JP7396374B2 - 欠陥検査装置および欠陥検査方法 - Google Patents
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Description
(欠陥検査装置の全体構成)
図1~図3を参照して、第1実施形態による欠陥検査装置100について説明する。
制御部4は、信号発生器5を制御することによって、振動子1の振動を制御する。すなわち、制御部4は、信号発生器5を制御することによって、検査対象Pの測定領域Paに励起される弾性波の周波数および位相を制御する。そして、制御部4は、同様に、信号発生器5を制御することによって、照射部2の動作を制御する。すなわち、制御部4は、信号発生器5を制御することによって、照射部2によるレーザ光の照射のタイミングを制御する。制御部4は、振動子1によって励起された弾性波の位相と照射部2によるレーザ光を照射するタイミングとを制御することによって、所定の弾性波の位相において、検査対象Pの測定領域Paにレーザ光を照射部2に照射させる。
Iαj=|(Ij-Iave)/Iave| (j=0~3)・・・(1)
なお、Iα(Iαj)は、差画像Bjの各々の輝度値を示す。また、Iaveは4つの撮像画像Aj(A0~A3)の平均の画像である基準画像Aaveにおける輝度値Iaveを示す。そして、輝度値Iaveは、式(2)に示すように輝度値Ij(I0~I3)を加算平均することによって取得される。
Iαj=Dcos(θ+jπ/2)=Eexp(jπ/2)+C・・・(3)
ただし、Eは、複素振幅であり、式(4)のように表される。
E=Dexp(iθ)=(Iα0-Iα2)+i(Iα3-Iα1)・・・(4)
なお、iは虚数単位を示す。ここで、複素振幅Eは、振動状態を表す画像を出力するための画像情報(複素振幅の二次元空間情報)である。制御部4は、式(4)によって取得された複素振幅Eに基づいて、式(3)から定数項Cを除いた近似式によって振幅Dを取得する。振幅Dは、撮像画像Aj(A0~A3)の各々の輝度値Ij(I0~I3)の変化量に対応する欠陥検査用の近似値である。なお、上記過程において、ノイズ除去のため複素振幅Eについて適宜空間フィルタが適用されてもよい。また、レーザ光を照射するタイミングjのステップ(上記例ではT/8)はこれに限らない。この場合、計算式は上記式(1)~式(4)とは異なる式になる。また、取得された撮像画像Aj(A0~A3)に対して、予めダウンサンプリングを行うことによって。画像サイズを縮小して(画素値の個数を減らした状態で)、上記の処理を行うようにしてもよい。
次に、図4を参照して、本実施形態による欠陥検査装置100を用いた欠陥検査方法について説明する。
第1実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
第1実施形態の欠陥検査方法では、以下のような効果を得ることができる。
次に、図5~図9を参照して、本発明の第2実施形態による欠陥検査装置200の構成について説明する。この第2実施形態では、干渉させる2つのレーザ光の位相差を変化させずに測定領域Paに励起された弾性波の振動の状態を取得するように構成されていた第1実施形態と異なり、第1実施形態と同様に干渉させる2つのレーザ光の位相差を変化させずに振動の状態を取得する第1検出制御と、干渉させる2つのレーザ光の位相差を変化させながら測定領域Paの表面変位を測定する第2検出制御とを、切り替える制御を行うように構成されている。なお、上記第1実施形態と同一の構成については、図中において同じ符号を付して図示し、その説明を省略する。
制御部204は、第1検出制御において、第1実施形態と同様の処理を行うことによって、近似値画像Fを生成する。すなわち、位相シフタ235によるレーザ光の位相シフトを行わず、干渉させる2つのレーザ光の位相差を変化させずに、弾性波の位相をT/8ずつずらしたタイミングj(j=0~3)において撮像された撮像画像A0~A3に基づいて、撮像画像Aの輝度値Iの変化量に対応する欠陥検査用の近似値である振幅Dの分布を表した近似値画像Fを表示部6に表示させる制御を行う。
制御部204は、第2検出制御において、スペックル・シェアリング干渉計203内に配置された位相シフタ235を、図示しないアクチュエータによって稼働させ、透過するレーザ光の位相を変化させる。これにより、点Pa1において反射されたレーザ光と点Pa2において反射されたレーザ光の位相差が変化する。これら2つのレーザ光が干渉した干渉光の強度をイメージセンサ34の各検出素子は検出する。
Φk=-arctan{(Ik3-Ik1)/(Ik2-Ik0)}・・・(5)
また、制御部204は、光位相Φkに対して、最小二乗法により正弦波近似を行い、式(6)における近似係数X、φ、Zを求める。
Φk=Xcos(φ+kπ/4)+Z=Yexp(kπ/4)+Z・・・(6)
ただし、Yは、複素振幅であり、式(7)のように、表される。
Y=Xexp(iφ):複素振幅・・・(7)
また、制御部204は、式(6)から定数項Zを除いた近似式より、弾性波の振動の各位相時刻ξ(0≦ξ<2π)における光位相変化を表示する動画像(30~60フレーム)として表層検査用画像Gを生成する。なお、上記過程において、ノイズ除去のため複素振幅Yについて適宜空間フィルタが適用される。また、位相シフト量やレーザ光を照射するタイミングのステップはこれに限らない。この場合、計算式は上記式(5)~式(7)と異なる式になる。
制御部204は、操作部207による入力操作に基づいて、第1検出制御によって近似値画像Fを生成する制御と、第2検出制御によって表層検査用画像Gを生成する制御とのいずれかの制御を行う。たとえば、図7に示すように、制御部204は、第1検出制御と第2検出制御とのいずれの制御によって、検査対象Pに対して欠陥検査を行うかの選択を受け付けるための表示を表示部6に表示する。そして、制御部204は、操作部207による入力操作に基づいて、第1検出制御と第2検出制御とのいずれかの制御によって、欠陥検査を行う。
次に、図10を参照して、本実施形態による欠陥検査装置200を用いた欠陥検査方法について説明する。なお、第1実施形態と同様の方法(制御処理)については同一のステップ番号を付して説明を省略する。
第2実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
次に、図11~図14を参照して、本発明の第3実施形態による欠陥検査装置300の構成について説明する。この第3実施形態では、第1検出制御と第2検出制御とを切り替える制御を行うように構成されていた第2実施形態と異なり、第1検出制御と第2検出制御とを、並行して行うように構成されている。なお、上記第1および第2実施形態と同一の構成については、図中において同じ符号を付して図示し、その説明を省略する。
次に、図15を参照して、第3実施形態の欠陥検査装置300による第1検出制御と第2検出制御とを並行して行う制御処理をフローチャートに基づいて説明する。なお、第1検出制御と第2検出制御とを並行して行う制御処理は、制御部304により、行われる。
第3実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく請求の範囲によって示され、さらに請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更(変形例)が含まれる。
上記した例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。
検査対象の測定領域に弾性波を励起する励振部と、
前記測定領域にレーザ光を照射する照射部と、
前記測定領域において反射された前記レーザ光をレーザ干渉法により干渉させる干渉部と、
干渉された前記レーザ光を撮像する撮像部と、
前記励振部の制御と、前記撮像部による前記干渉されたレーザ光の撮像の制御とを行う制御部と、を備え、
前記制御部は、前記弾性波の互いに異なる少なくとも3つの位相の各々において前記撮像部によって撮像された少なくとも3つの撮像画像における画素値と、前記撮像画像とは別個の基準画像の画素値との差分値または差分値の絶対値に対して近似を行うことによって、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の近似値を取得するように構成されている、欠陥検査装置。
前記干渉部は、前記測定領域の互いに異なる位置において反射された前記レーザ光をレーザ干渉法により干渉させるように構成されており、
前記制御部は、干渉させる2つの前記レーザ光の位相差は変化させずに、少なくとも3つの前記撮像画像における画素値と、前記撮像画像とは別個の基準画像の画素値との差分値または差分値の絶対値に対して近似を行うことによって、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の近似値を取得するように構成されている、項目1に記載の欠陥検査装置。
前記制御部は、少なくとも3つの前記撮像画像における画素値と、前記撮像画像とは別個の前記基準画像の画素値との差分値または差分値の絶対値を、波形を表す関数である近似関数に対応するように近似を行うことによって、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の近似値を取得するように構成されている、項目2に記載の欠陥検査装置。
前記近似関数は、前記弾性波の周期の半分の周期の波形を表す関数であり、
前記制御部は、少なくとも3つの前記撮像画像における画素値と、前記撮像画像とは別個の前記基準画像の画素値との差分値の絶対値を、前記弾性波の周期の半分の周期の波形を表す関数に対応するように近似することによって、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の近似値を取得するように構成されている、項目3に記載の欠陥検査装置。
前記近似関数は、正弦波を表す関数であり、
前記制御部は、少なくとも3つの前記撮像画像における画素値と、前記撮像画像とは別個の前記基準画像の画素値との差分値または差分値の絶対値を、前記正弦波を表す関数に対応するように近似することによって、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の近似値を取得するように構成されている、項目3または4に記載の欠陥検査装置。
前記基準画像は、少なくとも3つの前記撮像画像の平均の画像であり、
前記制御部は、少なくとも3つの前記撮像画像における画素値と、少なくとも3つの前記撮像画像の平均の画像の画素値との差分値または差分値の絶対値に基づいて、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の近似値を取得するように構成されている、項目2~5のいずれか1項に記載の欠陥検査装置。
前記制御部は、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の近似値を示す近似値画像を生成するように構成されている、項目1~6のいずれか1項に記載の欠陥検査装置。
前記干渉部は、前記レーザ光の位相を変化させる光学部材を含み、
前記制御部は、干渉させる2つの前記レーザ光の位相差は変化させずに、前記弾性波の互いに異なる少なくとも3つの位相において前記撮像部によって撮像された少なくとも3つの前記撮像画像における画素値に基づいて、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の近似値を取得する第1検出制御と、前記光学部材によって干渉させる2つの前記レーザ光の位相差を変化させながら前記撮像部によって撮像された干渉された前記レーザ光の強度パターンに基づいて前記測定領域の変位を測定する第2検出制御と、の2つの制御を切り替える制御を行うように構成されている、項目1~7のいずれか1項に記載の欠陥検査装置。
前記第1検出制御と前記第2検出制御とを切り替えるための入力操作を受け付ける操作部をさらに備え、
前記制御部は、前記第1検出制御によって前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の近似値を示す近似値画像を表示している状態において、前記操作部に対する入力操作に基づいて、前記第2検出制御を開始するように構成されている、項目8に記載の欠陥検査装置。
前記干渉部は、前記レーザ光の位相を変化させる光学部材を含み、
前記制御部は、干渉させる2つの前記レーザ光の位相差は変化させずに、前記弾性波の互いに異なる少なくとも3つの位相において前記撮像部によって撮像された少なくとも3つの前記撮像画像における画素値に基づいて、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の近似値を取得する第1検出制御と、前記光学部材によって干渉させる2つの前記レーザ光の位相差を変化させながら前記撮像部によって撮像された干渉された前記レーザ光の強度パターンに基づいて前記測定領域の変位を測定する第2検出制御と、の2つの制御を並行して行うように構成されている、項目1~7のいずれか1項に記載の欠陥検査装置。
検査対象の測定領域に弾性波を励起するステップと、
前記測定領域にレーザ光を照射するステップと、
前記測定領域において反射された前記レーザ光をレーザ干渉法により干渉させるステップと、
干渉された前記レーザ光を撮像するステップと、
前記弾性波の互いに異なる少なくとも3つの位相の各々において撮像された少なくとも3つの撮像画像における画素値と、前記撮像画像とは別個の基準画像の画素値との差分値または差分値の絶対値に対して近似を行うことによって、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の近似値を取得するステップと、を備える、欠陥検査方法。
2 照射部
3、203 スペックル・シェアリング干渉計(干渉部)
4、204、304 制御部
34 イメージセンサ(撮像部)
100、200,300 欠陥検査装置
207 操作部
235 位相シフタ(光学部材)
Claims (10)
- 検査対象の測定領域に弾性波を励起する励振部と、
前記測定領域にレーザ光を照射する照射部と、
前記測定領域において反射された前記レーザ光をレーザ干渉法により干渉させる干渉部と、
干渉された前記レーザ光を撮像する撮像部と、
前記励振部の制御と、前記撮像部による前記干渉されたレーザ光の撮像の制御とを行う制御部と、を備え、
前記制御部は、前記弾性波の互いに異なる少なくとも3つの位相の各々において前記撮像部によって撮像された少なくとも3つの撮像画像における画素値と、前記撮像画像とは別個の基準画像の画素値との差分値または差分値の絶対値を、波形を表す関数である近似関数に対応するように近似を行うことによって、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の近似値を取得するように構成されている、欠陥検査装置。 - 前記干渉部は、前記測定領域の互いに異なる位置において反射された前記レーザ光をレーザ干渉法により干渉させるように構成されており、
前記制御部は、干渉させる2つの前記レーザ光の位相差は変化させずに、少なくとも3つの前記撮像画像における画素値と、前記撮像画像とは別個の前記基準画像の画素値との差分値または差分値の絶対値を、波形を表す前記関数である前記近似関数に対応するように近似を行うことによって、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の前記近似値を取得するように構成されている、請求項1に記載の欠陥検査装置。 - 前記近似関数は、前記弾性波の周期の半分の周期の波形を表す前記関数であり、
前記制御部は、少なくとも3つの前記撮像画像における画素値と、前記撮像画像とは別個の前記基準画像の画素値との差分値の絶対値を、前記弾性波の周期の半分の周期の波形を表す前記関数に対応するように近似することによって、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の前記近似値を取得するように構成されている、請求項1に記載の欠陥検査装置。 - 前記近似関数は、正弦波を表す前記関数であり、
前記制御部は、少なくとも3つの前記撮像画像における画素値と、前記撮像画像とは別個の前記基準画像の画素値との差分値または差分値の絶対値を、前記正弦波を表す前記関数に対応するように近似することによって、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の前記近似値を取得するように構成されている、請求項1に記載の欠陥検査装置。 - 前記基準画像は、少なくとも3つの前記撮像画像の平均の画像であり、
前記制御部は、少なくとも3つの前記撮像画像における画素値と、少なくとも3つの前記撮像画像の平均の画像の画素値との差分値または差分値の絶対値に基づいて、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の前記近似値を取得するように構成されている、請求項2に記載の欠陥検査装置。 - 前記制御部は、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の前記近似値を示す近似値画像を生成するように構成されている、請求項1に記載の欠陥検査装置。
- 前記干渉部は、前記レーザ光の位相を変化させる光学部材を含み、
前記制御部は、干渉させる2つの前記レーザ光の位相差は変化させずに、前記弾性波の互いに異なる少なくとも3つの位相において前記撮像部によって撮像された少なくとも3つの前記撮像画像における画素値に基づいて、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の前記近似値を取得する第1検出制御と、前記光学部材によって干渉させる2つの前記レーザ光の位相差を変化させながら前記撮像部によって撮像された干渉された前記レーザ光の強度パターンに基づいて前記測定領域の変位を測定する第2検出制御と、の2つの制御を切り替える制御を行うように構成されている、請求項1に記載の欠陥検査装置。 - 前記第1検出制御と前記第2検出制御とを切り替えるための入力操作を受け付ける操作部をさらに備え、
前記制御部は、前記第1検出制御によって前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の前記近似値を示す近似値画像を表示している状態において、前記操作部に対する入力操作に基づいて、前記第2検出制御を開始するように構成されている、請求項7に記載の欠陥検査装置。 - 前記干渉部は、前記レーザ光の位相を変化させる光学部材を含み、
前記制御部は、干渉させる2つの前記レーザ光の位相差は変化させずに、前記弾性波の互いに異なる少なくとも3つの位相において前記撮像部によって撮像された少なくとも3つの前記撮像画像における画素値に基づいて、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の前記近似値を取得する第1検出制御と、前記光学部材によって干渉させる2つの前記レーザ光の位相差を変化させながら前記撮像部によって撮像された干渉された前記レーザ光の強度パターンに基づいて前記測定領域の変位を測定する第2検出制御と、の2つの制御を並行して行うように構成されている、請求項1に記載の欠陥検査装置。 - 検査対象の測定領域に弾性波を励起するステップと、
前記測定領域にレーザ光を照射するステップと、
前記測定領域において反射された前記レーザ光をレーザ干渉法により干渉させるステップと、
干渉された前記レーザ光を撮像するステップと、
前記弾性波の互いに異なる少なくとも3つの位相の各々において撮像された少なくとも3つの撮像画像における画素値と、前記撮像画像とは別個の基準画像の画素値との差分値または差分値の絶対値を、波形を表す関数である近似関数に対応するように近似を行うことによって、前記撮像画像の画素値の変化量に対応する欠陥検査用の近似値を取得するステップと、を備える、欠陥検査方法。
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