JP7406747B2 - 低光弾性定数ガラス、光ファイバおよび光ファイバの製造方法 - Google Patents
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Description
さらに、成分Bに酸化ホウ素、三酸化アルミニウムまたは三酸化アンチモンが含まれる場合、その含有量が、成分Aと成分Bの全体量に対して20mol%以下であることが望ましい。
本実施形態の低光弾性定数ガラスは、三酸化ビスマス(Bi2O3)および三酸化アンチモンSb2O3)のいずれか一方を含む成分Aと、二酸化ケイ素(SiO2)および酸化ホウ素(B2O3)のいずれか一方または両方を含む成分Bと、を含有している。そして、本実施形態の低光弾性定数ガラスは、成分に三酸化ビスマス(Bi2O3)または三酸化アンチモン(Sb2O3)が含まれているので、光弾性定数が低くなっている。したがって、本実施形態の低光弾性定数ガラスは、光ファイバ電流センサ等に使用される光ファイバなどの材料に適したものとなっている。
本実施形態の低光弾性定数ガラスは、成分Aと成分Bの配合比(モル比)が40:60~60:40となるように調整されている。成分Aの割合が40よりも少なくなると、ガラスの光弾性係数を十分に小さくできなくなる一方、成分Aの割合が60より多くなると、ガラスの光弾性係数が負の側に大きくなる。したがって、成分Aと成分Bの配合比(モル比)が40:60~60:40が好ましい。
成分Aには、三酸化ビスマス(Bi2O3)や三酸化アンチモン(Sb2O3)以外に、後述する添加成分が含有されていてもよい。
成分Bには、二酸化ケイ素(SiO2)および/または酸化ホウ素(B2O3)以外に、後述する添加成分が含有されていてもよい。
本実施形態の低光弾性定数ガラスが三酸化ビスマス(Bi2O3)を含んでいる場合、可視光の波長域において、特定の波長域(500nm以下)では不透明になる。しかし、成分Bに酸化ホウ素(B2O3)が含まれていれば、可視光の波長域において透明となる波長域を広くすることができる。すると、白色光源に対する演色性が向上するという利点が得られる(図2(B)参照)。
本実施形態の低光弾性定数ガラスは、三酸化二アルミニウム(Al2O3)が添加されていてもよい。三酸化二アルミニウム(Al2O3)が添加されていれば、本実施形態の低光弾性定数ガラスにおける機械的強度を改善することができる。
本実施形態の低光弾性定数ガラスは、各成分を混合した状態で溶融して製造されるが、三酸化ビスマス(Bi2O3)を含んでいる場合、溶融する温度を調整することによっても、可視光の波長域において透明となる波長域を広くすることができる。例えば、溶融する温度を1100℃とした場合、製造された低光弾性ガラスは透明となる波長域が500nm以上となるが、溶融する温度を1000℃とした場合、製造された低光弾性ガラスは透明となる波長域を450nm以上とすることができる。
上述したように、本実施形態の低光弾性定数ガラスには、化学的耐久性、熱的安定性、屈折率調整、高品位ガラス形成、耐水性、脱泡性などを向上させるために、必要に応じて、上述した三酸化二アルミニウム(Al2O3)以外に、以下のような添加成分が含まれていてもよい。例えば、三酸化二ランタン(La2O3)、五酸化二ニオブ(Nb2O5)、五酸化タンタル(Ta2O5)、三酸化二ガリウム(Ga2O3)、二酸化テルル(TeO2)、酸化タリウム(Tl2O)などを添加成分として挙げることができる。
次に、本実施形態の低光弾性定数ガラスの製造方法について説明する。
本実施形態の光ファイバは、上述した本実施形態の低光弾性定数ガラスを使用して形成されたものである。具体的には、コアガラスとクラッドガラスの両方の原料、または、コアガラスとクラッドガラスのいずれか一方の原料が本実施形態の低光弾性定数ガラスによって形成されたものである。
なお、酸化ホウ素の含有量が同量とは、各ガラスの全量に対する酸化ホウ素のモル濃度(mol%)が同じであることを意味している。ここでいう「同じ」とは完全に一致する場合だけでなく、若干の差(例えば、±1mol%程度)がある場合も含んでいる。
上述した本実施形態の光ファイバは、上述したようなものとなるように、本実施形態の低光弾性定数ガラスを使用して製造されていればよく、その製造方法はとくに限定されない。例えば、公知の製造方法であるMCVD法(Modified chemical vapor deposition method)やOVD法(Outside vapor deposition method)、VAD法(Vapor phase axial deposition method、気相軸付け法)を使用して製造すればよい。また、以下のような方法でも製造することができる。
プリフォームをその粘度が104-107Pa・sとなる温度に加熱する際に、加熱開始から延伸を開始するまでの間、プリフォームを一定時間所定の温度で維持することが望ましい。すると、プリフォームを加熱した際にスムースに延伸できるし、製造された光ファイバの性質(光弾性定数や直径、断面形状等)を均質にしやすくなる。この場合、所定の温度(プリフォーム全体がガラス転移温度以上となる温度)で維持する時間はとくに限定されないが、10-15分間程度が好ましい。
プリフォームを延伸してファイバ状とする方法はとくに限定されず、製造された光ファイバの性質(光弾性定数や直径、断面形状等)が均質になるように延伸できるのであれば、どのような方法を使用してもよい。例えば、プリフォームの一端に5-20gの錘を懸架して延伸してもよい。この方法を採用すれば、連続的に,かつ断線せずに紡糸できるという利点が得られる。
原料には、SnO(99.5%:株式会社高純度化学研究所製)、Sb203(99.9%:株式会社高純度化学研究所製)、PbO(99.9%:株式会社高純度化学研究所製)、Bi203(99.9%:株式会社高純度化学研究所製)、SiO2(99.9%:株式会社高純度化学研究所製) 、およびB2O3(99.9%:株式会社高純度化学研究所製)を使用した。
各サンプルガラスの分光透過スペクトルは、製造したサンプルガラスを厚さ1mmまたは1-5μmに形成したサンプルを分光光度計(日立製:型番 U-4100)を用いて測定した。
Claims (10)
- 成分Aと成分Bとを混合し、900-1200℃に加熱して溶融した後急速に冷却する溶融急冷法で製造された、鉛を含まない低光弾性定数ガラスであって、
前記成分Aが、三酸化ビスマスまたは三酸化アンチモンであり、
前記成分Bが、二酸化ケイ素または酸化ホウ素であり、
前記低光弾性定数ガラスの原料組成が、
xBi 2 0 3 (100-x)SiO 2 、xBi 2 0 3 (100-x)B 2 O 3 、xSb 2 0 3 (100-x)SiO 2 、およびxSb 2 0 3 (100-x)B 2 O 3 のいずれかであり、
前記原料組成中のxが40mol%以上60mol%以下であり、
光弾性定数が、
-0.66~1.001×10 -12 Pa -1 である
ことを特徴とする低光弾性定数ガラス。 - 成分Aと成分Bとを混合し、900-1200℃に加熱して溶融した後急速に冷却する溶融急冷法で製造された、鉛を含まない低光弾性定数ガラスであって、
前記成分Aが、三酸化ビスマスまたは三酸化アンチモンであり、
前記成分Bが、二酸化ケイ素または酸化ホウ素のいずれか一方と、三酸化アルミニウムとからなり、
前記低光弾性定数ガラスの原料組成が、
xBi 2 0 3 (100-x-y)SiO 2 yAl 2 O 3 、xBi 2 0 3 (100-x-y)B 2 O 3 yAl 2 O 3 、xSb 2 0 3 (100-x-y)SiO 2 yAl 2 O 3 、およびxSb 2 0 3 (100-x-y)B 2 O 3 yAl 2 O 3 のいずれかであり、
前記原料組成中のxが40mol%以上60mol%以下であり、
前記原料組成中のyが1mol%以上5mol%以下であり、
光弾性定数が、
-0.464~1.520×10 -12 Pa -1 である
ことを特徴とする低光弾性定数ガラス。 - コアガラスおよび/またはクラッドガラスの材料が低光弾性定数ガラスであり、
前記低光弾性定数ガラスが、
成分Aと成分Bとを混合し、900-1200℃に加熱して溶融した後急速に冷却する溶融急冷法で製造された、鉛を含まない低光弾性定数ガラスであって、
前記成分Aが、三酸化ビスマスまたは三酸化アンチモンであり、
前記成分Bが、二酸化ケイ素または酸化ホウ素であり、
前記低光弾性定数ガラスの原料組成が、
xBi 2 0 3 (100-x)SiO 2 、xBi 2 0 3 (100-x)B 2 O 3 、xSb 2 0 3 (100-x)SiO 2 、およびxSb 2 0 3 (100-x)B 2 O 3 のいずれかであり、
前記原料組成中のxが40mol%以上60mol%以下であり、
光弾性定数が、
-0.66~1.001×10 -12 Pa -1 である
ことを特徴とする光ファイバ。 - コアガラスおよび/またはクラッドガラスの材料が低光弾性定数ガラスであり、
前記低光弾性定数ガラスが、
成分Aと成分Bとを混合し、900-1200℃に加熱して溶融した後急速に冷却する溶融急冷法で製造された、鉛を含まない低光弾性定数ガラスであって、
前記成分Aが、三酸化ビスマスまたは三酸化アンチモンであり、
前記成分Bが、二酸化ケイ素または酸化ホウ素のいずれか一方と、添加成分Zを含有しており、
前記添加成分Zが、
三酸化二アルミニウム、三酸化二ランタン、五酸化二ニオブ、五酸化タンタル、三酸化二ガリウム、二酸化テルル、および酸化タリウムから選ばれる1種の化合物であり、
前記低光弾性定数ガラスの原料組成が、
xBi 2 0 3 (100-x-y)SiO 2 yZ、xBi 2 0 3 (100-x-y)B 2 O 3 yZ、xSb 2 0 3 (100-x-y)SiO 2 yZ、およびxSb 2 0 3 (100-x-y)B 2 O 3 yZのいずれかであり、
前記原料組成中のxが40mol%以上60mol%以下であり、
前記原料組成中のyが1mol%以上5mol%以下であり、
光弾性定数が、
-0.464~1.520×10 -12 Pa -1 である
ことを特徴とする光ファイバ。 - クラッドガラスは、
三酸化ビスマスまたは三酸化アンチモンの含有量が40mol%以上60mol%以下である
ことを特徴とする請求項3または4記載の光ファイバ。 - コアガラスおよびクラッドガラスの材料が、前記低光弾性定数ガラスであり、
コアガラスおよびクラッドガラスに含まれる酸化ホウ素の含有量が同量である
ことを特徴とする請求項3、4または5記載の光ファイバ。 - 請求項3乃至6のいずれかに記載の光ファイバの製造方法であって、
低光弾性定数ガラスを含むガラスを使用してプリフォームを形成し、
粘度が104-107Pa・sとなる温度に維持した状態のプリフォームを延伸する方法であり、
前記低光弾性定数ガラスが、
成分Aと成分Bとを混合し、900-1200℃に加熱して溶融した後急速に冷却する溶融急冷法で製造された、鉛を含まない低光弾性定数ガラスであって、
前記成分Aが、三酸化ビスマスまたは三酸化アンチモンであり、
前記成分Bが、二酸化ケイ素または酸化ホウ素であり、
前記低光弾性定数ガラスの原料組成が、xBi 2 0 3 (100-x)SiO 2 、xBi 2 0 3 (100-x)B 2 O 3 、xSb 2 0 3 (100-x)SiO 2 、およびxSb 2 0 3 (100-x)B 2 O 3 のいずれかであり、
前記原料組成中のxが40mol%以上60mol%以下であり、
光弾性定数が、-0.66~1.001×10 -12 Pa -1 である
ことを特徴とする光ファイバの製造方法。 - 請求項3乃至6のいずれかに記載の光ファイバの製造方法であって、
低光弾性定数ガラスを含むガラスを使用してプリフォームを形成し、
粘度が10 4 -10 7 Pa・sとなる温度に維持した状態のプリフォームを延伸する方法であり、
前記低光弾性定数ガラスが、
成分Aと成分Bとを混合し、900-1200℃に加熱して溶融した後急速に冷却する溶融急冷法で製造された、鉛を含まない低光弾性定数ガラスであって、
前記成分Aが、三酸化ビスマスまたは三酸化アンチモンであり、
前記成分Bが、二酸化ケイ素または酸化ホウ素のいずれか一方と、添加成分Zを含有しており、
前記添加成分Zが、三酸化二アルミニウム、三酸化二ランタン、五酸化二ニオブ、五酸化タンタル、三酸化二ガリウム、二酸化テルル、および酸化タリウムから選ばれる1種の化合物であり、
前記低光弾性定数ガラスの原料組成が、
xBi 2 0 3 (100-x-y)SiO 2 yZ、xBi 2 0 3 (100-x-y)B 2 O 3 yZ、xSb 2 0 3 (100-x-y)SiO 2 yZ、およびxSb 2 0 3 (100-x-y)B 2 O 3 yZのいずれかであり、
前記原料組成中のxが40mol%以上60mol%以下であり、
前記原料組成中のyが1mol%以上5mol%以下であり、
光弾性定数が、-0.464~1.520×10 -12 Pa -1 である
ことを特徴とする光ファイバの製造方法。 - 延伸前のプリフォームを上記の温度に10-15分間維持した後、プリフォームを延伸する
ことを特徴とする請求項7または8記載の光ファイバの製造方法。 - 5-20gの錘をプリフォームの一端に懸架して延伸する
ことを特徴とする請求項7、8または9記載の光ファイバの製造方法。
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Title |
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Also Published As
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