JP7397096B2 - 結像デバイス向けの自動焦点方法 - Google Patents
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Description
a)物体の表面上に複数の基準測定ポイントM(xj,yj)を定める(define:定義する)こと
b)定められた基準測定ポイントM(xj,yj)において、自動焦点デバイスの焦点平面からの物体の表面の公称位置のずれAz(M)jを決定すること
c)少なくとも3つの基準測定ポイントM(xj,yj)からのずれAz(M)jを記憶すること
d)記憶されたずれAz(M)jを使用して表面の任意のポイントP(xk,yk)におけるずれAz(P)kを決定すること
e)ずれAz(P)kを使用してポイントP(xk,yk)に焦点合わせすること。
2 顕微鏡
3 リソグラフィマスク
4 光源
5 第1の偏向ミラー
6 第2の偏向ミラー
7 結像対物部
8 管状光学ユニット
9 結像光学ユニット
10 CCDカメラ
11 対物ステージ
12 第3の偏向ミラー
13 格子
14 自動焦点光学系
15 さらなる偏向ミラー
16 さらなる偏向ミラー
17 制御ユニット
20 基準測定ポイントM(xj,yj)
21 測定ポイントP(xk,yk)
22 焦点平面
30 方法ステップ1
31 方法ステップ2
32 方法ステップ3
33 方法ステップ4
34 方法ステップ5
Claims (16)
- 結像光学ユニット(9)と、測定される物体(3)と、反射照明を有する自動焦点デバイス(1)とを備えるフォトマスクまたはフォトマスク用の基板として具体化される物体を検査するために使用される顕微鏡(2)向けの自動焦点方法であって、
a)前記物体(3)の表面上に少なくとも3つの基準測定ポイント(20)M(xj,yj)を定めるステップと、
b)前記定められた基準測定ポイント(20)M(xj,yj)において、前記自動焦点デバイス(1)の焦点平面(22)からの前記物体(3)の前記表面の公称位置のずれAz(M)jを決定するステップと、
c)少なくとも3つの基準測定ポイント(20)M(xj,yj)からの前記ずれAz(M)jを記憶するステップと、
d)前記記憶されたずれAz(M)jを使用して前記表面の任意のポイント(21)P(xk,yk)におけるずれAz(P)kを決定するステップと、
e)前記ずれAz(P)kを使用して前記ポイント(21)P(xk,yk)に焦点合わせするステップと
を含む、自動焦点方法。 - 必要な精度でずれAz(M)jを決定することができる基準測定ポイント(20)M(xj,yj)だけが使用されること
を特徴とする、請求項1に記載の自動焦点方法。 - 前記物体(3)の設計記述が、前記基準測定ポイント(20)を前記定めることにおいて考慮されること
を特徴とする、請求項2に記載の自動焦点方法。 - 構造のないポイントだけが、前記基準測定ポイント(20)M(xj,yj)を前記定めることにおいて考慮されること
を特徴とする、請求項1~3のいずれか1項に記載の自動焦点方法。 - 前記結像光学ユニット(9)を用いた前記表面のポイント(21)P(xk,yk)の結像の間、前記記憶されたずれAz(M)jに基づいて前記ずれAz(P)kが補間され、前記焦点合わせに考慮されること
を特徴とする、請求項1~4のいずれか1項に記載の自動焦点方法。 - 前記物体(3)の前記表面上の任意のポイント(21)P(xk,yk)に対する前記ずれAz(P)を予測するための前記補間が、線形もしくは多項補間モデル、または薄板基準関数、ルジャンドル多項式もしくはゼルニケ多項式に基づく補間モデルに基づいていること
を特徴とする、請求項5に記載の自動焦点方法。 - 前記補間に必要な数の基準測定ポイント(20)M(xj,yj)のみについて前記ずれAz(M)jが決定されること
を特徴とする、請求項5または6に記載の自動焦点方法。 - 前記少なくとも3つの基準測定ポイント(20)M(xj,yj)の測定が、前記顕微鏡(2)で前記物体(3)の実際の測定の前に実行されること
を特徴とする、請求項1~7のいずれか1項に記載の自動焦点方法。 - 前記方法が、前記顕微鏡(2)の温度制御および/または安定化の間に実行されること
を特徴とする、請求項8に記載の自動焦点方法。 - 少なくとも1つの測定ポイント(21)P(xk,yk)についての前記ずれAz(P)kが、動作中に補正値ΔAkによって補正されること
を特徴とする、請求項1~9のいずれか1項に記載の自動焦点方法。 - 前記補正値ΔAkが、圧力、温度、湿度、または機械的なずれの変化に基づいて決定されること
を特徴とする、請求項10に記載の自動焦点方法。 - 前記補正値ΔAkが、前記顕微鏡(2)の焦点測定に基づいて決定されること
を特徴とする、請求項10に記載の自動焦点方法。 - 少なくとも1つの測定ポイント(21)P(x k ,y k )についての前記ずれA z(P)k が、動作中に補正値ΔA k によって補正され,
前記補正値ΔA k が、前記顕微鏡(2)の焦点測定に基づいて決定され、
測定ポイント(21)P(xk,Yk)において前記補間されたずれAz(P)kについての前記補正値ΔAkが、以前の測定ポイントP(xk-1,yk-1)における焦点測定に基づいて決定されること
を特徴とする、請求項5~7のいずれか1項に記載の自動焦点方法。 - 前記補正値ΔAkが再帰的に合計されること
を特徴とする、請求項13に記載の自動焦点方法。 - 前記物体(3)が、半導体リソグラフィ向けの投影露光装置のフォトマスク(3)として具体化されること
を特徴とする、請求項1~14のいずれか1項に記載の自動焦点方法。 - 前記物体(3)が、半導体リソグラフィ向けの投影露光装置のフォトマスク(3)用の基板(3)として具体化されること
を特徴とする、請求項1~14のいずれか1項に記載の自動焦点方法。
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JP2006039315A (ja) * | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Hamamatsu Photonics Kk | 自動焦点装置及びそれを用いた顕微鏡装置 |
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