール、α，α，α’，α’－ビフェニルジメタノール等）との重縮合物、フェノール類と芳香族ジクロロメチル類（α，α’－ジクロロキシレン、ビスクロロメチルビフェニル等）との重縮合物、ビスフェノール類と各種アルデヒドの重縮合物、アルコール類等をグリシジル化したグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられる。 (epoxy compound)
Epoxy compounds include, for example, bisphenols (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, biphenol, bisphenol AD, etc.), phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, aromatic-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, alkyl-substituted Polycondensates of dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) and various aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, alkylaldehyde, benzaldehyde, alkyl-substituted benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, naphthaldehyde, glutaraldehyde, phthalaldehyde, crotonaldehyde, cinnamaldehyde, etc.), phenol and various diene compounds (dicyclopentadiene, terpenes, vinylcyclohexene, norbornadiene, vinylnorbornene, tetrahydroindene, divinylbenzene, divinylbiphenyl, diisopropenylbiphenyl, butadiene, isoprene, etc.), phenols and ketones. (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetophenone, benzophenone, etc.), phenols and aromatic dimethanols (benzenedimethanol, α, α, α', α'-benzenedimethanol, biphenyl dimethanol) , α, α, α', α'-biphenyl dimethanol, etc.), polycondensates of phenols and aromatic dichloromethyls (α, α'-dichloroxylene, bischloromethylbiphenyl, etc.) , polycondensates of bisphenols and various aldehydes, glycidyl ether-based epoxy resins obtained by glycidylating alcohols, etc., alicyclic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, aliphatic epoxy resins, glycidylamine-based epoxy resins, glycidyl ester-based epoxy resins Examples include epoxy resin.

エポキシ化合物の市販品は、例えば、油化シェルエポキシ社製のエピコート８０７，８１５，８２５，８２７，８２８，１９０Ｐ，１９１Ｐ、三井化学社製のＴＥＣＨＭＯＲＥＶＧ３１０１Ｌ、日本化薬社製のＥＰＰＮ－２０１，５０１Ｈ，５０２Ｈ、ＥＯＣＮ－１０２Ｓ，１０３Ｓ，１０４Ｓ，１０２０、ジャパンエポキシレジン社製のエピコート１００４，１２５６、ＪＥＲ１０３２Ｈ６０，１５７Ｓ６５，１５７Ｓ７０，１５２，１５４、ダイセル化学工業社製のセロキサイド２０２１、ＥＨＰＥ－３１５０、エポリードＧＴ４０１、ナガセケムテックス社製のデナコールＥＸ－２１１，２１２，２５２，３１３，３１４，３２１，４１１，４２１，５１２，５２１，６１１，６１２，６１４，６１４Ｂ，６２２，７１１，７２１、日産化学工業社製のＴＥＰＩＣ－Ｌ，Ｈ，Ｓ、ＤＩＣ社製のＥＰＩＣＬＯＮ８３０，８４０，８５０，８６０，１０５０，３０５０，４０５０，Ｎ－６６０、Ｎ－６７０，Ｎ－７４０，Ｎ－７７０，Ｎ８６５，ＨＰ－７２００，ＨＰ－４７００，ＨＰ－４７７０，ＨＰ－５０００，ＨＰ－６０００，ＨＰ－９５００等が挙げられる。 Commercially available epoxy compounds include, for example, Epicote 807, 815, 825, 827, 828, 190P, 191P manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., TECHMORE VG3101L manufactured by Mitsui Chemicals, and EPPN-201, 501H manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. , 502H, EOCN-102S, 103S, 104S, 1020, Epicoat 1004, 1256 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., JER1032H60, 157S65, 157S70, 152, 154, Celoxide 2021 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., EHPE-3150, Epolead GT401, Denacol EX-211, 212, 252, 313, 314, 321, 411, 421, 512, 521, 611, 612, 614, 614B, 622, 711, 721 manufactured by Nagase ChemteX, TEPIC manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. - L, H, S, EPICLON 830, 840, 850, 860, 1050, 3050, 4050, N-660, N-670, N-740, N-770, N865, HP-7200, HP- manufactured by DIC 4700, HP-4770, HP-5000, HP-6000, HP-9500, etc.

エポキシ化合物は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、分子内に２～５０個のエポキシ基を有する化合物が好ましく、１０～３０個のエポキシ基を有する化合物がより好ましい。また、エポキシ化合物は、芳香族環及び／又は脂肪族環を有するエポキシ化合物が好ましく、脂肪族環を有するエポキシ化合物より好ましい。エポキシ基は、単結合又は連結基を介して、芳香族環及び／又は脂肪族環に結合していることが好ましい。連結基は、例えば、アルキル基、アリーレン基、－Ｏ－、－ＮＲ－（Ｒは水素原子、置換基を有してもよいアルキル基または置換基を有してもよいアリール基を表す）、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－が挙げられる。脂肪族環を有する構造の場合、エポキシ基は単結合を介して、脂肪族環に結合していることがより好ましい。 From the viewpoint of solvent resistance during low-temperature post-baking, the epoxy compound preferably has 2 to 50 epoxy groups in the molecule, more preferably 10 to 30 epoxy groups. Further, the epoxy compound is preferably an epoxy compound having an aromatic ring and/or an aliphatic ring, and more preferably than an epoxy compound having an aliphatic ring. The epoxy group is preferably bonded to an aromatic ring and/or an aliphatic ring via a single bond or a linking group. The linking group is, for example, an alkyl group, an arylene group, -O-, -NR- (R represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent), Examples include -SO ₂ -, -CO-, -O-, and -S-. In the case of a structure having an aliphatic ring, it is more preferable that the epoxy group is bonded to the aliphatic ring via a single bond.

エポキシ化合物のエポキシ当量は、５０～４００ｇ／ｅｑが好ましく、１００～２００ｇ／ｅｑがより好ましい。なお、エポキシ当量とは、１当量のエポキシ基を含むエポキシ化合物の質量で定義される。 The epoxy equivalent of the epoxy compound is preferably 50 to 400 g/eq, more preferably 100 to 200 g/eq. Note that the epoxy equivalent is defined as the mass of an epoxy compound containing 1 equivalent of epoxy group.

脂肪族環を有するエポキシ化合物は、例えば、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－１－メチルシクロヘキシル－３，４－エポキシ－１－メチルヘキサンカルボキシレート、６－メチル－３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－６－メチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－３－メチルシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシ－３－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－５－メチルシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシ－５－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル－５，５－スピロ－３，４－エポキシ）シクロヘキサン－メタジオキサン、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルカルボキシレート、メチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ－２－エチルヘキシル、１－エポキシエチル－３，４－エポキシシクロヘキサン、１，２－エポキシ－２－エポキシエチルシクロヘキサン、ブタンテトラカルボン酸テトラ（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）修飾ε－カプロラクトン、２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物等が挙げられる。 Epoxy compounds having an aliphatic ring include, for example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexyl-3,4-epoxy-1-methylhexanecarboxylate 6-methyl-3,4-epoxycyclohexylmethyl-6-methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-3-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-3-methylcyclohexanecarboxylate 3,4-epoxy-5-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-5-methylcyclohexanecarboxylate, 2-(3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy)cyclohexane - Metadioxane, bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylcarboxylate, methylenebis(3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, ethylenebis(3,4-epoxy-6-methylcyclohexylcarboxylate), dicyclopentadiene diepoxide, 4-epoxycyclohexanecarboxylate), dioctyl epoxyhexahydrophthalate, di-2-ethylhexyl epoxyhexahydrophthalate, 1-epoxyethyl-3,4-epoxycyclohexane, 1,2-epoxy-2-epoxyethylcyclohexane, butanetetracarboxylic acid tetra(3,4-epoxycyclohexylmethyl)-modified ε-caprolactone, 1,2-epoxy-4-(2-oxiranyl)cyclohexane adduct of 2,2-bis(hydroxymethyl)-1-butanol, etc. can be mentioned.

脂肪族環を有するエポキシ化合物は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、下記一般式（５）で表される化合物を含むことが特に好ましい。 It is particularly preferable that the epoxy compound having an aliphatic ring contains a compound represented by the following general formula (5) from the viewpoint of solvent resistance in low-temperature post-baking.

一般式（５）
General formula (5)

一般式（５）中、Ｒはｍ価のアルコールからｍ個の水酸基を除いた基を表し、ｍは１～６、ｎは１～３０の整数を表す。 In the general formula (5), R represents a group obtained by removing m hydroxyl groups from an m-valent alcohol, m represents an integer of 1 to 6, and n represents an integer of 1 to 30.

Ｒは、ｍ価のアルコールからｍ個の水酸基を除いた基を表す。
ｍ価のアルコールからｍ個の水酸基を除いた基は、炭素原子数２～２０のアルキル基が好ましく、直鎖状でも、分岐状でも、環状でも、それらが結合したものであってもよい。炭素原子数２～２０のアルキル基は、例えば、エチル基、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、２，２－ジメチルプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、３，３－ジメチルブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基等が挙げられる。これらの中でも、炭素原子数３～１２の分岐のアルキル基がより好ましい。 R represents a group obtained by removing m hydroxyl groups from an m-valent alcohol.
The group obtained by removing m hydroxyl groups from an m-valent alcohol is preferably an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms, and may be linear, branched, cyclic, or a combination thereof. Examples of the alkyl group having 2 to 20 carbon atoms include ethyl group, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, 2,2-dimethylpropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, 3,3 - Dimethylbutyl group, pentyl group, isopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, isooctyl group, 2-ethylhexyl group, nonyl group, isononyl group, decyl group, isodecyl group, undecyl group, dodecyl group, hexadecyl group, cyclopentyl group group, cyclopentylmethyl group, cyclohexyl group, cyclohexylmethyl group, cyclohexylmethyl group, etc. Among these, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms are more preferred.

ｍは１～６、ｎは１～３０の整数を表す。
ｍが２以上の場合、一般式（５）中のそれぞれのカッコ内の基におけるｎは同一でもよく、異なっていてもよい。 m represents an integer of 1 to 6, and n represents an integer of 1 to 30.
When m is 2 or more, n in each parenthesized group in general formula (5) may be the same or different.

一般式（５）で表される化合物は、具体的には、２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物が挙げられる。市販品としては、ダイセル社製のＥＨＰＥ－３１５０、ＥＨＰＥ－３１５０ＣＥ等が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by general formula (5) include 1,2-epoxy-4-(2-oxiranyl)cyclohexane adduct of 2,2-bis(hydroxymethyl)-1-butanol. . Commercially available products include EHPE-3150 and EHPE-3150CE manufactured by Daicel.

エポキシ化合物は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 Epoxy compounds can be used alone or in combination of two or more.

エポキシ化合物の含有量は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～２０質量％が好ましく、２～１５質量％がより好ましい。 From the viewpoint of solvent resistance during low-temperature post-baking, the content of the epoxy compound is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 2 to 15% by mass, based on 100% by mass of the nonvolatile content of the photosensitive composition.

（オキセタン化合物）
オキセタン化合物は、オキセタン基を有する公知の化合物である。オキセタン化合物は、１官能オキセタン化合物、２官能オキセタン化合物、３官能以上のオキセタン化合物が挙げられる。 (Oxetane compound)
An oxetane compound is a known compound having an oxetane group. Examples of the oxetane compound include monofunctional oxetane compounds, bifunctional oxetane compounds, and trifunctional or more functional oxetane compounds.

１官能オキセタン化合物は、例えば、（３－エチルオキセタン－３－イル）メチルアクリレート、（３－エチルオキセタン－３－イル）メチルメタクリレート、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－メタクリロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－｛［３－（トリエトキシシリル）プロポキシ］メチル｝オキセタン等が挙げられる。 Monofunctional oxetane compounds include, for example, (3-ethyloxetan-3-yl)methyl acrylate, (3-ethyloxetan-3-yl)methyl methacrylate, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-(2-methacryloxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-{[3-(triethoxy) silyl)propoxy]methyl}oxetane, and the like.

市販品は、例えば、大阪有機化学工業社製のＯＸＥ－１０，３０、東亞合成社製のＯＸＴ－１０１，２１２等が挙げられる。 Commercially available products include, for example, OXE-10,30 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. and OXT-101,212 manufactured by Toagosei Co., Ltd.

２官能オキセタン化合物は、例えば、４，４’－ビス［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシメチル］ビフェニル）、１，４－ビス［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼン、１，４－ビス｛［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、ジ［１－エチル（３－オキセタニル）］メチルエーテル、ジ［１－エチル（３－オキセタニル）］メチルエーテル３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－フェノキシメチル）オキセタン、３，７－ビス（３－オキセタニル）－５－オキサ－ノナン、１，２－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコ－スビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、１，４－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ヘキサン、ポリエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、エチレンオキシド（ＥＯ）変性ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、プロピレンオキシド（ＰＯ）変性ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＦ（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル等が挙げられる。 Bifunctional oxetane compounds include, for example, 4,4'-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]biphenyl), 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]benzene, 1,4-bis{[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxy]methyl}benzene, di[1-ethyl(3-oxetanyl)]methyl ether, di[1-ethyl(3-oxetanyl)]methyl ether 3 -Ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3-(2-ethylhexyloxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-(2-phenoxymethyl)oxetane, 3,7-bis(3-oxetanyl)- 5-Oxanonan, 1,2-bis[(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]ethane, 1,3-bis[(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]propane, ethylene glycose bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenyl bis(3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, triethylene glycol bis(3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetraethylene glycol bis(3 -ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 1,4-bis(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)butane, 1,6-bis(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)hexane, polyethylene glycol bis(3- ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ethylene oxide (EO) modified bisphenol A bis(3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, propylene oxide (PO) modified bisphenol A bis(3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, EO-modified hydrogenated bisphenol A bis(3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, PO-modified hydrogenated bisphenol A bis(3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, EO-modified hydrogenated bisphenol F (3-ethyl-3-oxetanyl) Methyl) ether and the like.

市販品は、例えば、宇部興産社製のＯＸＢＰ、ＯＸＴＰ、東亞合成社製のＯＸＴ－１２１，２２１等が挙げられる。 Commercially available products include, for example, OXBP and OXTP manufactured by Ube Industries, Ltd., and OXT-121 and 221 manufactured by Toagosei Co., Ltd.

３官能以上のオキセタン化合物は、例えば、ペンタエリスリトールトリス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサ（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジトリメチロ－ルプロパンテトラキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、オキセタン基を含有する樹脂（例えば、特許第３７８３４６２号記載のオキセタン変性フェノールノボラック樹脂等）や前述のＯＸＥ－３０のような（メタ）アクリルモノマーをラジカル重合させて得られる重合体が挙げられる。 Trifunctional or higher functional oxetane compounds include, for example, pentaerythritol tris(3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentaerythritol tetrakis(3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol hexa(3-ethyl-3 -oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol pentakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone modified dipentaerythritol hexa(3-ethyl- 3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone-modified dipentaerythritol pentakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ditrimethylolpropane tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, oxetane group-containing resin ( Examples include polymers obtained by radical polymerization of (meth)acrylic monomers such as oxetane-modified phenol novolac resin described in Japanese Patent No. 3783462) and the above-mentioned OXE-30.

オキセタン化合物の含有量は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～２０質量％が好ましく、２～１５質量％がより好ましい。 The content of the oxetane compound is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 2 to 15% by mass based on 100% by mass of nonvolatile content of the photosensitive composition, from the viewpoint of solvent resistance in low-temperature post-baking.

（メラミン化合物）
メラミン化合物は、メラミン環構造を有する化合物である。メラミン化合物は、メチロール基を有する化合物が好ましい。 (melamine compound)
A melamine compound is a compound having a melamine ring structure. The melamine compound is preferably a compound having a methylol group.

市販品は、例えば、三和ケミカル社製のニカラックＭＷ－３０ＨＭ，ＭＷ－３９０，ＭＷ－１００ＬＭ，ＭＸ－７５０ＬＭ，ＭＷ－３０Ｍ，ＭＷ－３０，ＭＷ－２２，ＭＳ－２１，ＭＳ－１１，ＭＷ－２４Ｘ，ＭＳ－００１，ＭＸ－００２，ＭＸ－７３０，ＭＸ－７５０，ＭＸ－７０８，ＭＸ－７０６，ＭＸ－０４２，ＭＸ－４５，ＭＸ－５００，ＭＸ－５２０，ＭＸ－４３，ＭＸ－４１７，ＭＸ－４１０、日本サイテックインダストリーズ社製のサイメル２３２，２３５，２３６，２３８，２８５，３００，３０１，３０３，３５０，３７０等が挙げられる。 Commercially available products include, for example, Nikalac MW-30HM, MW-390, MW-100LM, MX-750LM, MW-30M, MW-30, MW-22, MS-21, MS-11, MW manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd. -24X, MS-001, MX-002, MX-730, MX-750, MX-708, MX-706, MX-042, MX-45, MX-500, MX-520, MX-43, MX-417 , MX-410, and Cymel 232, 235, 236, 238, 285, 300, 301, 303, 350, and 370 manufactured by Nippon Cytec Industries.

メラミン化合物の含有量は、低温ポストベークでの耐溶剤性の観点から、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．０１～１０質量％が好ましく、０．１～５質量％がより好ましい。 From the viewpoint of solvent resistance in low-temperature post-baking, the content of the melamine compound is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, based on 100% by mass of the nonvolatile content of the photosensitive composition. preferable.

熱硬化性化合物（Ｉ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The thermosetting compound (I) can be used alone or in combination of two or more types.

［硬化剤（硬化促進剤）］
本発明の感光性組成物は、熱硬化性化合物（Ｉ）の硬化を補助するため、硬化剤（硬化促進剤）を併用できる。硬化剤は、例えば、アミン系化合物、酸無水物、活性エステル、カルボン酸系化合物、スルホン酸系化合物等が挙げられる。硬化剤は、例えば、アミン化合物（例えば、ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、４－（ジメチルアミノ）－Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、４－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、４－メチル－Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン等）、４級アンモニウム塩化合物（例えば、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド等）、ブロックイソシアネート化合物（例えば、ジメチルアミン等）、イミダゾール誘導体二環式アミジン化合物及びその塩（例えば、イミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、４－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－（２－シアノエチル）－２－エチル－４－メチルイミダゾール等）、リン化合物（例えば、トリフェニルホスフィン等）、Ｓ－トリアジン誘導体（例えば、２，４－ジアミノ－６－メタクリロイルオキシエチル－Ｓ－トリアジン、２－ビニル－２，４－ジアミノ－Ｓ－トリアジン、２－ビニル－４，６－ジアミノ－Ｓ－トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２，４－ジアミノ－６－メタクリロイルオキシエチル－Ｓ－トリアジン・イソシアヌル酸付加物等）等が挙げられる。 [Curing agent (curing accelerator)]
The photosensitive composition of the present invention can be used in combination with a curing agent (curing accelerator) in order to assist the curing of the thermosetting compound (I). Examples of the curing agent include amine compounds, acid anhydrides, active esters, carboxylic acid compounds, and sulfonic acid compounds. The curing agent is, for example, an amine compound (for example, dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4-(dimethylamino)-N,N-dimethylbenzylamine, 4-methoxy-N,N-dimethylbenzylamine, 4-methyl-N, N-dimethylbenzylamine, etc.), quaternary ammonium salt compounds (e.g., triethylbenzylammonium chloride, etc.), blocked isocyanate compounds (e.g., dimethylamine, etc.), imidazole derivatives, bicyclic amidine compounds and their salts (e.g., imidazole, -Methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 4-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-(2-cyanoethyl)-2-ethyl-4 -methylimidazole, etc.), phosphorus compounds (e.g., triphenylphosphine, etc.), S-triazine derivatives (e.g., 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine, 2-vinyl-2,4-diamino- S-triazine, 2-vinyl-4,6-diamino-S-triazine/isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine/isocyanuric acid adduct, etc.).

硬化剤は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The curing agent can be used alone or in combination of two or more types.

硬化剤の含有量は、熱硬化性化合物（Ｉ）１００質量部に対して、０．０１～１５質量部が好ましい。 The content of the curing agent is preferably 0.01 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the thermosetting compound (I).

［チオール系連鎖移動剤（Ｊ）］
本発明の感光性組成物は、チオール系連鎖移動剤（Ｊ）を含有できる。チオール系連鎖移動剤（Ｊ）は、重合開始剤（Ｄ）と併用すると光照射後のラジカル重合の際、酸素による重合阻害を受けにくいチイルラジカルが発生し、感光性組成物の光感度が向上する。 [Thiol chain transfer agent (J)]
The photosensitive composition of the present invention can contain a thiol chain transfer agent (J). When the thiol-based chain transfer agent (J) is used in combination with the polymerization initiator (D), thiyl radicals, which are less susceptible to polymerization inhibition by oxygen, are generated during radical polymerization after light irradiation, and the photosensitivity of the photosensitive composition is improved. .

チオール系連鎖移動剤（Ｊ）は、例えば、ｎ－ブチルメルカプタン、ｎ－ペンチルメルカプタン、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４－ブタンジオールビスチオプロピオネート、１，４－ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１，４－ジメチルメルカプトベンゼン、２、４、６－トリメルカプト－ｓ－トリアジン、２－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－４，６－ジメルカプト－ｓ－トリアジン、３－メルカプトプロピオン酸、２－メルカプトプロピオン酸、チオグリコール酸、メルカプトこはく酸、２－メルカプト安息香酸、１１－メルカプトウンデカン酸、４－メルカプトニコチン酸、２－メルカプトエタノール、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール、２－メルカプトイミダゾール、２－メルカプト－３－ピリジノール等が挙げられる。これらの中でも、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネートが好ましい。 Examples of the thiol chain transfer agent (J) include n-butylmercaptan, n-pentylmercaptan, hexanedithiol, decanedithiol, 1,4-butanediol bisthiopropionate, and 1,4-butanediol bisthioglycolate. , ethylene glycol bisthioglycolate, ethylene glycol bisthiopropionate, trimethylolpropane tristhioglycolate, trimethylolpropane tristhiopropionate, trimethylolpropane tris(3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tetrakisthioglycolate pentaerythritol tetrakisthiopropionate, trimercaptopropionate tris(2-hydroxyethyl) isocyanurate, 1,4-dimethylmercaptobenzene, 2,4,6-trimercapto-s-triazine, 2-(N, N-dibutylamino)-4,6-dimercapto-s-triazine, 3-mercaptopropionic acid, 2-mercaptopropionic acid, thioglycolic acid, mercaptosuccinic acid, 2-mercaptobenzoic acid, 11-mercaptoundecanoic acid, 4- Examples include mercaptonicotinic acid, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 2-mercaptoimidazole, and 2-mercapto-3-pyridinol. Among these, ethylene glycol bisthiopropionate, trimethylolpropane tristhiopropionate, and pentaerythritol tetrakisthiopropionate are preferred.

チオール系連鎖移動剤（Ｊ）は、チオール基（ＳＨ基）を２以上有する多官能チオールが好ましく、４以上有する多官能チオールがより好ましい。官能基数が増えると膜の表面から最深部まで光硬化し易くなる。 The thiol chain transfer agent (J) is preferably a polyfunctional thiol having two or more thiol groups (SH groups), more preferably a polyfunctional thiol having four or more. As the number of functional groups increases, it becomes easier to photocure from the surface of the film to the deepest part.

チオール系連鎖移動剤（Ｊ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The thiol chain transfer agent (J) can be used alone or in combination of two or more types.

チオール系連鎖移動剤（Ｊ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、１～１０質量％が好ましく、２～８質量％がより好ましい。 The content of the thiol-based chain transfer agent (J) is preferably 1 to 10% by weight, more preferably 2 to 8% by weight based on 100% by weight of the nonvolatile content of the photosensitive composition.

［重合禁止剤（Ｋ）］
本発明の感光性組成物は、重合禁止剤（Ｋ）を含有できる。 [Polymerization inhibitor (K)]
The photosensitive composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor (K).

重合禁止剤（Ｋ）は、例えば、カテコール、レゾールシノール、１，４－ヒドロキノン、２－メチルカテコール、３－メチルカテコール、４－メチルカテコール、２－エチルカテコール、３－エチルカテコール、４－エチルカテコール、２－プロピルカテコール、３－プロピルカテコール、４－プロピルカテコール、２－ｎ－ブチルカテコール、３－ｎ－ブチルカテコール、４－ｎ－ブチルカテコール、２－ｔ－ブチルカテコール、３－ｔ－ブチルカテコール、４－ｔ－ブチルカテコール、３，５－ジ－ｔ－ブチルカテコール等のアルキルカテコール系化合物、２－メチルレゾールシノール、４－メチルレゾールシノール、２－エチルレゾールシノール、４－エチルレゾールシノール、２－プロピルレゾールシノール、４－プロピルレゾールシノール、２－ｎ－ブチルレゾールシノール、４－ｎ－ブチルレゾールシノール、２－ｔ－ブチルレゾールシノール、４－ｔ－ブチルレゾールシノール等のアルキルレゾールシノール系化合物、メチルヒドロキノン、エチルヒドロキノン、プロピルヒドロキノン、ｔ－ブチルヒドロキノン、２，５－ジ－ｔ－ブチルヒドロキノン等のアルキルヒドロキノン系化合物、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリベンジルホスフィン等のホスフィン化合物、トリオクチルホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンオキサイドなどのホスフィンオキサイド化合物、トリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト等のホスファイト化合物、ピロガロール、フロログルシン等が挙げられる。 Examples of the polymerization inhibitor (K) include catechol, resorcinol, 1,4-hydroquinone, 2-methylcatechol, 3-methylcatechol, 4-methylcatechol, 2-ethylcatechol, 3-ethylcatechol, and 4-ethylcatechol. , 2-propylcatechol, 3-propylcatechol, 4-propylcatechol, 2-n-butylcatechol, 3-n-butylcatechol, 4-n-butylcatechol, 2-t-butylcatechol, 3-t-butylcatechol , 4-t-butylcatechol, alkylcatechol compounds such as 3,5-di-t-butylcatechol, 2-methylresorcinol, 4-methylresorcinol, 2-ethylresorcinol, 4-ethylresorcinol, 2 - Alkylresorcinol compounds such as propylresorcinol, 4-propylresorcinol, 2-n-butylresorcinol, 4-n-butylresorcinol, 2-t-butylresorcinol, 4-t-butylresorcinol, Alkylhydroquinone compounds such as methylhydroquinone, ethylhydroquinone, propylhydroquinone, t-butylhydroquinone, 2,5-di-t-butylhydroquinone, tributylphosphine, trioctylphosphine, tricyclohexylphosphine, triphenylphosphine, tribenzylphosphine, etc. , phosphine compounds such as trioctylphosphine oxide and triphenylphosphine oxide, phosphite compounds such as triphenylphosphite and trisnonylphenylphosphite, pyrogallol, and phloroglucin.

重合禁止剤（Ｋ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．０１～０．４質量％が好ましい。 The content of the polymerization inhibitor (K) is preferably 0.01 to 0.4% by mass based on 100% by mass of the nonvolatile content of the photosensitive composition.

［紫外線吸収剤（Ｌ）］
本発明の感光性組成物は、紫外線吸収剤（Ｌ）を含有できる。 [Ultraviolet absorber (L)]
The photosensitive composition of the present invention can contain an ultraviolet absorber (L).

紫外線吸収剤（Ｌ）は、紫外線吸収機能を有する有機化合物であり、ベンゾトリアゾール系有機化合物、トリアジン系有機化合物、ベンゾフェノン系有機化合物、サリチル酸エステル系有機化合物、シアノアクリレート系有機化合物、及びサリシレート系有機化合物等が挙げられる。 The ultraviolet absorber (L) is an organic compound having an ultraviolet absorption function, and includes benzotriazole-based organic compounds, triazine-based organic compounds, benzophenone-based organic compounds, salicylic acid ester-based organic compounds, cyanoacrylate-based organic compounds, and salicylate-based organic compounds. Examples include compounds.

ベンゾトリアゾール系化合物は、例えば、２－（５メチル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－［２－ヒドロキシ－３，５－ビス（α，α－ジメチルベンジル）フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－（３－ｔブチル－５－メチル－２－ヒドロキシフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－ｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、５％の２－メトキシ－１－メチルエチルアセテートと９５％のベンゼンプロパン酸，３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシ，Ｃ７－９側鎖及び直鎖アルキルエステルの混合物、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－６－（１－メチル－１－フェニルエチル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール、メチル３－（３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－５－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール、２，２’－メチレンビス［６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール］、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－ｐ－クレゾール、２－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－６－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２－（３，５－ジ－ｔ－アミル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－［２－ヒドロキシ－５－［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、オクチル－３－［３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）フェニル］プロピオネート、２－エチルヘキシル－３－［３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）フェニル］プロピオネートが挙げられる。 Examples of benzotriazole compounds include 2-(5methyl-2-hydroxyphenyl)benzotriazole, 2-(2-hydroxy-5-t-butylphenyl)-2H-benzotriazole, 2-[2-hydroxy-3 ,5-bis(α,α-dimethylbenzyl)phenyl]-2H-benzotriazole, 2-(3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(2'- Hydroxy-5'-t-octylphenyl)benzotriazole, 5% 2-methoxy-1-methylethyl acetate and 95% benzenepropanoic acid, 3-(2H-benzotriazol-2-yl)-(1,1- dimethylethyl)-4-hydroxy, a mixture of C7-9 side-chain and linear alkyl esters, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(1-methyl-1-phenylethyl)phenol, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-6-(1-methyl-1-phenylethyl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol, methyl 3-(3-(2H -benzotriazol2-yl)-5-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate/polyethylene glycol 300 reaction product, 2-(2H-benzotriazol2-yl)-4-(1,1,3, 3-tetramethylbutyl)phenol, 2,2'-methylenebis[6-(2H-benzotriazol2-yl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol], 2-(2H- benzotriazol-2-yl)-p-cresol, 2-(5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)-6-t-butyl-4-methylphenol, 2-(3,5-di-t-amyl) -2-hydroxyphenyl)benzotriazole, 2-[2-hydroxy-5-[2-(methacryloyloxy)ethyl]phenyl]-2H-benzotriazole, octyl-3-[3-tert-butyl-4-hydroxy- 5-(5-chloro-2H-benzotriazol2-yl)phenyl]propionate, 2-ethylhexyl-3-[3-tert-butyl-4-hydroxy-5-(5-chloro-2H-benzotriazol2-yl) ) phenyl] propionate.

市販品は、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のＴＩＮＵＶＩＮＰ，ＰＳ，２３４，３２６，３２９，３８４－２，９００，９２８，９９－２，１１３０、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＬＡ－２９，ＬＡ－３１ＲＧ，ＬＡ－３２，ＬＡ－３６、ケミプロ化成社製のＫＥＭＩＳＯＲＢ７１，７３，７４，７９，２７９、大塚化学社製のＲＵＶＡ－９３等が挙げられる。 Commercially available products include, for example, TINUVIN P, PS, 234, 326, 329, 384-2, 900, 928, 99-2, 1130 manufactured by BASF Japan, and ADEKA STAB LA-29, LA-31RG, LA manufactured by ADEKA. -32, LA-36, KEMISORB71, 73, 74, 79, 279 manufactured by ChemiPro Kasei Co., Ltd., and RUVA-93 manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.

トリアジン系化合物は、例えば、２，４－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－６－（２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクチルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－［４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－５－［３－（ドデシルオキシ）－２－ヒドロキシプロポキシ］フェノール、２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジンと（２－エチルヘキシル）－グリシド酸エステルの反応生成物、２，４－ビス「２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル」－６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（ヘキシルオキシ）フェノール、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［２－（２－エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］フェノール、２，４，６－トリス（２－ヒドロキシ－４－ヘキシルオキシ－３－メチルフェニル）－１，３，５－トリアジン等が挙げられる。 Examples of triazine compounds include 2,4-bis(2,4-dimethylphenyl)-6-(2-hydroxy-4-n-octyloxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2-[4, 6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-[3-(dodecyloxy)-2-hydroxypropoxy]phenol, 2-(2,4-dihydroxy Reaction product of phenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine and (2-ethylhexyl)-glycidic acid ester, 2,4-bis(2-hydroxy-4 -butoxyphenyl"-6-(2,4-dibutoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-( hexyloxy)phenol, 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-[2-(2-ethylhexanoyloxy)ethoxy]phenol, 2,4,6- Examples include tris(2-hydroxy-4-hexyloxy-3-methylphenyl)-1,3,5-triazine.

市販品は、例えば、ケミプロ化成社製のＫＥＭＩＳＯＲＢ１０２、ＢＡＳＦジャパン社製のＴＩＮＵＶＩＮ４００，４０５，４６０，４７７，４７９，１５７７ＥＤ、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＬＡ－４６，ＬＡ－Ｆ７０、サンケミカル社製のＣＹＡＳＯＲＢＵＶ－１１６４等が挙げられる。 Commercially available products include, for example, KEMISORB102 manufactured by ChemiPro Kasei, TINUVIN 400, 405, 460, 477, 479, 1577ED manufactured by BASF Japan, ADEKA STAB LA-46, LA-F70 manufactured by ADEKA, and CYASORB manufactured by Sun Chemical. Examples include UV-1164.

ベンゾフェノン系化合物は、例えば、２，４－ジ－ヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン５－スルホン酸－３水温、２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクトキシベンゾフェノーン、２，２’－ジ－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシベンゾフェノン、４－ドデシロキシ－２－ヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクタデシロキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－２’－カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。 Examples of benzophenone compounds include 2,4-di-hydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone 5-sulfonic acid-3, 2-hydroxy-4-n-oct Xybenzophenone, 2,2'-di-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 4-dodecyloxy-2-hydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octa Desyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2,2',4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-2'-carboxybenzophenone, etc. .

市販品は、例えば、ケミプロ化成社製のＫＥＭＩＳＯＲＢ１０，１１，１１Ｓ，１２，１１１、シプロ化成社製のＳＥＥＳＯＲＢ１０１，１０７、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブ１４１３、サンケミカル社製のＵＶ－１２等が挙げられる。 Examples of commercially available products include KEMISORB10, 11, 11S, 12,111 manufactured by Chemipro Kasei Co., Ltd., SEESORB 101, 107 manufactured by Shipro Kasei Co., Ltd., ADEKA STAB 1413 manufactured by ADEKA Co., Ltd., and UV-12 manufactured by Sun Chemical Co., Ltd. .

サリチル酸エステル系化合物は、例えば、サリチル酸フェニル、サリチル酸ｐ－オクチルフェニル、サリチル酸ｐ－ｔｅｒｔブチルフェニル等が挙げられる。 Examples of salicylic acid ester compounds include phenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, and p-tertbutylphenyl salicylate.

紫外線吸収剤（Ｌ）の含有量は、重合開始剤（Ｄ）と紫外線吸収剤（Ｌ）との合計１００質量％中、５～７０質量％が好ましい。 The content of the ultraviolet absorber (L) is preferably 5 to 70% by mass out of the total 100% by mass of the polymerization initiator (D) and the ultraviolet absorber (L).

［酸化防止剤（Ｍ）］
本発明の感光性組成物は、酸化防止剤（Ｍ）を含有できる。酸化防止剤（Ｍ）は、感光性組成物中の重合開始剤（Ｄ）や熱硬化性化合物（Ｉ）が、ポストベークやＩＴＯアニール時の熱によって酸化され、黄変することを防ぐ。 [Antioxidant (M)]
The photosensitive composition of the present invention can contain an antioxidant (M). The antioxidant (M) prevents the polymerization initiator (D) and thermosetting compound (I) in the photosensitive composition from being oxidized and yellowing by heat during post-baking or ITO annealing.

酸化防止剤（Ｍ）は、例えば、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、リン系、イオウ系及びヒドロキシルアミン系の化合物等が挙げられる。これらの中でも、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤が好ましい。 Examples of the antioxidant (M) include hindered phenol-based, hindered amine-based, phosphorus-based, sulfur-based, and hydroxylamine-based compounds. Among these, hindered phenol-based antioxidants, hindered amine-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and sulfur-based antioxidants are preferred.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、例えば、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、１，１，３－トリス－（２’－メチル－４’－ヒドロキシ－５’－ｔ－ブチルフェニル）－ブタン、４，４’－ブチリデン－ビス－（２－ｔ－ブチル－５－メチルフェノール）、３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリル、ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，９－ビス［２－［３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ］－１，１－ジメチルエチル］－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルメチル）－２，４，６－トリメチルベンゼン、１，３，５－トリス（３－ヒドロキシ－４－ｔ－ブチル－２，６－ジメチルベンジル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、２，２’－メチレンビス（６－ｔ－ブチル－４－エチルフェノール）、２，２’－チオジエチルビス－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）－プロピオネート、Ｎ，Ｎ－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナムアミド）、ｉ－オクチル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、４，６－ビス（ドデシルチオメチル）－ｏ－クレゾール、３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのカルシウム塩、４，６－ビス（オクチルチオメチル）－ｏ－クレゾール、ビス［３－（３－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）プロピオン酸］エチレンビスオキシビスエチレン、１，６－ヘキサンジオ－ルビス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，４－ビス－（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、２，２’－チオ－ビス－（６－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール）、２，５－ジ－ｔ－アミル－ヒドロキノン、２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－ノニルフェノール、２，２’－イソブチリデン－ビス－（４，６－ジメチル－フェノール）、２，２’－メチレン－ビス－（６－（１－メチル－シクロヘキシル）－ｐ－クレゾール）、２，４－ジメチル－６－（１－メチル－シクロヘキシル）－フェノール等が挙げられる。 The hindered phenolic antioxidant is, for example, 1,3,5-tris(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)-1,3,5-triazine-2,4,6(1H ,3H,5H)-trione, 1,1,3-tris-(2'-methyl-4'-hydroxy-5'-t-butylphenyl)-butane, 4,4'-butylidene-bis-(2- t-butyl-5-methylphenol), stearyl 3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate, pentaerythritol tetrakis [3-(3,5-di-t-butyl-4 -hydroxyphenyl)propionate, 3,9-bis[2-[3-(3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionyloxy]-1,1-dimethylethyl]-2,4,8 , 10-tetraoxaspiro[5.5]undecane, 1,3,5-tris(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylmethyl)-2,4,6-trimethylbenzene, 1,3 ,5-tris(3-hydroxy-4-t-butyl-2,6-dimethylbenzyl)-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, 2,2' -Methylenebis(6-t-butyl-4-ethylphenol), 2,2'-thiodiethylbis-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)-propionate, N,N-hexamethylenebis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), i-octyl-3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate, 4,6-bis (dodecylthiomethyl)-o-cresol, calcium salt of 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzylphosphonic acid monoethyl ester, 4,6-bis(octylthiomethyl)-o-cresol, bis[ 3-(3-Methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl)propionic acid] ethylenebisoxybisethylene, 1,6-hexanediolbis[3-(3,5-di-t-butyl-4- hydroxyphenyl)propionate, 2,4-bis-(n-octylthio)-6-(4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino)-1,3,5-triazine, 2,2'-thio- Bis-(6-t-butyl-4-methylphenol), 2,5-di-t-amyl-hydroquinone, 2,6-di-t-butyl-4-nonylphenol, 2,2'-isobutylidene-bis- (4,6-dimethyl-phenol), 2,2'-methylene-bis-(6-(1-methyl-cyclohexyl)-p-cresol), 2,4-dimethyl-6-(1-methyl-cyclohexyl) - Examples include phenol.

市販品は、例えば、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＡＯ－２０，ＡＯ－３０，ＡＯ－４０，ＡＯ－５０，ＡＯ－６０，ＡＯ－８０，ＡＯ－３３０、ケミプロ社製のＫＥＭＩＮＯＸ１０１，１７９，７６，９４２５、ＢＡＳＦジャパン社製のＩＲＧＡＮＯＸ１０１０，１０３５，１０７６，１０９８，１１３５，１３３０，１７２６，１４２５ＷＬ，１５２０Ｌ，２４５，２５９，３１１４，５０５７，５６５、サンケミカル社製のサイアノックスＣＹ－１７９０，ＣＹ－２７７７等が挙げられる。 Commercially available products include, for example, Adeka Stab AO-20, AO-30, AO-40, AO-50, AO-60, AO-80, AO-330 manufactured by ADEKA, and KEMINOX101, 179, 76, 9425 manufactured by Chemipro. , IRGANOX 1010, 1035, 1076, 1098, 1135, 1330, 1726, 1425WL, 1520L, 245, 259, 3114, 5057, 565 manufactured by BASF Japan, Syanox CY-1790, CY-2777 manufactured by Sun Chemical, etc. Can be mentioned.

ヒンダードアミン系酸化防止剤は、例えば、テトラキス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－１，２，３，４－ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）１，２，３，４－ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１－ウンデカノキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）カルボネート、１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジルメタクリレート、２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジルメタクリレート、コハク酸ジメチルと１－（２－ヒドロキシエチル）－４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジンとの重縮合物、ポリ［［６－［（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ］－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル］－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］－ヘキサメチレン－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］］、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジンエタノールと３，５，５－トリメチルヘキサン酸のエステル、Ｎ，Ｎ’－４，７－テトラキス〔４，６－ビス｛Ｎ－ブチル－Ｎ－（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）アミノ｝－１，３，５－トリアジン－２－イル〕－４，７－ジアザデカン－１，１０－ジアミン、デカン二酸ビス（２，２，６，６－テトラメチル－１－（オクチルオキシ）－４－ピペリジニル）エステル，１，１－ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピリペリジル）［［３，５－ビス（１，１ジメチルエチル）－４－ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネートメチル１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピリペリジルセバケート、ポリ［［６－モルホリノ－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル］－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］－ヘキサメチレン－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］］、２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル－Ｃ１２－２１およびＣ１８不飽和脂肪酸エステル、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－１，６－ヘキサメチレンジアミン、２－メチル－２－（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）アミノ－Ｎ－（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）プロピオンアミド等が挙げられる。 Examples of hindered amine antioxidants include tetrakis(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl)-1,2,3,4-butanetetracarboxylate, tetrakis(2,2,6,6 -tetramethyl-4-piperidyl) 1,2,3,4-butanetetracarboxylate, bis(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis(2,2,6,6 -tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis(1-undecanoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)carbonate, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl methacrylate , 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl methacrylate, polycondensate of dimethyl succinate and 1-(2-hydroxyethyl)-4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine , poly[[6-[(1,1,3,3-tetramethylbutyl)amino]-s-triazine-2,4-diyl]-[(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) ) imino]-hexamethylene-[(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)imino]], 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol and 3, Ester of 5,5-trimethylhexanoic acid, N,N'-4,7-tetrakis[4,6-bis{N-butyl-N-(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) amino}-1,3,5-triazin-2-yl]-4,7-diazadecane-1,10-diamine, bis(2,2,6,6-tetramethyl-1-(octyloxy) decanedioate) -4-piperidinyl) ester, reaction product of 1,1-dimethylethyl hydroperoxide and octane, bis(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-pyriperidyl)[[3,5-bis(1, 1dimethylethyl)-4-hydroxyphenyl]methyl]butyl malonate methyl 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-pyriperidyl sebacate, poly[[6-morpholino-s-triazine-2,4 -diyl]-[(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)imino]-hexamethylene-[(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)imino]], 2, 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl-C12-21 and C18 unsaturated fatty acid ester, N,N'-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-1,6- Hexamethylene diamine, 2-methyl-2-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)amino-N-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)propionamide, etc. Can be mentioned.

市販品は、例えば、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＬＡ－５２，ＬＡ－５７，ＬＡ－６３Ｐ，ＬＡ－６８，ＬＡ－７２，ＬＡ－７７Ｙ，ＬＡ－７７Ｇ，ＬＡ－８１，ＬＡ－８２，ＬＡ－８７，ＬＡ－４０２Ｆ，ＬＡ－５０２ＸＰ、ケミプロ化成社製のＫＡＭＩＳＴＡＢ２９，６２，７７，９４、ＢＡＳＦジャパン社製のＴｉｎｕｖｉｎ１１１ＦＤＬ，１２３，１４４，２４９，２９２，５１００、サンケミカル社製のサイアソ－ブＵＶ－３３４６，ＵＶ－３５２９，ＵＶ－３８５３等が挙げられる。 Commercially available products include, for example, ADEKA STAB LA-52, LA-57, LA-63P, LA-68, LA-72, LA-77Y, LA-77G, LA-81, LA-82, LA-87. , LA-402F, LA-502XP, KAMISTAB29, 62, 77, 94 manufactured by Chemipro Kasei Co., Ltd., Tinuvin111FDL, 123, 144, 249, 292, 5100 manufactured by BASF Japan Co., Ltd., Siasorb UV-3346 manufactured by Sun Chemical Co., Ltd. , UV-3529, UV-3853, etc.

リン系酸化防止剤は、例えば、ジ（２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、２，２’－メチレンビス（４，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）２－エチルヘキシルホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、テトラ（Ｃ１２～Ｃ１５アルキル）－４，４’－イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、ジフェニルモノ（２－エチルヘキシル）ホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、トリス（イソデシル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－４，４－ビフェニルジフォスホニト、トリス（トリデシル）ホスファイト、フェニルイソオクチルホスファイト、フェニルイソデシルホスファイト、フェニルジ（トリデシル）ホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイト、ジフェニルトリデシルホスファイト、４，４’－イソプロピリデンジフェノールアルキルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、トリスジノニルフェニルホスファイト、トリス（ビフェニル）ホスファイト、ジ（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールＡペンタエリスリトールジホスファイト、テトラトリデシル４，４’－ブチリデンビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサトリデシル１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジルホスファイトジエチルエステル、ソジウムビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、ソジウム－２，２－メチレン－ビス（４，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－ホスファイト、１，３－ビス（ジフェノキシフォスフォニロキシ）－ベンゼン、亜リン酸エチルビス（２，４－ジｔ－ブチル－６－メチルフェニル）等が挙げられる。 Examples of phosphorus antioxidants include di(2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl)pentaerythritol diphosphite, distearylpentaerythritol diphosphite, and 2,2'-methylenebis(4,6 -di-t-butylphenyl)2-ethylhexylphosphite, tris(2,4-di-t-butylphenyl)phosphite, tris(nonylphenyl)phosphite, tetra(C12-C15 alkyl)-4,4' -Isopropylidene diphenyl diphosphite, diphenylmono(2-ethylhexyl) phosphite, diphenylisodecyl phosphite, tris(isodecyl) phosphite, triphenyl phosphite, tetrakis(2,4-di-t-butylphenyl)- 4,4-biphenyldiphosphonite, tris(tridecyl)phosphite, phenylisooctylphosphite, phenylisodecylphosphite, phenyldi(tridecyl)phosphite, diphenylisooctylphosphite, diphenyltridecylphosphite, 4,4 '-Isopropylidene diphenol alkyl phosphite, trisnonylphenyl phosphite, trisdinonylphenyl phosphite, tris(biphenyl) phosphite, di(2,4-di-t-butylphenyl)pentaerythritol diphosphite, di (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite, phenylbisphenol A pentaerythritol diphosphite, tetratridecyl 4,4'-butylidenebis(3-methyl-6-t-butylphenol) diphosphite, hexatridecyl 1,1,3- Tris(2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl)butane triphosphite, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzylphosphite diethyl ester, sodium bis(4-t-butylphenyl) phosphite phyto, sodium-2,2-methylene-bis(4,6-di-t-butylphenyl)-phosphite, 1,3-bis(diphenoxyphosphonyloxy)-benzene, ethylbis(2,4-phosphite) -di-t-butyl-6-methylphenyl) and the like.

市販品は、例えば、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＰＥＰ－３６，ＰＥＰ－８，ＨＰ－１０，２１１２，１１７８，１５００，Ｃ，１３５Ａ，３０１０，ＴＰＰ、ＢＡＳＦジャパン社製のＩＲＧＡＦＯＳ１６８、クラリアントケミカルズ社製のＨｏｓｔａｎｏｘＰ－ＥＰＱ等が挙げられる。 Commercially available products include, for example, ADEKA STAB PEP-36, PEP-8, HP-10, 2112, 1178, 1500, C, 135A, 3010, TPP manufactured by ADEKA, IRGAFOS168 manufactured by BASF Japan, and HostanoxP manufactured by Clariant Chemicals. - EPQ etc.

イオウ系酸化防止剤は、例えば、２，２－ビス｛〔３－（ドデシルチオ）－１－オキソプロポキシ〕メチル｝プロパン－１，３－ジイルビス〔３－（ドデシルチオ）プロピオネート〕、３，３’－チオビスプロピオン酸ジトリデシル、２，２－チオ－ジエチレンビス〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４－ビス〔（オクチルチオ）メチル〕－ｏ－クレゾール、２，４－ビス〔（ラウリルチオ）メチル〕－ｏ－クレゾール等が挙げられる。 Sulfur-based antioxidants include, for example, 2,2-bis{[3-(dodecylthio)-1-oxopropoxy]methyl}propane-1,3-diylbis[3-(dodecylthio)propionate], 3,3'- Ditridecyl thiobispropionate, 2,2-thio-diethylenebis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 2,4-bis[(octylthio)methyl]-o- Examples include cresol, 2,4-bis[(laurylthio)methyl]-o-cresol, and the like.

市販品は、例えば、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＡＯ－４１２Ｓ，ＡＯ－５０３、ケミプロ化成社製のＫＥＭＩＮＯＸＰＬＳ等が挙げられる。 Examples of commercially available products include ADEKA STAB AO-412S and AO-503 manufactured by ADEKA, and KEMINOXPLS manufactured by ChemiPro Kasei.

酸化防止剤（Ｍ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The antioxidant (M) can be used alone or in combination of two or more kinds.

酸化防止剤（Ｍ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～５．０質量％が好ましい。 The content of the antioxidant (M) is preferably 0.5 to 5.0% by mass based on 100% by mass of the nonvolatile content of the photosensitive composition.

［レベリング剤（Ｎ）］
本発明の感光性組成物は、レベリング剤（Ｎ）を含有できる。これにより、塗工時の基板に対する濡れ性及び乾燥性が向上する。 [Leveling agent (N)]
The photosensitive composition of the present invention can contain a leveling agent (N). This improves the wettability and drying properties for the substrate during coating.

レベリング剤（Ｎ）は、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。 Examples of the leveling agent (N) include silicone surfactants, fluorine surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants, and amphoteric surfactants.

シリコーン系界面活性剤は、例えば、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマーや、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。 Examples of silicone surfactants include linear polymers comprising siloxane bonds and modified siloxane polymers having organic groups introduced into side chains or terminals.

市販品は、例えば、ビックケミー社製のＢＹＫ－３００，３０６，３１０，３１３，３１５Ｎ，３２０，３２２，３２３，３３０，３３１，３３３，３４２，３４５，３４６，３４７，３４８，３４９，３７０，３７７，３７８，３４５５，ＵＶ３５１０，３５７０、東レ・ダウコ－ニング社製のＦＺ－７００２，２１１０，２１２２，２１２３，２１９１，５６０９、信越化学工業社製のＸ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、ＫＦ－３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１等が挙げられる。 Commercially available products include, for example, BYK-300, 306, 310, 313, 315N, 320, 322, 323, 330, 331, 333, 342, 345, 346, 347, 348, 349, 370, 377, manufactured by BYK Chemie. 378, 3455, UV3510, 3570, FZ-7002, 2110, 2122, 2123, 2191, 5609 manufactured by Dow Corning Toray, X-22-4952, X-22-4272, X- manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 22-6266, KF-351A, KF-354L, KF-355A, KF-945, KF-640, KF-642, KF-643, X-22-4515, KF-6004, KP-341, etc.

フッ素系界面活性剤は、例えば、フルオロカーボン鎖を有する界面活性剤又はレベリング剤が挙げられる。 Examples of the fluorosurfactant include a surfactant or a leveling agent having a fluorocarbon chain.

市販品は、例えば、ＡＧＣセイミケミカル社製のサーフロンＳ－２４２，２４３，４２０，６１１，６５１，３８６、ＤＩＣ社製のメガファックＦ－２５３，４７７，５５１，５５２，５５５，５５８，５６０，５７０，５７５，５７６、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１、住友スリーエム社製のＦＣ－４４３０，４４３２、三菱マテリアル電子化成社製のＥＦ－ＰＰ３１Ｎ０９、ＥＦ－ＰＰ３３Ｇ１、ＥＦ－ＰＰ３２Ｃ１、ネオス社製フタージェントの６０２Ａ等が挙げられる。 Commercially available products include, for example, Surflon S-242, 243, 420, 611, 651, 386 manufactured by AGC Seimi Chemical, and Megafac F-253, 477, 551, 552, 555, 558, 560, 570 manufactured by DIC. , 575, 576, R-40-LM, R-41, RS-72-K, DS-21, FC-4430, 4432 manufactured by Sumitomo 3M, EF-PP31N09, EF-PP33G1 manufactured by Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd. , EF-PP32C1, and Futergent 602A manufactured by Neos.

ノニオン性界面活性剤は、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンミリステルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルドデシルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシフェニレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレントリベンジルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシアルキレンアルケニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテ－ト、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート、ソルビタンセスキオレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテ－ト、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンソルビタントリイソステアレート、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット、グリセロ－ルモノステアレート、グリセロ－ルモノオレート、ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ポリエチレングリコールモノオレート、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノールアミド、アルキルイミダゾリン等が挙げられる。 Nonionic surfactants include, for example, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene myristele ether, polyoxyethylene octyl Dodecyl ether, polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyphenylene distyrenated phenyl ether, polyoxyethylene tribenzylphenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene glycol, polyoxyalkylene alkenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene Alkyl ether phosphate, sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monostearate, sorbitan distearate, sorbitan tristearate, sorbitan monooleate, sorbitan triolate, sorbitan sesquiolate, polyoxyethylene sorbitan mono Laurate, polyoxyethylene sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan tristearate, polyoxyethylene sorbitan monooleate, polyoxyethylene sorbitan triisostearate, polyoxytetraoleate Ethylene sorbitol, glycerol monostearate, glycerol monooleate, polyethylene glycol monolaurate, polyethylene glycol monostearate, polyethylene glycol distearate, polyethylene glycol monooleate, polyoxyethylene hydrogenated castor oil, polyoxyethylene alkylamine, alkyl Examples include alkanolamide and alkylimidazoline.

市販品は、例えば、花王社製のエマルゲン１０３，１０４Ｐ，１０６，１０８，１０９Ｐ，１２０，１２３Ｐ，１３０Ｋ，１４７，１５０，２１０Ｐ，２２０，３０６Ｐ，３２０Ｐ，３５０，４０４，４０８，４０９ＰＶ，４２０，４３０，７０５，７０７，７０９，１１０８，１１１８Ｓ－７０，１１３５Ｓ－７０，１１５０Ｓ－６０，２０２０Ｇ－ＨＡ，２０２５Ｇ，ＬＳ－１０６，ＬＳ－１１０，ＬＳ－１１４，ＭＳ－１１０，Ａ－６０，Ａ－９０，Ｂ－６６，ＰＰ－２９０、ラテムルＰＤ－４２０，ＰＤ－４３０，ＰＤ－４３０Ｓ，ＰＤ－４５０、レオドールＳＰ－Ｌ１０，ＳＰ－Ｐ１０，ＳＰ－Ｓ１０Ｖ，ＳＰ－Ｓ２０，ＳＰ－Ｓ３０Ｖ，ＳＰ－Ｏ１０Ｖ，ＳＰ－Ｏ３０Ｖ、スーパーＳＰ－Ｌ１０，ＡＳ－１０Ｖ，ＡＯ－１０Ｖ，ＡＯ－１５Ｖ，ＴＷ－Ｌ１２０，ＴＷ－Ｌ１０６，ＴＷ－Ｐ１２０，ＴＷ－Ｓ１２０Ｖ，ＴＷ－Ｓ３２０Ｖ，ＴＷ－Ｏ１２０Ｖ，ＴＷ－Ｏ１０６Ｖ，ＴＷ－ＩＳ３９９Ｃ、スーパーＴＷ－Ｌ１２０，４３０Ｖ，４４０Ｖ，４６０Ｖ，ＭＳ－５０，ＭＳ－６０，ＭＯ－６０，ＭＳ－１６５Ｖ、エマノーン１１１２，３１９９Ｖ，３２９９Ｖ，３２９９ＲＶ，４１１０，ＣＨ－２５，ＣＨ－４０，ＣＨ－６０（Ｋ），アミ－ト１０２，１０５，１０５Ａ，３０２，３２０、アミノーンＰＫ－０２Ｓ、Ｌ－０２、ホモゲノールＬ－９５、ＡＤＥＫＡ社製のアデカプルロニック（登録商標）Ｌ－２３，３１，４４，６１，６２，６４，７１，７２，１０１，１２１、ＴＲ－７０１，７０２，７０４，９１３Ｒ、共栄社化学社製の（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフロ－Ｎｏ．７５，Ｎｏ．９０，Ｎｏ．９５等が挙げられる。 Commercially available products include, for example, Emulgen 103, 104P, 106, 108, 109P, 120, 123P, 130K, 147, 150, 210P, 220, 306P, 320P, 350, 404, 408, 409PV, 420, 430 manufactured by Kao Corporation. , 705, 707, 709, 1108, 1118S-70, 1135S-70, 1150S-60, 2020G-HA, 2025G, LS-106, LS-110, LS-114, MS-110, A-60, A-90 , B-66, PP-290, Latemur PD-420, PD-430, PD-430S, PD-450, Rheodor SP-L10, SP-P10, SP-S10V, SP-S20, SP-S30V, SP-O10V , SP-O30V, Super SP-L10, AS-10V, AO-10V, AO-15V, TW-L120, TW-L106, TW-P120, TW-S120V, TW-S320V, TW-O120V, TW-O106V, TW-IS399C, Super TW-L120, 430V, 440V, 460V, MS-50, MS-60, MO-60, MS-165V, Emanon 1112, 3199V, 3299V, 3299RV, 4110, CH-25, CH-40, CH-60 (K), Amito 102, 105, 105A, 302, 320, Aminone PK-02S, L-02, Homogenol L-95, ADEKA Pluronic (registered trademark) L-23, 31, 44,61,62,64,71,72,101,121, TR-701,702,704,913R, (meth)acrylic acid-based (co)polymer Polyflo-No. manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. 75, No. 90, No. 95 etc. are mentioned.

カチオン性界面活性剤は、例えばアルキルアミン塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライドなどのアルキル４級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物が挙げられる。 Examples of the cationic surfactant include alkyl amine salts, alkyl quaternary ammonium salts such as lauryltrimethylammonium chloride, stearyltrimethylammonium chloride, and cetyltrimethylammonium chloride, and ethylene oxide adducts thereof.

市販品は、例えば、花王社製のアセタミン２４、コータミン２４Ｐ、６０Ｗ、８６Ｐコンク等が挙げられる。 Examples of commercially available products include Acetamine 24, Cortamine 24P, 60W, and 86P Conc manufactured by Kao Corporation.

アニオン性界面活性剤は、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン－アクリル酸共重合体のアルカリ塩、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、スチレン－アクリル酸共重合体のモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル等が挙げられる。 Examples of anionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ether sulfates, sodium dodecylbenzenesulfonate, alkali salts of styrene-acrylic acid copolymers, sodium alkylnaphthalenesulfonates, sodium alkyldiphenyl ether disulfonates, and lauryl sulfate monoethanol. Examples include amine, triethanolamine lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, monoethanolamine stearate, sodium stearate, sodium lauryl sulfate, monoethanolamine of styrene-acrylic acid copolymer, and polyoxyethylene alkyl ether phosphate.

市販品は、例えば、ネオス社製のフタージェント１００，１５０、ＡＤＥＫＡ社製のアデカホープＹＥＳ－２５、アデカコールＴＳ－２３０Ｅ，ＰＳ－４４０Ｅ，ＥＣ－８６００等が挙げられる。 Commercially available products include, for example, Ftergent 100 and 150 manufactured by Neos, ADEKA HOPE YES-25, ADEKA COL TS-230E, PS-440E, and EC-8600 manufactured by ADEKA.

両性界面活性剤は、例えば、ラウリン酸アミドプロピルベタイン、ラウリルベタイン、コカミドプロピルベタイン、ステアリルベタイン、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン等のアルキルベタイン、ラウリルジメチルアミンオキサイド等のアルキルアミンオキサイド等が挙げられる。 Examples of the amphoteric surfactant include alkyl betaines such as lauric acid amidopropyl betaine, lauryl betaine, cocamidopropyl betaine, stearyl betaine, and alkyldimethylaminoacetic acid betaine, and alkyl amine oxides such as lauryl dimethylamine oxide.

市販品は、花王社製のアンヒトール２０ＡＢ，２０ＢＳ，２４Ｂ，５５ＡＢ，８６Ｂ，２０Ｙ－Ｂ，２０Ｎ等が挙げられる。 Commercially available products include Amhitol 20AB, 20BS, 24B, 55AB, 86B, 20Y-B, and 20N manufactured by Kao Corporation.

レベリング剤（Ｎ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The leveling agent (N) can be used alone or in combination of two or more types.

レベリング剤（Ｎ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．００１～２．０質量％が好ましく、０．００５～１．０質量％がより好ましい。 The content of the leveling agent (N) is preferably 0.001 to 2.0% by weight, more preferably 0.005 to 1.0% by weight based on 100% by weight of nonvolatile content of the photosensitive composition.

［貯蔵安定剤（Ｏ）］
本発明の感光性組成物は、貯蔵安定剤（Ｏ）を含有できる。これにより、感光性組成物の経時粘度が安定化する。 [Storage stabilizer (O)]
The photosensitive composition of the present invention can contain a storage stabilizer (O). This stabilizes the viscosity of the photosensitive composition over time.

貯蔵安定剤（Ｏ）は、例えば、ベンジルトリメチルクロライド、ジエチルヒドロキシアミンなどの４級アンモニウムクロライド、乳酸、シュウ酸などの有機酸およびそのメチルエーテル、ｔ－ブチルピロカテコール、テトラエチルホスフィン、テトラフェニルなどの有機ホスフィン、亜リン酸塩等が挙げられる。 Storage stabilizers (O) include, for example, quaternary ammonium chlorides such as benzyl trimethyl chloride and diethyl hydroxyamine, organic acids such as lactic acid and oxalic acid and their methyl ethers, t-butylpyrocatechol, tetraethylphosphine, and tetraphenyl. Examples include organic phosphines and phosphites.

貯蔵安定剤（Ｏ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．０５～５質量％が好ましい。 The content of the storage stabilizer (O) is preferably 0.05 to 5% by weight based on 100% by weight of the nonvolatile content of the photosensitive composition.

［密着向上剤（Ｐ）］
本発明の感光性組成物は、密着向上剤（Ｐ）を含有できる。これにより、密着性が向上する。また、フォトリソグラフィー法で幅が狭いパターンを形成し易くなる。 [Adhesion improver (P)]
The photosensitive composition of the present invention can contain an adhesion improver (P). This improves adhesion. Further, it becomes easier to form a narrow pattern using photolithography.

密着向上剤（Ｐ）は、例えば、シランカップリング剤等が挙げられる。シランカップリング剤は、加水分解性基及びそれ以外の官能基を有する化合物である。加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかの反応によってシロキサン結合を生じる基である。加水分解性基は、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、アルコキシ基が好ましい。アルコキシ基は、メトキシ基が好ましい。
また、上記それ以外の官能基は、例えば、エポキシ基、アミノ基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、メルカプト基、オキセタニル基、スチリル基、ウレイド基等が挙げられる。これらの中でも、エポキシ基、（メタ）アクリロイル基、イソシアヌレート基、メルカプト基が好ましい。 Examples of the adhesion improver (P) include silane coupling agents. The silane coupling agent is a compound having a hydrolyzable group and other functional groups. A hydrolyzable group is a group that is directly bonded to a silicon atom and forms a siloxane bond through at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction. Examples of the hydrolyzable group include a halogen atom, an alkoxy group, and an acyloxy group. Among these, alkoxy groups are preferred. The alkoxy group is preferably a methoxy group.
Further, examples of functional groups other than those mentioned above include an epoxy group, an amino group, a vinyl group, a (meth)acryloyl group, an isocyanate group, an isocyanurate group, a mercapto group, an oxetanyl group, a styryl group, and a ureido group. Among these, epoxy groups, (meth)acryloyl groups, isocyanurate groups, and mercapto groups are preferred.

シランカップリング剤は、例えば、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、トリス－（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリアルコキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent include 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane. Ethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane Ethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(vinylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3- Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltriethoxy Examples include silane, tris-(trimethoxysilylpropyl)isocyanurate, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, and 3-ureidopropyltrialkoxysilane.

シランカップリング剤の市販品は、例えば、信越シリコーン社製のＫＢＭ－３０２、ＫＢＭ－４０２、ＫＢＭ－４０３、ＫＢＥ－４０２、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＭ－４８０３、ＫＢＭ－６０２、ＫＢＭ－６０３、ＫＢＭ－９０３、ＫＢＥ－９１０３Ｐ、ＫＢＭ－５７３、ＫＢＭ－６８０３、ＫＢＭ－１００３、ＫＢＥ－１００３、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＭ－５０３、ＫＢＥ－５０２、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５８０３、Ｘ－１２－１０４８、Ｘ－１２－１０５０、ＫＢＥ－９００７Ｎ、ＫＢＭ－９６５９、ＫＢＭ－８０２、ＫＢＭ－８０３、ＫＢＭ－１０４３、ＫＢＥ－５８５Ａ等が挙げられる。 Commercially available silane coupling agents include, for example, KBM-302, KBM-402, KBM-403, KBE-402, KBE-403, KBM-4803, KBM-602, KBM-603, and KBM- manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. 903, KBE-9103P, KBM-573, KBM-6803, KBM-1003, KBE-1003, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, KBM-5803, X-12-1048, X- 12-1050, KBE-9007N, KBM-9659, KBM-802, KBM-803, KBM-1043, KBE-585A, etc.

また、シランカップリング剤は、ポリマータイプであってもよい。ポリマータイプは、ポリシロキサンタイプ、有機ポリマータイプが挙げられる。 Additionally, the silane coupling agent may be of polymer type. Examples of the polymer type include a polysiloxane type and an organic polymer type.

ポリシロキサンタイプは、主鎖にポリシロキサン骨格を有するポリマーに、加水分解性基及びそれ以外の官能基が結合したシランカップリング剤である。ポリシロキサンタイプの市販品は、信越シリコーン社製のＫＲ－５１３、ＫＲ－５１６、ＫＲ－５１７、Ｘ－４１－１８０５、Ｘ－４１－１８１０等が挙げられる。 The polysiloxane type is a silane coupling agent in which a hydrolyzable group and other functional groups are bonded to a polymer having a polysiloxane skeleton in the main chain. Commercial polysiloxane type products include KR-513, KR-516, KR-517, X-41-1805, and X-41-1810 manufactured by Shin-Etsu Silicone.

有機ポリマータイプは、主鎖が有機構造である有機ポリマーに、加水分解性基及びそれ以外の官能基が結合したシランカップリング剤である。有機ポリマータイプの市販品は、信越シリコーン社製のＸ－１２－１０４８、Ｘ－１２－１０５０、Ｘ－１２－９８１５、Ｘ－１２－９８４５、Ｘ－１２－１１５４、Ｘ－１２－９７２Ｆ、Ｘ－１２－１１５９Ｌ等が挙げられる。 The organic polymer type is a silane coupling agent in which a hydrolyzable group and other functional groups are bonded to an organic polymer whose main chain has an organic structure. Commercially available organic polymer type products include X-12-1048, X-12-1050, X-12-9815, X-12-9845, X-12-1154, X-12-972F, and -12-1159L and the like.

密着向上剤（Ｐ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The adhesion improver (P) can be used alone or in combination of two or more.

密着向上剤（Ｐ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．０５～５質量％が好ましい。 The content of the adhesion improver (P) is preferably 0.05 to 5% by weight based on 100% by weight of the nonvolatile content of the photosensitive composition.

［有機溶剤（Ｑ）］
本発明の感光性組成物は、有機溶剤（Ｑ）を含有できる。 [Organic solvent (Q)]
The photosensitive composition of the present invention can contain an organic solvent (Q).

有機溶剤（Ｑ）としては、例えば、１，２，３－トリクロロプロパン、１－メトキシ－２－プロパノール、乳酸エチル、１，３－ブタンジオ－ル、１，３－ブチレングリコール、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，４－ジオキサン、２－ヘプタノーン、２－メチル－１，３－プロパンジオ－ル、３，５，５－トリメチル－２－シクロヘキセン－１－オン、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノン、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－メチル－１，３－ブタンジオ－ル、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、３－メトキシ－３－メチルブチルアセテート、３－メトキシブタノール、３－メトキシブチルアセテート、４－ヘプタノーン、ｍ－キシレン、ｍ－ジエチルベンゼン、ｍ－ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ｎ－ブチルアルコール、ｎ－ブチルベンゼン、ｎ－プロピルアセテート、Ｎ－メチルピロリドン、ｏ－キシレン、トルエン、ｏ－クロロトルエン、ベンゼン、ｏ－ジエチルベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン、ｐ－クロロトルエン、ｐ－ジエチルベンゼン、ｓｅｃ－ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ－ブチルベンゼン、γ－ブチロラクトン、イソブチルアルコール、イソホロン、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノターシャリーブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノール、シクロヘキサノールアセテート、シクロヘキサノン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ダイアセトンアルコール、トリアセチン、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ベンジルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノール、酢酸ｎ－アミル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、酢酸プロピル、二塩基酸エステル等が挙げられる。これらの中でも、樹脂の溶解性、塗工性の観点から、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールアセテート類、ダイアセトンアルコール等のアルコール類やシクロヘキサノン等のケトン類が好ましい。 Examples of the organic solvent (Q) include 1,2,3-trichloropropane, 1-methoxy-2-propanol, ethyl lactate, 1,3-butanediol, 1,3-butylene glycol, 1,3-butylene Glycol diacetate, 1,4-dioxane, 2-heptanone, 2-methyl-1,3-propanediol, 3,5,5-trimethyl-2-cyclohexen-1-one, 3,3,5-trimethyl Cyclohexanone, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methyl-1,3-butanediol, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutyl acetate, 3-methoxybutanol, 3- Methoxybutyl acetate, 4-heptanone, m-xylene, m-diethylbenzene, m-dichlorobenzene, N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide, n-butyl alcohol, n-butylbenzene, n-propyl acetate, N-methylpyrrolidone, o-xylene, toluene, o-chlorotoluene, benzene, o-diethylbenzene, o-dichlorobenzene, p-chlorotoluene, p-diethylbenzene, sec-butylbenzene, tert-butylbenzene, γ-butyrolactone, Isobutyl alcohol, isophorone, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monotertiary butyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether Acetate, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diisobutyl ketone, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether, Diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, cyclohexanol, cyclohexanol acetate, cyclohexanone, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol methyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, Dipropylene glycol monomethyl ether, diacetone alcohol, triacetin, tripropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol diacetate, propylene glycol phenyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol mono Butyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether propionate, benzyl alcohol, methyl isobutyl ketone, methylcyclohexanol, n-amyl acetate, n-butyl acetate, isoamyl acetate , isobutyl acetate, propyl acetate, dibasic acid esters, and the like. Among these, from the viewpoint of resin solubility and coating properties, glycol acetates such as ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, Alcohols such as diacetone alcohol and ketones such as cyclohexanone are preferred.

本発明の感光性組成物は、環境面の観点から、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン等）である有機溶剤は、実質的に含有しないことが好ましい。実質的に含有しないとは、感光性組成物中、５０質量ｐｐｍ以下であり、３０質量ｐｐｍ以下にすることが好ましく、１０質量ｐｐｍ以下にすることがより好ましい。 From an environmental standpoint, the photosensitive composition of the present invention preferably does not substantially contain organic solvents such as aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, etc.). "Substantially not containing" means 50 mass ppm or less in the photosensitive composition, preferably 30 mass ppm or less, and more preferably 10 mass ppm or less.

有機溶剤（Ｑ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。 The organic solvent (Q) can be used alone or in combination of two or more.

有機溶剤（Ｑ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分が５～５０質量％となる量であることが好ましい。 The content of the organic solvent (Q) is preferably such that the nonvolatile content of the photosensitive composition is 5 to 50% by mass.

［特定金属元素の含有量］
本発明の感光性組成物は、感光性組成物に含まれるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、及びＣｒ（以下、特定金属元素ともいう）の合計含有量が、５００質量ｐｐｍ以下であることが好ましい。 [Content of specific metal elements]
The photosensitive composition of the present invention has a total content of Li, Na, K, Mg, Ca, Fe, and Cr (hereinafter also referred to as specific metal elements) contained in the photosensitive composition of 500 mass ppm or less. It is preferable that there be.

特定金属元素の合計量が、上記範囲内の感光性組成物であると、経時保存後でも分散安定性・感度に優れる。特定金属元素の含有量は、誘導結合プラズマ発光分光分析（ＩＣＰ）によって、測定できる。 A photosensitive composition in which the total amount of specific metal elements is within the above range has excellent dispersion stability and sensitivity even after storage over time. The content of the specific metal element can be measured by inductively coupled plasma emission spectroscopy (ICP).

［水の含有量］
本発明の感光性組成物は、感光性組成物に含まれる水の含有量が２．０質量％以下であることが好ましい。 [Water content]
In the photosensitive composition of the present invention, the content of water contained in the photosensitive composition is preferably 2.0% by mass or less.

水の含有量が、上記範囲内の感光性組成物であると、経時保存後でも分散安定性・感度に優れる。水の含有量は、カールフィッシャー法などの公知の方法により測定することができる。 A photosensitive composition with a water content within the above range has excellent dispersion stability and sensitivity even after storage over time. The water content can be measured by a known method such as the Karl Fischer method.

［感光性組成物の製造方法］
本発明の感光性組成物は、上述の各成分を混合して調整できる。調整に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を重合性化合物や有機溶剤に溶解や分散した後に逐次配合してもよい。
例えば、着色剤（Ａ）、分散樹脂（Ｇ）、及び有機溶剤（Ｑ）等を加えて分散処理を行うことで、分散体を製造する。その後、前記分散体に、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、及び重合開始剤（Ｄ）等を配合し混合することで製造できる。なお、各材料を配合するタイミングは、任意である。また、分散工程を複数回行うこともできる。 [Method for manufacturing photosensitive composition]
The photosensitive composition of the present invention can be prepared by mixing the above-mentioned components. For adjustment, each component may be blended all at once, or each component may be dissolved or dispersed in a polymerizable compound or organic solvent and then blended sequentially.
For example, a dispersion is produced by adding a colorant (A), a dispersion resin (G), an organic solvent (Q), etc., and performing a dispersion treatment. Thereafter, the alkali-soluble resin (B), polymerizable compound (C), polymerization initiator (D), etc. are added to the dispersion and mixed. Note that the timing of blending each material is arbitrary. Moreover, the dispersion step can also be performed multiple times.

分散処理を行う分散機は、例えば、２本ロールミル、３本ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、アニュラー型ビーズミル、又はアトライター等が挙げられる。 Examples of the dispersing machine that performs the dispersion treatment include a two-roll mill, a three-roll mill, a ball mill, a horizontal sand mill, a vertical sand mill, an annular bead mill, and an attritor.

分散体中の粒子の平均分散粒子径（二次粒子径）は、３０～２００ｎｍが好ましく、４０～２００ｎｍがより好ましい。適度な粒子径を有すると分散安定性が高い感光性組成物が得やすい。 The average dispersed particle size (secondary particle size) of the particles in the dispersion is preferably 30 to 200 nm, more preferably 40 to 200 nm. When the particle size is appropriate, it is easy to obtain a photosensitive composition with high dispersion stability.

平均分散粒子径（二次粒子径）の測定方法は、例えば、動的光散乱法（ＦＦＴパワ－スペクトール法）を採用した日機装社のマイクロトラックＵＰＡ－ＥＸ１５０を用い、粒子透過性を吸収モ－ド、粒子形状を非球形とし、Ｄ５０粒子径を平均径とする。測定用の希釈溶剤は分散に使用した有機溶剤をそれぞれ用い、超音波で処理したサンプルについてサンプル調整直後に測定するとバラツキが少ない結果が得られやすく好ましい。 The average dispersed particle size (secondary particle size) can be measured using, for example, Microtrack UPA-EX150 manufactured by Nikkiso Co., Ltd., which employs a dynamic light scattering method (FFT power spectrum method). D. The particle shape is non-spherical, and the D50 particle diameter is the average diameter. It is preferable to use the organic solvent used for dispersion as the diluting solvent for measurement, and to measure the sample treated with ultrasonic waves immediately after sample preparation, because results with less variation can be easily obtained.

感光性組成物は、遠心分離、焼結フィルタやメンブレンフィルタによる濾過等の手段にて、５μｍ以上の粗大粒子、好ましくは１μｍ以上の粗大粒子、さらに好ましくは０．５μｍ以上の粗大粒子、および混入した塵の除去を行うことが好ましい。本発明の感光性組成物は、実質的に０．５μｍ以上の粒子を含まないことが好ましく、０．３μｍ以下の粒子を含まないことがより好ましい。 The photosensitive composition is prepared by centrifugation, filtration with a sintered filter or membrane filter, etc. to remove coarse particles of 5 μm or more, preferably 1 μm or more, more preferably 0.5 μm or more, and contaminants. It is preferable to remove the dust. The photosensitive composition of the present invention preferably does not substantially contain particles of 0.5 μm or more, and more preferably does not contain particles of 0.3 μm or less.

＜膜＞
本発明の膜は、上述した感光性組成物を用いて形成することが好ましい。膜はパターンを形成した膜が好ましいが、平坦膜として用いることもできる。 <Membrane>
The film of the present invention is preferably formed using the photosensitive composition described above. Although the film is preferably a patterned film, it can also be used as a flat film.

［膜の製造方法］
膜の製造方法は、特に限定されず、公知の方法を使用できる。本発明においては、膜の作成は、全工程を通じて１５０℃以下の温度で行うことが好ましく、１３０℃以下の温度で行うことがより好ましく、１００℃以下の温度で行うことが特に好ましい。加熱を１５０℃以下で行うことにより、画像表示装置の発光光源として有機ＥＬ素子を用いた場合や、イメージセンサの光電変換膜が有機素材の場合、劣化を抑制しこれらの性能を維持できる。 [Membrane manufacturing method]
The method for manufacturing the membrane is not particularly limited, and any known method can be used. In the present invention, the film is preferably formed throughout the entire process at a temperature of 150°C or lower, more preferably 130°C or lower, and particularly preferably 100°C or lower. By heating at 150° C. or lower, when an organic EL element is used as the light emitting source of the image display device or when the photoelectric conversion film of the image sensor is made of an organic material, deterioration can be suppressed and these performances can be maintained.

まず、本発明の感光性組成物を基材上に塗工する。基材は、例えば、ガラス、樹脂、シリコン等の材質で構成された基板が挙げられる。ガラスは、無色透明であってもよく、用途によってはブルーガラスのような着色ガラスを用いてもよい。これらの基材上には有機発光層が形成されてもよい。また、基材には、ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等の撮像素子が形成されていてもよい。また、基材上には、必要に応じて、上部との層との密着改良、物質の拡散防止、基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。 First, the photosensitive composition of the present invention is coated onto a substrate. Examples of the base material include substrates made of materials such as glass, resin, and silicon. The glass may be colorless and transparent, or colored glass such as blue glass may be used depending on the purpose. An organic light-emitting layer may be formed on these substrates. Furthermore, an imaging device such as a CCD or CMOS may be formed on the base material. Further, an undercoat layer may be provided on the base material, if necessary, in order to improve adhesion between the upper layer and the layer, prevent substance diffusion, and flatten the substrate surface.

塗工方法は、公知の方法を使用できる。例えば、滴下法、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、流延塗布法、インクジェット法、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷等が挙げられる。 As the coating method, a known method can be used. Examples include a dropping method, a slit coating method, a spray method, a roll coating method, a spin coating method, a casting coating method, an inkjet method, flexo printing, screen printing, gravure printing, offset printing, and the like.

膜の厚さは、目的に応じて適宜調節できる。膜の厚さは、０．０５～２０．０μｍが好ましく、０．３～１０．０μｍがより好ましい。 The thickness of the film can be adjusted as appropriate depending on the purpose. The thickness of the film is preferably 0.05 to 20.0 μm, more preferably 0.3 to 10.0 μm.

次に、パターンを形成する。パターンを形成する方法は、フォトリソグラフィー法やドライエッチング法が挙げられる。これらの中でも、フォトリソグラフィー法が好ましい。なお、平坦膜として使用する場合は、パターンを形成する工程を行わなくてよく、塗工後、必要に応じて乾燥や全面を露光する。 Next, a pattern is formed. Examples of methods for forming patterns include photolithography and dry etching. Among these, photolithography is preferred. Note that when used as a flat film, there is no need to perform the step of forming a pattern, and after coating, drying or exposing the entire surface to light is performed as necessary.

以下、フォトリソグラフィー法でパターンを形成する方法について詳細に説明する。 Hereinafter, a method of forming a pattern using photolithography will be described in detail.

フォトリソグラフィー法でパターンを形成する場合、基板上に本発明の感光性組成物を塗工して形成した層を、必要に応じて５０～１００℃の温度で乾燥した後、マスクを介してパターン状に露光（露光工程）し、未露光部分をアルカリ現像により除去（現像工程）後、パターンを加熱（ポストベーク工程）する。 When forming a pattern by photolithography, a layer formed by coating the photosensitive composition of the present invention on a substrate is optionally dried at a temperature of 50 to 100°C, and then a pattern is formed through a mask. After exposing the pattern to light (exposure step) and removing the unexposed portion by alkaline development (developing step), the pattern is heated (post-bake step).

〔露光工程〕
露光工程は、塗工で形成した層を、例えば、ステッパー等の露光装置を用い、マスクを介して特定のパターンを露光する。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に用いる活性エネルギー線は、例えば、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等の紫外線が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）等が挙げられる。
また、露光に際しては、光を連続的に照射して露光してもよく、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光（パルス露光）してもよい。ＫｒＦ線、ＡｒＦ線はパルス露光が好ましい。 [Exposure process]
In the exposure step, the layer formed by coating is exposed to a specific pattern through a mask using an exposure device such as a stepper. This allows the exposed portion to be cured. Examples of active energy rays used for exposure include ultraviolet rays such as g-line (wavelength: 436 nm), h-line (wavelength: 405 nm), and i-line (wavelength: 365 nm). Furthermore, light having a wavelength of 300 nm or less can also be used. Examples of light with a wavelength of 300 nm or less include KrF rays (wavelength 248 nm) and ArF rays (wavelength 193 nm).
Furthermore, during exposure, exposure may be performed by continuously irradiating light, or exposure may be performed by repeatedly irradiating and pausing light in short cycles (e.g., millisecond level or less) (pulse exposure). . Pulse exposure is preferable for KrF rays and ArF rays.

〔現像工程〕
次に、アルカリ現像液で処理を行うことで、未露光部分の層がアルカリ現像液に溶出し、硬化部分のみが残りパターン状の膜が得られる。
アルカリ現像液は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－〔５．４．０〕－７－ウンデセン等のアルカリ性化合物が挙げられる。
アルカリ現像液の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。アルカリ現像液のｐＨは、１１～１３が好ましく、１１．５～１２．５がより好ましい。適度なｐＨで使用するとパターンの荒れや剥離を抑制し、現像後の残膜率が向上する。
現像方法は、例えば、ディップ法、スプレー法、パドル法等が挙げられる。現像温度は１５～４０℃が好ましい。なお、アルカリ現像後は、純水で洗浄することが好ましい。 [Development process]
Next, by processing with an alkaline developer, the unexposed portions of the layer are eluted into the alkaline developer, leaving only the hardened portions to form a patterned film.
Examples of alkaline developers include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, and choline. , pyrrole, piperidine, and 1,8-diazabicyclo-[5.4.0]-7-undecene.
The concentration of the alkaline developer is preferably 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 1% by weight. The pH of the alkaline developer is preferably 11 to 13, more preferably 11.5 to 12.5. When used at an appropriate pH, pattern roughness and peeling can be suppressed and the residual film rate after development can be improved.
Examples of the developing method include a dip method, a spray method, and a paddle method. The developing temperature is preferably 15 to 40°C. Note that after alkaline development, it is preferable to wash with pure water.

〔ポストベーク工程〕
現像後、加熱処理を行う。加熱により、膜の耐性が向上する。
温度は、１５０℃以下の温度で行うことが好ましく、１３０℃以下の温度で行うことがより好ましく、１００℃以下の温度で行うことが特に好ましい。
また、時間は、２分間～１時間程度が好ましい。 [Post-bake process]
After development, heat treatment is performed. Heating improves the resistance of the membrane.
The temperature is preferably 150°C or lower, more preferably 130°C or lower, and particularly preferably 100°C or lower.
Further, the time is preferably about 2 minutes to 1 hour.

＜光学フィルタ＞
本発明の膜は、光学フィルタに用いることができる。光学フィルタは、例えば、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、遮光フィルタ、反射防止フィルタ、赤外線透過フィルタ等に用いられる。本発明の光学フィルタの製造は、上述の膜と同様の方法で製造できる。 <Optical filter>
The film of the present invention can be used for optical filters. Optical filters are used, for example, as color filters, black matrices, light shielding filters, antireflection filters, infrared transmission filters, and the like. The optical filter of the present invention can be manufactured by the same method as the above-mentioned film.

＜固体撮像素子＞
本発明の光学フィルタは、固体撮像素子に用いることができる。
固体撮像素子に用いる形態は、本発明の光学フィルタを備え、固体撮像素子として機能すれば特に制限されないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。 <Solid-state image sensor>
The optical filter of the present invention can be used for solid-state imaging devices.
The form used for the solid-state image sensor is not particularly limited as long as it is equipped with the optical filter of the present invention and functions as a solid-state image sensor, but examples include the following configuration.

基材上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオード及び転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の光学フィルタ（カラーフィルタ）を有する構成である。さらに、デバイス保護膜上であって光学フィルタの下（基材に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、光学フィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、フィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各着色画素を形成する硬化膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は、各着色画素に対して低屈折率であることが好ましい。
本発明の固体撮像素子を備えた撮像装置は、例えば、デジタルカメラ、撮像機能を有する電子機器（携帯電話、スマートフォン等）、車載カメラ、監視カメラ等様々な用途に使用できる。 A plurality of photodiodes constituting the light-receiving area of a solid-state image sensor (CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.) and a transfer electrode made of polysilicon are provided on the base material, and the photodiode is placed on the photodiode and the transfer electrode. It has a light-shielding film with only the light-receiving part open, and has a device protective film made of silicon nitride or the like formed on the light-shielding film so as to cover the entire surface of the light-shielding film and the photodiode light-receiving part. The configuration has optical filters (color filters). In addition, there may be a configuration in which a light condensing means (for example, a microlens, etc., the same applies hereinafter) is provided on the device protective film and below the optical filter (on the side closer to the base material), a configuration in which the condensing means is provided on the optical filter, etc. It may be. Further, the filter may have a structure in which a cured film forming each colored pixel is embedded in a space partitioned, for example, in a lattice shape by partition walls. In this case, the partition wall preferably has a low refractive index for each colored pixel.
An imaging device equipped with the solid-state imaging device of the present invention can be used in various applications such as, for example, a digital camera, an electronic device having an imaging function (mobile phone, smart phone, etc.), an in-vehicle camera, a surveillance camera, etc.

＜画像表示装置＞
本発明の光学フィルタは、画像表示装置に用いることができる。画像表示装置は、例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等が挙げられる。
画像表示装置に用いる形態は、画像表示装置として機能すればよく、特に制限されない。例えば、「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男著、（株）工業調査会、１９９４年発行）に記載されている構成等が挙げられる。
画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば、「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）、平成元年発行）」等に記載されている。 <Image display device>
The optical filter of the present invention can be used in an image display device. Examples of the image display device include a liquid crystal display and an organic EL display.
The form used for the image display device is not particularly limited as long as it functions as an image display device. For example, the configuration described in "Next Generation Liquid Crystal Display Technology" (written by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Chosenkai Co., Ltd., 1994) can be mentioned.
For the definition of image display devices and details of each image display device, see, for example, "Electronic Display Devices (written by Akio Sasaki, published by Kogyo Chosenkai Co., Ltd., 1990)" and "Display Devices (written by Junaki Ibuki, published by Sangyo Tosho. Co., Ltd., published in 1989).

＜赤外線センサ＞
本発明の光学フィルタは、赤外線センサに用いることができる。
赤外線センサに用いる形態は、本発明の光学フィルタを備え、赤外線センサとして機能すれば特に制限されないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。 <Infrared sensor>
The optical filter of the present invention can be used in an infrared sensor.
The configuration used for the infrared sensor is not particularly limited as long as it is equipped with the optical filter of the present invention and functions as an infrared sensor, but examples include the following configurations.

基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有する。これらフォトダイオード及び転送電極上に、フォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有する。この遮光膜上に、デバイス保護膜を有し、更にこのデバイス保護膜上に、光学フィルタを有する。さらに、デバイス保護膜上であって光学フィルタの下（基材に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、光学フィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。 A plurality of photodiodes forming a light receiving area of a solid-state image sensor (CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.) and a transfer electrode made of polysilicon or the like are provided on the substrate. A light-shielding film is provided over the photodiode and the transfer electrode, with only the light-receiving portion of the photodiode being open. A device protective film is provided on this light shielding film, and an optical filter is further provided on this device protective film. In addition, there may be a configuration in which a light condensing means (for example, a microlens, etc., the same applies hereinafter) is provided on the device protective film and below the optical filter (on the side closer to the base material), a configuration in which the condensing means is provided on the optical filter, etc. It may be.

図１は、本発明の光学フィルタを備えた赤外線センサの構成例を示す概略断面図である。図１に示す赤外線センサは１００、固体撮像素子１１０を備える。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of an infrared sensor equipped with an optical filter of the present invention. The infrared sensor 100 shown in FIG. 1 includes a solid-state image sensor 110.

固体撮像素子１１０上に設けられている撮像領域は、赤外線カットフィルタ１１１とカラーフィルタ１１２とを組み合せて構成されている。 The imaging area provided on the solid-state imaging device 110 is configured by combining an infrared cut filter 111 and a color filter 112.

赤外線カットフィルタ１１１は、可視光領域の光（例えば、波長４００～７００ｎｍの光）を透過し、赤外領域の光（例えば、波長８００～１，３００ｎｍの光）を遮蔽する。 The infrared cut filter 111 transmits light in the visible region (for example, light with a wavelength of 400 to 700 nm) and blocks light in the infrared region (for example, light with a wavelength of 800 to 1,300 nm).

カラーフィルタ１１２は、本発明の感光性組成物を用いて形成することができ、可視光領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタである。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタ等が用いられる。 The color filter 112 can be formed using the photosensitive composition of the present invention, and is a color filter in which pixels that transmit and absorb light of a specific wavelength in the visible light region are formed. For example, a color filter in which red (R), green (G), and blue (B) pixels are formed is used.

赤外線透過フィルタ１１３と固体撮像素子１１０との間には、赤外線透過フィルタ１１３を透過した波長の光を透過可能な樹脂膜１１４が配置されている。 A resin film 114 is arranged between the infrared transmission filter 113 and the solid-state image sensor 110 and is capable of transmitting light having a wavelength that has passed through the infrared transmission filter 113.

赤外線透過フィルタ１１３は、本発明の感光性組成物を用いて形成することができ、可視光遮蔽性を有し、かつ、特定波長の赤外線を透過させるフィルタである。赤外線透過フィルタ１１３は、例えば、波長４００～８３０ｎｍの光を遮光し、波長９００～１，３００ｎｍの光を透過させることが好ましい。 The infrared transmission filter 113 is a filter that can be formed using the photosensitive composition of the present invention, has visible light shielding properties, and transmits infrared rays of a specific wavelength. For example, the infrared transmission filter 113 preferably blocks light with a wavelength of 400 to 830 nm and transmits light with a wavelength of 900 to 1,300 nm.

カラーフィルタ１１２、及び赤外線透過フィルタ１１３の入射光ｈ側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化膜１１６が形成されている。 A microlens 115 is arranged on the incident light h side of the color filter 112 and the infrared transmission filter 113. A flattening film 116 is formed to cover the microlens 115.

図１に示す形態では、樹脂膜１１４が配置されているが、樹脂膜１１４に代えて赤外線透過フィルタ１１３を形成してもよい。 In the embodiment shown in FIG. 1, a resin film 114 is disposed, but an infrared transmission filter 113 may be formed instead of the resin film 114.

この赤外線センサによれば、画像情報を同時に取り込めるため、動きを検知する対象を認識したモーションセンシング等が可能である。また、この赤外線センサによれば、距離情報を取得できるため、３Ｄ情報を含んだ画像の撮影等も可能である。更に、この赤外線センサは、生体認証センサとしても使用できる。 According to this infrared sensor, image information can be captured at the same time, so motion sensing and the like that recognize the target whose movement is to be detected are possible. Further, since distance information can be acquired using this infrared sensor, it is also possible to take images including 3D information. Furthermore, this infrared sensor can also be used as a biometric sensor.

以下、実施例で本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。なお、「部」は「質量部」、「％」は「質量％」である。
また、本発明において、不揮発分もしくは不揮発分濃度は、２３０℃で３０分間オーブン静置後の質量残分をいう。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. However, the present invention is not limited to these. Note that "part" means "part by mass" and "%" means "% by mass."
Furthermore, in the present invention, the nonvolatile content or nonvolatile content concentration refers to the mass remaining after standing in an oven at 230°C for 30 minutes.

実施例に先立ち、各測定方法について説明する。 Prior to Examples, each measurement method will be explained.

樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）、酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、アミン価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）の測定、重合性化合物の水酸基価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、及び重合開始剤の吸光係数（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）の測定は、以下の通りである。 Measurement of weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn), acid value (mgKOH/g), amine value (mgKOH/g) of resin, hydroxyl value (mgKOH/g) of polymerizable compound, and polymerization initiator The extinction coefficient (L/mol·cm) of is measured as follows.

（樹脂の平均分子量）
樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＲＩ検出器を装備したゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した。装置としてＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー社製）を用い、分離カラムを２本直列に繋ぎ、両方の充填剤には「ＴＳＫ－ＧＥＬＳＵＰＥＲＨＺＭ－Ｎ」を２連でつなげて使用し、オーブン温度４０℃、溶離液としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液を用い、流速０．３５ｍｌ／ｍｉｎで測定した。サンプルは１質量％の上記溶離液からなる溶剤に溶解し、２０マイクロリットール注入した。分子量は、ポリスチレン換算値である。 (Average molecular weight of resin)
The number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) of the resin were measured by gel permeation chromatography (GPC) equipped with an RI detector. HLC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corporation) was used as the equipment, two separation columns were connected in series, and the packing material for both was "TSK-GEL SUPER HZM-N" connected in two series, and the oven temperature was 40℃. The measurement was performed at a flow rate of 0.35 ml/min using a tetrahydrofuran (THF) solution as an eluent. The sample was dissolved in a solvent consisting of 1% by mass of the above eluent, and 20 microliters of the solution was injected. The molecular weight is a polystyrene equivalent value.

（樹脂の酸価）
樹脂溶液０．５～１ｇに、アセトン８０ｍｌ及び水１０ｍｌを加えて攪拌して均一に溶解させ、０．１ｍｏｌ／ＬのＫＯＨ水溶液を滴定液として、自動滴定装置（「ＣＯＭ－５５５」平沼産業社製）を用いて滴定し、酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を測定した。そして、樹脂溶液の酸価と樹脂溶液の不揮発分濃度から、樹脂の不揮発分あたりの酸価を算出した。 (acid value of resin)
Add 80 ml of acetone and 10 ml of water to 0.5 to 1 g of the resin solution, stir to dissolve uniformly, and use a 0.1 mol/L KOH aqueous solution as the titrant using an automatic titrator ("COM-555" Hiranuma Sangyo Co., Ltd.). The acid value (mgKOH/g) was measured. Then, the acid value per nonvolatile content of the resin was calculated from the acid value of the resin solution and the nonvolatile content concentration of the resin solution.

（樹脂のアミン価）
樹脂のアミン価は、ＡＳＴＭＤ２０７４の方法に準拠し、測定した全アミン価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を不揮発分換算した値である。 (amine value of resin)
The amine value of the resin is the value obtained by converting the total amine value (mgKOH/g) measured in accordance with the method of ASTM D 2074 into nonvolatile content.

（重合性化合物の水酸基価）
重合性化合物の水酸基価は、ＪＩＳＫ００７０－１９９２に基づいて測定される。 (Hydroxyl value of polymerizable compound)
The hydroxyl value of the polymerizable compound is measured based on JIS K 0070-1992.

（重合開始剤の吸光係数）
重合開始剤０．００１ｇを０．０１Ｌのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解し、０．１質量％の測定溶液を作製した。さらに、得られた０．１質量％の測定溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈し、０．０１質量％、０．００１質量％の測定溶液を作製した。分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製「Ｕ－３０１０」）を用いて、各濃度の測定溶液の波長３６５ｎｍにおける吸光度を測定し、横軸をモル濃度、縦軸を吸光度としたときの傾きから、吸光係数（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）を算出した。 (Extinction coefficient of polymerization initiator)
0.001 g of a polymerization initiator was dissolved in 0.01 L of propylene glycol monomethyl ether acetate to prepare a 0.1% by mass measurement solution. Furthermore, the obtained 0.1% by mass measurement solution was diluted with propylene glycol monomethyl ether acetate to prepare 0.01% by mass and 0.001% by mass measurement solutions. Using a spectrophotometer (“U-3010” manufactured by Hitachi High-Technologies), measure the absorbance at a wavelength of 365 nm of the measurement solution of each concentration, and from the slope when the horizontal axis is the molar concentration and the vertical axis is the absorbance, The extinction coefficient (L/mol·cm) was calculated.

＜アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）の製造＞
（アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１－１））
攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えたフラスコに、１００部のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、ＰＧＭＡｃ）を入れた後、窒素置換しながら攪拌し、７８℃に昇温した。次に、ブロックイソシアネート基含有単量体であるカレンズＭＯＩ－ＤＥＭ（昭和電工社製のマロン酸－２－［［［［（２－メチル－１－オキソ－２－プロペニル）オキシ］エチル］アミノ］カルボニル］－１，３－ジエチルエステル）２５．２部、水酸基含有単量体である２－ヒドロキシエチルメタクリレート３１．２部、脂肪族縮合環構造含有単量体であるジシクロペンタニルメタクリレート３７．５部、酸性基含有単量体であるメタクリル酸２０．７部、及びその他単量体単位のメチルメタクリレート２７．０部の混合物と、１２．０部の２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）（重合開始剤）を５０部のＰＧＭＡｃに添加し溶解させたものをそれぞれ滴下ロートからフラスコ中に滴下した。滴下終了後、７８℃で３時間攪拌した。
その後、不揮発分が４０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１－１）を調整した。アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１－１）は、酸価７４ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量８，０００であった。なお、表１で配合量はモル％で表記する。 <Production of alkali-soluble resin (B)>
(Alkali-soluble resin (B1-1))
After putting 100 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as PGMAc) into a flask equipped with a stirring device, a dropping funnel, a condenser, a thermometer, and a gas introduction tube, the mixture was stirred while purging with nitrogen, and the temperature was raised to 78°C. did. Next, a block isocyanate group-containing monomer, Karenz MOI-DEM (manufactured by Showa Denko, malonic acid-2-[[[[(2-methyl-1-oxo-2-propenyl)oxy]ethyl]amino] carbonyl]-1,3-diethyl ester) 25.2 parts, 31.2 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate which is a hydroxyl group-containing monomer, and 37 parts dicyclopentanyl methacrylate which is an aliphatic condensed ring structure-containing monomer. 5 parts, 20.7 parts of methacrylic acid, which is an acidic group-containing monomer, and 27.0 parts of methyl methacrylate, which is another monomer unit, and 12.0 parts of 2,2'-azobis(2,4 -dimethylvaleronitrile) (polymerization initiator) was added and dissolved in 50 parts of PGMAc, and each solution was dropped into the flask from the dropping funnel. After the dropwise addition was completed, the mixture was stirred at 78°C for 3 hours.
Thereafter, PGMAc was added so that the nonvolatile content was 40% by mass to prepare an alkali-soluble resin (B1-1). The alkali-soluble resin (B1-1) had an acid value of 74 mgKOH/g and a weight average molecular weight of 8,000. In addition, in Table 1, the blending amount is expressed in mol%.

（アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１－２）～（Ｂ１－５）、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ２－１）及び（Ｂ２－２））
表１に記載の各構成単位とモル％となるように、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１－２）～（Ｂ１－５）、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ２－１）及び（Ｂ２－２）を合成し、ＰＧＭＡｃを添加し不揮発分を４０質量％とした。 (Alkali-soluble resins (B1-2) to (B1-5), alkali-soluble resins (B2-1) and (B2-2))
Alkali-soluble resins (B1-2) to (B1-5), alkali-soluble resins (B2-1) and (B2-2) were synthesized so as to have the mole% of each structural unit listed in Table 1, and PGMAc was added to make the nonvolatile content 40% by mass.

表１に記載のカレンズＭＯＩ－ＢＰは、昭和電工社製のメタクリル酸２－（３，５－ジエチルピラゾール－１－イル）カルボニルアミノエチル、カレンズＭＯＩ－ＢＭは、昭和電工社製のメタクリル酸２－［Ｏ－（１’－メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ］エチル、アロニックスＭ－１１０は、東亜合成社製のパラクミルフェノールＥＯ変性アクリレートである。
表１に記載のＧＭＡ＋ＡＡは、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）のエポキシ基に、アクリル酸（ＡＡ）のカルボキシル基を反応させた重合性不飽和基含有単量体単位（ｂ６）を表し、ＧＭＡ＋ＡＡ＋ＴＨＰＡは、ＧＭＡ＋ＡＡの水酸基にテトラヒドロ無水フタル酸（ＴＨＰＡ）を反応させた重合性不飽和基含有単量体単位（ｂ６）を表す。 Karenz MOI-BP listed in Table 1 is 2-(3,5-diethylpyrazol-1-yl)carbonylaminoethyl methacrylate manufactured by Showa Denko; Karenz MOI-BM is methacrylic acid 2-(3,5-diethylpyrazol-1-yl) carbonylaminoethyl methacrylate manufactured by Showa Denko. -[O-(1'-methylpropylideneamino)carboxyamino]ethyl, Aronix M-110 is a paracumylphenol EO-modified acrylate manufactured by Toagosei.
GMA+AA listed in Table 1 represents a polymerizable unsaturated group-containing monomer unit (b6) obtained by reacting the epoxy group of glycidyl methacrylate (GMA) with the carboxyl group of acrylic acid (AA), and GMA+AA+THPA represents GMA+AA represents a polymerizable unsaturated group-containing monomer unit (b6) in which the hydroxyl group of is reacted with tetrahydrophthalic anhydride (THPA).

＜重合性化合物（Ｃ）の製造＞
（アミン構造を有する重合性化合物（Ｃ－１））
温度計、撹拌機及び還流管を備えた４口フラスコに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（東亜合成社製、アロニックスＭ－４０３）２５０部（０．３１１モル）を加え、ジエタノールアミン７．２部（０．０６８モル）を室温で加えた後、５０℃で４時間反応を行い、水酸基及びアミン構造を有する重合性化合物（Ｃ－１）を得た。反応は、空気／窒素の混合雰囲気下で行った。水酸基価１２２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。 <Production of polymerizable compound (C)>
(Polymerizable compound (C-1) having an amine structure)
Add 250 parts (0.311 mol) of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., Aronix M-403) to a 4-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, and reflux tube. , 7.2 parts (0.068 mol) of diethanolamine were added at room temperature, and the reaction was carried out at 50° C. for 4 hours to obtain a polymerizable compound (C-1) having a hydroxyl group and an amine structure. The reaction was carried out under a mixed air/nitrogen atmosphere. The hydroxyl value was 122 mgKOH/g.

（アミン構造を有する重合性化合物（Ｃ－２））
温度計、撹拌機及び還流管を備えた４口フラスコに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（東亜合成社製、アロニックスＭ－４０２）２５０部（０．２４７モル）を加え、ジ－ｎ－ブチルアミン１７．３部（０．１３４モル）を室温で加えた後、５０℃で４時間反応を行い、水酸基及びアミン構造を有する重合性化合物（Ｃ－２）を得た。反応は、空気／窒素の混合雰囲気下で行った。水酸基価３０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。 (Polymerizable compound (C-2) having an amine structure)
Add 250 parts (0.247 mol) of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., Aronix M-402) to a 4-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, and reflux tube. , 17.3 parts (0.134 mol) of di-n-butylamine were added at room temperature, and the reaction was carried out at 50° C. for 4 hours to obtain a polymerizable compound (C-2) having a hydroxyl group and an amine structure. The reaction was carried out under a mixed air/nitrogen atmosphere. The hydroxyl value was 30 mgKOH/g.

＜近赤外線吸収化合物（Ｅ）＞
（近赤外線吸収化合物（Ｅ－１））
トルエン４００部に、１，８－ジアミノナフタレン４０．０部、３，５－ジメチルシクロヘキサノン３２．２部、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物０．０８７部を混合し、窒素ガスの雰囲気中で加熱攪拌し、３時間還流させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により反応系中から除去した。反応終了後、トルエンを蒸留して得られた暗茶色固体をアセトンで抽出し、アセトンとエタノールの混合溶媒から再結晶することにより精製した。得られた茶色固体を、トルエン２４０部とｎ－ブタノール１６０部の混合溶媒に溶解させ、３，４－ジヒドロキシ－３－シクロブテン－１，２－ジオン１３．８部を加えて、窒素ガスの雰囲気中で加熱撹拌し、８時間還流反応させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により反応系中から除去した。
反応終了後、溶媒を蒸留し、得られた反応混合物を攪拌しながら、ヘキサン２００部を加えた。得られた黒茶色沈殿物を濾別した後、順次ヘキサン、エタノール、及びアセトンで洗浄を行い、減圧下で乾燥させ、下記化学式（６）で表される近赤外線吸収化合物（Ｅ－１）を得た。得られた近赤外線吸収化合物（Ｅ－１）５０部、塩化ナトリウム５００部、ジエチレングリコール６０部をステンレス製ガロンニーダー（井上製作所社製）中に仕込み、６０℃で１２時間混練した。次に、混練した混合物を温水に投入し、約８０℃に加熱しながら１時間攪拌してスラリー状として、濾過、及びイオン交換水での洗浄を複数回繰り返した後、８０℃で一昼夜乾燥させ粉砕することにより、微細化した近赤外線吸収化合物（Ｅ－１）を得た。 <Near infrared absorbing compound (E)>
(Near infrared absorbing compound (E-1))
40.0 parts of 1,8-diaminonaphthalene, 32.2 parts of 3,5-dimethylcyclohexanone, and 0.087 parts of p-toluenesulfonic acid monohydrate were mixed with 400 parts of toluene, and the mixture was mixed in a nitrogen gas atmosphere. The mixture was heated and stirred and refluxed for 3 hours. Water produced during the reaction was removed from the reaction system by azeotropic distillation. After the reaction was completed, the dark brown solid obtained by distilling toluene was extracted with acetone and purified by recrystallization from a mixed solvent of acetone and ethanol. The obtained brown solid was dissolved in a mixed solvent of 240 parts of toluene and 160 parts of n-butanol, 13.8 parts of 3,4-dihydroxy-3-cyclobutene-1,2-dione was added, and the mixture was placed in a nitrogen gas atmosphere. The mixture was heated and stirred for 8 hours under reflux. Water produced during the reaction was removed from the reaction system by azeotropic distillation.
After the reaction was completed, the solvent was distilled off, and 200 parts of hexane was added to the resulting reaction mixture while stirring. After filtering the obtained black brown precipitate, it is washed sequentially with hexane, ethanol, and acetone, and dried under reduced pressure to obtain a near-infrared absorbing compound (E-1) represented by the following chemical formula (6). Obtained. 50 parts of the obtained near-infrared absorbing compound (E-1), 500 parts of sodium chloride, and 60 parts of diethylene glycol were placed in a stainless steel gallon kneader (manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd.) and kneaded at 60° C. for 12 hours. Next, the kneaded mixture was poured into hot water, heated to about 80°C and stirred for 1 hour to form a slurry. After repeating filtration and washing with ion-exchanged water several times, it was dried at 80°C overnight. By pulverizing, a finely divided near-infrared absorbing compound (E-1) was obtained.

化学式（６）
Chemical formula (6)

（近赤外線吸収化合物（Ｅ－２））
反応容器中で、フタロニトリル２６部、２，３―ジシアノナフタレン１４３部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と三塩化アルミニウム３４部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、イオン交換水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、イオン交換水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄、乾燥して、化合物ａを得た。
次いで、反応容器中で、濃硫酸１，５００部に１４０部の化合物ａを氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して、化合物ｂを得た。
Ｎ－メチルピロリドン２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の化合物ｂを少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液をイオン交換水２，０００部に注入し、生成した析出物を濾過およびイオン交換水での洗浄を複数回繰り返した後、乾燥して、下記化学式（７）で表される化合物の混合物（質量比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝７：１９：５９：１５）である近赤外線吸収化合物（Ｅ－２）を得た。
次いで、近赤外線吸収化合物（Ｅ－１）と同様の方法で、微細化した。 (Near infrared absorbing compound (E-2))
In a reaction vessel, 26 parts of phthalonitrile, 143 parts of 2,3-dicyanonaphthalene, 890 parts of n-amyl alcohol, 137 parts of DBU (1,8-Diazabicyclo[5.4.0] undec-7-ene) and 34 parts of aluminum chloride were mixed and stirred, and after raising the temperature, the mixture was refluxed at 136° C. for 5 hours. The reaction solution, which had been cooled to 30° C. while being stirred, was poured into a mixed solvent consisting of 5,000 parts of methanol and 10,000 parts of ion-exchanged water, with stirring, to obtain a blue slurry. This slurry was filtered, washed with a mixed solvent consisting of 2,000 parts of methanol and 4,000 parts of ion-exchanged water, and dried to obtain Compound a.
Next, in a reaction vessel, 140 parts of compound a was added to 1,500 parts of concentrated sulfuric acid under an ice bath, and the mixture was stirred for 1 hour. Subsequently, this sulfuric acid solution was poured into 1,000 parts of cold water at 3°C, and the formed precipitate was filtered, washed with water, washed with a 2.5% aqueous sodium hydroxide solution, washed with water, and dried. Compound b was obtained.
5 parts of diphenylphosphoric acid was added to 200 parts of N-methylpyrrolidone, thoroughly stirred and mixed, and then heated to 50°C. After adding 10 parts of compound b little by little to this solution, the mixture was stirred at 90°C for 120 minutes. To confirm the end point of the reaction, for example, the reaction solution was dropped onto a filter paper, and the end point was defined as the point where no bleeding occurred. Subsequently, this reaction solution was injected into 2,000 parts of ion-exchanged water, and the generated precipitate was filtered and washed with ion-exchanged water multiple times, and then dried to form a product represented by the following chemical formula (7). A near-infrared absorbing compound (E-2) was obtained which is a mixture of compounds (mass ratio: n1:n2:n3:n4=7:19:59:15).
Next, it was refined in the same manner as the near-infrared absorbing compound (E-1).

化学式（７）
Chemical formula (7)

（近赤外線吸収化合物（Ｅ－３））
国際公開第２０１９／０５８８８２号の記載に従い、下記化学式（８）で表される近赤外線吸収化合物（Ｅ－３）を得た。
次いで、近赤外線吸収化合物（Ｅ－１）と同様の方法で、微細化した。 (Near infrared absorbing compound (E-3))
In accordance with the description in International Publication No. 2019/058882, a near-infrared absorbing compound (E-3) represented by the following chemical formula (8) was obtained.
Next, it was refined in the same manner as the near-infrared absorbing compound (E-1).

化学式（８）

Chemical formula (8)

（近赤外線吸収化合物（Ｅ－４））
反応容器中で、アニリン１０．７部、ブロモベンゼン１２０部、およびジアザビシクロオクタン２５．７部を加え、攪拌した。その後、四塩化チタンの１ｍｏｌ／ｌトルエン溶液９５．２部を滴下した。滴下後、インジゴ１０．０部を加え、１０時間還流した。反応終了後、メタノールを加え、濾過し、緑色粉末を得た。これをジクロロメタンと水で分液を行い、有機層を濃縮することで、化合物ｃを１４．６部得た。
反応容器中で、化合物ｃを１３．５部、ビス（２、４－ペンタンジオナト）亜鉛（ＩＩ）を９．０部、とテトラヒドロフラン１２０部を混合攪拌し、昇温後４０℃で５時間攪拌した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５００部へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール５００部で洗浄後、イオン交換水５００部で複数回洗浄し、乾燥して、下記化学式（９）で表される化合物の混合物（質量比率は、２量体：３量体：４量体＝８１：１７：２）である近赤外線吸収化合物（Ｅ－４）を得た。
次いで、近赤外線吸収化合物（Ｅ－１）と同様の方法で、微細化した。 (Near infrared absorbing compound (E-4))
In a reaction vessel, 10.7 parts of aniline, 120 parts of bromobenzene, and 25.7 parts of diazabicyclooctane were added and stirred. Then, 95.2 parts of a 1 mol/l toluene solution of titanium tetrachloride was added dropwise. After dropping, 10.0 parts of indigo was added and the mixture was refluxed for 10 hours. After the reaction was completed, methanol was added and filtered to obtain a green powder. This was separated between dichloromethane and water, and the organic layer was concentrated to obtain 14.6 parts of compound c.
In a reaction vessel, 13.5 parts of compound c, 9.0 parts of bis(2,4-pentanedionato)zinc(II), and 120 parts of tetrahydrofuran were mixed and stirred, and the mixture was heated to 40°C for 5 hours. Stirred. The reaction solution, which had been cooled to 30° C. while being stirred, was poured into 500 parts of methanol with stirring to obtain a blue slurry. This slurry was filtered, washed with 500 parts of methanol, washed multiple times with 500 parts of ion-exchanged water, and dried to form a mixture of compounds represented by the following chemical formula (9) (mass ratio: dimer: 3 A near-infrared absorbing compound (E-4) having a tetramer ratio of 81:17:2 was obtained.
Next, it was refined in the same manner as the near-infrared absorbing compound (E-1).

化学式（９）

Chemical formula (9)

＜分散樹脂（Ｇ）の製造＞
（分散樹脂（Ｇ－１））
ガス導入管、温度計、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、１－チオグリセロール１０８部、ピロメリット酸無水物１７４部、ＰＧＭＡｃ６５０部、触媒としてモノブチルスズオキシド０．２部を仕込み、窒素ガスで置換した後、１２０℃で５時間反応させた（第一工程）。酸価の測定で９５％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認した。次に、第一工程で得られた化合物を不揮発分換算で１６０部、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート２００部、エチルアクリレート２００部、ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート１５０部、２－メトキシエチルアクリレート２００部、メチルアクリレート２００部、メタクリル酸５０部、ＰＧＭＡｃ６６３部を仕込み、反応容器内を８０℃に加熱して、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）１．２部を添加し、１２時間反応した（第二工程）。不揮発分測定により９５％が反応したことを確認した。最後に、第二工程で得られた化合物の５０％ＰＧＭＡｃ溶液を５００部、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（ＭＯＩ）２７．０部、ヒドロキノン０．１部を仕込み、ＩＲにてイソシアネート基に基づく２，２７０ｃｍ^－１のピークの消失を確認するまで反応を行った（第三工程）。冷却後、不揮発分が３０質量％となるようにＰＧＭＡｃを添加して、重合性不飽和基を有するくし型構造の分散樹脂（Ｇ－１）を得た。酸価６８ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量１３，０００であった。 <Manufacture of dispersed resin (G)>
(Dispersion resin (G-1))
108 parts of 1-thioglycerol, 174 parts of pyromellitic anhydride, 650 parts of PGMAc, and 0.2 parts of monobutyltin oxide as a catalyst were charged into a reaction vessel equipped with a gas inlet tube, a thermometer, a condenser, and a stirrer, and the mixture was heated with nitrogen gas. After the substitution, the mixture was reacted at 120° C. for 5 hours (first step). Acid value measurement confirmed that 95% or more of the acid anhydride was half-esterified. Next, 160 parts of the compound obtained in the first step in terms of nonvolatile content, 200 parts of 2-hydroxypropyl methacrylate, 200 parts of ethyl acrylate, 150 parts of tert-butyl acrylate, 200 parts of 2-methoxyethyl acrylate, and 200 parts of methyl acrylate were added. 1 part, 50 parts of methacrylic acid, and 663 parts of PGMAc were charged, the inside of the reaction vessel was heated to 80°C, 1.2 parts of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) was added, and the mixture was reacted for 12 hours. (Second step). It was confirmed by non-volatile content measurement that 95% had reacted. Finally, 500 parts of a 50% PGMAc solution of the compound obtained in the second step, 27.0 parts of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI), and 0.1 part of hydroquinone were charged, and 2 , 270 cm ⁻¹ until the disappearance of the peak was confirmed (third step). After cooling, PGMAc was added so that the nonvolatile content was 30% by mass to obtain a comb-shaped dispersion resin (G-1) having polymerizable unsaturated groups. The acid value was 68 mgKOH/g and the weight average molecular weight was 13,000.

（分散樹脂（Ｇ－２））
ガス導入管、温度、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、メタクリル酸１０部、メチルメタクリレート１００部、ｉｓｏ－ブチルメタクリレート７０部、ベンジルメタクリレート２０部、ＰＧＭＡｃ５０部を仕込み、窒素ガスで置換した。反応容器内を５０℃に加熱撹拌し、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール１２部を添加した。９０℃に昇温し、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．１部をＰＧＭＡｃ９０部に加えた溶液を添加しながら７時間反応した。不揮発分測定により９５％が反応したことを確認した。ピロメリット酸無水物１９部、ＰＧＭＡｃ５０部、シクロヘキサノン５０部、触媒として１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセン０．４部を追加し、１００℃で７時間反応させた。酸価の測定で９８％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認し反応を終了した。冷却後、不揮発分が３０質量％となるようＰＧＭＡｃを添加して、くし型構造の分散樹脂（Ｇ－２）を得た。酸価７０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量８，５００であった。 (Dispersion resin (G-2))
10 parts of methacrylic acid, 100 parts of methyl methacrylate, 70 parts of iso-butyl methacrylate, 20 parts of benzyl methacrylate, and 50 parts of PGMAc were charged into a reaction vessel equipped with a gas inlet tube, temperature, condenser, and stirrer, and the mixture was purged with nitrogen gas. The inside of the reaction vessel was heated and stirred at 50°C, and 12 parts of 3-mercapto-1,2-propanediol was added. The temperature was raised to 90°C, and a reaction was carried out for 7 hours while adding a solution of 0.1 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile to 90 parts of PGMAc. It was confirmed by non-volatile content measurement that 95% had reacted. 19 parts of pyromellitic anhydride, 50 parts of PGMAc, 50 parts of cyclohexanone, and 0.4 part of 1,8-diazabicyclo-[5.4.0]-7-undecene as a catalyst were added and reacted at 100°C for 7 hours. . After measuring the acid value, it was confirmed that 98% or more of the acid anhydride had been half-esterified, and the reaction was terminated. After cooling, PGMAc was added so that the nonvolatile content was 30% by mass to obtain a comb-shaped dispersion resin (G-2). The acid value was 70 mgKOH/g and the weight average molecular weight was 8,500.

（分散樹脂（Ｇ－３））
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応装置に、メチルメタクリレート４０部、ｎ－ブチルメタクリレート１０部、触媒としてテトラメチルエチレンジアミン１３．２部を仕込み、窒素を流しながら５０℃で１時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、開始剤としてブロモイソ酪酸エチル９．３部、触媒として塩化第一銅５．６部、ＰＧＭＡｃ１００部を仕込み、窒素気流下で、１１０℃まで昇温して第一ブロック（Ｂブロック）の重合を開始した。４時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が９８％以上であることを確認した。次に、この反応装置に、ＰＧＭＡｃ５０部、第二ブロック（Ａブロック）モノマーとしてジメチルアミノエチルメタクリレート４０部、メタクリロイルオキシエチルベンジルジメチルアンモニウムクロライド１０部を投入し、１１０℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。投入から２時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロック（Ａブロック）の重合転化率が９８％以上であることを確認した。冷却後、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して、Ａ－Ｂブロック型の分散樹脂（Ｇ－３）を調製した。アミン価１６９．８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。 (Dispersion resin (G-3))
40 parts of methyl methacrylate, 10 parts of n-butyl methacrylate, and 13.2 parts of tetramethylethylenediamine as a catalyst were charged into a reaction apparatus equipped with a gas introduction pipe, a condenser, a stirring blade, and a thermometer, and the mixture was heated at 50°C while flowing nitrogen. The mixture was stirred for 1 hour, and the atmosphere in the system was replaced with nitrogen. Next, 9.3 parts of ethyl bromoisobutyrate as an initiator, 5.6 parts of cuprous chloride as a catalyst, and 100 parts of PGMAc were charged, and the temperature was raised to 110°C under a nitrogen stream to form the first block (B block). Polymerization started. After 4 hours of polymerization, the polymerization solution was sampled and the nonvolatile content was measured, and it was confirmed that the polymerization conversion rate was 98% or more as calculated from the nonvolatile content. Next, 50 parts of PGMAc, 40 parts of dimethylaminoethyl methacrylate as a second block (A block) monomer, and 10 parts of methacryloyloxyethylbenzyldimethylammonium chloride were added to this reactor, and the temperature was maintained at 110°C under a nitrogen atmosphere. The reaction was continued with stirring. Two hours after the addition, the polymerization solution was sampled and the nonvolatile content was measured, and it was confirmed that the polymerization conversion rate of the second block (A block) was 98% or more in terms of nonvolatile content. After cooling, PGMAc was added so that the nonvolatile content was 30% by mass to prepare an AB block type dispersion resin (G-3). The amine value was 169.8 mgKOH/g.

（分散樹脂（Ｇ－４））
国際公開第２０２２／１７２６０７号の実施例Ａ３に従って、重合性不飽和基を有する分散樹脂（Ｇ－４）を合成し、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加した。アミン価６７ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量５，６００であった。 (Dispersion resin (G-4))
According to Example A3 of International Publication No. 2022/172607, a dispersion resin (G-4) having a polymerizable unsaturated group was synthesized, and PGMAc was added so that the nonvolatile content was 30% by mass. The amine value was 67 mgKOH/g and the weight average molecular weight was 5,600.

＜分散体の製造＞
（分散体１）
下記の原料を均一になるように攪拌混合した後、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを用いて、アイガーミル（アイガージャパン社製「ミニモデルＭ－２５０ＭＫＩＩ」）で３時間分散した後、孔径１．０μｍのフィルタで濾過し、分散体１を作製した。
着色剤（Ａ－１）：１５．０部
色素誘導体（Ｆ－１）：１．０部
分散樹脂（Ｇ－１）：１０．０部
分散樹脂（Ｇ－２）：１０．０部
有機溶剤（Ｑ－１）：６４．０部 <Production of dispersion>
(Dispersion 1)
After stirring and mixing the following raw materials so that they were uniform, they were dispersed for 3 hours using an Eiger mill ("Mini Model M-250 MKII" manufactured by Eiger Japan) using zirconia beads with a diameter of 0.5 mm, and then the pore size was 1. The mixture was filtered through a 0 μm filter to produce Dispersion 1.
Colorant (A-1): 15.0 parts Pigment derivative (F-1): 1.0 parts Dispersion resin (G-1): 10.0 parts Dispersion resin (G-2): 10.0 parts Organic solvent (Q-1): 64.0 copies

（分散体２～１４）
表２－１、表２－２に記載した原料、量を変えた以外は、分散体１と同様にして分散体２～１４を作製した。 (Dispersions 2 to 14)
Dispersions 2 to 14 were produced in the same manner as Dispersion 1, except that the raw materials and amounts listed in Tables 2-1 and 2-2 were changed.

表２－１、表２－２中に記載したそれぞれの成分は、以下の通りである。 The respective components listed in Tables 2-1 and 2-2 are as follows.

［着色剤（Ａ）］
Ａ－１：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６
Ａ－２：Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３
Ａ－３：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８
Ａ－４：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６
Ａ－５：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン６２
Ａ－６：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７
Ａ－７：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８
Ａ－８：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９
Ａ－９：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０
Ａ－１０：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４ [Colorant (A)]
A-1:C. I. pigment blue 15:6
A-2:C. I. pigment violet 23
A-3:C. I. pigment green 58
A-4:C. I. pigment green 36
A-5:C. I. pigment green 62
A-6:C. I. pigment red 177
A-7:C. I. pigment yellow 138
A-8:C. I. pigment yellow 139
A-9:C. I. pigment yellow 150
A-10:C. I. pigment red 254

着色剤（Ａ－１）～（Ａ－１０）は、いずれもソルトミリング処理による微細化を行い、十分にイオン交換水で洗浄・乾燥した上で使用した。 Colorants (A-1) to (A-10) were all micronized by salt milling, thoroughly washed with ion-exchanged water, and dried before use.

［色素誘導体（Ｆ）］
[Dye derivative (F)]

［有機溶剤（Ｑ）］
Ｑ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート [Organic solvent (Q)]
Q-1: Propylene glycol monomethyl ether acetate

＜感光性組成物の製造＞
［実施例１］
（感光性組成物１）
以下の原料を混合、攪拌し、孔径１．０μｍのフィルタで濾過して不揮発分１５．１％の感光性組成物１を得た。
分散体３：８．０部
分散体４：７．０部
分散体５：７．０部
分散体７：３．０部
分散体８：３．０部
分散体９：３．０部
アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１－１）：６．２部
重合性化合物（Ｃ－１）：０．３部
重合性化合物（Ｃ－５）：５．０部
重合開始剤（Ｄ１－１）：０．１５部
重合開始剤（Ｄ２－２）：０．１５部
熱硬化性化合物（Ｉ－１）：０．５部
レベリング剤（Ｎ）：１．０部
有機溶剤（Ｑ）：５５．７部 <Manufacture of photosensitive composition>
[Example 1]
(Photosensitive composition 1)
The following raw materials were mixed, stirred, and filtered through a filter with a pore size of 1.0 μm to obtain a photosensitive composition 1 with a nonvolatile content of 15.1%.
Dispersion 3: 8.0 parts dispersion 4: 7.0 parts dispersion 5: 7.0 parts dispersion 7: 3.0 parts dispersion 8: 3.0 parts dispersion 9: 3.0 parts Alkali soluble Resin (B1-1): 6.2 parts Polymerizable compound (C-1): 0.3 parts Polymerizable compound (C-5): 5.0 parts Polymerization initiator (D1-1): 0.15 parts Polymerization initiator (D2-2): 0.15 parts Thermosetting compound (I-1): 0.5 parts Leveling agent (N): 1.0 parts Organic solvent (Q): 55.7 parts

［実施例２～４５、比較例１及び２］
（感光性組成物２～４７）
実施例１の感光性組成物１を、表３－１～表３－５に記載した原料、量に変えた以外は、実施例１と同様にして感光性組成物２～４７を作製した。 [Examples 2 to 45, Comparative Examples 1 and 2]
(Photosensitive compositions 2 to 47)
Photosensitive compositions 2 to 47 were prepared in the same manner as in Example 1, except that the raw materials and amounts of Photosensitive composition 1 in Example 1 were changed to those listed in Tables 3-1 to 3-5.

表３－１～表３－５に記載したそれぞれの原料については、以下の通りである。 The raw materials listed in Tables 3-1 to 3-5 are as follows.

［重合性化合物（Ｃ）］
Ｃ－３：アロニックスＭＴ－３０４１（東亜合成社製、水酸基価８７ｍｇＫＯＨ／ｇのアミン構造を有する重合性化合物）
Ｃ－４：トリス（アクリロイルオキシエチル）アミン（水酸基価０ｍｇＫＯＨ／ｇのアミン構造を有する重合性化合物）
Ｃ－５：アロニックスＭ－３０６（東亞合成社製、水酸基を有する重合性化合物であるペンタエリスリトールトリアクリレート及びその他重合性化合物であるペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物、ペンタエリスリトールトリアクリレートが６５～７０％）
Ｃ－６：アロニックスＭ－４０３（東亞合成社製、水酸基を有する重合性化合物であるジペンタエリスリトールペンタアクリレート及びその他重合性化合物であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートが５０～６０％）
Ｃ－７：アロニックスＭ－５１０（東亞合成社製、酸性基を有する重合性化合物）
Ｃ－８：アロニックスＭ－５２０（東亞合成社製、酸性基を有する重合性化合物）
Ｃ－９：アロニックスＭ－５４００（東亞合成社製、酸性基を有する重合性化合物）
Ｃ－１０：アロニックスＭ－３０９（東亞合成社製、その他重合性化合物であるトリメチロールプロパントリアクリレート） [Polymerizable compound (C)]
C-3: Aronix MT-3041 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., a polymerizable compound having an amine structure with a hydroxyl value of 87 mgKOH/g)
C-4: Tris(acryloyloxyethyl)amine (polymerizable compound having an amine structure with a hydroxyl value of 0 mgKOH/g)
C-5: Aronix M-306 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., a mixture of pentaerythritol triacrylate, which is a polymerizable compound having a hydroxyl group, and pentaerythritol tetraacrylate, which is another polymerizable compound, 65 to 70% pentaerythritol triacrylate)
C-6: Aronix M-403 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate, which is a polymerizable compound having a hydroxyl group, and dipentaerythritol hexaacrylate, which is another polymerizable compound, dipentaerythritol pentaacrylate is 50~ 60%)
C-7: Aronix M-510 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., polymerizable compound having an acidic group)
C-8: Aronix M-520 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., polymerizable compound having an acidic group)
C-9: Aronix M-5400 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., polymerizable compound having an acidic group)
C-10: Aronix M-309 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., other polymerizable compound trimethylolpropane triacrylate)

［重合開始剤（Ｄ）］
（一般式（１）で表される重合開始剤（Ｄ１））
Ｄ１－１：上述の化合物（Ｄ１－１）
Ｄ１－２：上述の化合物（Ｄ１－２）
Ｄ１－３：上述の化合物（Ｄ１－３）
Ｄ１－４：上述の化合物（Ｄ１－４） [Polymerization initiator (D)]
(Polymerization initiator (D1) represented by general formula (1))
D1-1: the above compound (D1-1)
D1-2: the above compound (D1-2)
D1-3: the above compound (D1-3)
D1-4: the above compound (D1-4)

（波長３６５ｎｍの光の吸光係数が５．０×１０^３Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以上の重合開始剤（Ｄ２））
Ｄ２－１：上述の化合物（Ｄ２－１）（波長３６５ｎｍの光の吸光係数が７，０５１Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）
Ｄ２－２：上述の化合物（Ｄ２－２）（波長３６５ｎｍの光の吸光係数が１３，４１０Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）
Ｄ２－３：上述の化合物（Ｄ２－３）（波長３６５ｎｍの光の吸光係数が１４，１２７Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）
Ｄ２－４：上述の化合物（Ｄ２－４）（波長３６５ｎｍの光の吸光係数が１４，２１４Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）
Ｄ２－５：上述の化合物（Ｄ２－５）（波長３６５ｎｍの光の吸光係数が１６，６１０Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）
Ｄ２－６：上述の化合物（Ｄ２－６）（波長３６５ｎｍの光の吸光係数が８，４２３Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ） (Polymerization initiator (D2) with an extinction coefficient of 5.0×10 ³ L/mol·cm or more for light with a wavelength of 365 nm)
D2-1: The above compound (D2-1) (absorption coefficient of light with a wavelength of 365 nm is 7,051 L/mol cm)
D2-2: The above compound (D2-2) (absorption coefficient of light with a wavelength of 365 nm is 13,410 L/mol cm)
D2-3: The above compound (D2-3) (absorption coefficient of light with a wavelength of 365 nm is 14,127 L/mol cm)
D2-4: The above compound (D2-4) (absorption coefficient of light with a wavelength of 365 nm is 14,214 L/mol cm)
D2-5: The above compound (D2-5) (absorption coefficient of light with a wavelength of 365 nm is 16,610 L/mol cm)
D2-6: The above compound (D2-6) (absorption coefficient of light with a wavelength of 365 nm is 8,423 L/mol cm)

（その他重合開始剤（Ｄ３））
Ｄ３－１：イルガキュアＯＸＥ－０１（ＢＡＳＦジャパン社製、波長３６５ｎｍの光の吸光係数が３，８８４Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）
Ｄ３－２：Ｏｍｎｉｒａｄ３６９（ＩＧＭＲｅｓｉｎｓ社製、波長３６５ｎｍの光の吸光係数が８００Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ） (Other polymerization initiators (D3))
D3-1: Irgacure OXE-01 (manufactured by BASF Japan, extinction coefficient of light with a wavelength of 365 nm is 3,884 L/mol・cm)
D3-2: Omnirad 369 (manufactured by IGM Resins, extinction coefficient of light with a wavelength of 365 nm is 800 L/mol cm)

［熱硬化性化合物（Ｉ）］
Ｉ－１：ＥＨＰＥ－３１５０（ダイセル社製、一般式（５）で表される化合物、エポキシ基数が約１５個、エポキシ当量が１７０～１９０ｇ／ｅｑ）
Ｉ－２：ＥＰＩＣＬＯＮＨＰ－４７００（ＤＩＣ社製、芳香族環を有するエポキシ化合物、エポキシ基数が４個、エポキシ当量が１５５～１７０ｇ／ｅｑ） [Thermosetting compound (I)]
I-1: EHPE-3150 (manufactured by Daicel, compound represented by general formula (5), number of epoxy groups is about 15, epoxy equivalent is 170 to 190 g/eq)
I-2: EPICLON HP-4700 (manufactured by DIC, epoxy compound having an aromatic ring, number of epoxy groups is 4, epoxy equivalent is 155 to 170 g/eq)

［チオール系連鎖移動剤（Ｊ）］
ペンタエリスリトールテトラキス（３-メルカプトプロピオネート） [Thiol chain transfer agent (J)]
Pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate)

［レベリング剤（Ｎ）］
Ｎ－１：ＢＹＫ－３３０（ビックケミー社製）
Ｎ－２：メガファックＦ－５５４（ＤＩＣ社製）
以上、（Ｎ－１）及び（Ｎ－２）をそれぞれ１部混合し、ＰＧＭＡｃ９８部に溶解させた混合溶液をレベリング剤（Ｎ）とした。 [Leveling agent (N)]
N-1: BYK-330 (manufactured by BYK Chemie)
N-2: Megafac F-554 (manufactured by DIC)
As described above, one part of each of (N-1) and (N-2) was mixed and dissolved in 98 parts of PGMAc, and a mixed solution was used as a leveling agent (N).

［有機溶剤（Ｑ）］
Ｑ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３０部
Ｑ－２：シクロヘキサノン３０部
Ｑ－３：３－エトキシプロピオン酸エチル１０部
Ｑ－４：プロピレングリコールモノメチルエーテル１０部
Ｑ－５：シクロヘキサノールアセテート１０部
Ｑ－６：ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート１０部
以上、（Ｑ－１）～（Ｑ－６）をそれぞれ上記質量部にて混合し、有機溶剤（Ｑ）とした。 [Organic solvent (Q)]
Q-1: Propylene glycol monomethyl ether acetate 30 parts Q-2: Cyclohexanone 30 parts Q-3: Ethyl 3-ethoxypropionate 10 parts Q-4: Propylene glycol monomethyl ether 10 parts Q-5: Cyclohexanol acetate 10 parts Q -6: 10 parts or more of dipropylene glycol methyl ether acetate and (Q-1) to (Q-6) were mixed in the above mass parts to obtain an organic solvent (Q).

＜感光性組成物の評価＞
得られた感光性組成物１～４７について、以下の評価を行った。評価結果を表４に示す。 <Evaluation of photosensitive composition>
The obtained photosensitive compositions 1 to 47 were evaluated as follows. The evaluation results are shown in Table 4.

［パターン形成性評価（１）］
得られた感光性組成物を、スピンコート法により縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製イーグル２０００）に、乾燥後の膜厚が２．０μｍとなるように塗工し、７０℃１分間ホットプレートで乾燥した。次いで、この基板を室温に冷却後、超高圧水銀灯を用い、幅５～２５μｍまで５μｍ幅刻みのストライプパターンのフォトマスクを介して照度３０ｍＷ／ｃｍ^２、１００ｍＪ／ｃｍ^２で露光した。その後、この基板を２３℃の非イオン系界面活性剤０．１２質量％と水酸化カリウム０．０４質量％とを含む水系現像液を用いてスプレー現像した後、イオン交換水で洗浄、風乾し、クリーンオーブンで１００℃６０分間加熱した。スプレー現像は、それぞれの感光性組成物での被膜について、現像残りなくパターン形成可能な最短時間で行った。
得られた基板の幅５、１０、１５、２０、及び２５μｍのパターンについて、光学顕微鏡で観察し、残存したパターンの最小線幅を確認した。評価基準は、以下の通りであり、３以上を実用可能とする。
５：１０μｍ以下の細線が残存している。
４：１５μｍ以上の細線が残存している。
３：２０μｍ以上の細線が残存している。
２：２５μｍの細線が残存している。
１：細線が残存していない。 [Pattern formation evaluation (1)]
The obtained photosensitive composition was applied to a glass substrate (Eagle 2000 manufactured by Corning Inc.) measuring 100 mm long x 100 mm wide and 0.7 mm thick using a spin coating method so that the film thickness after drying was 2.0 μm. and dried on a hot plate at 70°C for 1 minute. Next, after cooling this substrate to room temperature, it was exposed to light using an ultra-high pressure mercury lamp at an illuminance of 30 mW/cm ² and 100 mJ/cm ² through a photomask having a stripe pattern in 5-μm increments from 5 to 25 μm in width. Thereafter, this substrate was spray developed using an aqueous developer containing 0.12% by mass of a nonionic surfactant and 0.04% by mass of potassium hydroxide at 23°C, then washed with ion-exchanged water, and air-dried. , and heated in a clean oven at 100°C for 60 minutes. Spray development was carried out for the coating film of each photosensitive composition for the shortest time possible to form a pattern without any development residue.
Patterns with widths of 5, 10, 15, 20, and 25 μm on the obtained substrates were observed with an optical microscope to confirm the minimum line width of the remaining patterns. The evaluation criteria are as follows, and scores of 3 or higher are considered practical.
5: Fine lines of 10 μm or less remain.
4: Fine lines of 15 μm or more remain.
3: Fine lines of 20 μm or more remain.
2: A thin line of 25 μm remains.
1: No fine lines remain.

［パターン形成性評価（２）］
得られた感光性組成物を、スピンコート法により縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製イーグル２０００）に、乾燥後の膜厚が２．０μｍとなるように塗工し、７０℃１分間ホットプレートで乾燥した。次いで、この基板を室温に冷却後、超高圧水銀灯を用い、１００μｍ幅のストライプパターンのフォトマスクを介して照度３０ｍＷ／ｃｍ^２、１００ｍＪ／ｃｍ^２で露光した。その後、この基板を２３℃の非イオン系界面活性剤０．１２質量％と水酸化カリウム０．０４質量％とを含む水系現像液を用いてスプレー現像した後、イオン交換水で洗浄、風乾し、クリーンオーブンで１００℃６０分間加熱した。スプレー現像は、それぞれの感光性組成物での被膜について、現像残りなくパターン形成可能な最短時間で行った。
走査型電子顕微鏡（日立ハイテック社製「Ｓ－３０００Ｈ」）を用いて、パターンの断面形状を確認した。評価は、幅１００μｍのストライプ型パターンの断面のＳＥＭ画像を取り込み、基材とパターン断面の端部とのテーパー角度を測定することで断面形状評価を行った。評価基準は、以下の通りであり、３以上を実用可能とする。
５：テーパー角度３０度以上５０度未満
４：テーパー角度５０度以上６０度未満
３：テーパー角度３０度以上４０度未満、もしくは６０度以上７０度未満
２：テーパー角度２０度以上３０度未満、もしくは７０度以上９０度未満
１：テーパー角度２０度未満、もしくは９０度以上 [Pattern formation evaluation (2)]
The obtained photosensitive composition was applied to a glass substrate (Eagle 2000 manufactured by Corning Inc.) measuring 100 mm long x 100 mm wide and 0.7 mm thick using a spin coating method so that the film thickness after drying was 2.0 μm. and dried on a hot plate at 70°C for 1 minute. Next, after cooling this substrate to room temperature, it was exposed to light at an illuminance of 30 mW/cm ² and 100 mJ/cm ² using an ultra-high pressure mercury lamp through a photomask with a stripe pattern of 100 μm width. Thereafter, this substrate was spray developed using an aqueous developer containing 0.12% by mass of a nonionic surfactant and 0.04% by mass of potassium hydroxide at 23°C, then washed with ion-exchanged water, and air-dried. , and heated in a clean oven at 100°C for 60 minutes. Spray development was carried out for the coating film of each photosensitive composition for the shortest time possible to form a pattern without any development residue.
The cross-sectional shape of the pattern was confirmed using a scanning electron microscope ("S-3000H" manufactured by Hitachi High Tech). The cross-sectional shape was evaluated by capturing an SEM image of a cross section of a striped pattern with a width of 100 μm and measuring the taper angle between the base material and the end of the pattern cross section. The evaluation criteria are as follows, and scores of 3 or higher are considered practical.
5: Taper angle of 30 degrees or more and less than 50 degrees 4: Taper angle of 50 degrees or more and less than 60 degrees 3: Taper angle of 30 degrees or more and less than 40 degrees, or 60 degrees or more and less than 70 degrees 2: Taper angle of 20 degrees or more and less than 30 degrees, or 70 degrees or more and less than 90 degrees 1: Taper angle less than 20 degrees or 90 degrees or more

［電気特性評価］
得られた感光性組成物を、スピンコート法により縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製イーグル２０００）に、乾燥後の膜厚が２．０μｍとなるように塗工し、７０℃１分間ホットプレートで乾燥した。次いで、この基板を室温に冷却後、超高圧水銀灯を用い、照度３０ｍＷ／ｃｍ^２、１００ｍＪ／ｃｍ^２で露光し、クリーンオーブンで１００℃６０分間加熱した。冷却後、塗膜上にマグネトロンスパッタ装置を用いて、Ａｕ蒸着剤を面積３．４６４×１０^－４ｍ^－２になるように蒸着し、電気特性評価用基板を得た。
得られた電気特性評価用基板の塗膜面の反対側の面から、照射される面の輝度が１０００ｃｄ／ｍ^２となる条件でライトを照射し、塗膜面をインピーダンスアナライザー（ソーラトロン社製「１２６０型」）を用いて周波数２０Ｈｚにおける誘電正接の値を測定した。評価基準は、以下の通りであり、３以上が実用可能である。
５：０．０６５未満
４：０．０６５以上、０．０７５未満
３：０．０８０以上０．０９０未満
２：０．０９０以上０．１００未満
１：０．１００以上 [Electrical property evaluation]
The obtained photosensitive composition was applied to a glass substrate (Eagle 2000 manufactured by Corning Inc.) measuring 100 mm long x 100 mm wide and 0.7 mm thick using a spin coating method so that the film thickness after drying was 2.0 μm. and dried on a hot plate at 70°C for 1 minute. Next, this substrate was cooled to room temperature, exposed to light using an ultra-high pressure mercury lamp at an illuminance of 30 mW/cm ² and 100 mJ/cm ² , and heated in a clean oven at 100° C. for 60 minutes. After cooling, an Au vapor deposition agent was deposited on the coating film using a magnetron sputtering device in an area of 3.464×10 ⁻⁴ m ⁻² to obtain a substrate for evaluating electrical characteristics.
Light was irradiated from the surface opposite to the coated surface of the obtained electrical property evaluation substrate under conditions such that the brightness of the irradiated surface was 1000 cd/m ² , and the coated surface was measured using an impedance analyzer (manufactured by Solartron). The value of the dielectric loss tangent at a frequency of 20 Hz was measured using a 1260 model. The evaluation criteria are as follows, and 3 or more is practical.
5: Less than 0.065 4: 0.065 or more and less than 0.075 3: 0.080 or more and less than 0.090 2: 0.090 or more and less than 0.100 1: 0.100 or more

［耐溶剤性評価］
得られた感光性組成物を、スピンコート法により縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製イーグル２０００）に、乾燥後の膜厚が２．０μｍとなるように塗工し、７０℃１分間ホットプレートで乾燥した。次いで、この基板を室温に冷却後、超高圧水銀灯を用い、１００μｍ幅のストライプパターンのフォトマスクを介して照度３０ｍＷ／ｃｍ^２、１００ｍＪ／ｃｍ^２で露光した。その後、この基板を２３℃の非イオン系界面活性剤０．１２質量％と水酸化カリウム０．０４質量％とを含む水系現像液を用いてスプレー現像した後、イオン交換水で洗浄、風乾し、クリーンオーブンで１００℃６０分間加熱した。スプレー現像は、それぞれの感光性組成物での被膜について、現像残りなくパターン形成可能な最短時間で行った。
得られた評価基板を、室温で１５分間プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに浸漬後、イオン交換水で洗浄、風乾して、幅１００μｍのストライプパターン部分について光学顕微鏡を用いて観察した。評価基準は、以下の通りであり、３以上を実用可能とする。
５：外観、色に変化がない。
４：わずかにシワ等が発生するが、色に変化はない。
３：一部にシワ等が発生するが、色に変化はない。
２：全面にシワ等が発生し、少し退色する。
１：剥がれや退色が発生。 [Solvent resistance evaluation]
The obtained photosensitive composition was applied to a glass substrate (Eagle 2000 manufactured by Corning Inc.) measuring 100 mm long x 100 mm wide and 0.7 mm thick using a spin coating method so that the film thickness after drying was 2.0 μm. and dried on a hot plate at 70°C for 1 minute. Next, after cooling this substrate to room temperature, it was exposed to light at an illuminance of 30 mW/cm ² and 100 mJ/cm ² using an ultra-high pressure mercury lamp through a photomask with a stripe pattern of 100 μm width. Thereafter, this substrate was spray developed using an aqueous developer containing 0.12% by mass of a nonionic surfactant and 0.04% by mass of potassium hydroxide at 23°C, then washed with ion-exchanged water, and air-dried. , and heated in a clean oven at 100°C for 60 minutes. Spray development was carried out for the coating film of each photosensitive composition for the shortest time possible to form a pattern without any development residue.
The obtained evaluation board was immersed in propylene glycol monomethyl ether acetate for 15 minutes at room temperature, washed with ion-exchanged water, air-dried, and the striped pattern portion with a width of 100 μm was observed using an optical microscope. The evaluation criteria are as follows, and scores of 3 or higher are considered practical.
5: No change in appearance or color.
4: Slight wrinkles, etc. occur, but no change in color.
3: Wrinkles etc. occur in some areas, but there is no change in color.
2: Wrinkles etc. occur on the entire surface and the color fades a little.
1: Peeling and discoloration occur.

１００赤外線センサ
１１０固体撮像素子
１１１赤外線カットフィルタ
１１２カラーフィルタ
１１３赤外線透過フィルタ
１１４樹脂膜
１１５マイクロレンズ
１１６平坦膜

100 Infrared sensor 110 Solid-state image sensor 111 Infrared cut filter 112 Color filter 113 Infrared transmission filter 114 Resin film 115 Micro lens 116 Flat film

Claims

着色剤（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、及び重合開始剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、
前記重合開始剤（Ｄ）が、下記一般式（１）で表される重合開始剤（Ｄ１）、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中での波長３６５ｎｍの光の吸光係数が５．０×１０^３Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以上のオキシムエステル基を１個有するベンゾフラン構造を有するオキシム化合物、カルバゾール構造を有するオキシム化合物、及びフルオレン構造を有するオキシム化合物からなる群から選ばれる１種以上の重合開始剤（Ｄ２）を含む、感光性組成物。
一般式（１）

（一般式（１）中、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立してカルボニル結合、又は単結合を表す。Ｒ^１は、炭素数１～２０のアルキル基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～３０の複素環、炭素数６～３０のアリール基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表す。Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立して炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～３０の複素環基、炭素数６～３０のアリール基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表す。） A photosensitive composition comprising a colorant (A), an alkali-soluble resin (B), a polymerizable compound (C), and a polymerization initiator (D),
The polymerization initiator (D) is a polymerization initiator (D1) represented by the following general formula (1), and has an extinction coefficient of light with a wavelength of 365 nm in propylene glycol monomethyl ether acetate of 5.0 × 10 ³ L One or more polymerization initiators (D2 ) selected from the group consisting of oxime compounds having a benzofuran structure, oxime compounds having a carbazole structure, and oxime compounds having a fluorene structure, each having one oxime ester group of /mol cm or more. A photosensitive composition comprising.
General formula (1)

(In general formula (1), X ¹ and X ² each independently represent a carbonyl bond or a single bond. R ¹ is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms. R ² and R ³ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a heterocycle having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an aryl group having 7 to 30 carbon atoms. 30 represents an arylalkyl group. R ⁴ and R ⁵ each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms. Represents an arylalkyl group of 7 to 30.)

着色剤（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、及び重合開始剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、
前記重合開始剤（Ｄ）が、下記一般式（１）で表される重合開始剤（Ｄ１）、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中での波長３６５ｎｍの光の吸光係数が５．０×１０ ^３Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以上のオキシムエステル基を１個有する重合開始剤（Ｄ２）を含み、
前記重合開始剤（Ｄ２）が、下記式（Ｄ２－１）～（Ｄ２－９）及び（Ｄ２－１１）からなる群より選択される１種以上を含む、感光性組成物。
一般式（１）

（一般式（１）中、Ｘ ^１及びＸ ^２は、それぞれ独立してカルボニル結合、又は単結合を表す。Ｒ ^１は、炭素数１～２０のアルキル基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表す。Ｒ ^２及びＲ ^３は、それぞれ独立して水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～３０の複素環、炭素数６～３０のアリール基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表す。Ｒ ^４及びＲ ^５は、それぞれ独立して炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～３０の複素環基、炭素数６～３０のアリール基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表す。）

A photosensitive composition comprising a colorant (A), an alkali-soluble resin (B), a polymerizable compound (C), and a polymerization initiator (D),
The polymerization initiator (D) is a polymerization initiator (D1) represented by the following general formula (1), and has an extinction coefficient of light with a wavelength of 365 nm in propylene glycol monomethyl ether acetate of 5.0 × 10 ³ Contains a polymerization initiator (D2) having one oxime ester group of L/mol cm or more,
A photosensitive composition in which the polymerization initiator (D2) contains one or more selected from the group consisting of the following formulas (D2-1) to (D2-9) and (D2-11).
General formula (1)

(In general formula (1), X ¹ and X ² each independently represents a carbonyl bond or a single bond. R ¹ represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms. R ² and R ³ each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a heterocycle having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms. R ⁴ and R ⁵ each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms. )

前記一般式（１）で表される重合開始剤（Ｄ１）の含有量が、前記重合開始剤（Ｄ）１００質量％中、１０～９０質量％である、請求項１または２に記載の感光性組成物。The photosensitive material according to claim 1 or 2, wherein the content of the polymerization initiator (D1) represented by the general formula (1) is 10 to 90% by mass in 100% by mass of the polymerization initiator (D). sexual composition.

前記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）が、ブロックイソシアネート基含有単量体単位（ｂ１）及び水酸基含有単量体単位（ｂ２）を有するアルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）を含む、請求項１または２に記載の感光性組成物。 The photosensitive material according to claim 1 or 2 , wherein the alkali-soluble resin (B) includes an alkali-soluble resin (B1) having a blocked isocyanate group-containing monomer unit (b1) and a hydroxyl group-containing monomer unit (b2). sexual composition.

前記着色剤（Ａ）の含有量が、不揮発分１００質量％中、２５質量％以上である、請求項１または２に記載の感光性組成物。 The photosensitive composition according to claim 1 or 2 , wherein the content of the colorant (A) is 25% by mass or more based on 100% by mass of nonvolatile content.

請求項１または２に記載の感光性組成物から形成されてなる膜。 A film formed from the photosensitive composition according to claim 1 or 2 .

請求項６に記載の膜を有する光学フィルタ。 An optical filter comprising the film according to claim 6.

請求項７に記載の光学フィルタを有する固体撮像素子。 A solid-state imaging device comprising the optical filter according to claim 7.

請求項７に記載の光学フィルタを有する画像表示装置。 An image display device comprising the optical filter according to claim 7.

請求項７に記載の光学フィルタを有する赤外線センサ。
An infrared sensor comprising the optical filter according to claim 7.