JP7423804B2 - マルチビーム検査システム用のビーム・アレイ・ジオメトリ最適化装置 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2020年3月5日に出願された米国特許出願第62/985,669号の優先権を主張するものであり、該出願はその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
1.微小電気機械システム(MEMS)構造であって、
第1の走査モードで使用されるように構成されたアパーチャの第1の2次元(2D)の組と、
第1の走査モードとは異なる第2の走査モードで使用されるように構成されたアパーチャの第2の2Dの組と、を含み、
アパーチャの第2の2Dの組は、アパーチャの第1の2Dの組と部分的に重なる、微小電気機械システム(MEMS)構造。
2.アパーチャの第1の2Dの組は、ギザギザの縁をした矩形形状を形成するアパーチャのアレイを含む、条項1に記載の構造。
3.アパーチャの第1の2Dの組は、第2の走査モードでは使用されないアパーチャを含み、アパーチャの第2の2Dの組は、第1の走査モードでは使用されないアパーチャを含む、条項1に記載の構造。
4.アパーチャの第1の2Dの組は、
アパーチャの第1の列と、
アパーチャの第2の列と、
アパーチャの第3の列と、
アパーチャの第4の列と、を含み、
第1、第2、第3、及び第4の列は、第1の方向において互いに平行であり、
第1及び第3の列は、第1の方向に垂直な第2の方向において、第2及び第4の列からオフセットされている、条項1~3の何れか一項に記載の構造。
5.オフセットは、第2の方向において重なっていないアパーチャを含む、条項3に記載の構造。
6.第1及び第3の列は、第1の長さを有し、第2及び第4の列は第2の長さを有し、第1の長さは第2に方向において第2の長さよりも長い、条項4~5の何れか一項に記載の構造。
7.第1の列、第2の列、第3の列、及び第4の列は、第1の方向において交互になっている、条項6に記載の構造。
8.アパーチャの第2の2Dの組は、六角形の形状を形成するアパーチャのアレイを含む、条項1~7の何れか一項に記載の構造。
9.第1の走査モードは、連続走査モードである、条項1~8の何れか一項に記載の構造。
10.アパーチャの第1の2Dの組は、連続走査モードで動作する場合に回転されるように構成されている、条項9に記載の構造。
11.第2の走査モードはリープアンドスキャンモードである、条項1~10の何れか一項に記載の構造。
12.微小電気機械システム(MEMS)構造であって、
ギザギザの縁をした矩形形状を形成するアパーチャのアレイを含む、アパーチャの第1の2次元(2D)の組と、
六角形の形状を形成するアパーチャのアレイを含む、アパーチャの第2の2Dの組と、を含み、
アパーチャの第2の2Dの組は、アパーチャの第1の2Dの組と部分的に重なり、
アパーチャの第1の2Dの組は第1の走査モードで使用されるように構成され、アパーチャの第2の2Dの組は、第1の走査モードとは異なる第2の走査モードで使用されるように構成されている、微小電気機械システム(MEMS)構造。
13.アパーチャの第1の2Dの組は、第2の走査モードでは使用されないアパーチャを含み、アパーチャの第2の2Dの組は、第1の走査モードでは使用されないアパーチャを含む、条項12に記載の構造。
14.アパーチャの第1の2Dの組は、
アパーチャの第1の列と、
アパーチャの第2の列と、
アパーチャの第3の列と、
アパーチャの第4の列と、を含み、
第1、第2、第3、及び第4の列は、第1の方向において互いに平行であり、
第1及び第3の列は、第1の方向に垂直な第2の方向において、第2及び第4の列からオフセットされている、条項12~13の何れか一項に記載の構造。
15.オフセットは、第2の方向において重なっていないアパーチャを含む、条項14に記載の構造。
16.第1及び第3の列は第1の長さを有し、第2及び第4の列は第2の長さを有し、第1の長さは第2に方向において第2の長さよりも長い、条項14~15の何れか一項に記載の構造。
17.第1の列、第2の列、第3の列、及び第4の列は、第1の方向において交互になっている、条項16に記載の構造。
18.第1の走査モードは、連続走査モードである、条項12~17の何れか一項に記載の構造。
19.アパーチャの第1の2Dの組は、連続走査モードで動作する場合に回転されるように構成されている、条項18に記載の構造。
20.第2の走査モードはリープアンドスキャンモードである、条項12~19の何れか一項に記載の構造。
21.微小電気機械システム(MEMS)構造であって、
ギザギザの角部のアパーチャの4つの組を備えた六角形の形状を形成するアパーチャアレイを含み、
ギザギザの角部のアパーチャの各組は、
第1の方向に延びる2列のアパーチャを含み、この2列のアパーチャは第1の方向に垂直な第2の方向においてオフセットされており、
各列は、六角形の形状の第1の辺から第1の方向に延びており、六角形の形状の第1の辺は、第1の方向に延びる六角形の形状の第2の辺から90度よりも大きく第3の方向に延びている、微小電気機械システム(MEMS)構造。
22.アレイは、ギザギザの縁をした矩形形状を形成するアパーチャの第1の2Dの組を含む、条項21に記載の構造。
23.ギザギザの縁をした矩形形状は、六角形の形状を形成するアパーチャの少なくとも一部、及びギザギザの角部のアパーチャの4つの組を含む、条項22に記載の構造。
24.アレイは、六角形の形状を形成するアパーチャの第2の2Dの組を含む、条項21~23の何れか一項に記載の構造。
25.アパーチャの第1の2Dの組は、第2の走査モードでは使用されないアパーチャを含み、アパーチャの第2の2Dの組は、第1の走査モードでは使用されないアパーチャを含む、条項22~24の何れか一項に記載の構造。
26.オフセットは、第2の方向において重なっていないアパーチャを含む、条項21~25の何れか一項に記載の構造。
27.第1の走査モードは、連続走査モードである、条項25~26の何れか一項に記載の構造。
28.アパーチャの第1の2Dの組は、連続走査モードで動作する場合に回転されるように構成されている、条項25~27の何れか一項に記載の構造。
29.第2の走査モードはリープアンドスキャンモードである、条項25~28の何れか一項に記載の構造。
30.微小電気機械システム(MEMS)構造であって、
アパーチャの第1の列と、
アパーチャの第1の列の下に配置されたアパーチャの第2の列と、
アパーチャの第2の列の下に配置されたアパーチャの第3の列と、
アパーチャの第3の列の下に配置されたアパーチャの第4の列と、を含み、
第1、第2、第3、及び第4の列は、第1の方向において互いに平行であり、
第1及び第3の列は、第1の方向に垂直な第2の方向において、第2及び第4の列からオフセットされている、微小電気機械システム(MEMS)構造。
31.第1及び第3の列は第1の長さを有し、第2及び第4の列は第2の長さを有し、第1の長さは第2に方向において第2の長さよりも長い、条項30に記載の構造。
32.第1の列、第2の列、第3の列、及び第4の列は、第1の方向において交互になっている、条項31に記載の構造。
33.構造は、マルチビーム検査システムの連続走査モードで使用されるように構成されている、条項30~32の何れか一項に記載の構造。
34.構造は、連続走査モードで動作する場合に回転されるように構成されている、条項33に記載の構造。
35.微小電気機械システム(MEMS)構造であって、
第1の構造であって、
アパーチャの第1の列と、
アパーチャの第2の列と、
アパーチャの第3の列と、
アパーチャの第4の列と、を含み、
第1、第2、第3、及び第4の列は、第1の方向に互いにおいて平行であり、
第1及び第3の列は、第1の方向に垂直な第2の方向において、第2及び第4の列からオフセットされている、第1の構造と、
六角形の形状を形成するアパーチャのアレイを含む、第2の構造と、を含み、
第1の構造は第2の構造の上に重ねられている、微小電気機械システム(MEMS)構造。
36.第1及び第3の列は第1の長さを有し、第2及び第4の列は第2の長さを有し、第1の長さは第2に方向において第2の長さよりも長い、条項35に記載のMEMS構造。
37.第1の列、第2の列、第3の列、及び第4の列は、第1の方向において交互になっている、条項36に記載のMEMS構造。
38.第1の構造は、マルチビーム検査システムの連続走査モードで使用されるように構成されている、条項35~37の何れか一項に記載のMEMS構造。
39.第1の構造は、連続走査モードで動作する場合に回転されるように構成されている、条項38に記載のMEMS構造。
40.第2の構造は、マルチビーム検査システムのリープアンドスキャンモードで使用されるように構成されている、条項35~39の何れか一項に記載のMEMS構造。
41.ステージ上に配置されたウェーハを検査するための複数のビームを生成するための荷電粒子マルチビームシステムであって、
第1の構造であって、
アパーチャの第1の列と、
アパーチャの第2の列と、
アパーチャの第3の列と、
アパーチャの第4の列と、を含み、
第1、第2、第3、及び第4の列は、第1の方向において互いに平行であり、
第1及び第3の列は、第1の方向に垂直な第2の方向において、第2及び第4の列からオフセットされている、第1の構造と、
六角形の形状を形成するアパーチャのアレイを含む、第2の構造と、
第1の構造を使用する連続走査検査、又は第2の構造を使用するリープアンドスキャン検査を実施するように構成された回路を含むコントローラと、を含む、荷電粒子マルチビームシステム。
42.第1及び第3の列は第1の長さを有し、第2及び第4の列は第2の長さを有し、第1の長さは第2に方向において第2の長さよりも長い、条項41に記載のシステム。
43.第1の列、第2の列、第3の列、及び第4の列は、第1の方向において交互になっている、条項42に記載のシステム。
44.回路は、連続走査検査を実施する場合に第1の構造を回転させるように更に構成されている、条項41~43の何れか一項に記載のシステム。
45.ステージ上に配置されたウェーハを検査するための方法であって、
ウェーハを検査するために、第1の走査モード及び第2の走査モードから走査モードを選択することであって、
第1の走査モードでは、アパーチャアレイのアパーチャの第1の2次元(2D)の組を使用して、ウェーハを検査し、
第2の走査モードでは、アパーチャアレイのアパーチャの第2の2Dの組を使用して、ウェーハを検査し、ここで、アパーチャの第2の2Dの組は、アパーチャの第1の2Dの組と部分的に重なる、ことと、
選択された走査モードに基づいて、アパーチャアレイを構成することと、を含む方法。
46.アパーチャの第1の2Dの組は、ギザギザの縁をした矩形形状を形成するアパーチャのアレイを含む、条項45に記載の方法。
47.アパーチャの第1の2Dの組は、第2の走査モードでは使用されないアパーチャを含み、アパーチャの第2の2Dの組は、第1の走査モードでは使用されないアパーチャを含む、条項45に記載の方法。
48.アパーチャの第1の2Dの組は、
アパーチャの第1の列と、
アパーチャの第2の列と、
アパーチャの第3の列と、
アパーチャの第4の列と、を含み、
第1、第2、第3、及び第4の列は、第1の方向において互いに平行であり、
第1及び第3の列は、第1の方向に垂直な第2の方向において、第2及び第4の列からオフセットされている、条項45~47の何れか一項に記載の方法。
49.オフセットは、第2の方向において重なっていないアパーチャを含む、条項47に記載の方法。
50.第1及び第3の列は第1の長さを有し、第2及び第4の列は第2の長さを有し、第1の長さは第2に方向において第2の長さよりも長い、条項48~49の何れか一項に記載の方法。
51.第1の列、第2の列、第3の列、及び第4の列は、第1の方向において交互になっている、条項50に記載の方法。
52.アパーチャの第2の2Dの組は、六角形の形状を形成するアパーチャのアレイを含む、条項45~51の何れか一項に記載の方法。
53.第1の走査モードは、連続走査モードである、条項45~52の何れか一項に記載の方法。
54.アパーチャの第1の2Dの組は、連続走査モードで動作する場合に回転されるように構成されている、条項53に記載の方法。
55.第2の走査モードはリープアンドスキャンモードである、条項45~54の何れか一項に記載の方法。
Claims (13)
- 微小電気機械システム(MEMS)構造であって、
第1の走査モードで使用されるように構成されたアパーチャの第1の2次元(2D)の組と、
前記第1の走査モードとは異なる第2の走査モードで使用されるように構成されたアパーチャの第2の2Dの組と、を含み、
アパーチャの前記第2の2Dの組は、アパーチャの前記第1の2Dの組と部分的に重なり、
アパーチャの前記第1の2Dの組は、前記第2の走査モードでは使用されないアパーチャを含み、アパーチャの前記第2の2Dの組は、前記第1の走査モードでは使用されないアパーチャを含む、
微小電気機械システム(MEMS)構造。 - アパーチャの前記第1の2Dの組は、ギザギザの縁をした矩形形状を形成するアパーチャのアレイを含む、請求項1に記載の構造。
- アパーチャの前記第1の2Dの組は、
アパーチャの第1の列と、
アパーチャの第2の列と、
アパーチャの第3の列と、
アパーチャの第4の列と、を含み、
前記第1、前記第2、前記第3、及び前記第4の列は、第1の方向において互いに平行であり、
前記第1及び前記第3の列は、前記第1の方向に垂直な第2の方向において、前記第2及び前記第4の列からオフセットされている、請求項1に記載の構造。 - 前記オフセットは、前記第2の方向において重なっていないアパーチャを含む、請求項3に記載の構造。
- 前記第1及び前記第3の列は第1の長さを有し、前記第2及び前記第4の列は第2の長さを有し、前記第1の長さは前記第2の方向において前記第2の長さよりも長い、請求項3に記載の構造。
- 前記第1の列、前記第2の列、前記第3の列、及び前記第4の列は、前記第1の方向において交互になっている、請求項5に記載の構造。
- アパーチャの前記第2の2Dの組は、六角形の形状を形成するアパーチャのアレイを含む、請求項1に記載の構造。
- 前記第1の走査モードは、連続走査モードである、請求項1に記載の構造。
- アパーチャの前記第1の2Dの組は、前記連続走査モードで動作する場合に回転されるように構成されている、請求項8に記載の構造。
- 前記第2の走査モードはリープアンドスキャンモードである、請求項1に記載の構造。
- ステージ上に配置されたウェーハを検査するための方法であって、
前記ウェーハを検査するために、第1の走査モード及び第2の走査モードから走査モードを選択することであって、
前記第1の走査モードでは、アパーチャアレイのアパーチャの第1の2次元(2D)の組を使用して、前記ウェーハを検査し、
前記第2の走査モードでは、前記アパーチャアレイのアパーチャの第2の2Dの組を使用して、前記ウェーハを検査し、アパーチャの前記第2の2Dの組は、アパーチャの前記第1の2Dの組と部分的に重なる、ことと、
前記選択された走査モードに基づいて、前記アパーチャアレイを構成することと、を含み、
アパーチャの前記第1の2Dの組は、前記第2の走査モードでは使用されないアパーチャを含み、アパーチャの前記第2の2Dの組は、前記第1の走査モードでは使用されないアパーチャを含む、
方法。 - アパーチャの前記第1の2Dの組は、ギザギザの縁をした矩形形状を形成するアパーチャのアレイを含む、請求項11に記載の方法。
- アパーチャの前記第1の2Dの組は、
アパーチャの第1の列と、
アパーチャの第2の列と、
アパーチャの第3の列と、
アパーチャの第4の列と、を含み、
前記第1、前記第2、前記第3、及び前記第4の列は、第1の方向において互いに平行であり、
前記第1及び前記第3の列は、前記第1の方向に垂直な第2の方向において、前記第2及び前記第4の列からオフセットされている、請求項11に記載の方法。
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