JP7406977B2 - 光学積層体の製造方法 - Google Patents
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〔1〕 光学積層体の製造方法であって、
前記光学積層体は、光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
前記製造方法は、
前記光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、前記位相差層とを、前記活性エネルギー線硬化性接着剤層と前記位相差層とが接するように積層する工程と、
下記(1)~(3):
(1)30℃以上の温度で2時間以上保持する、
(2)振動条件下で2時間以上保持する、
(3)48時間以上保持する
のいずれか1以上を満たす条件下で保持する工程と、
前記活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて前記硬化接着剤層を形成する工程と、
をこの順に含む、光学積層体の製造方法。
〔2〕 光学積層体の製造方法であって、
前記光学積層体は、光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
前記製造方法は、
基材フィルムと、これに接して積層される前記位相差層とを含む積層体を用意する工程と、
50m/分以上の剥離速度で前記位相差層から前記基材フィルムを剥離する工程と、
前記基材フィルムを剥離した後の前記位相差層の剥離面に、活性エネルギー線硬化性接着剤層を介して光学フィルムを積層する工程と、
前記活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて前記硬化接着剤層を形成する工程と、
をこの順に含む、光学積層体の製造方法。
〔3〕 前記光学フィルムが直線偏光子を含む、〔1〕又は〔2〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔4〕 前記積層工程において、前記光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、前記位相差層とを、前記直線偏光子と前記活性エネルギー線硬化性接着剤層とが接するように積層する、〔3〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔5〕 光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
前記硬化接着剤層と前記位相差層とは接しており、
前記位相差層における前記硬化接着剤層側の表面は、下記(a)~(d):
(a)算術平均粗さSaが0.065μm以上である、
(b)二乗平均平方根高さSqが0.085μm以上である、
(c)界面の展開面積比Sdrが0.2%以上である、
(d)二法平均平方根傾斜Sdqが0.065以上である
のいずれか1以上を満たす、光学積層体。
〔6〕 前記光学フィルムが直線偏光子を含む、〔5〕に記載の光学積層体。
〔7〕 前記直線偏光子と前記硬化接着剤層とが接している、〔6〕に記載の光学積層体。
本発明に係る製造方法によって製造される光学積層体は、光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層(以下、単に「硬化接着剤層」ともいう。)と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層(以下、単に「位相差層」ともいう。)とをこの順に備えるものである。
本発明に係る製造方法によって製造される光学積層体は、有機EL表示装置等の画像表示装置に好適に適用することができる。
以下に示す各実施形態において、各工程に用いるフィルム又は層として長尺物を用い、各工程を連続的に行ってもよいし、各工程に用いるフィルム又は層として枚葉物を用い、各工程を非連続的に行ってもよい。枚葉物は、長尺物から裁断したものであってよい。
本実施形態に係る光学積層体の製造方法は、下記の工程を記載順に含む。
光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とを、活性エネルギー線硬化性接着剤層と位相差層とが接するように積層する工程〔積層工程〕、
下記(1)~(3):
(1)30℃以上の温度で2時間以上保持する、
(2)振動条件下で2時間以上保持する、
(3)48時間以上保持する
のいずれか1以上を満たす条件下で保持する工程〔保持工程〕、及び
活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて硬化接着剤層を形成する工程〔硬化工程〕。
図1は、本実施形態における積層工程によって得られる積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。積層工程は、光学フィルム10と位相差層30とを、活性エネルギー線硬化性接着剤層20(以下、単に「接着剤層」ともいう。)を介して積層する工程である。本明細書において活性エネルギー線硬化性接着剤層とは、活性エネルギー線硬化性接着剤で構成される層をいう。活性エネルギー線硬化性接着剤としては、位相差層30及び光学フィルム10を接着する能力を有するものが用いられる。
積層工程によって得られる積層体において、接着剤層20の厚みは、通常0.5μm以上50μm以下であり、皺欠陥を抑制する観点、光学フィルム10と位相差層30との間の接着性の観点、及び得られる光学積層体の薄型化の観点から、好ましくは1μm以上30μm以下、より好ましくは2μm以上20μm以下である。
光学フィルム10が直線偏光板である場合、積層工程によって得られる積層体において、好ましくは、直線偏光板に含まれる直線偏光子と接着剤層20とが接している。
光学フィルム10及び活性エネルギー線硬化性接着剤については、後掲の<光学積層体>の項でより詳細に説明する。
本明細書において位相差層30は、位相差発現層からなっていてもよいし、位相差発現層と配向層とを含んでいてもよい。
位相差層、位相差発現層、配向層及び位相差層積層体等については、後掲の<光学積層体>の項でより詳細に説明する。
保持工程は、積層工程によって得られた積層体を特定の条件下に保持する工程である。保持する際の具体的態様は特に制限されないが、上記特定の条件下に上記積層体を静置することが挙げられる。
(1)30℃以上の温度で2時間以上保持する、
(2)振動条件下で2時間以上保持する、
(3)48時間以上保持する
のいずれか1以上を満たす条件下である。
積層工程によって硬化前の接着剤層20に位相差層30が接触した状態となり、続く保持工程において上記特定の条件下でこの状態が保持される。硬化前の活性エネルギー線硬化性接着剤は、硬化後は位相差層30に対して接着力を発揮することから、位相差層30との間に相互作用が働くと認められる。位相差層30との間に相互作用が働く活性エネルギー線硬化性接着剤が上記特定の条件下で位相差層30に接触する状態が続くと、位相差層30の該接着剤との接触面(図1に示される表面X)が荒れると考えられる。このような位相差層30の表面の荒れは、接着剤層20との密着力を向上させる。
上記密着力が向上すると、硬化接着剤層(硬化後の接着剤層)と位相差層30とは、光学積層体を湾曲させたときに一体となって変形するため、皺欠陥の発生が抑制されやすくなるものと考えられる。
本実施形態に係る製造方法は、得られる光学積層体において、後述する虹ムラを抑制するうえでも有利である。
該振動の周波数は、皺欠陥の発生を抑制する観点から、好ましくは5Hz以上であり、より好ましくは10Hz以上である。該振動の周波数は、積層体を構成する各層が互いに部分的に剥離する、いわゆる浮きの発生を抑制する観点から、好ましくは50Hz以下であり、より好ましくは40Hz以下である。
該振動の振幅は、皺欠陥の発生を抑制する観点から、好ましくは0.5mm以上であり、より好ましくは1mm以上である。該振動の振幅は、積層体を構成する各層が互いに部分的に剥離する、いわゆる浮きの発生を抑制する観点から、好ましくは30mm以下であり、より好ましくは10mm以下である。
図2を参照して、本工程において、活性エネルギー線の照射により接着剤層20を硬化させて硬化接着剤層20aを形成することによって光学積層体を得ることができる。照射する活性エネルギー線の種類は、接着剤層20を構成する活性エネルギー線硬化性接着剤に含まれる硬化性成分の感応波長等に応じて適切に選択される。活性エネルギー線は、好ましくは紫外線である。
本実施形態に係る光学積層体の製造方法は、下記の工程を記載順に含む。
基材フィルムと、これに接して積層される位相差層とを含む積層体を用意する工程〔準備工程〕、
50m/分以上の剥離速度で位相差層から基材フィルムを剥離する工程〔剥離工程〕、
基材フィルムを剥離した後の位相差層の剥離面に、活性エネルギー線硬化性接着剤層を介して光学フィルムを積層する工程〔積層工程〕、
活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて硬化接着剤層を形成する工程〔硬化工程〕。
上述のように、位相差層30は位相差発現層(重合性液晶化合物の硬化物層)を含むものであり、位相差発現層からなっていてもよいし、位相差発現層と配向層とを含んでいてもよい。したがって、本工程において用意される、基材フィルムと、これに接して積層される位相差層とを含む積層体は、例えば、基材フィルム/配向層/位相差発現層の層構成を有していてもよいし、基材フィルム/位相差発現層の層構成を有していてもよい。
基材フィルム、位相差層、位相差発現層、配向層及び位相差層積層体等については、後掲の<光学積層体>の項でより詳細に説明する。
本工程は、50m/分以上の剥離速度で位相差層30から基材フィルム41を剥離する工程である。
剥離速度は、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは60m/分以上であり、より好ましくは70m/分以上であり、さらに好ましくは80m/分以上であり、特に好ましくは90m/分以上である。剥離速度は、通常150m/分以下であり、基材フィルムの破断防止の観点から、好ましくは120m/分以下である。
剥離角度とは、基材フィルム41が剥離されるときの積層体の面方向又は搬送方向と、剥離される基材フィルム41の面方向又は搬送方向とがなす角度をいう。
準備工程で用意される積層体が基材フィルム41と位相差発現層31とを有し、配向層32を有しない場合においては、本工程により、積層体の表面に位相差発現層31の表面が露出する。
本工程は、基材フィルム41を剥離した後の位相差層30の剥離面(露出面)に、活性エネルギー線硬化性接着剤層(接着剤層)20を介して光学フィルム10を積層する工程である。本工程により、図1に示される層構成と同様の層構成を得る。上記剥離面は、配向層32の表面又は位相差発現層31の表面であり得る。活性エネルギー線硬化性接着剤としては、位相差層30及び光学フィルム10を接着する能力を有するものが用いられる。
積層工程によって得られる積層体において、接着剤層20の厚みは、通常0.5μm以上50μm以下であり、皺欠陥を抑制する観点、光学フィルム10と位相差層30との間の接着性の観点、及び得られる光学積層体の薄型化の観点から、好ましくは1μm以上30μm以下、より好ましくは2μm以上20μm以下である。
光学フィルム10及び活性エネルギー線硬化性接着剤については、後掲の<光学積層体>の項でより詳細に説明する。
剥離工程において50m/分以上の剥離速度で位相差層30から基材フィルム41を剥離すると、剥離後の位相差層30の表面(剥離面)が荒れる。このような位相差層30の表面の荒れは、続く積層工程において該表面に接着剤層20を積層・接触させたときに接着剤層20との密着力を向上させる。
上記密着力が向上すると、硬化接着剤層(硬化後の接着剤層)と位相差層30とは、光学積層体を湾曲させたときに一体となって変形するため、皺欠陥の発生が抑制されやすくなるものと考えられる。
本実施形態に係る製造方法は、得られる光学積層体において、後述する虹ムラを抑制するうえでも有利である。
基材フィルム41の表面の粗面化は、該表面を摩擦する方法等により実施できる。
本工程において、活性エネルギー線の照射により接着剤層20を硬化させて硬化接着剤層20aを形成することによって、図2と同様の層構成を有する光学積層体を得ることができる。本工程については、実施形態1の硬化工程についての記述が引用される。
図2を参照して、本発明に係る光学積層体(以下、単に「光学積層体」ともいう。)は、光学フィルム10と、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層20aと、位相差発現層(重合性液晶化合物の硬化物層)を含む位相差層30とをこの順に備える。
光学積層体は、有機EL表示装置等の画像表示装置に好適に適用することができる。
(a)算術平均粗さSaが0.065μm以上である、
(b)二乗平均平方根高さSqが0.085μm以上である、
(c)界面の展開面積比Sdrが0.2%以上である、
(d)二法平均平方根傾斜Sdqが0.065以上である
のいずれか1以上を満たす。
上記(a)~(d)のいずれか1以上を満たす光学積層体が虹ムラを抑制できるのは、光学積層体の内部に入射した光が各層の界面で反射することによって生じる反射光同士の干渉を抑制できるためであると考えられる。
〔1〕光学フィルム
上述のように、光学フィルム10は、単層構造のフィルムであってもよいし、多層構造のフィルムであってもよい。
光学フィルム10としては、例えば、直線偏光板、直線偏光子等を挙げることができる。
直線偏光板は、少なくとも直線偏光子を含む光学素子であり、直線偏光子の少なくとも一方の面に貼合される熱可塑性樹脂フィルム等をさらに含んでいてもよい。直線偏光子とは、無偏光の光を入射させたとき、吸収軸に直交する振動面をもつ直線偏光を透過させる性質を有する光学素子をいう。
単層のポリビニルアルコール樹脂フィルムに二色性色素が吸着配向してなる直線偏光子の厚みは、好ましくは20μm以下であり、より好ましくは15μm以下であり、さらに好ましくは10μm以下である。
上記樹脂のうち、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロースエステル系樹脂及び(メタ)アクリル酸系樹脂のいずれか又はこれらの混合物を用いることが好ましい。
なお、「(メタ)アクリル酸」とは、「アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも1種」を意味する。
熱可塑性樹脂フィルムには、任意の添加剤が添加されていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、及び着色剤等が挙げられる。
接着層を形成する接着剤としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤等が挙げられる。
水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。
活性エネルギー線硬化性接着剤は、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含むもの等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性(メタ)アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものを挙げることができる。
光学フィルム10が片保護偏光板である場合、光学積層体において直線偏光子は、硬化接着剤層20aと接していることが好ましい。
硬化接着剤層20aは、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である。硬化接着剤層20aは、上述の積層工程において形成される活性エネルギー線硬化性接着剤層(接着剤層)20を硬化工程において硬化させることによって形成することができる。
該活性エネルギー線硬化性接着剤としては、上記〔2〕で述べた活性エネルギー線硬化性接着剤と同様のものを用いることができる。
位相差層30は、重合性液晶化合物の硬化物層である位相差発現層31を含み、配向層32をさらに含んでいてもよい。
位相差発現層31の厚みは、通常0.1μm以上10μm以下であり、好ましくは0.2μm以上5μm以下である。
位相差発現層形成用組成物及び位相差発現層に含まれていてもよいレベリング剤としては、例えば、有機変性シリコーンオイルを主成分とするレベリング剤、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤、パーフルオロアルキル等のフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤等を挙げることができる。主成分とは、レベリング剤に含まれる全成分のうち、最も配合量が多い成分をいう。位相差発現層形成用組成物におけるレベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物100質量部に対して、好ましくは0.01質量部以上5質量部以下であり、より好ましくは0.1質量部以上3質量部以下である。
配向層32の厚みは、通常10nm以上500nm以下であり、好ましくは10nm以上200nm以下である。
基材フィルム41の厚みは特に限定されないが、一般には強度や取扱い性等の作業性の観点から、好ましくは1μm以上300μm以下であり、より好ましくは10μm以上200μm以下であり、さらに好ましくは30μm以上120μm以下である。
基材フィルム41には、任意の添加剤が添加されていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、及び着色剤等が挙げられる。
上述のように、光学積層体の製造方法に係る第1実施形態の積層工程及び第2実施形態の準備工程では、位相差層30として、位相差層30と他の位相差層とを含む位相差層積層体とを含む位相差層積層体を用いてもよい。
図5に示される位相差積層体において、配向層32及び配向層72の少なくともいずれか一方を有していなくてもよい。
1/2波長板と1/4波長板との組み合わせである場合において、光学積層体において光学フィルム10により近い側に配置される位相差発現層31が1/2波長板であることが好ましい。
図6は、光学積層体の製造方法に係る第1実施形態又は第2実施形態の積層工程において図5に示される位相差積層体を使用したときに製造される光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。図6に示される光学積層体において、配向層32及び配向層72の少なくともいずれか一方を有していなくてもよい。
接着層61として、粘着剤層を用いることもできる。粘着剤層を形成する粘着剤組成物としては、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン系樹脂等をベースポリマーとし、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物等の架橋剤を加えた組成物を挙げることができる。
光学積層体は、粘着剤層をさらに含むことができる。図7は、粘着剤層80を有する光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。
図7に示される光学積層体は、例えば、図6に示される光学積層体から基材フィルム42を剥離し、その剥離面に粘着剤層を積層することによって製造することができる。粘着剤層の外側の面にセパレートフィルムを積層してもよい。
(1)直線偏光板の作製
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムにヨウ素を吸着・配向させてなる一軸延伸フィルムである直線偏光子〔厚み:8μm〕を準備した。
上記直線偏光子の一方の面にポリビニルアルコール系接着剤を介して第1熱可塑性樹脂フィルムを積層するとともに、上記直線偏光子の他方の面に第2熱可塑性樹脂フィルムを積層し、一対の貼合ロール間に通して、第1熱可塑性樹脂フィルム/ポリビニルアルコール系接着剤層/直線偏光子/第2熱可塑性樹脂フィルムの層構成を有する積層体を得た。直線偏光子と第2熱可塑性樹脂フィルムとの間には接着剤は介在しておらず、第2熱可塑性樹脂フィルムは、剥離可能に直線偏光子に積層されている。
・第1熱可塑性樹脂フィルム:日本製紙(株)製のクリアハードコートフィルムである商品名「COP20ST-HC」(環状ポリオレフィン系樹脂フィルム上にクリアハードコート層が形成されているフィルム、厚み:25μm)
・第2熱可塑性樹脂フィルム:富士フイルム(株)製のトリアセチルセルロース(TAC)フィルムである商品名「フジタック」(厚み:80μm)
下記に示す位相差フィルム1及び2、並びに、活性エネルギー線硬化性接着剤1を用意した。
・1/2波長板である位相差フィルム1:富士フイルム(株)製の商品名「QL FILM QL AA 318」(厚み80μmのTACフィルムである基材フィルム1と、その上に形成される配向層1と、その上に形成される重合性液晶化合物の硬化物層(単層)である位相差発現層1(面内位相差値235nm)とから構成される総厚み2μmの位相差フィルム)
・1/4波長板である位相差フィルム2:富士フイルム(株)製の商品名「QL FILM QL AB 318」(厚み80μmのTACフィルムである基材フィルム2と、その上に形成される配向層2と、その上に形成される重合性液晶化合物の硬化物層(単層)である位相差発現層2(面内位相差値120nm)とから構成される総厚み1μmの位相差フィルム)
・活性エネルギー線硬化性接着剤1:カチオン重合性の紫外線硬化性高屈折率接着剤
上記(1)で得られた直線偏光板が有する第2熱可塑性樹脂フィルムを剥離するとともに、上記(2)で得られた位相差層積層体が有する基材フィルム1を配向層1とともに25m/分の剥離速度で剥離した。基材フィルム1が剥離される位相差層積層体に対する基材フィルム1の剥離角度は180度とした。
第2熱可塑性樹脂フィルムの剥離によって露出した直線偏光子の表面及び基材フィルム1の剥離によって露出した位相差発現層1の表面にコロナ処理を施した。
なお、配向層1は、基材フィルム1とともに剥離除去された。
・活性エネルギー線硬化性接着剤2:カチオン重合性の紫外線硬化性接着剤
得られた光学積層体1は、直線偏光子の吸収軸PLに対する位相差発現層1(1/2波長板)の進相軸SL1の角度が75°であり、位相差発現層2(1/4波長板)の進相軸SL2の角度が15°であった。この光学積層体1は、円偏光板として機能するものであった。
下記に示すシート状粘着剤1を用意した。
・シート状粘着剤1:転写型ノンキャリアフィルム((メタ)アクリル系粘着剤層〔厚み:15μm〕と、その一方の面に積層される軽剥離性フィルムと、その他方の面に積層される重剥離性フィルムとを有する積層フィルム)
なお、配向層2は、基材フィルム2とともに剥離除去された。
保持工程において、積層体を恒温恒湿槽を内壁に貼付し、周波数10Hz、振幅1mmの振動環境下で5時間保持(静置)したこと以外は実施例1と同様にして光学積層体1を作製した。保持工程における温度環境は23℃であった。また、この光学積層体1を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体2を作製した。
保持工程において、積層体を恒温恒湿槽に入れ、温度23℃の環境下で3日間保持(静置)したこと以外は実施例1と同様にして光学積層体1を作製した。保持工程における相対湿度は55%RHであった。また、この光学積層体1を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体2を作製した。
(1)直線偏光板の作製
実施例1と同様にして直線偏光板を作製した。
実施例1と同様にして位相差層積層体を作製した。
上記(1)で得られた直線偏光板が有する第2熱可塑性樹脂フィルムを配向層1とともに剥離するとともに、上記(2)で得られた位相差層積層体が有する基材フィルム1を90m/分の剥離速度で剥離した。基材フィルム1が剥離される位相差層積層体に対する基材フィルム1の剥離角度は180度とした。
これ以降は、保持工程を実施しなかったこと以外は実施例1と同様にして光学積層体1を作製した。
上記(3)で得られた光学積層体1を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体2を作製した。
保持工程において、積層体を恒温恒湿槽に入れ、温度23℃の環境下で5時間保持(静置)したこと以外は実施例1と同様にして光学積層体1を作製した。保持工程における相対湿度は55%RHであった。また、この光学積層体1を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体2を作製した。
保持工程を実施することになく、第1熱可塑性樹脂フィルム/ポリビニルアルコール系接着剤層/直線偏光子/活性エネルギー線硬化性接着剤2の層/位相差発現層1/活性エネルギー線硬化性接着剤1の硬化物層/位相差発現層2/基材フィルム2の層構成を有する積層体を得た後、すぐさま紫外線を照射することによって活性エネルギー線硬化性接着剤2の層を硬化させたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体1を作製した。また、この光学積層体1を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体2を作製した。
(1)粘着剤層付直線偏光板の作製
実施例1と同様にして直線偏光板を作製した。
また、下記に示すシート状粘着剤2を用意した。
・シート状粘着剤2:転写型ノンキャリアフィルム((メタ)アクリル系粘着剤層〔厚み:5μm〕と、その一方の面に積層される軽剥離性フィルムと、その他方の面に積層される重剥離性フィルムとを有する積層フィルム)
その後、直線偏光子の表面(コロナ処理面)に軽剥離性フィルムが剥離されたシート状粘着剤2をそのコロナ処理面側で積層して、第1熱可塑性樹脂フィルム/ポリビニルアルコール系接着剤層/直線偏光子/粘着剤層/重剥離性フィルムの層構成を有する粘着剤層付直線偏光板を得た。
実施例1と同様にして位相差層積層体を作製した。
上記(1)で得られた粘着剤層付直線偏光板が有する重剥離性フィルムを剥離するとともに、上記(2)で得られた位相差層積層体が有する基材フィルム1を配向層1とともに25m/分の剥離速度で剥離した。基材フィルム1が剥離される位相差層積層体に対する基材フィルム1の剥離角度は180度とした。
重剥離性フィルムの剥離によって露出した粘着剤層の表面及び基材フィルム1の剥離によって露出した位相差発現層1の表面にコロナ処理を施した。
なお、配向層1は、基材フィルム1とともに剥離除去された。
上記(3)で得られた光学積層体1を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体2を作製した。
(1)面粗さの測定
光学積層体2から直線偏光子の吸収軸を長さ方向とする長さ50mm(長辺)、幅15mmの矩形状の積層体片を切り出し、重剥離性フィルムを剥離して粘着剤層を露出させ、露出した粘着剤層でアクリル板(黒色)に貼り付けて試験片〔第1熱可塑性樹脂フィルム/ポリビニルアルコール系接着剤層/直線偏光子/活性エネルギー線硬化性接着剤2の硬化物層/位相差発現層1/活性エネルギー線硬化性接着剤1の硬化物層/位相差発現層2/粘着剤層/アクリル板(黒色)の層構成を有する。〕とした。この試験片に第1熱可塑性樹脂フィルム側から光を当てて、ISO 25178に準拠し、走査型白色干渉顕微鏡「VertScan」(日立はテクサイエンス社製)により層断面解析モードで、光学積層体1が有する位相差層(位相差発現層1)における直線偏光子側の表面の算術平均粗さSa、二乗平均平方根高さSq、界面の展開面積比Sdr、及び、二法平均平方根傾斜Sdqを測定した。結果を表1に示す。測定条件は以下のとおりであった。
カメラ :ソニー社製「XCL-32」
対物レンズ :5CTI
鏡胴 :1.0X
ズームレンズ:1X
光源 :530White
測定デバイス:ピエゾ
測定モード :Wave
光学積層体1から、直線偏光子の吸収軸を長さ方向とする長さ50mm(長辺)、幅15mm(短辺)の試験片(矩形)を切り出した。
図8に示すように、この試験片(S)を2つの短辺(S1)同士が互いに向き合うように湾曲させて長辺方向中央部に湾曲部(C)を形成し、この状態を保ちながら互いに平行に配置された2枚のガラス板(平板状)(G)の間に保持しながら、2枚のガラス板(G)の間隔を縮小することにより試験片の湾曲部の曲率直径(R)が10mmとなるまで狭める縮小工程と、次いで湾曲状態が解消するまで2枚のガラス板の間隔を拡げる拡張工程とを10回繰り返す10mm屈曲試験を行った。なお、試験片(S)の2つの短辺(S1)はそれぞれガラス板(G)に固定した。
10mm屈曲試験後に試験片に皺欠陥が生じなかった場合は、同じ試験片について更に屈曲部の曲率直径Rを5mmとすること以外は上記と同様に縮小工程と拡張工程とを10回繰り返す5mm屈曲試験を行った。
5mm屈曲試験後に試験片に皺欠陥が生じなかった場合は、同じ試験片について更に屈曲部の曲率直径Rを4mmとすること以外は上記と同様に縮小工程と拡張工程とを10回繰り返す4mm屈曲試験を行った。
4mm屈曲試験後に試験片に皺欠陥が生じなかった場合は、同じ試験片について更に屈曲部の曲率直径Rを3mmとすること以外は上記と同様に縮小工程と拡張工程とを10回繰り返す3mm屈曲試験を行った。
3mm屈曲試験後に試験片に皺欠陥が生じなかった場合は、同じ試験片について更に屈曲部の曲率直径Rを2mmとすること以外は上記と同様に縮小工程と拡張工程とを10回繰り返す2mm屈曲試験を行った。
A:10mm屈曲試験からスタートし、2mm屈曲試験を終えても皺欠陥が認められない。
B:10mm屈曲試験からスタートし、3mm屈曲試験を終えても皺欠陥は認められなかったが、引き続き2mm屈曲試験を行うと、皺欠陥が発生した。
C:10mm屈曲試験からスタートし、4mm屈曲試験を終えても皺欠陥は認められなかったが、引き続き3mm屈曲試験を行うと、皺欠陥が発生した。
光学積層体2から、縦100mm×横100mmのサイズの試験片(矩形)を切り出した。この試験片から重剥離性フィルムを剥離し、露出した粘着剤層を用いて平坦な黒色アクリル板に貼合した。また、光学積層体2の最上層である第1熱可塑性樹脂フィルム上に水膜を介してガラス板〔コーニング社製の無アルカリガラス「イーグルXG」、厚み0.7mm〕を積層し、評価用積層体とした。
A:反射光に虹ムラが認められない。
B:反射光にごくわずかに虹ムラが認められる。
C:反射光に虹ムラが認められる(Bよりも明確に虹ムラが認められる)。
Claims (6)
- 光学積層体の製造方法であって、
前記光学積層体は、光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
前記製造方法は、
前記光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、前記位相差層とを、前記活性エネルギー線硬化性接着剤層と前記位相差層とが接するように積層する工程と、
下記(1)~(2):
(1)30℃以上の温度で2時間以上保持する、
(2)振動の周波数が5Hz以上であり、振動の振幅が0.5mm以上である振動条件下、5℃以上の温度で2時間以上保持する
のいずれか1以上を満たす条件下で保持する工程と、
前記活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて前記硬化接着剤層を形成する工程と、
をこの順に含む、光学積層体の製造方法。 - 前記光学フィルムが直線偏光子を含む、請求項1に記載の光学積層体の製造方法。
- 前記積層工程において、前記光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、前記位相差層とを、前記直線偏光子と前記活性エネルギー線硬化性接着剤層とが接するように積層する、請求項2に記載の光学積層体の製造方法。
- 光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
前記硬化接着剤層と前記位相差層とは接しており、
前記位相差層における前記硬化接着剤層側の表面は、下記(a)~(d):
(a)算術平均粗さSaが0.065μm以上0.150μm以下である、
(b)二乗平均平方根高さSqが0.085μm以上である、
(c)界面の展開面積比Sdrが0.2%以上である、
(d)二法平均平方根傾斜Sdqが0.065以上である
のすべてを満たす、光学積層体。 - 前記光学フィルムが直線偏光子を含む、請求項4に記載の光学積層体。
- 前記直線偏光子と前記硬化接着剤層とが接している、請求項5に記載の光学積層体。
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