JP7382810B2 - optical film - Google Patents

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Description

本発明は、フレキシブル表示装置の前面板材料等として使用される光学フィルム及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置に関する。 The present invention relates to an optical film used as a front plate material of a flexible display device, and a flexible display device equipped with the optical film.

液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の表示装置は、携帯電話やスマートウォッチといった種々の用途に広く活用されている。このような表示装置の前面板としてガラスが用いられてきたが、ガラスは非常に剛直であり、割れやすいため、例えばフレキシブル表示装置等の前面板材料としての利用は難しい。ガラスに代わる材料の一つとして、ポリアミドイミド樹脂等から形成された光学フィルムが検討されている（例えば特許文献１）。 Display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices are widely used in various applications such as mobile phones and smart watches. Glass has been used as the front plate of such display devices, but glass is very rigid and easily broken, so it is difficult to use it as a front plate material for, for example, flexible display devices. As one material to replace glass, an optical film formed from polyamide-imide resin or the like is being considered (for example, Patent Document 1).

特表２０１５－５２１６８７号公報Special Publication No. 2015-521687

このような表示装置の前面板材料として使用される光学フィルムにおいて、明るさの指標である反射色相Ｌ＊及び赤味の指標であるａ＊、特に反射ａ＊については従来あまり注目されていなかった。しかし、本発明者の検討によれば、高度な光学特性が要求される光学フィルムでは反射Ｌ＊や反射ａ＊の変化が視認性に与える影響が大きく、該フィルム表面に物体が衝突等した際の衝撃により、反射Ｌ＊及び反射ａ＊が変化して視認性が低下する場合があることがわかった。 In optical films used as front panel materials of such display devices, reflection hue L * , which is an index of brightness, and a * , which is an index of redness, have not received much attention in the past, especially reflection a * . . However, according to the inventor's study, in optical films that require advanced optical properties, changes in reflection L * and reflection a * have a large effect on visibility, and when an object collides with the film surface, etc. It has been found that reflection L * and reflection a * may change due to impact, resulting in decreased visibility.

従って、本発明の目的は、衝撃を受けても反射Ｌ＊及びａ＊の変化を有効に抑制できる光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide an optical film that can effectively suppress changes in reflection L * and a * even when subjected to impact, and a flexible display device equipped with the optical film.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、光学フィルムの降伏点歪が１．６０％以上、弾性率が５．０ＧＰａ以上、及び全光線透過率が８９％以上であると、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明には、以下の態様が含まれる。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventor of the present invention found that the yield point strain of the optical film is 1.60% or more, the elastic modulus is 5.0GPa or more, and the total light transmittance is 89% or more. The inventors have discovered that the above problems can be solved, and have completed the present invention. That is, the present invention includes the following aspects.

［１］式（Ａ）、式（Ｂ）及び式（Ｃ）
降伏点歪≧１．６０％ （Ａ）
弾性率≧５．０ＧＰａ （Ｂ）
全光線透過率≧８９％ （Ｃ）
の関係を満たす、光学フィルム。
［２］ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂からなる群から選択される少なくとも１つの樹脂を含む、［１］に記載の光学フィルム。
［３］ポリアミドイミド樹脂を含み、該ポリアミドイミド樹脂は、式（１）
［式（１）中、Ｘは２価の有機基を表し、Ｙは４価の有機基を表す］
で表される構成単位、及び式（２）
［式（２）中、Ｘは２価の有機基を表し、Ｚは置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す］
で表される構成単位を少なくとも有する、［２］に記載の光学フィルム。
［４］厚さは４０～５００μｍである、［１］～［３］のいずれかに記載の光学フィルム。
［５］［１］～［４］のいずれかに記載の光学フィルムを備える、フレキシブル表示装置。
［６］タッチセンサをさらに備える、［５］に記載のフレキシブル表示装置。
［７］偏光板をさらに備える、［５］又は［６］に記載のフレキシブル表示装置。 [1] Formula (A), Formula (B) and Formula (C)
Yield point strain ≧1.60% (A)
Elastic modulus≧5.0GPa (B)
Total light transmittance ≧89% (C)
An optical film that satisfies the following relationships.
[2] The optical film according to [1], which contains at least one resin selected from the group consisting of polyamide resin, polyimide resin, and polyamideimide resin.
[3] Contains a polyamide-imide resin, the polyamide-imide resin has the formula (1)
[In formula (1), X represents a divalent organic group, and Y represents a tetravalent organic group]
The structural unit represented by and formula (2)
[In formula (2), X represents a divalent organic group, and Z represents a divalent aromatic group which may have a substituent]
The optical film according to [2], which has at least a structural unit represented by:
[4] The optical film according to any one of [1] to [3], which has a thickness of 40 to 500 μm.
[5] A flexible display device comprising the optical film according to any one of [1] to [4].
[6] The flexible display device according to [5], further comprising a touch sensor.
[7] The flexible display device according to [5] or [6], further comprising a polarizing plate.

本発明の光学フィルムは、衝撃を受けても反射Ｌ＊及びａ＊の変化を有効に抑制できるため、表示装置に適用しても優れた視認性を維持することができる。 Since the optical film of the present invention can effectively suppress changes in reflection L * and a * even when subjected to impact, excellent visibility can be maintained even when applied to a display device.

〔光学フィルム〕
本発明の光学フィルムは、式（Ａ）、式（Ｂ）及び式（Ｃ）
降伏点歪≧１．６０％ （Ａ）
弾性率≧５．０ＧＰａ （Ｂ）
全光線透過率≧８９％ （Ｃ）
の関係を満たす。本発明の光学フィルムは、式（Ａ）、式（Ｂ）及び式（Ｃ）の関係を満たすため、衝撃を受けても反射Ｌ＊及び反射ａ＊の両方の変化を有効に抑制でき、優れた視認性を維持することができる。これは弾性率と降伏点歪とが所定値以上であることで、良好な硬さと良好なゴム性とが両立されるため、物体衝突等によりフィルム表面に衝撃を受けても表面形状の変化が生じにくいためだと推定される。さらに本発明の光学フィルムは全光線透過率が高く、優れた透明性を有することもできる。 [Optical film]
The optical film of the present invention has formula (A), formula (B), and formula (C).
Yield point strain ≧1.60% (A)
Elastic modulus≧5.0GPa (B)
Total light transmittance ≧89% (C)
satisfies the relationship. Since the optical film of the present invention satisfies the relationships of formulas (A), (B), and (C), it can effectively suppress changes in both reflection L * and reflection a * even when subjected to impact, and is excellent. visibility can be maintained. This is because the modulus of elasticity and strain at yield point are greater than a predetermined value, so that both good hardness and good rubber properties are achieved, so even if the film surface receives an impact from an object, etc., the surface shape will not change. It is presumed that this is because it is less likely to occur. Furthermore, the optical film of the present invention has a high total light transmittance and can also have excellent transparency.

式（Ａ）における降伏点歪は、１．６０％以上であり、好ましくは１．６３％以上、より好ましくは１．６５％以上である。降伏点歪が上記の下限以上であると、光学フィルムのゴム性が大きく、衝撃による反射色相Ｌ＊の変化を抑制しやすい。また、降伏点歪は通常３．０％以下である。なお、降伏点歪はゴム性等を示す指標であり、引張試験機を用いて測定されたヤングの法則に則る領域の傾きと歪み軸切片と応力－歪曲線（以下、Ｓ－Ｓ曲線と称することがある）との交点の歪みの値を示し、例えば実施例に記載の方法により求めることができる。なお、上記降伏点歪は２５℃、５０％Ｒ．Ｈ．における値である。 The yield point strain in formula (A) is 1.60% or more, preferably 1.63% or more, more preferably 1.65% or more. When the yield point strain is equal to or higher than the above lower limit, the optical film has a large rubber property, and it is easy to suppress changes in the reflected hue L * due to impact. Further, the yield point strain is usually 3.0% or less. Note that the yield point strain is an index that indicates rubber properties, etc., and is calculated using the slope of the area according to Young's law, the strain axis intercept, and the stress-strain curve (hereinafter referred to as the SS curve) measured using a tensile tester. The value of the distortion at the intersection with Note that the above yield point strain is 25°C, 50%R. H. is the value at .

式（Ｂ）における弾性率は、好ましくは５．０ＧＰａ以上、より好ましくは５．２ＧＰａ以上、さらに好ましくは５．５ＧＰａ以上、さらにより好ましくは５．８ＧＰａ以上、とりわけ好ましくは６．０ＧＰａ以上、とりわけより好ましくは６．２ＧＰａ以上であり、通常１０．０ＧＰａ以下である。弾性率が上記の下限以上であると、光学フィルムの硬さが大きく、衝撃による反射色相ａ＊の変化を抑制しやすい。なお、弾性率は、引張試験機を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。なお、上記弾性率は２５℃、５０％Ｒ．Ｈ．における値である。 The elastic modulus in formula (B) is preferably 5.0 GPa or more, more preferably 5.2 GPa or more, even more preferably 5.5 GPa or more, even more preferably 5.8 GPa or more, particularly preferably 6.0 GPa or more, especially More preferably it is 6.2 GPa or more, and usually 10.0 GPa or less. When the elastic modulus is equal to or higher than the above lower limit, the optical film has a large hardness, and changes in the reflected hue a * due to impact are easily suppressed. Note that the elastic modulus can be measured using a tensile tester, for example, by the method described in Examples. Note that the above elastic modulus is 25°C, 50%R. H. is the value at .

式（Ｃ）における全光線透過率は、８９％以上、好ましくは９０％以上、より好ましくは９１％以上であり、通常１００％以下である。全光線透過率が上記の下限以上であると透明性が良好となり、例えば表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性を発現できる。なお、全光線透過率は、光学フィルムの上記厚さの範囲における全光線透過率であってよい。また、全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５：１９８１に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The total light transmittance in formula (C) is 89% or more, preferably 90% or more, more preferably 91% or more, and usually 100% or less. When the total light transmittance is equal to or higher than the above lower limit, transparency becomes good, and high visibility can be achieved when used for a front panel of a display device, for example. Note that the total light transmittance may be the total light transmittance in the above thickness range of the optical film. Further, the total light transmittance can be measured using a haze computer in accordance with JIS K 7105:1981, for example, by the method described in Examples.

本発明の光学フィルムにおいて、反射Ｌ＊及びａ＊は、反射色相を示すパラメータであり、特に（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｅｘｃｌｕｄｅｄ（略してＳＣＥ）：正反射光を除く）方式で求められる光学フィルムを反射した光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊及びａ＊を示す。より詳細には光学フィルム平面の垂直方向から所定の角度傾けた方向から入射する、波長３８０～７８０ｎｍの範囲における入射光に対する反射光のうち、正反射光を除いた拡散反射光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊値及びａ＊値をいう。反射ａ＊は０に近いほど、光学フィルムの緑色や赤色等の色味が少なく、透明性が良好であることを示す。光学フィルムの反射Ｌ＊及び反射ａ＊は分光測色計を用いて測定でき、例えば、実施例に記載の方法により測定できる。 In the optical film of the present invention, reflection L * and a * are parameters indicating the reflection hue, and in particular, the light reflected from the optical film determined by the (Specular Component Excluded (SCE): excluding specularly reflected light) method. L * and a * in the L * a * b * color system are shown. More specifically, L * a * of diffusely reflected light excluding specularly reflected light among reflected lights for incident light in the wavelength range of 380 to 780 nm that is incident from a direction inclined at a predetermined angle from the vertical direction of the plane of the optical film. b * refers to the L * value and a * value in the color system. The closer the reflection a * is to 0, the less green, red, or other colors the optical film has, and the better the transparency. Reflection L * and reflection a * of the optical film can be measured using a spectrophotometer, for example, by the method described in Examples.

本発明の光学フィルムは、衝撃による反射色相の変化、特に反射Ｌ＊とａ＊との両方の変化を有効に抑制できる。このようなフィルム特性は、例えば実施例の＜耐衝撃性試験前後の反射色相＞の項に記載の方法により測定評価することができる。 The optical film of the present invention can effectively suppress changes in reflection hue due to impact, particularly changes in both reflection L * and a * . Such film properties can be measured and evaluated, for example, by the method described in the section <Reflection hue before and after impact resistance test> in Examples.

本発明の光学フィルムのヘーズは、好ましくは３．０％以下、より好ましくは２．０％以下、さらに好ましくは１．０％以下、さらにより好ましくは０．５％以下、とりわけ好ましくは０．３％以下であり、通常０．０１％以上である。光学フィルムのヘーズが上記の上限以下であると透明性が良好となり、表示装置の前面板等に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。なお、ヘーズは、例えば、ＪＩＳ Ｋ ７１３６：２０００に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The haze of the optical film of the present invention is preferably 3.0% or less, more preferably 2.0% or less, even more preferably 1.0% or less, even more preferably 0.5% or less, particularly preferably 0.0% or less. It is 3% or less, and usually 0.01% or more. When the haze of the optical film is less than or equal to the above upper limit, the optical film has good transparency and can contribute to high visibility when used for a front panel of a display device or the like. Note that haze can be measured, for example, using a haze computer in accordance with JIS K 7136:2000, and can be measured, for example, by the method described in Examples.

本発明の光学フィルムの厚さは、用途に応じて適宜調整されるが、好ましくは４０μｍ以上であり、好ましくは５００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下、さらに好ましくは１００μｍ以下、さらにより好ましくは８０μｍ以下、とりわけ好ましくは６５μｍ以下、とりわけより好ましくは５５μｍ以下である。光学フィルムの厚さは、膜厚計などで測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The thickness of the optical film of the present invention is adjusted appropriately depending on the application, but is preferably 40 μm or more, preferably 500 μm or less, more preferably 300 μm or less, still more preferably 100 μm or less, and even more preferably 80 μm or less. , particularly preferably 65 μm or less, particularly preferably 55 μm or less. The thickness of the optical film can be measured using a film thickness meter, for example, by the method described in Examples.

＜樹脂＞
本発明の光学フィルムは、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂からなる群から選択される少なくとも１つの樹脂を含むことが好ましい。これらの中でも、式（Ａ）～（Ｃ）［総称して式（Ｐ）ということがある］を満たしやすい観点から、該樹脂は、ポリアミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましく、ポリアミドイミド樹脂であることがより好ましい。 <Resin>
The optical film of the present invention preferably contains at least one resin selected from the group consisting of polyamide resin, polyimide resin, and polyamideimide resin. Among these, from the viewpoint of easily satisfying formulas (A) to (C) [sometimes collectively referred to as formula (P)], the resin is selected from at least one resin selected from the group consisting of polyamide resins and polyamideimide resins. A seed is preferable, and a polyamideimide resin is more preferable.

ポリアミド樹脂とは、アミド基を含む繰り返し構造単位を含有する重合体を示し、ポリイミド樹脂とは、イミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体を示し、ポリアミドイミド樹脂とは、イミド基を含む繰り返し構造単位及びアミド基を含む繰り返し構造単位を含有する重合体を示す。 Polyamide resin refers to a polymer containing a repeating structural unit containing an amide group, polyimide resin refers to a polymer containing a repeating structural unit containing an imide group, and polyamide-imide resin refers to a polymer containing a repeating structural unit containing an imide group. A polymer containing a repeating structural unit and a repeating structural unit containing an amide group is shown.

ポリアミドイミド樹脂は、式（１）
［式（１）中、Ｘは２価の有機基を表し、Ｙは４価の有機基を表す］
で表される構成単位、及び式（２）
［式（２）中、Ｘは２価の有機基を表し、Ｚは置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す］
で表される構成単位を少なくとも有することが好ましい。 Polyamideimide resin has the formula (1)
[In formula (1), X represents a divalent organic group, and Y represents a tetravalent organic group]
The structural unit represented by and formula (2)
[In formula (2), X represents a divalent organic group, and Z represents a divalent aromatic group which may have a substituent]
It is preferable to have at least a structural unit represented by:

ポリイミド樹脂は、式（１）で表される構成単位を少なくとも有し、ポリアミド樹脂は式（２）で表される構成単位を少なくとも有することが好ましい。 It is preferable that the polyimide resin has at least a structural unit represented by formula (1), and the polyamide resin has at least a structural unit represented by formula (2).

式（１）において、Ｙは、互いに独立に、４価の有機基を表し、好ましくは炭素数４～４０の４価の有機基を表し、より好ましくは環状構造を有する炭素数４～４０の４価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは１～８である。本発明の一実施態様であるポリアミドイミド樹脂又はポリイミド樹脂は、複数種のＹを含み得、複数種のＹは、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｙとしては、以下の式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基；それらの式（２０）～式（２９）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基；並びに４価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formula (1), Y independently represents a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, and more preferably a cyclic structure having 4 to 40 carbon atoms. Represents a tetravalent organic group. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. The organic group is an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group; The number of carbon atoms is preferably 1 to 8. The polyamide-imide resin or polyimide resin that is an embodiment of the present invention may contain multiple types of Y, and the multiple types of Y may be the same or different from each other. As Y, the following formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) are used. and a group represented by formula (29); a group in which the hydrogen atom in the groups represented by formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, fluoro group, chloro group, or trifluoromethyl group and a tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

式（２０）～式（２９）中、
＊は結合手を表し、
Ｗ１は、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、－Ａｒ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－Ａｒ－Ｏ－、－Ａｒ－Ｏ－Ａｒ－、－Ａｒ－ＣＨ２－Ａｒ－、－Ａｒ－Ｃ（ＣＨ３）２－Ａｒ－又は－Ａｒ－ＳＯ２－Ａｒ－を表す。Ａｒは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数６～２０のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。式（２０）～式（２９）で表される基の中でも、式（２６）、式（２８）又は式（２９）で表される基が好ましく、式（２６）で表される基がより好ましい。 In formulas (20) to (29),
* represents a bond,
W 1 is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C(CH 3 ) 2 -Ar- Or represents -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which the hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and a specific example thereof is a phenylene group. Among the groups represented by formulas (20) to (29), the groups represented by formula (26), formula (28) or formula (29) are preferable, and the group represented by formula (26) is more preferable. preferable.

本発明の好適な実施態様において、式（１）で表される構成単位は、Ｙとして、式（４ａ）：
［式（４ａ）中、Ｒ２～Ｒ７は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を表し、Ｒ２～Ｒ７に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Ｖは、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、－ＳＯ２－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｎ（Ｒ８）－を表し、Ｒ８は、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基を表し、＊は結合手を表す］
で表される基、及び／又は、式（４ｂ）
［式（４ｂ）中、Ｒ９及びＲ１０は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を表し、Ｒ９及びＲ１０に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、＊は結合手を表す］
で表される基を含む。すなわち、式（１）中の複数のＹのうち、少なくとも一部のＹが式（４ａ）で表される基及び／又は式（４ｂ）で表される基である。このような態様であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい観点から、なお、式（１）で表される構成単位は、Ｙとして式（４ａ）又は式（４ｂ）で表される基を１種又は複数種含んでいてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (1) is represented by formula (4a) as Y:
[In formula (4a), R 2 to R 7 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, The hydrogen atoms contained in R 2 to R 7 may be substituted with halogen atoms independently of each other, and V is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, - CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 8 )-, R 8 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, * represents a bond]
A group represented by and/or formula (4b)
[In formula (4b), R 9 and R 10 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, The hydrogen atoms contained in R 9 and R 10 may be independently substituted with a halogen atom, and * represents a bond]
Including groups represented by That is, at least some of the Y's in formula (1) are a group represented by formula (4a) and/or a group represented by formula (4b). In this embodiment, from the viewpoints of increasing the elastic modulus, yield point strain, and optical properties of the optical film, easily suppressing changes in reflection hue due to impact, and easily increasing surface hardness and water resistance, the formula (1 The structural unit represented by ) may contain one or more groups represented by formula (4a) or formula (4b) as Y.

式（４ａ）において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を表す。炭素数１～６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、２－メチル－ブチル基、３－メチルブチル基、２－エチル－プロピル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。炭素数１～６のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基及びシクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。炭素数６～１２のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基及びビフェニル基等が挙げられる。これらの中でも、このような態様であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を向上しやすい。Ｒ２～Ｒ７は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数１～３のアルキル基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。ここで、Ｒ２～Ｒ７に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。 In formula (4a), R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or Represents an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl- Examples include butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, and the like. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, and cyclohexyloxy group. Can be mentioned. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, and biphenyl group. Among these, such an embodiment tends to improve the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film. R 2 to R 7 independently of each other preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and still more preferably a hydrogen atom. represent. Here, the hydrogen atoms contained in R 2 to R 7 may be independently substituted with halogen atoms. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

式（４ａ）中のＶは、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、－ＳＯ２－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｎ（Ｒ８）－を表し、Ｒ８は、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基を表す。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、２－メチル－ブチル基、３－メチルブチル基、２－エチル－プロピル基、ｎ－ヘキシル、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基及びｎ－デシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。前記ハロゲン原子としては上記に例示のものが挙げられる。これらの中でも、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい観点から、Ｖは、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－又は－Ｃ（ＣＦ３）２－であることが好ましく、単結合、－Ｃ（ＣＨ３）２－又は－Ｃ（ＣＦ３）２－であることがより好ましく、単結合又は－Ｃ（ＣＦ３）２－であることがさらに好ましい。 V in formula ( 4a ) represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 8 )-, R 8 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 12 which may be substituted with a halogen atom represents a monovalent hydrocarbon group. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert -butyl group, n-pentyl group, 2-methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl and n-decyl group, which may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include those listed above. Among these, from the viewpoint of easily improving the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film, V is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH(CH 3 )- , -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 - is preferable, and a single bond, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 - is more preferable. , a single bond, or -C(CF 3 ) 2 - is more preferable.

式（４ｂ）において、Ｒ９及びＲ１０は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を表す。炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基及び炭素数６～１２のアリール基としては、式（４ａ）中のＲ２～Ｒ７として上記に例示のものが挙げられる。これらの中でも、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい観点から、Ｒ９及びＲ１０は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数１～３のアルキル基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。ここで、Ｒ９及びＲ１０に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては上記に例示のものが挙げられる。 In formula (4b), R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include those exemplified above as R 2 to R 7 in formula (4a). Among these, from the viewpoint of easily improving the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film, R 9 and R 10 are preferably hydrogen atoms or carbon atoms having 1 to 6 carbon atoms, independently of each other. It represents an alkyl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and even more preferably a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 9 and R 10 may be independently substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include those listed above.

本発明の好適な実施態様では、式（４ａ）中、Ｒ２～Ｒ７は、互いに独立に、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基であり、Ｖは単結合、－Ｃ（ＣＨ３）２－又は－Ｃ（ＣＦ３）２－である。このような態様であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, in formula (4a), R 2 to R 7 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, V is a single bond, and -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -. In such an embodiment, the elastic modulus, yield point strain, and optical properties of the optical film are increased, the change in reflection hue due to impact is easily suppressed, and the surface hardness and water resistance are easily increased.

本発明の好適な実施態様では、式（４ｂ）中、Ｒ９及びＲ１０は、互いに独立に、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基である。このような態様であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, in formula (4b), R 9 and R 10 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. In such an embodiment, the elastic modulus, yield point strain, and optical properties of the optical film are increased, the change in reflection hue due to impact is easily suppressed, and the surface hardness and water resistance are easily increased.

本発明のより好適な実施態様において、式（４ａ）で表される基は、式（７ａ）又は式（７ｂ）
で表され、式（４ｂ）で表される基は、式（７ｃ）
で表される。すなわち、式（１）で表される構成単位は、Ｙとして式（７ａ）で表される基、式（７ｂ）で表される基及び式（７ｃ）で表される基からなる群から選択される少なくとも１種を含む。このような態様であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい。また、式（７ａ）で表される構成単位を含む場合、フッ素元素を含有する骨格により樹脂の溶媒への溶解性を向上し、樹脂ワニスの粘度を低く抑制することができ、光学フィルムの加工を容易にすることができる。式（１）中の複数のＹは、式（７ａ）、式（７ｂ）又は式（７ｃ）で表される基を１種又は複数種含んでいてもよい。 In a more preferred embodiment of the present invention, the group represented by formula (4a) is represented by formula (7a) or formula (7b).
The group represented by formula (4b) is represented by formula (7c)
It is expressed as That is, the structural unit represented by formula (1) is selected from the group consisting of a group represented by formula (7a), a group represented by formula (7b), and a group represented by formula (7c) as Y. Contains at least one species. In such an embodiment, the elastic modulus, yield point strain, and optical properties of the optical film are increased, the change in reflection hue due to impact is easily suppressed, and the surface hardness and water resistance are easily increased. In addition, when the structural unit represented by formula (7a) is included, the solubility of the resin in the solvent can be improved due to the skeleton containing the fluorine element, the viscosity of the resin varnish can be suppressed to a low level, and the processing of optical films can be achieved. can be facilitated. The plurality of Y's in formula (1) may contain one or more groups represented by formula (7a), formula (7b), or formula (7c).

本発明の一実施態様において、式（１）中のＹが式（４ａ）及び／又は式（４ｂ）で表される基である構成単位の割合は、式（１）で表される構成単位のモル量に対して、好ましくは５０モル％以上、より好ましくは６０モル％以上、さらに好ましくは７０モル％以上であり、好ましくは１００モル％以下である。式（１）中のＹが式（４ａ）及び／又は式（４ｂ）で表される基である構成単位の割合が上記範囲であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい。式（１）中のＹが式（４ａ）及び／又は式（４ｂ）で表される基である構成単位の割合は、例えば１Ｈ－ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, the proportion of the structural units in which Y in formula (1) is a group represented by formula (4a) and/or formula (4b) is the structural unit represented by formula (1). The amount is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, even more preferably 70 mol% or more, and preferably 100 mol% or less. When the ratio of the structural units in which Y in formula (1) is a group represented by formula (4a) and/or formula (4b) is within the above range, the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, Easy to improve water resistance and optical properties. The proportion of structural units in which Y in formula (1) is a group represented by formula (4a) and/or formula (4b) can be measured using, for example, 1 H-NMR, or by It can also be calculated from the ratio.

式（２）において、Ｚは、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。２価の芳香族基とは、２価の単環式芳香族基、２価の縮合多環式芳香族基又は２価の環集合芳香族基を示す。２価の芳香族基は、炭素数５～２０の２価の芳香族基であることが好ましい。本発明の一実施態様におけるポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、複数種のＺを含むことができ、複数種のＺは互いに同一であっても異なっていてもよい。 In formula (2), Z represents a divalent aromatic group which may have a substituent. The divalent aromatic group refers to a divalent monocyclic aromatic group, a divalent condensed polycyclic aromatic group, or a divalent ring-assembled aromatic group. The divalent aromatic group is preferably a divalent aromatic group having 5 to 20 carbon atoms. The polyamide resin or polyamideimide resin in one embodiment of the present invention can contain multiple types of Z, and the multiple types of Z may be the same or different from each other.

２価の単環式芳香族基としては、例えばベンゼン環等の単環式芳香族炭化水素環、好ましくは炭素数６～１５の単環式芳香族炭化水素環を構成する炭素原子のうち、２つの水素原子を除いた２価の基；硫黄原子、窒素原子及び酸素原子から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む単環式芳香族複素環、好ましくは炭素及びヘテロ原子数５～１５の単環式芳香族複素環、例えばピリジン環、ジアザベンゼン環、トリアジン環、フラン環、チオフェン環、アゾール環、ジアゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環等を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合する２つの水素原子を除いた２価の基などが挙げられる。 Examples of the divalent monocyclic aromatic group include carbon atoms constituting a monocyclic aromatic hydrocarbon ring such as a benzene ring, preferably a monocyclic aromatic hydrocarbon ring having 6 to 15 carbon atoms. a divalent group excluding two hydrogen atoms; a monocyclic aromatic heterocycle containing at least one heteroatom selected from sulfur, nitrogen and oxygen atoms, preferably carbon and having 5 to 15 heteroatoms; Monocyclic aromatic heterocycles, such as pyridine rings, diazabenzene rings, triazine rings, furan rings, thiophene rings, azole rings, diazole rings, triazole rings, oxazole rings, oxadiazole rings, thiazole rings, thiadiazole rings, etc. Examples include divalent groups excluding two hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or a heteroatom.

２価の縮合多環式芳香族基としては、例えばナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環等の縮合多環式芳香族炭化水素環、好ましくは炭素数１０～２０の縮合多環式芳香族炭化水素環を構成する炭素原子のうち、２つの水素原子を除いた２価の基；硫黄原子、窒素原子及び酸素原子から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む縮合多環式芳香族複素環、好ましくは炭素及びヘテロ原子数８～２０の縮合多環式芳香族複素環、例えばアザナフタレン環、ジアザナフタレン環、カルバゾール環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、ジベンゾシロール環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、アクリジン環、等を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合する２つの水素原子を除いた２価の基などが挙げられる。なお、単環式芳香族炭化水素環及び単環式芳香族複素環を総称して単環式芳香族環と称し、縮合多環式芳香族炭化水素環及び縮合多環式芳香族複素環を総称して縮合多環式芳香族環と称する。 Examples of the divalent fused polycyclic aromatic group include fused polycyclic aromatic hydrocarbon rings such as naphthalene rings, anthracene rings, and phenanthrene rings, preferably fused polycyclic aromatic hydrocarbons having 10 to 20 carbon atoms. A divalent group excluding two hydrogen atoms from among the carbon atoms constituting the ring; a fused polycyclic aromatic heterocycle containing at least one heteroatom selected from sulfur atoms, nitrogen atoms, and oxygen atoms, preferably is a fused polycyclic aromatic heterocycle having 8 to 20 carbon atoms and heteroatoms, such as an azanaphthalene ring, a diazanaphthalene ring, a carbazole ring, a dibenzofuran ring, a dibenzothiophene ring, a dibenzosilole ring, a phenoxazine ring, a phenothiazine ring, Examples include a divalent group excluding two hydrogen atoms directly bonded to carbon atoms or heteroatoms constituting the acridine ring, etc. Furthermore, monocyclic aromatic hydrocarbon rings and monocyclic aromatic heterocycles are collectively referred to as monocyclic aromatic rings, and fused polycyclic aromatic hydrocarbon rings and fused polycyclic aromatic heterocycles are collectively referred to as monocyclic aromatic rings. They are collectively referred to as fused polycyclic aromatic rings.

２価の環集合芳香族基は、単環式芳香族環及び／又は縮合多環式芳香族環が単結合で連結された環集合芳香族環、好ましくは炭素及びヘテロ原子数１０～４０の環集合芳香族環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合する２つの水素原子を取り除いた２価の基を示す。２価の環集合芳香族基は、１又は複数の単環式芳香族環で構成されていてもよく、１又は複数の縮合多環式芳香族環で構成されていてもよく、これらの基を組合せて構成されていてもよい。具体的に２価の環集合芳香族基としては、例えばビフェニル環、ビピリジン環、フェニルナフチル環、テルフェニル環、テルピリジン環等の環集合芳香族環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合する２つの水素原子を取り除いた２価の基が挙げられる。 The divalent ring-assembled aromatic group is a ring-assembled aromatic ring in which a monocyclic aromatic ring and/or a fused polycyclic aromatic ring are connected by a single bond, preferably having 10 to 40 carbon and hetero atoms. Refers to a divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to carbon atoms or heteroatoms constituting an aromatic ring are removed. The divalent ring-assembling aromatic group may be composed of one or more monocyclic aromatic rings, or may be composed of one or more fused polycyclic aromatic rings, and these groups It may be configured by combining. Specifically, divalent ring-assembled aromatic groups include those that directly bond to carbon atoms or heteroatoms constituting ring-assembled aromatic rings such as biphenyl ring, bipyridine ring, phenylnaphthyl ring, terphenyl ring, and terpyridine ring. Examples include divalent groups from which two hydrogen atoms have been removed.

２価の芳香族基の中でも、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい観点から、２価の単環式芳香族基又は２価の環集合芳香族基が好ましく、フェニレン基等の２価の単環式芳香族基がより好ましい。 Among divalent aromatic groups, divalent monomers are preferred from the viewpoint of increasing the elastic modulus, yield point strain, and optical properties of optical films, easily suppressing changes in reflection hue due to impact, and easily increasing surface hardness and water resistance. A cyclic aromatic group or a divalent ring-assembled aromatic group is preferred, and a divalent monocyclic aromatic group such as a phenylene group is more preferred.

Ｚとしての２価の芳香族基が有していてもよい置換基は、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、光学特性、表面硬度及び耐水性を高めやすい観点から、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１２のアリール基、炭素数６～１２のアリールオキシ基、炭素数１～１２のカルボニル含有基、及びハロゲノ基からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。これらの置換基の水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、ヒドロキシル基、又は、カルボキシル基で置換されていてもよい。 The substituent that the divalent aromatic group as Z may have is a substituent having 1 to 12 carbon atoms, from the viewpoint of easily improving the elastic modulus, yield point strain, optical properties, surface hardness, and water resistance of the optical film. selected from the group consisting of an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, a carbonyl-containing group having 1 to 12 carbon atoms, and a halogeno group. It is preferable that at least one of the above is used. The hydrogen atoms of these substituents may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, or a carboxyl group.

該２価の芳香族基が置換基を複数有する場合、同一又は異なる置換基を複数有していてもよい。光学フィルムの弾性率、降伏点歪、光学特性、表面硬度及び耐水性を高めやすい観点から、同一の置換基を複数有することが好ましい。また、該２価の芳香族基が有する置換基の数は、２価の芳香族基の種類に応じて適宜選択でき、例えば１～８、好ましくは１～６、より好ましくは１～４、さらに好ましくは１～３、とりわけ好ましくは１又は２である。 When the divalent aromatic group has a plurality of substituents, it may have a plurality of the same or different substituents. From the viewpoint of easily improving the elastic modulus, yield point strain, optical properties, surface hardness, and water resistance of the optical film, it is preferable to have a plurality of the same substituents. Further, the number of substituents that the divalent aromatic group has can be appropriately selected depending on the type of the divalent aromatic group, for example, 1 to 8, preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, More preferably 1 to 3, particularly preferably 1 or 2.

炭素数１～１２のアルキル基としては、炭素数１～１２の直鎖状、分枝状又は脂環式のアルキル基が挙げられる。炭素数１～１２の直鎖状、分枝状又は脂環式のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、２－メチル－ブチル基、３－メチルブチル基、２－エチル－プロピル基、ｎ－ヘキシル、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。炭素数１～１２のアルキル基は、直鎖状のアルキル基、分枝状のアルキル基、又は、脂環式炭化水素構造を含む脂環式のアルキル基であってよい。炭素数１～１２のアルキル基の炭素数は、好ましくは１～６、より好ましくは１～４、さらに好ましくは１又は２である。上記の炭素数１～１２のアルキル基は、少なくとも１つの水素原子が、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、ヒドロキシル基、又は、カルボキシル基で置換された基であってもよい。ハロゲン原子としては上記に例示のものが挙げられる。炭素数１～１２のアルキル基は、少なくとも１つの水素原子がハロゲン原子で置換された基（ハロゲン化アルキル基ということがある）であることが好ましく、より好ましくはフルオロアルキル基であり、さらに好ましくはパーフルオロアルキル基である。ここで、炭素数１～１２のアルキル基が、炭素原子を含む置換基（例えば炭素数１～４のアルキル基）で置換されている場合、当該置換基に含まれる炭素原子の数は、炭素数１～１２のアルキル基の炭素数には含めない。例えば上記の炭素数１～１２のアルキル基が、炭素数１～４のアルキル基で置換された基は、炭素数１～１２のアルキル基を主鎖とし、該アルキル基の少なくとも１つの水素原子が炭素数１～４のアルキル基で置換された基である。主鎖となるアルキル基部分の炭素数が１～１２であれば、アルキル基全体としての炭素数は１２を超えていてもよい。なお、アルキル基全体としての炭素原子の数が１２を超えない基の場合、炭素数１～１２のアルキル基が炭素数１～４のアルキル基で置換された基は、炭素数１～１２の分枝状のアルキル基の定義にも包含される基である。 Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include linear, branched, or alicyclic alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms. Examples of linear, branched or alicyclic alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert- Butyl group, n-pentyl group, 2-methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group , n-decyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc. The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms may be a linear alkyl group, a branched alkyl group, or an alicyclic alkyl group containing an alicyclic hydrocarbon structure. The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and even more preferably 1 or 2 carbon atoms. In the above alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, at least one hydrogen atom independently represents a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, or a carboxyl group. It may be a group substituted with a group. Examples of the halogen atom include those listed above. The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is preferably a group in which at least one hydrogen atom is substituted with a halogen atom (sometimes referred to as a halogenated alkyl group), more preferably a fluoroalkyl group, and even more preferably is a perfluoroalkyl group. Here, when an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is substituted with a substituent containing a carbon atom (for example, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), the number of carbon atoms contained in the substituent is It is not included in the number of carbon atoms in the alkyl group having numbers 1 to 12. For example, a group in which the above-mentioned alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms has an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms as the main chain, and at least one hydrogen atom of the alkyl group is substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. is a group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. If the main chain alkyl group has 1 to 12 carbon atoms, the alkyl group as a whole may have more than 12 carbon atoms. In addition, in the case of a group in which the total number of carbon atoms in the alkyl group does not exceed 12, a group in which an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is a group having 1 to 12 carbon atoms. This group is also included in the definition of a branched alkyl group.

炭素数１～１２のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基及びデシルオキシ基等が挙げられる。炭素数１～１２のアルコキシ基におけるアルキレン部分は、直鎖状、分枝状、又は、脂環式のいずれであってもよい。炭素数１～１２のアルコキシ基の炭素数は、好ましくは１～６、より好ましくは１～４、さらに好ましくは１又は２である。上記の炭素数１～１２のアルコキシ基は、少なくとも１つの水素原子が、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、水酸基、又は、カルボキシル基で置換された基であってもよい。ハロゲン原子としては、上記に記載したものが挙げられる。ここで、炭素数１～１２のアルコキシ基が炭素原子を含む置換基で置換されている場合、当該置換基に含まれる炭素原子の数は、炭素数１～１２のアルコキシ基の炭素数には含めない。 Examples of the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, and cyclohexyloxy group. , heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group and decyloxy group. The alkylene moiety in the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms may be linear, branched, or alicyclic. The alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and even more preferably 1 or 2 carbon atoms. In the above alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, at least one hydrogen atom is independently a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, or a carboxyl group. It may be a group substituted with. Examples of the halogen atom include those described above. Here, when an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms is substituted with a substituent containing a carbon atom, the number of carbon atoms contained in the substituent is equal to the number of carbon atoms in the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. exclude.

炭素数６～１２のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。炭素数６～１２のアリール基の炭素数は、好ましくは６、１０又は１２、より好ましくは６又は１２である。上記の炭素数６～１２のアリール基は、少なくとも１つの水素原子が、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、水酸基、又は、カルボキシル基で置換された基であってもよい。ハロゲン原子としては、上記に記載したものが挙げられる。ここで、炭素数６～１２のアリール基が炭素原子を含む置換基で置換されている場合、当該置換基に含まれる炭素原子の数は、炭素数６～１２のアリール基の炭素数には含めない。 Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include phenyl group, naphthyl group, and biphenyl group. The carbon number of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms is preferably 6, 10 or 12, more preferably 6 or 12. In the above aryl group having 6 to 12 carbon atoms, at least one hydrogen atom is independently a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, or a carboxyl group. It may be a group substituted with. Examples of the halogen atom include those described above. Here, when an aryl group having 6 to 12 carbon atoms is substituted with a substituent containing a carbon atom, the number of carbon atoms contained in the substituent is equal to the number of carbon atoms in the aryl group having 6 to 12 carbon atoms. exclude.

炭素数６～１２のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフチルオキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。炭素数６～１２のアリールオキシ基の炭素数は、好ましくは６、１０又は１２、より好ましくは６又は１２である。上記の炭素数６～１２のアリールオキシ基は、少なくとも１つの水素原子が、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、水酸基、又は、カルボキシル基で置換された基であってもよい。ハロゲン原子としては、上記に記載したものが挙げられる。ここで、炭素数６～１２のアリールオキシ基が炭素原子を含む置換基で置換されている場合、当該置換基に含まれる炭素原子の数は、炭素数６～１２のアリールオキシ基の炭素数には含めない。 Examples of the aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms include phenoxy group, naphthyloxy group, biphenyloxy group, and the like. The carbon number of the aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms is preferably 6, 10 or 12, more preferably 6 or 12. In the above aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, at least one hydrogen atom is independently a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, or a carboxyl group. It may be a group substituted with a group. Examples of the halogen atom include those described above. Here, when the aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms is substituted with a substituent containing a carbon atom, the number of carbon atoms contained in the substituent is the number of carbon atoms in the aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms. Not included.

炭素数１～１２のカルボニル含有基はカルボニル基を含む基を示し、例えば＊－ＣＯ－Ｒａ、＊－Ｒｂ－ＣＯ－Ｒａ、＊－ＣＯ－Ｏ－Ｒａ、＊－Ｒｂ－ＣＯ－Ｏ－Ｒａ、＊－Ｏ－ＣＯ－Ｒａ、又は、－Ｒｂ－Ｏ－ＣＯ－Ｒａで表される基（＊は結合手を示す）である。Ｒａとしては、炭素数１～１２のアルキル基について上記に記載した基が挙げられ、Ｒｂとしては、炭素数１～１２のアルキル基について上記に記載した基の少なくとも１つの水素原子が結合手に置き換わった、炭素数１～１２の２価のアルキレン基が挙げられる。 A carbonyl-containing group having 1 to 12 carbon atoms refers to a group containing a carbonyl group, such as *-CO-R a , *-R b -CO-R a , *-CO-O-R a , *-R b - A group represented by CO-O-R a , *-O-CO-R a , or -R b -O-CO-R a (* indicates a bond). Examples of R a include the groups described above for alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, and R b includes bonds to at least one hydrogen atom of the groups described above for alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms. Examples include a divalent alkylene group having 1 to 12 carbon atoms in which the hand is replaced.

ハロゲノ基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基又はヨード基が挙げられる。 Examples of the halogeno group include a fluoro group, a chloro group, a bromo group, and an iodo group.

これらの中でも、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい観点から、前記置換基は、炭素数１～１２のアルキル基；炭素数１～１２のハロゲン化アルキル基、中でも好ましくは炭素数１～１２のフルオロアルキル基、より好ましくは炭素数１～１２のパーフルオロアルキル基；及び炭素原子数１～１２のアルコキシ基から選択される少なくとも１種であることが好ましい。これらの基の炭素原子は、好ましくは１～６、より好ましくは１～４、さらに好ましくは１又は２である。 Among these, from the viewpoint of increasing the elastic modulus, yield point strain, and optical properties of the optical film, easily suppressing changes in reflection hue due to impact, and easily increasing surface hardness and water resistance, the above-mentioned substituents are those having 1 to 1 carbon atoms. 12 alkyl group; a halogenated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, preferably a fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms; and 1 to 12 carbon atoms. It is preferable that it is at least one kind selected from the alkoxy groups. These groups preferably have 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and still more preferably 1 or 2 carbon atoms.

Ｚとしての２価の芳香族基は置換基を有していなくてもよく、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい観点から、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のハロゲン化アルキル基、中でも好ましくは炭素数１～１２のフルオロアルキル基、より好ましくは炭素数１～１２のパーフルオロアルキル基及び炭素原子数１～１２のアルコキシ基から選択される少なくとも１種の置換基を有するフェニレン基又はビフェニレン基であることが好ましい。ここで、弾性率及び降伏点歪の観点からは、炭素数１～１２のアルキル基を有するフェニレン基が好ましく、弾性率、耐水性及び降伏点歪みの観点からは、炭素数１～１２のハロゲン化アルキル基を有するフェニレン基が好ましく、弾性率及び表面硬度の観点からは、炭素数１～１２のハロゲン化アルキル基を有するビフェニレン基が好ましく、耐水性及び表面硬度の観点からは炭素数１～１２のアルコキシ基が好ましい。 The divalent aromatic group as Z does not need to have a substituent, increases the elastic modulus, yield point strain, and optical properties of the optical film, easily suppresses changes in reflection hue due to impact, and improves surface hardness and From the viewpoint of easily increasing water resistance, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and more preferably a fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms are preferred. It is preferably a phenylene group or biphenylene group having at least one substituent selected from a perfluoroalkyl group and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. Here, from the viewpoint of elastic modulus and yield point strain, a phenylene group having an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is preferable, and from the viewpoint of elastic modulus, water resistance, and yield point strain, halogen group having 1 to 12 carbon atoms is preferable. A phenylene group having a halogenated alkyl group is preferred, from the viewpoint of elastic modulus and surface hardness, a biphenylene group having a halogenated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is preferred, and a biphenylene group having a halogenated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is preferred from the viewpoint of water resistance and surface hardness. 12 alkoxy groups are preferred.

本発明の好適な実施態様において、式（１）で表される構成単位は、Ｚとして、式（３）
［式（３）中、Ｒ１は、互いに独立に、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１２のアリール基、炭素数６～１２のアリールオキシ基、炭素数１～１２のカルボニル含有基、又はハロゲノ基を表し、Ｒ１に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、水酸基、又は、カルボキシル基で置換されていてもよく、ｋは１～４の整数を表し、ｎは０～４の整数を表し、ｋが２以上であるとき、異なる芳香族基に置換するＲ１は、同一であっても異なっていてもよく、＊は結合手を表す］
で表される基を含む。すなわち、式（１）中の複数のＺのうち、少なくとも一部のＺが式（３）で表される基である。このような態様であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい。なお、式（１）で表される構成単位は、Ｚとして式（３）で表される基を１種又は複数種含んでいてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (1) is represented by formula (3) as Z.
[In formula (3), R 1 is independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms. represents a group, a carbonyl-containing group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogeno group, and the hydrogen atoms contained in R 1 are each independently a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. may be substituted with a group, hydroxyl group, or carboxyl group, k represents an integer of 1 to 4, n represents an integer of 0 to 4, and when k is 2 or more, substituted with a different aromatic group. R 1 may be the same or different, * represents a bond]
Including groups represented by That is, among the plurality of Z's in formula (1), at least some Z's are groups represented by formula (3). In such an embodiment, the elastic modulus, yield point strain, and optical properties of the optical film are increased, the change in reflection hue due to impact is easily suppressed, and the surface hardness and water resistance are easily increased. The structural unit represented by formula (1) may contain one or more groups represented by formula (3) as Z.

式（３）中のＲ１は、互いに独立に、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１２のアリール基、炭素数６～１２のアリールオキシ基、炭素数１～１２のカルボニル含有基、又はハロゲノ基を表し、Ｒ１に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、水酸基、又は、カルボキシル基で置換されていてもよい。式（３）中のＲ１における炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１２のアリール基、炭素数６～１２のアリールオキシ基、炭素数１～１２のカルボニル含有基、及びハロゲノ基としては、それぞれ、Ｚとしての２価の芳香族基が有していてもよい置換基として上記に記載のものが挙げられる。式（３）中のＲ１の好ましい置換基も、Ｚとしての２価の芳香族基が有していてもよい置換基の好ましいものと同様である。 R 1 in formula (3) independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms. , represents a carbonyl-containing group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogeno group, and the hydrogen atoms contained in R 1 are each independently a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. , hydroxyl group, or carboxyl group. R 1 in formula (3) is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, and an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms; Examples of the 12 carbonyl-containing groups and the halogeno group include those described above as substituents that the divalent aromatic group as Z may have. Preferred substituents for R 1 in formula (3) are also the same as the preferred substituents that the divalent aromatic group as Z may have.

式（３）において、ｋは１～４の整数を表し、ｎは０～４の整数を表し、ｋが２以上であるとき、異なる芳香族基に置換するＲ１は、同一であっても異なっていてもよく、＊は結合手を表す。光学フィルムの弾性率、降伏点歪、光学特性、表面硬度及び耐水性を高めやすい観点から、ｋは好ましくは１～３の整数、より好ましくは１又は２であり、ｎは好ましくは１～３の整数、より好ましくは１又は２である。 In formula (3), k represents an integer of 1 to 4, n represents an integer of 0 to 4, and when k is 2 or more, R 1 substituted with different aromatic groups may be the same. They may be different, and * represents a bond. From the viewpoint of easily increasing the elastic modulus, yield point strain, optical properties, surface hardness, and water resistance of the optical film, k is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2, and n is preferably 1 to 3. , more preferably 1 or 2.

本発明の好適な実施態様では、式（３）中、Ｒ１は、互いに独立に、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のハロゲン化アルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を表し、ｋ及びｎは、互いに独立に１又は２を表す。このような態様であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、光学特性、表面硬度及び耐水性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, in formula (3), R 1 is independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. represents a group, and k and n each independently represent 1 or 2. In such an embodiment, it is easy to improve the elastic modulus, yield point strain, optical properties, surface hardness, and water resistance of the optical film.

本発明の好適な実施態様では、式（３）中、Ｒ１は、互いに独立に、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を表し、ｋは１であり、ｎは１又は２である。このような態様であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, in formula (3), R 1 independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, k is 1, and n is 1 or 2. In such an embodiment, it is easy to improve the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film.

本発明の好適な実施態様では、式（３）中、Ｒ１は、互いに独立に、炭素数１～６のハロゲン化アルキル基を表し、ｋは２であり、ｎは１又は２である。このような態様であると、光学フィルムの弾性率、表面硬度及び光学特性を高めやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, in formula (3), R 1 independently represents a halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, k is 2, and n is 1 or 2. In such an embodiment, the elastic modulus, surface hardness, and optical properties of the optical film can be easily improved.

式（３）において、２つの結合手は互いにオルト位、メタ位、又はパラ位に位置していてもよいが、好ましくは互いにパラ位に位置する。２つの結合手が互いにパラ位に位置すると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい。また重合性を向上しやすく、分子量を高める点でも有利である。 In formula (3), the two bonds may be located at the ortho, meta, or para positions, but are preferably located at the para positions. When the two bonds are located in the para position, it is easy to improve the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film. It is also advantageous in that polymerizability can be easily improved and molecular weight can be increased.

本発明の好適な実施態様において、式（３）で表される基は、式（３３ａ）
［式（３３ａ）中、Ｒ１１及びＲ１２は、メチル基、メトキシ基又はトリフルオロメチル基である］
、又は式（３３ｂ）
［式（３３ｂ）中、Ｒ１３及びＲ１４は、メチル基、メトキシ基又はトリフルオロメチル基である］
で表される。すなわち、式（２）で表される構成単位は、Ｚとして式（３３ａ）で表される基及び式（３３ｂ）で表される基からなる群から選択される少なくとも１種を含む。このような態様であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい。また、式（３３ａ）又は式（３３ｂ）で表される基がトリフルオロメチル基を含む場合、フッ素元素を含有する骨格により樹脂の溶媒への溶解性を向上し、樹脂ワニスの粘度を低く抑制することができ、光学フィルムの加工を容易にすることができる。式（２）中の複数のＺは、式（３３ａ）又は式（３３ｂ）で表される基を１種又は複数種含んでいてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the group represented by formula (3) is represented by formula (33a)
[In formula (33a), R 11 and R 12 are a methyl group, a methoxy group, or a trifluoromethyl group]
, or formula (33b)
[In formula (33b), R 13 and R 14 are a methyl group, a methoxy group or a trifluoromethyl group]
It is expressed as That is, the structural unit represented by formula (2) includes at least one type selected from the group consisting of a group represented by formula (33a) and a group represented by formula (33b) as Z. In such an embodiment, the elastic modulus, yield point strain, and optical properties of the optical film are increased, the change in reflection hue due to impact is easily suppressed, and the surface hardness and water resistance are easily increased. In addition, when the group represented by formula (33a) or formula (33b) contains a trifluoromethyl group, the skeleton containing the fluorine element improves the solubility of the resin in the solvent and suppresses the viscosity of the resin varnish. This makes it possible to easily process the optical film. The plurality of Z's in formula (2) may contain one or more groups represented by formula (33a) or formula (33b).

本発明の好適な実施態様において、式（２）中のＺが式（３）で表される基である構成単位の割合は、式（２）で表される構成単位のモル量に対して、好ましくは５０モル％以上、より好ましくは６０モル％以上、さらに好ましくは７０モル％以上であり、とりわけ好ましくは８０モル％以上であり、好ましくは１００モル％以下である。式（２）中のＺが式（３）で表される基である構成単位の割合が上記範囲であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the proportion of the structural units in which Z in formula (2) is a group represented by formula (3) is based on the molar amount of the structural units represented by formula (2). , preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, even more preferably 70 mol% or more, particularly preferably 80 mol% or more, and preferably 100 mol% or less. When the proportion of the structural unit in which Z in formula (2) is a group represented by formula (3) is within the above range, the elastic modulus, yield point strain, and optical properties of the optical film are increased, and the reflection hue change due to impact is reduced. It is easy to suppress this, and it is easy to increase surface hardness and water resistance.

本発明の好適な実施態様において、式（２）中のＺが式（３）で表される基である構成単位の割合は、式（１）で表される構成単位及び式（２）で表される構成単位の合計モル量に対して、好ましくは５モル％以上、より好ましくは２０モル％以上、さらに好ましくは４０モル％以上、さらにより好ましくは５０モル％以上、とりわけ好ましくは６０モル％以上であり、好ましくは９９モル％以下、より好ましくは９５モル％以下、さらに好ましくは９０モル％以下である。式（２）中のＺが式（３）で表される基である構成単位の割合が上記範囲であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい。また上記の上限以下であると、式（２）中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、樹脂ワニスの粘度を低減することができ、光学フィルムの製造が容易である。式（２）中のＺが式（３）で表される基である構成単位の割合は、例えば１Ｈ－ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, the ratio of the structural units in which Z in formula (2) is a group represented by formula (3) is the proportion of the structural units in which Z is a group represented by formula (1) and in formula (2). Preferably 5 mol% or more, more preferably 20 mol% or more, still more preferably 40 mol% or more, even more preferably 50 mol% or more, particularly preferably 60 mol%, based on the total molar amount of the structural units represented. % or more, preferably 99 mol% or less, more preferably 95 mol% or less, even more preferably 90 mol% or less. When the proportion of the structural unit in which Z in formula (2) is a group represented by formula (3) is within the above range, the elastic modulus, yield point strain, and optical properties of the optical film are increased, and the reflection hue change due to impact is reduced. It is easy to suppress this, and it is easy to increase surface hardness and water resistance. Moreover, when it is below the above upper limit, thickening due to hydrogen bonding between amide bonds in formula (2) can be suppressed, the viscosity of the resin varnish can be reduced, and the production of an optical film is easy. The proportion of structural units in which Z in formula (2) is a group represented by formula (3) can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of raw materials. .

式（１）及び式（２）において、Ｘは、互いに独立に、２価の有機基を表し、好ましくは炭素数４～４０の２価の有機基、より好ましくは環状構造を有する炭素数４～４０の２価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは１～８である。本発明の一実施態様であるポリアミドイミド樹脂又はポリアミド樹脂は、複数種のＸを含み得、複数種のＸは、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘとしては、式（１０）、式（１１）、式（１２）、式（１３）、式（１４）、式（１５）、式（１６）、式（１７）及び式（１８）で表される基；それらの式（１０）～式（１８）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基；並びに炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formula (1) and formula (2), X independently represents a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably a C4 organic group having a cyclic structure. Represents ~40 divalent organic groups. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. In the organic group, a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, the number of carbon atoms in the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably is 1 to 8. The polyamide-imide resin or polyamide resin that is an embodiment of the present invention may contain multiple types of X, and the multiple types of X may be the same or different from each other. X is expressed by formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17), and formula (18). groups in which the hydrogen atom in the groups represented by formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group; and groups having 6 or less carbon atoms; A chain hydrocarbon group is exemplified.

式（１０）～式（１８）中、＊は結合手を表し、
Ｖ１、Ｖ２及びＶ３は、互いに独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－又は－Ｎ（Ｑ）－を表す。ここで、Ｑはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基を表す。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基としては、式（４）中のＶとして上記に記載のものが挙げられる。 In formulas (10) to (18), * represents a bond,
V 1 , V 2 and V 3 each independently represent a single bond, -O-, -S-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) represents 2- , -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -CO- or -N(Q)-. Here, Q represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom include those described above as V in formula (4).

本発明の好適な実施態様において、式（１）で表される構成単位及び／又は式（２）で表される構成単位は、Ｘとして、式（３４）
［式（３４）中、Ａｒ１及びＡｒ２は、互いに独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表し、Ｗは、互いに独立に、単結合、－Ｏ－、ジフェニルメチレン基、－ＳＯ２－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＰＯ－、－ＰＯ２－、－Ｎ（Ｒ１５）－、－Ｓｉ（Ｒ１６）２－、又は炭素数１～１２の二価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子に置換されていてもよく、２つの水素原子に代わって環を形成してもよく、Ｒ１５及びＲ１６は、互いに独立に、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基を表し、ｑは０～４の整数を表す］
で表される基を含む。すなわち、式（１）及び／又は式（２）中の複数のＸのうち、少なくとも一部のＸが式（３４）で表される基である。このような態様であると、光学フィルムは、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい。なお、式（１）で表される構成単位及び／又は式（２）で表される構成単位は、Ｘとして式（３４）で表される基を１種又は複数種含んでいてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (1) and/or the structural unit represented by formula (2) is represented by formula (34) as X.
[In formula (34), Ar 1 and Ar 2 independently represent a divalent aromatic group which may have a substituent, and W independently represents a single bond, -O-, diphenylmethylene group, -SO 2 -, -S-, -CO-, -PO-, -PO 2 -, -N(R 15 )-, -Si(R 16 ) 2 -, or having 1 to 12 carbon atoms R 15 and R 16 independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, and q represents an integer of 0 to 4]
Including groups represented by That is, at least some of the Xs in formula (1) and/or formula (2) are groups represented by formula (34). In such an embodiment, the optical film increases its elastic modulus, yield point strain, and optical properties, easily suppresses changes in reflection hue due to impact, and easily increases surface hardness and water resistance. Note that the structural unit represented by formula (1) and/or the structural unit represented by formula (2) may contain one or more groups represented by formula (34) as X.

式（３４）中のＡｒ１及びＡｒ２は、互いに独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。置換基を有していてもよい２価の芳香族基は、式（１）におけるＺとして上記に例示のものが挙げられる。これらの中でも、弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい観点から、置換基を有さない２価のフェニレン基、又は、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のハロゲン化アルキル基及び炭素原子数１～１２のアルコキシ基から選択される少なくとも１種の基を有するフェニレン基が好ましく、置換基を有さない２価のフェニレン基、又は炭素原子数１～１２のフルオロアルキル基（好ましくはパーフルオロアルキル基）を有するフェニレン基がより好ましい。 Ar 1 and Ar 2 in formula (34) each independently represent a divalent aromatic group which may have a substituent. Examples of the divalent aromatic group which may have a substituent include those exemplified above as Z in formula (1). Among these, from the viewpoint of easily improving elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties, divalent phenylene groups without substituents, alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, and carbon atoms A phenylene group having at least one group selected from a halogenated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms is preferable, and a divalent phenylene group having no substituent or a carbon atom number A phenylene group having 1 to 12 fluoroalkyl groups (preferably perfluoroalkyl groups) is more preferred.

式（３４）中のＷは、互いに独立に、単結合、－Ｏ－、ジフェニルメチレン基、－ＳＯ２－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＰＯ－、－ＰＯ２－、－Ｎ（Ｒ１５）－、－Ｓｉ（Ｒ１６）２－、又は炭素数１～１２の二価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子に置換されていてもよく、２つの水素原子に代わって環を形成してもよく、Ｒ１５及びＲ１６は、互いに独立に、水素原子又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基を表す。Ｒ１５及びＲ１６におけるハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基としては、式（４）中のＶとして上記に記載のものが挙げられる。 W in formula (34) independently represents a single bond, -O-, diphenylmethylene group, -SO 2 -, -S-, -CO-, -PO-, -PO 2 -, -N(R 15 )-, -Si(R 16 ) 2 -, or a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in the hydrocarbon group are independently substituted with halogen atoms. or a ring may be formed in place of two hydrogen atoms, and R 15 and R 16 are each independently a monovalent group having 1 to 12 carbon atoms that may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. represents a hydrocarbon group. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom in R 15 and R 16 include those described above as V in formula (4).

式（３４）中のＷにおける炭素数１～１２の二価の炭化水素基としては、式（４）中のＶにおける炭素数１～１２の一価の炭化水素基のうち、水素原子をさらに１つ除いた二価の基が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、上記に例示のものが挙げられる。また、炭素数１～１２の二価の炭化水素基に含まれる水素原子のうち、２つの水素原子に代わって環を形成、すなわち、該２つの水素原子を結合手に代え、その２つの結合手を連結させて環を形成してもよく、該環としては、例えば炭素数３～１２のシクロアルカン環等が挙げられる。これらのＷの中でも、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい観点から、単結合、又は、炭素数１～１２の二価の炭化水素基及びこれらの炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも一部をハロゲン原子で置換した基が好ましく、単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－又は－Ｃ（ＣＦ３）２－がより好ましく、単結合、－Ｃ（ＣＨ３）２－又は－Ｃ（ＣＦ３）２－がさらに好ましく、単結合又は－Ｃ（ＣＦ３）２－がとりわけ好ましい。 As the divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms in W in formula (34), among the monovalent hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms in V in formula (4), hydrogen atoms are further added. Divalent groups with one removed may be mentioned, and these may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include those listed above. Also, among the hydrogen atoms contained in a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a ring is formed in place of two hydrogen atoms, that is, the two hydrogen atoms are replaced with bonding hands, and the two bonds The hands may be linked to form a ring, such as a cycloalkane ring having 3 to 12 carbon atoms. Among these W, single bonds or divalent hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms and their A group in which at least a part of the hydrogen atoms contained in the hydrocarbon group is substituted with a halogen atom is preferable, and includes a single bond, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 - is more preferable, a single bond, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 - is even more preferable, a single bond or -C(CF 3 ) 2- is particularly preferred.

式（３４）中のｑは０～４の整数であり、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい観点から、好ましくは０～３の整数であり、より好ましくは０～２の整数であり、さらに好ましくは０又は１であり、とりわけ好ましくは１である。 q in formula (34) is an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 3 from the viewpoint of easily improving the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film, More preferably it is an integer of 0 to 2, further preferably 0 or 1, particularly preferably 1.

本発明の好適な実施態様においては、式（３４）で表される基は、式（３２）
［式（３２）中、Ｒ２６～Ｒ３３は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を表し、Ｒ２６～Ｒ３３に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Ｗａは、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、ジフェニルメチレン基、－ＳＯ２－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＰＯ－、－ＰＯ２－、－Ｎ（Ｒ３４）－又は－Ｓｉ（Ｒ３５）２－を表し、Ｒ３４及びＲ３５は、互いに独立に、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基を表す］
で表される。すなわち、式（１）で表される構成単位及び／又は式（２）で表される構成単位は、Ｘとして、式（３２）で表される基を含む。このような態様であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい。また、式（１）で表される構成単位及び／又は式（２）で表される構成単位は、Ｘとして式（３２）で表される基を１種又は複数種含んでいてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the group represented by formula (34) is represented by formula (32)
[In formula (32), R 26 to R 33 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, The hydrogen atoms contained in R 26 to R 33 may be substituted with halogen atoms independently of each other, and W a is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, diphenylmethylene group, -SO 2 -, -S-, -CO-, -PO-, -PO 2 -, -N(R 34 )- or -Si(R 35 ) 2 -, and R 34 and R 35 each independently have a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 12 which may be substituted with a halogen atom. represents a monovalent hydrocarbon group]
It is expressed as That is, the structural unit represented by formula (1) and/or the structural unit represented by formula (2) includes a group represented by formula (32) as X. In such an embodiment, the elastic modulus, yield point strain, and optical properties of the optical film are increased, the change in reflection hue due to impact is easily suppressed, and the surface hardness and water resistance are easily increased. Furthermore, the structural unit represented by formula (1) and/or the structural unit represented by formula (2) may contain one or more groups represented by formula (32) as X.

Ｒ２６～Ｒ３３は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を表す。炭素数１～６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、２－メチル－ブチル基、３－メチルブチル基、２－エチル－プロピル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。炭素数１～６のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基及びシクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。炭素数６～１２のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基及びビフェニル基等が挙げられる。ここで、Ｒ２６～Ｒ３３に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、上記に記載のものが挙げられる。 R 26 to R 33 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl- Examples include butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, and the like. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, and cyclohexyloxy group. Can be mentioned. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, and biphenyl group. Here, the hydrogen atoms contained in R 26 to R 33 may be independently substituted with halogen atoms. Examples of the halogen atom include those described above.

これらの中でも、Ｒ２６～Ｒ３３は、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい観点から、互いに独立に、好ましくは水素原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のハロゲン化アルキル基であり、より好ましくは水素原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のフルオロアルキル基（好ましくはパーフルオロアルキル基）である。好適な態様では、Ｒ２６～Ｒ３３は、互いに独立に、さらに好ましくは水素原子、メチル基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、さらにより好ましくはＲ２６、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０、Ｒ３１及びＲ３３が水素原子、Ｒ２７及びＲ３２が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、中でもＲ２７及びＲ３２がメチル基又はトリフルオロメチル基であることが好ましい。 Among these, R 26 to R 33 are preferably hydrogen atoms or carbon atoms having 1 to 6 carbon atoms, independently of each other, from the viewpoint of easily improving the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film. An alkyl group or a halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably a perfluoroalkyl group) . In a preferred embodiment, R 26 to R 33 are independently from each other, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, even more preferably R 26 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 and R 33 are a hydrogen atom, R 27 and R 32 are a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and especially R 27 and R 32 are a methyl group or a trifluoromethyl group. It is preferable that there be.

式（３２）中のＷａは、互いに独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、ジフェニルメチレン基、－ＳＯ２－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＰＯ－、－ＰＯ２－、－Ｎ（Ｒ３４）－又は－Ｓｉ（Ｒ３５）２－を表し、Ｒ３４及びＲ３５は、互いに独立に、水素原子又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基を表し、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい観点から、単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－又は－Ｃ（ＣＦ３）２－が好ましく、単結合、－Ｃ（ＣＨ３）２－又は－Ｃ（ＣＦ３）２－がより好ましく、単結合又は－Ｃ（ＣＦ３）２－がさらに好ましい。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基としては、式（４）中のＶとして上記に例示のものが挙げられる。 W a in formula (32) independently represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - , -C(CF 3 ) 2 -, diphenylmethylene group, -SO 2 -, -S-, -CO-, -PO-, -PO 2 -, -N(R 34 )- or -Si(R 35 ) 2 -, R 34 and R 35 each independently represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom, and From the viewpoint of easily increasing point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties, single bonds, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 - is preferred, a single bond, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 - is more preferred, and a single bond or -C(CF 3 ) 2 - is even more preferred. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom include those exemplified above as V in formula (4).

本発明の好適な実施態様では、式（３２）中、Ｒ２６～Ｒ３３は、互いに独立に、水素原子又は炭素数１～６のハロゲン化アルキル基を表し、Ｗａは単結合、－Ｃ（ＣＨ３）２－又は－Ｃ（ＣＦ３）２－を表す。 In a preferred embodiment of the present invention, in formula (32), R 26 to R 33 independently represent a hydrogen atom or a halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, W a is a single bond, and -C (CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -.

本発明の好適な実施態様においては、式（３２）で表される基は、式（３５ａ）又は式（３５ｂ）
で表される。すなわち、式（２）で表される構成単位は、Ｘとして式（３５ａ）で表される基及び式（３５ｂ）で表される基からなる群から選択される少なくとも１種を含む。このような態様であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪及び光学特性を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすく、かつ表面硬度及び耐水性を高めやすい。なお、式（１）及び／又は式（２）で表される構成単位は、Ｘとして、式（３５ａ）又は（３５ｂ）で表される基を１種又は複数種含んでいてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the group represented by formula (32) is represented by formula (35a) or formula (35b).
It is expressed as That is, the structural unit represented by formula (2) includes, as X, at least one selected from the group consisting of a group represented by formula (35a) and a group represented by formula (35b). In such an embodiment, the elastic modulus, yield point strain, and optical properties of the optical film are increased, the change in reflection hue due to impact is easily suppressed, and the surface hardness and water resistance are easily increased. Note that the structural unit represented by formula (1) and/or formula (2) may contain, as X, one or more groups represented by formula (35a) or (35b).

本発明の一実施態様において、式（１）及び／又は式（２）中のＸが式（３４）で表される基である構成単位の割合は、式（１）で表される構成単位及び／又は式（２）で表される構成単位のモル量に対して、好ましくは３０モル％以上、より好ましくは５０モル％以上、さらに好ましくは７０モル％以上であり、好ましくは１００モル％以下である。式（１）及び／又は式（２）中のＸが式（３４）で表される基である構成単位の割合が上記範囲であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい。式（１）及び／又は式（２）中のＸが式（３４）で表される基である構成単位の割合は、例えば１Ｈ－ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, the proportion of the structural units in which X in formula (1) and/or formula (2) is a group represented by formula (34) is the structural unit represented by formula (1). and/or preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, even more preferably 70 mol% or more, and preferably 100 mol%, based on the molar amount of the structural unit represented by formula (2). It is as follows. When the ratio of the structural units in which X in formula (1) and/or formula (2) is a group represented by formula (34) is within the above range, the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, Easy to improve water resistance and optical properties. The proportion of structural units in which X in formula (1) and/or formula (2) is a group represented by formula (34) can be measured, for example, using 1 H-NMR, or by It can also be calculated from the ratio.

本発明の一実施態様において、式（１）及び／又は式（２）中のＸが式（３２）で表される基であり、かつ式（３２）中のＷａが単結合である構成単位、特に式（１）及び／又は式（２）中のＸが式（３５ａ）で表される基である構成単位の割合は、式（１）及び／又は式（２）中のＸが式（３２）で表される基であり、かつ式（３２）中のＷａが単結合以外である構成単位、特に式（１）及び／又は式（２）中のＸが式（３５ｂ）で表される基である構成単位１モルに対して、好ましくは０．１モル以上、より好ましくは１モル以上、さらに好ましくは３モル以上、さらにより好ましくは５モル以上、とりわけ好ましくは８モル以上であり、好ましくは２０モル以下、より好ましくは１５モル以下、さらに好ましくは１０モル以下である。式（１）及び／又は式（２）中のＸが式（３２）で表される基であり、かつ式（３２）中のＷａが単結合である構成単位の割合が上記範囲であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい。なお、該割合は、例えば１Ｈ－ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, X in formula (1) and/or formula (2) is a group represented by formula (32), and W a in formula (32) is a single bond. The proportion of the units, especially the constituent units in which X in formula (1) and/or formula (2) is a group represented by formula (35a), is A group represented by formula (32), and a structural unit in which W a in formula (32) is other than a single bond, especially a structural unit in which X in formula (1) and/or formula (2) is represented by formula (35b) Preferably 0.1 mol or more, more preferably 1 mol or more, even more preferably 3 mol or more, even more preferably 5 mol or more, particularly preferably 8 mol, per 1 mol of the structural unit which is a group represented by The amount is preferably 20 mol or less, more preferably 15 mol or less, and still more preferably 10 mol or less. X in formula (1) and/or formula (2) is a group represented by formula (32), and the proportion of structural units in which W a in formula (32) is a single bond is within the above range. And it is easy to improve the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance and optical properties of the optical film. Note that the ratio can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of raw materials.

本発明におけるポリアミドイミド樹脂において、式（２）で表される構成単位の割合は、式（１）で表される構成単位１モルに対して、好ましくは０．１モル以上、より好ましくは０．５モル以上、さらに好ましくは１．０モル以上、とりわけ好ましくは１．５モル以上であり、好ましくは２０モル以下、より好ましくは１５モル以下、さらに好ましくは１０モル以下、とりわけ好ましくは５．０モル以下である。式（２）で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい。また上記の上限以下であると、式（２）中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、樹脂ワニスの粘度を低減することができ、光学フィルムの製造が容易である。 In the polyamide-imide resin of the present invention, the proportion of the structural unit represented by formula (2) is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.1 mol or more, per 1 mol of the structural unit represented by formula (1). .5 mol or more, more preferably 1.0 mol or more, particularly preferably 1.5 mol or more, preferably 20 mol or less, more preferably 15 mol or less, still more preferably 10 mol or less, particularly preferably 5.0 mol or more. It is 0 mole or less. When the proportion of the structural unit represented by formula (2) is at least the above lower limit, it is easy to improve the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film. Moreover, when it is below the above upper limit, thickening due to hydrogen bonding between amide bonds in formula (2) can be suppressed, the viscosity of the resin varnish can be reduced, and the production of an optical film is easy.

本発明の一実施態様において、本発明のポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、式（８）
［式（８）中、Ｋ及びＬは、互いに独立に、２価の有機基を表す］
で表される構成単位を含んでいてもよい。 In one embodiment of the present invention, the polyamide resin or polyamideimide resin of the present invention has the formula (8)
[In formula (8), K and L independently represent a divalent organic group]
It may include the structural unit represented by.

式（８）において、Ｌは、互いに独立に、２価の有機基であり、式（５）におけるＸの２価の有機基と同様のものから選択できる。 In formula (8), L is independently a divalent organic group, and can be selected from the same divalent organic groups as the divalent organic group of X in formula (5).

式（８）において、Ｋは、２価の有機基であり、好ましくは炭素数１～８の炭化水素基又はフッ素置換された炭素数１～８の炭化水素基で置換されていてもよい、炭素数４～４０の２価の有機基であり、より好ましくは炭素数１～８の炭化水素基又はフッ素置換された炭素数１～８の炭化水素基で置換されていてもよい、環状構造を有する炭素数４～４０の２価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。Ｋの有機基として、式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基の結合手のうち、隣接しない２つが水素原子に置き換わった基及び炭素数６以下の２価の鎖式炭化水素基が例示され、Ｚのヘテロ環構造としてはチオフェン環骨格を有する基が例示され、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい観点から、好ましくは式（２０）～式（２８）で表される基、及び、チオフェン環骨格を有する基が例示される。 In formula (8), K is a divalent organic group, which may preferably be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a fluorine-substituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. A cyclic structure which is a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably substituted with a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a fluorine-substituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. represents a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. As the organic group of K, formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and a group in which two non-adjacent bonds of the group represented by formula (29) are replaced with hydrogen atoms, and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified, and as the heterocyclic structure of Z is exemplified by a group having a thiophene ring skeleton, and is preferably represented by formulas (20) to (28) from the viewpoint of easily improving the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film. and a group having a thiophene ring skeleton.

Ｋの有機基としては、式（２０’）、式（２１’）、式（２２’）、式（２３’）、式（２４’）、式（２５’）、式（２６’）、式（２７’）、式（２８’）及び式（２９’）：
［式（２０’）～式（２９’）中、Ｗ１及び＊は、式（２０）～式（２９）において定義する通りである］
で表される２価の有機基がより好ましい。なお、式（２０）～式（２９）及び式（２０’）～式（２９’）における環上の水素原子は、炭素数１～８の炭化水素基又はフッ素置換された炭素数１～８の炭化水素基、炭素数１～６のアルコキシ基、又はフッ素置換された炭素数１～６のアルコキシ基で置換されていてもよい。 As the organic group of K, formula (20'), formula (21'), formula (22'), formula (23'), formula (24'), formula (25'), formula (26'), formula (27'), formula (28') and formula (29'):
[In formulas (20') to (29'), W 1 and * are as defined in formulas (20) to (29)]
A divalent organic group represented by is more preferred. In addition, the hydrogen atom on the ring in formulas (20) to (29) and formulas (20') to (29') is a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a fluorine-substituted group having 1 to 8 carbon atoms. may be substituted with a hydrocarbon group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a fluorine-substituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.

ポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂が、式（８）中のＫが上記の式（２０’）～式（２９’）のいずれかで表される構成単位を有する場合、中でも式（８）中のＫが後述する式（９ａ）で表される構成単位を有する場合、ポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、該構成単位に加えて、次の式（ｄ１）：
［式（ｄ１）中、Ｒｃは、互いに独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を表し、Ｒｄは、Ｒｃ又は－Ｃ（＝Ｏ）－＊を表し、＊は結合手を表す］
で表されるカルボン酸由来の構成単位をさらに有することが、ワニスの成膜性を高めやすい観点から好ましい。 When the polyamide resin or polyamide-imide resin has a structural unit in which K in formula (8) is represented by any of the above formulas (20') to (29'), K in formula (8) among others When the polyamide resin or polyamideimide resin has a structural unit represented by the formula (9a) described below, in addition to the structural unit, the polyamide resin or polyamideimide resin has the following formula (d1):
[In formula (d1), R c independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R d is , R c or -C(=O)-*, * represents a bond]
It is preferable to further include a structural unit derived from a carboxylic acid represented by the following from the viewpoint of easily improving the film-forming properties of the varnish.

Ｒｃにおいて、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基及び炭素数６～１２のアリール基としては、それぞれ、式（３２）における炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基として例示のものが挙げられる。構成単位（ｄ１）としては、具体的には、Ｒｃ及びＲｄがいずれも水素原子である構成単位（ジカルボン酸化合物に由来する構成単位）、Ｒｃがいずれも水素原子であり、Ｒｄが－Ｃ（＝Ｏ）－＊を表す構成単位（トリカルボン酸化合物に由来する構成単位）等が挙げられる。 In R c , the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms are the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in formula (32), carbon Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms may be mentioned. Specifically, the structural unit (d1) includes a structural unit in which R c and R d are both hydrogen atoms (a structural unit derived from a dicarboxylic acid compound), a structural unit in which R c is both a hydrogen atom, and R d Examples include a structural unit in which -C(=O)-* (a structural unit derived from a tricarboxylic acid compound).

本発明のポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、式（８）中のＫとして複数種のＫを含んでよく、複数種のＫは、互いに同一であっても異なっていてもよい。中でも、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい観点から、式（８）で表される構成単位は、Ｋとして、好ましくは式（９ａ）：
［式（９ａ）中、Ｒａ及びＲｂは、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、又は炭素数６～１２のアリール基を表し、Ｒａ及びＲｂに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Ａ、ｍ及び＊は、それぞれ式（９）中のＡ、ｍ及び＊と同じであり、ｔは０～４の整数であり、ｕは０～４の整数である］
で表される基、より好ましくは式（９）：
［式（９）中、Ｒ１７～Ｒ２４は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を表し、Ｒ１７～Ｒ２４に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Ａは、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、－ＳＯ２－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｎ（Ｒ２５）－を表し、Ｒ２５は水素原子又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基を表し、ｍは０～４の整数であり、＊は結合手を表す］
で表される基を含むことが好ましい。すなわち、式（８）中の複数のＫのうち、少なくとも一部のＫが好ましくは式（９ａ）で表される基、より好ましくは式（９）で表される基である。 The polyamide resin or polyamide-imide resin of the present invention may contain multiple types of K as K in formula (8), and the multiple types of K may be the same or different from each other. Among them, from the viewpoint of easily improving the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film, the structural unit represented by formula (8) is preferably K, preferably formula (9a):
[In formula (9a), R a and R b each independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; , R a and R b may be independently substituted with a halogen atom, and A, m and * are the same as A, m and * in formula (9), respectively. , t is an integer from 0 to 4, and u is an integer from 0 to 4]
A group represented by, more preferably formula (9):
[In formula (9), R 17 to R 24 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, The hydrogen atoms contained in R 17 to R 24 may be independently substituted with a halogen atom, and A is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, - CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 25 )-, R 25 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms that may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom, m is an integer of 0 to 4, and * represents a bond]
It is preferable to include a group represented by That is, at least some of the K's in formula (8) are preferably groups represented by formula (9a), more preferably groups represented by formula (9).

式（９ａ）において、各ベンゼン環の結合手は、－Ａ－を基準に、オルト位、メタ位又はパラ位のいずれに結合していてもよく、好ましくはメタ位又はパラ位に結合していてもよい。Ｒａ及びＲｂは、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、又は炭素数６～１２のアリール基を表す。式（９ａ）中のｔ及びｕは０であることが好ましいが、ｔ及び／又はｕが１以上である場合、Ｒａ及びＲｂは、互いに独立に、好ましくは炭素数１～６のアルキル基を表し、より好ましくは炭素数１～３のアルキル基を表す。式（９ａ）中のＲａ及びＲｂにおいて、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基及び炭素数６～１２のアリール基としては、それぞれ、式（３２）におけるハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基として例示のものが挙げられる。 In formula (9a), the bond of each benzene ring may be bonded to any of the ortho position, meta position, or para position with respect to -A-, and is preferably bonded to the meta position or para position. It's okay. R a and R b each independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. In formula (9a), t and u are preferably 0, but when t and/or u are 1 or more, R a and R b are preferably alkyl having 1 to 6 carbon atoms, independently of each other. represents a group, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. In R a and R b in formula (9a), the halogen atom, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms are represented by the formula (32 ), the halogen atom, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms are exemplified.

式（９ａ）中のｔ及びｕは、互いに独立に、０～４の整数であり、好ましくは０～２の整数、より好ましくは０又は１である。 t and u in formula (9a) are each independently an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1.

式（９）及び式（９ａ）において、Ａは、互いに独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、－ＳＯ２－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｎ（Ｒ２５）－を表し、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい観点から、好ましくは－Ｏ－又は－Ｓ－を表し、より好ましくは－Ｏ－を表す。本発明の一実施態様であるポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、複数種のＡを含み得、複数種のＡは、同一であっても異なっていてもよい。 In formula (9) and formula (9a), A independently represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2- , -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 25 )-, and represents the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, From the viewpoint of easily improving water resistance and optical properties, it preferably represents -O- or -S-, and more preferably represents -O-. The polyamide resin or polyamideimide resin that is one embodiment of the present invention may contain multiple types of A, and the multiple types of A may be the same or different.

式（９）において、Ｒ１７～Ｒ２４は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を表す。炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基及び炭素数６～１２のアリール基としては、それぞれ、式（３２）におけるＲ２６～Ｒ３３として上記に例示ものが挙げられる。光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい観点から、Ｒ１７～Ｒ２４は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数１～３のアルキル基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。ここで、Ｒ１７～Ｒ２４に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｒ２５は水素原子又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基を表し、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２の一価の炭化水素基としては、式（４）中のＶにおける炭素数１～１２の一価の炭化水素基として上記に例示のものが挙げられる。ハロゲン原子としては、上記に記載のものが挙げられる。 In formula (9), R 17 to R 24 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include those exemplified above as R 26 to R 33 in formula (32), respectively. From the viewpoint of easily improving the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film, R 17 to R 24 each independently preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. , more preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and still more preferably represents a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 17 to R 24 may be independently substituted with halogen atoms. R25 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom, and a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the group include those exemplified above as the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms in V in formula (4). Examples of the halogen atom include those described above.

式（９）及び式（９ａ）において、ｍは、０～４の整数、好ましくは１～４の範囲の整数であり、より好ましくは１～３の範囲の整数、さらに好ましくは１又は２、とりわけ好ましくは１であり、ｍがこの範囲内であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすいと同時に、原料の入手性が比較的良好である。なお、ｍが０である場合、式（９ａ）中のｕは好ましくは０であり、式（９）中のＲ２１～Ｒ２４は好ましくは水素原子である。また、式（８）で表される構成単位は、Ｋとして式（９）又は式（９ａ）で表される基を１種又は２種類以上含んでいてもよい。 In formula (9) and formula (9a), m is an integer of 0 to 4, preferably an integer in the range of 1 to 4, more preferably an integer in the range of 1 to 3, even more preferably 1 or 2, Particularly preferably, it is 1, and when m is within this range, it is easy to improve the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film, and at the same time, the availability of raw materials is relatively good. . Note that when m is 0, u in formula (9a) is preferably 0, and R 21 to R 24 in formula (9) are preferably hydrogen atoms. Further, the structural unit represented by formula (8) may contain one or more types of groups represented by formula (9) or formula (9a) as K.

本発明の好適な実施態様では、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい観点から、式（９）は、式（９’）
で表される。すなわち、式（８）で表される構成単位は、Ｋとして式（９’）で表される基を含む。 In a preferred embodiment of the present invention, from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film, formula (9) is replaced by formula (9')
It is expressed as That is, the structural unit represented by formula (8) includes a group represented by formula (9') as K.

本発明の一実施態様において、式（８）中のＫが式（９ａ）又は式（９）で表される基である構成単位の割合は、式（８）で表される構成単位のモル量に対して、好ましくは５０モル％以上、より好ましくは６０モル％以上、さらに好ましくは７０モル％以上であり、好ましくは１００モル％以下である。式（８）中のＫが式（９ａ）又は式（９）で表される基である構成単位の割合が上記範囲であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすい。 In one embodiment of the present invention, the proportion of the structural units in which K in formula (8) is a group represented by formula (9a) or formula (9) is determined by the mole of the structural units represented by formula (8). Based on the amount, it is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, and preferably 100 mol% or less. When the proportion of the structural unit in which K in formula (8) is a group represented by formula (9a) or formula (9) is within the above range, the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, and water resistance of the optical film will be improved. and easy to improve optical properties.

本発明の一実施態様において、ポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂が式（８）で表される構成単位を含む場合、式（８）中のＫが式（９ａ）又は式（９）で表される基である構成単位の割合は、式（２）で表される構成単位及び式（８）で表される構成単位の合計モル量に対して、好ましくは１モル％以上、より好ましくは５モル％以上、さらに好ましくは８モル％以上であり、好ましくは９０モル％以下、より好ましくは７０モル％以下、さらに好ましくは５０モル％以下、とりわけ好ましくは３０モル％以下である。式（８）中のＫが式（９ａ）又は式（９）で表される基である構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすく、また上記の上限以下であると、式（８）中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、樹脂ワニスの粘度を低減することができ、光学フィルムの製造が容易である。式（８）中のＫが式（９ａ）又は式（９）で表される基である構成単位の割合は、例えば１Ｈ－ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, when the polyamide resin or polyamideimide resin contains a structural unit represented by formula (8), K in formula (8) is represented by formula (9a) or formula (9). The proportion of the structural unit that is a group is preferably 1 mol% or more, more preferably 5 mol%, based on the total molar amount of the structural unit represented by formula (2) and the structural unit represented by formula (8). % or more, more preferably 8 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less, particularly preferably 30 mol% or less. When the proportion of the structural unit in which K in formula (8) is a group represented by formula (9a) or formula (9) is at least the above lower limit, the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, It is easy to improve water resistance and optical properties, and when the above upper limit is below, it is possible to suppress thickening due to hydrogen bonding between amide bonds in formula (8), reduce the viscosity of the resin varnish, and improve the optical film. is easy to manufacture. The proportion of the structural units in which K in formula (8) is a group represented by formula (9a) or formula (9) can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be determined from the charging ratio of raw materials. It can also be calculated.

本発明では、光学フィルムの組成、例えば光学フィルムに含まれる樹脂を構成する繰り返し構造単位の種類や構成比；光学フィルムの厚さ；又は光学フィルムの製造条件などを適宜調整することで、式（Ａ）～式（Ｃ）の範囲に調整できる。樹脂の構成単位として式（１）及び式（２）で表される構成単位を使用し、例えば式（１）及び式（２）中のＸ、Ｙ及びＺにおいて弾性率、降伏点歪又は光学特性を高めやすい（向上しやすい）ものとして上記に記載した基を適宜組合せて使用することで、式（Ａ）～式（Ｃ）の範囲に調整できる。例えば、式（１）中のＹが式（４ａ）及び／又は式（４ｂ）で表される基である構成単位；式（２）中のＺが式（３）で表される基である構成単位；及び式（１）及び／又は式（２）中のＸが式（３２）で表される基である構成単位；並びに、任意に式（８）中のＫが式（９）で表される基である構成単位；及び式（８）中のＬが式（３２）で表される基である構成単位を使用すると式（Ａ）～（Ｃ）の範囲に調整しやすい。 In the present invention, the formula ( It can be adjusted within the range of A) to formula (C). The structural units represented by formulas (1) and (2) are used as the structural units of the resin, and for example, the elastic modulus, yield point strain, or optical The properties can be adjusted to the range of formula (A) to formula (C) by appropriately combining the groups described above as those that can easily enhance (easily improve) the properties. For example, a structural unit in which Y in formula (1) is a group represented by formula (4a) and/or formula (4b); Z in formula (2) is a group represented by formula (3) A structural unit; and a structural unit in which X in formula (1) and/or formula (2) is a group represented by formula (32); and optionally, K in formula (8) is a group represented by formula (9). By using a structural unit which is a group represented by the above formula; and a structural unit in which L in formula (8) is a group represented by formula (32), it is easy to adjust the range of formulas (A) to (C).

本発明の一実施態様において、ポリアミドイミド樹脂が式（８）で表される構成単位を含む場合、式（８）で表される構成単位の割合は、式（１）で表される構成単位及び式（２）で表される構成単位の合計量１モルに対して、好ましくは０．０１モル以上、より好ましくは０．０５モル以上、さらに好ましくは０．０８モル以上であり、好ましくは１モル以下、より好ましくは０．５モル以下、さらに好ましくは０．３モル以下である。式（８）で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、表面硬度、耐水性及び光学特性を高めやすく、また式（８）中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、樹脂ワニスの粘度を低減することができ、光学フィルムの製造が容易である。式（８）で表される構成単位の割合は、例えば１Ｈ－ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, when the polyamide-imide resin contains the structural unit represented by formula (8), the proportion of the structural unit represented by formula (8) is the structural unit represented by formula (1). and 1 mole of the total amount of structural units represented by formula (2), preferably 0.01 mol or more, more preferably 0.05 mol or more, still more preferably 0.08 mol or more, and preferably The amount is 1 mol or less, more preferably 0.5 mol or less, even more preferably 0.3 mol or less. When the proportion of the structural unit represented by formula (8) is equal to or higher than the above lower limit, it is easy to improve the elastic modulus, yield point strain, surface hardness, water resistance, and optical properties of the optical film, and It is possible to suppress thickening due to hydrogen bonding between amide bonds, reduce the viscosity of the resin varnish, and facilitate the production of an optical film. The ratio of the structural units represented by formula (8) can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of raw materials.

式（１）中のＹが式（４ａ）（Ｖが単結合）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが単結合）で表される基である構成単位を構成単位ａとし；式（１）中のＹが式（４ａ）（Ｖが単結合）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが－Ｃ（ＣＦ３）２－）で表される基である構成単位を構成単位ｂとし；Ｙが式（４ａ）（Ｖが－Ｃ（ＣＦ３）２－）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが単結合）で表される基である構成単位を構成単位ｃとし；式（１）中のＹが式（４ａ）（Ｖが－Ｃ（ＣＦ３）２－）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが－Ｃ（ＣＦ３）２－）で表される基である構成単位を構成単位ｄとし；式（１）中のＹが式（４ｂ）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが単結合）で表される基である構成単位を構成単位ｅとし；式（１）中のＹが式（４ｂ）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが－Ｃ（ＣＦ３）２－）で表される基である構成単位を構成単位ｆとし；式（２）中のＺが式（３）（ｋが１、Ｒ１が炭素数１～６のハロゲン化アルキル基）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが単結合）で表される基である構成単位を構成単位ｇとし；式（２）中のＺが式（３）（ｋが１、Ｒ１が炭素数１～６のハロゲン化アルキル基）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが－Ｃ（ＣＦ３）２－）で表される基である構成単位を構成単位ｈとし；式（２）中のＺが式（３）（ｋが１、Ｒ１が炭素数１～６のアルキル基）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが単結合）で表される基である構成単位を構成単位ｉとし；式（２）中のＺが式（３）（ｋが１、Ｒ１が炭素数１～６のアルキル基）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが－Ｃ（ＣＦ３）２－）で表される基である構成単位を構成単位ｊとし；式（２）中のＺが式（３）（ｋが１、Ｒ１が炭素数１～６のアルコキシ基）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが単結合）で表される基である構成単位を構成単位ｋとし；式（２）中のＺが式（３）（ｋが１、Ｒ１が炭素数１～６のアルコキシ基）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが－Ｃ（ＣＦ３）２－）で表される基である構成単位を構成単位ｌとし；式（２）中のＺが式（３）（ｋが２、Ｒ１が炭素数１～６のハロゲン化アルキル基）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが単結合）で表される基である構成単位を構成単位ｍとし；式（２）中のＺが式（３）（ｋが２、Ｒ１が炭素数１～６のハロゲン化アルキル基）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが－Ｃ（ＣＦ３）２－）で表される基である構成単位を構成単位ｎとし；式（２）中のＺが式（３）（ｎが０）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが単結合）で表される基である構成単位を構成単位ｏとし；式（２）中のＺが式（３）（ｎが０）で表される基であり、かつＸが式（３２）（Ｗａが－Ｃ（ＣＦ３）２－）で表される基である構成単位を構成単位ｐとし；式（８）中のＫが式（９）（Ａが－Ｏ－）で表される基であり、かつＬが式（３２）（Ｗａが単結合）で表される基である構成単位を構成単位ｑとし；式（８）中のＫが式（９）（Ａが－Ｏ－）で表される基であり、かつＬが式（３２）（Ｗａが－Ｃ（ＣＦ３）２－）で表される基である構成単位を構成単位ｒとした場合に、本発明における樹脂を構成する構成単位の好適な例を以下に示す。なお、この好適な態様は一例にすぎず、本発明における構成単位の組合せはこれらに限定されない。 A structural unit in which Y in formula (1) is a group represented by formula (4a) (V is a single bond) and X is a group represented by formula (32) (W a is a single bond) Structural unit a; Y in formula (1) is a group represented by formula (4a) (V is a single bond), and X is a group represented by formula (32) (W a is -C(CF 3 ) 2 - ) is a group represented by formula (4a) (V is -C(CF 3 ) 2 -), and X is a group represented by formula (32) ( The structural unit c is a group represented by W a (single bond); Y in formula (1) is a group represented by formula (4a) (V is -C(CF 3 ) 2 -) and X is a group represented by the formula (32) (W a is -C(CF 3 ) 2 -) as the structural unit d; A structural unit in which X is a group represented by formula (32) (W a is a single bond) is defined as a structural unit e; Y in formula (1) is a group represented by formula (4b) A structural unit in which X is a group represented by formula (32) (W a is -C(CF 3 ) 2 -) is defined as a structural unit f; Z in formula (2) is a group represented by A group represented by formula (3) (k is 1, R 1 is a halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), and X is a group represented by formula (32) (W a is a single bond) Let the structural unit be the structural unit g; Z in formula (2) is a group represented by formula (3) (k is 1, R 1 is a halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), and A structural unit in which X is a group represented by formula (32) (W a is -C(CF 3 ) 2 -) is defined as a structural unit h; Z in formula (2) is a group represented by formula (3) (k is 1 , R 1 is a group represented by an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), and X is a group represented by formula (32) (W a is a single bond) as a structural unit i; Z in formula (2) is a group represented by formula (3) (k is 1, R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), and X is a group represented by formula (32) (W a is -C The structural unit that is a group represented by (CF 3 ) 2 -) is the structural unit j; ) and where X is a group represented by formula (32) (W a is a single bond) is a structural unit k; Z in formula (2) is a group represented by formula (3) (k is 1, R 1 is an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms), and X is a group represented by formula (32) (W a is -C(CF 3 ) 2 -) A structural unit is defined as a structural unit l; Z in formula (2) is a group represented by formula (3) (k is 2, R 1 is a halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), and The structural unit in which X is a group represented by formula (32) (W a is a single bond) is the structural unit m; Z in formula (2) is the group represented by formula (3) (k is 2, R 1 is the number of carbon atoms) 1 to 6 halogenated alkyl groups), and X is a group represented by formula (32) (W a is -C(CF 3 ) 2 -) as the structural unit n A structural unit in which Z in formula (2) is a group represented by formula (3) (n is 0), and X is a group represented by formula (32) (W a is a single bond) is a structural unit o; Z in formula (2) is a group represented by formula (3) (n is 0), and X is a group represented by formula (32) (W a is -C(CF 3 ) 2 - ) is a structural unit p; K in formula (8) is a group represented by formula (9) (A is -O-), and L is a group represented by formula (32) A structural unit that is a group represented by (W a is a single bond) is defined as a structural unit q; K in formula (8) is a group represented by formula (9) (A is -O-), and A preferred example of the structural unit constituting the resin in the present invention when the structural unit r is a structural unit in which L is a group represented by formula (32) (W a is -C(CF 3 ) 2 -) is shown below. Note that this preferred embodiment is only an example, and the combination of structural units in the present invention is not limited to these.

（１）構成単位ｃ／構成単位ｇ／構成単位ｑ
（２）構成単位ｃ／構成単位ｇ
（３）構成単位ｃ／構成単位ｍ／構成単位ｑ
（４）構成単位ｃ／構成単位ｄ／構成単位ｍ／構成単位ｎ／構成単位ｑ／構成単位ｒ
（５）構成単位ｃ／構成単位ｋ
（６）構成単位ａ／構成単位ｂ／構成単位ｉ／構成単位ｊ
（７）構成単位ｃ／構成単位ｉ
（８）構成単位ａ／構成単位ｋ
（９）構成単位ａ／構成単位ｂ／構成単位ｏ／構成単位ｐ／構成単位ｑ／構成単位ｒ
（１０）構成単位ｅ／構成単位ｆ／構成単位ｏ／構成単位ｐ／構成単位ｑ／構成単位ｒ
（１１）構成単位ｅ／構成単位ｉ／構成単位ｑ (1) Constituent unit c/constituent unit g/constituent unit q
(2) Constituent unit c/constituent unit g
(3) Constituent unit c/constituent unit m/constituent unit q
(4) Constituent unit c/constituent unit d/constituent unit m/constituent unit n/constituent unit q/constituent unit r
(5) Constituent unit c/constituent unit k
(6) Constituent unit a/constituent unit b/constituent unit i/constituent unit j
(7) Constituent unit c/constituent unit i
(8) Constituent unit a/constituent unit k
(9) Constituent unit a/constituent unit b/constituent unit o/constituent unit p/constituent unit q/constituent unit r
(10) Constituent unit e/constituent unit f/constituent unit o/constituent unit p/constituent unit q/constituent unit r
(11) Constituent unit e/constituent unit i/constituent unit q

本発明におけるポリアミドイミド樹脂は、式（１）、式（２）及び式（８）で表される構成単位の他に、式（３０）で表される構成単位及び／又は式（３１）で表される構成単位を含むことができる。
In addition to the structural units represented by formula (1), formula (2), and formula (8), the polyamide-imide resin in the present invention has a structural unit represented by formula (30) and/or formula (31). may include the represented building blocks.

式（３０）において、Ｙ１は、４価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｙ１としては、式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基、それらの式（２０）～式（２９）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基、並びに４価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施態様であるポリアミドイミド樹脂は、複数種のＹ１を含み得、複数種のＹ１は、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In formula (30), Y 1 is a tetravalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y 1 , formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28), and A group represented by formula (29), a group in which the hydrogen atom in the groups represented by formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group, Also, a tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified. The polyamide-imide resin that is one embodiment of the present invention may contain multiple types of Y 1 , and the multiple types of Y 1 may be the same or different from each other.

式（３１）において、Ｙ２は３価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｙ２としては、上記の式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基の結合手のいずれか１つが水素原子に置き換わった基、及び３価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施態様であるポリアミドイミド樹脂は、複数種のＹ２を含み得、複数種のＹ２は、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In formula (31), Y2 is a trivalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y2 , the above formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28 ) and a group in which one of the bonding hands of the group represented by formula (29) is replaced with a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified. The polyamide-imide resin that is one embodiment of the present invention may contain multiple types of Y 2 , and the multiple types of Y 2 may be the same or different from each other.

式（３０）及び式（３１）において、Ｘ１及びＸ２は、互いに独立に、２価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｘ１及びＸ２としては、上記の式（１０）、式（１１）、式（１２）、式（１３）、式（１４）、式（１５）、式（１６）、式（１７）及び式（１８）で表される基；それら式（１０）～式（１８）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基；並びに炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formulas (30) and (31), X 1 and X 2 are each independently a divalent organic group, preferably a hydrocarbon group in which the hydrogen atom in the organic group is a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. is an organic group that may be substituted with As X1 and X2 , the above formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) and A group represented by formula (18); a group in which the hydrogen atom in the groups represented by formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group; and A chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

本発明の一実施態様において、上記ポリアミドイミド樹脂は、式（１）及び式（２）で表される構成単位、並びに、場合により、式（８）、式（３０）及び式（３１）から選択される少なくとも１つの構成単位からなる。また、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、光学特性、表面硬度及び耐水性を向上しやすい観点から、上記ポリアミドイミド樹脂において、式（１）で表される構成単位と式（２）で表される構成単位との合計モル量は、式（１）、式（２）、式（８）、式（３０）及び式（３１）で表される全構成単位の合計モル量に基づいて、好ましくは８０～１００モル％である。なお、上記割合は、例えば、１Ｈ－ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin comprises structural units represented by formula (1) and formula (2), and optionally from formula (8), formula (30), and formula (31). It consists of at least one selected constituent unit. In addition, from the viewpoint of easily improving the elastic modulus, yield point strain, optical properties, surface hardness, and water resistance of the optical film, in the polyamide-imide resin, the structural unit represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2) are combined. The total molar amount of the structural units represented by formula (1), formula (2), formula (8), formula (30), and formula (31) is based on the total molar amount of all structural units represented by formula (1), formula (2), formula (8), formula (30), and formula (31). Preferably it is 80 to 100 mol%. Note that the above ratio can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can also be calculated from the charging ratio of raw materials.

本発明の一実施態様において、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量は、ポリスチレン換算で、好ましくは１５０，０００以上、より好ましくは２００，０００以上、さらに好ましくは２５０，０００以上であり、好ましくは１，０００，０００以下、より好ましくは８００，０００以下、さらに好ましくは７００，０００以下、とりわけ好ましくは５００，０００以下である。該樹脂（Ｘ）の重量平均分子量が上記の下限以上であると、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、光学特性、表面硬度及び耐水性を向上しやすく、また上記の上限以下であると、樹脂ワニスの粘度を低く抑制することができ、光学フィルムの製膜が容易であるため、加工性が良好となる。重量平均分子量は、例えばＧＰＣ測定を行い、標準ポリスチレン換算によって求めることができ、例えば実施例に記載の方法により求めることができる。 In one embodiment of the present invention, the weight average molecular weight of the polyimide resin, polyamide resin, or polyamideimide resin is preferably 150,000 or more, more preferably 200,000 or more, and even more preferably 250,000 or more in terms of polystyrene. It is preferably 1,000,000 or less, more preferably 800,000 or less, further preferably 700,000 or less, particularly preferably 500,000 or less. When the weight average molecular weight of the resin (X) is at least the above lower limit, it is easy to improve the elastic modulus, yield point strain, optical properties, surface hardness and water resistance of the optical film, and when it is below the above upper limit, The viscosity of the resin varnish can be suppressed to a low level, and the optical film can be easily formed, resulting in good processability. The weight average molecular weight can be determined, for example, by GPC measurement and converted into standard polystyrene, and can be determined, for example, by the method described in Examples.

本発明の一実施態様において、樹脂は、ハロゲン原子を含有する。該樹脂がハロゲン原子を含むことにより、高い柔軟性及び耐屈曲性を両立させることができる傾向がある。ハロゲン原子としては、上記に記載のものが挙げられるが、透明性の向上、吸水率の低減、及び耐屈曲性の観点から、フッ素原子であることが好ましい。該樹脂中の含フッ素置換基の具体例としては、フルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。 In one embodiment of the invention, the resin contains halogen atoms. When the resin contains a halogen atom, it tends to be able to achieve both high flexibility and bending resistance. Examples of the halogen atom include those described above, but a fluorine atom is preferable from the viewpoint of improving transparency, reducing water absorption, and bending resistance. Specific examples of the fluorine-containing substituent in the resin include a fluoro group and a trifluoromethyl group.

ポリアミドイミド樹脂中のハロゲン原子の含有量は、透明性の向上、吸水率の低減、及び光学フィルムの耐屈曲性の観点から、ポリアミドイミド樹脂の質量を基準として、好ましくは１～４０質量％、より好ましくは３～３５質量％、さらに好ましくは５～３２質量％である。 The content of halogen atoms in the polyamide-imide resin is preferably 1 to 40% by mass, based on the mass of the polyamide-imide resin, from the viewpoint of improving transparency, reducing water absorption, and bending resistance of the optical film. More preferably 3 to 35% by weight, still more preferably 5 to 32% by weight.

本発明の一実施態様において、ポリアミドイミド樹脂のイミド化率は、好ましくは９５～１００％、より好ましくは９７～１００％、さらに好ましくは９８～１００％である。樹脂ワニスの安定性、得られた光学フィルムの機械物性の観点からは、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。なお、イミド化率は、ＩＲ法、ＮＭＲ法などにより求めることができる。 In one embodiment of the present invention, the imidization rate of the polyamide-imide resin is preferably 95 to 100%, more preferably 97 to 100%, and even more preferably 98 to 100%. From the viewpoint of the stability of the resin varnish and the mechanical properties of the obtained optical film, it is preferable that the imidization rate is at least the above lower limit. Note that the imidization rate can be determined by an IR method, an NMR method, or the like.

本発明の一実施態様において、樹脂は、光学フィルム１００質量部に対して、好ましくは４０質量部以上、より好ましくは５０質量部以上、さらに好ましくは６０質量部以上であり、好ましくは１００質量部以下である。 In one embodiment of the present invention, the resin is preferably 40 parts by mass or more, more preferably 50 parts by mass or more, even more preferably 60 parts by mass or more, and preferably 100 parts by mass, based on 100 parts by mass of the optical film. It is as follows.

本発明の一実施態様において、ポリアミドイミド樹脂は、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物、及びジカルボン酸化合物、並びに、必要に応じてトリカルボン酸化合物等を重縮合反応させて得ることができる。ポリアミド樹脂は、ジアミン化合物及びジカルボン酸化合物を重縮合反応させて得ることができる。ポリイミド樹脂は、ジアミン化合物及びテトラカルボン酸化合物を重縮合反応させて得ることができる。 In one embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin can be obtained by polycondensation reaction of a diamine compound, a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound, and, if necessary, a tricarboxylic acid compound. A polyamide resin can be obtained by subjecting a diamine compound and a dicarboxylic acid compound to a polycondensation reaction. A polyimide resin can be obtained by subjecting a diamine compound and a tetracarboxylic acid compound to a polycondensation reaction.

式（１）及び式（３０）で表される構成単位は、通常、ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物とから誘導される。式（２）及び式（８）で表される構成単位は、通常、ジアミン化合物とジカルボン酸化合物とから誘導される。式（３１）で表される構成単位は、通常、ジアミン化合物とトリカルボン酸化合物とから誘導される。 The structural units represented by formula (1) and formula (30) are usually derived from a diamine compound and a tetracarboxylic acid compound. The structural units represented by formula (2) and formula (8) are usually derived from a diamine compound and a dicarboxylic acid compound. The structural unit represented by formula (31) is usually derived from a diamine compound and a tricarboxylic acid compound.

樹脂の合成に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物；及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。 Examples of the tetracarboxylic acid compounds used in resin synthesis include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic dianhydride; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride. It will be done. Tetracarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compound may be a dianhydride or a tetracarboxylic acid compound analog such as an acid chloride compound.

芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば４，４’－オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡと記載することがある）、２，２’，３，３’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２－ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェノキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡと記載することがある）、１，２－ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１－ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、４，４’－（ｐ－フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物、４，４’－（ｍ－フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば１，２，４，５－ベンゼンテトラカルボン酸二無水物［ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）］が挙げられ、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば２，３，６，７－ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
これらの中でも、好ましくはピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）、４，４’－オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２－ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェノキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）、１，２－ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１－ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、４，４’－（ｐ－フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物、及び４，４’－（ｍ－フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは４，４’－オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）、２，２’，３，３’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）、ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、及び４，４’－（ｐ－フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。 Specific examples of aromatic tetracarboxylic dianhydrides include non-fused polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides, and fused polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides. Examples include carboxylic dianhydrides. Examples of the non-fused polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ',3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (sometimes written as BPDA), 2,2',3,3 '-Biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2, 2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid Dianhydride (sometimes written as 6FDA), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride , 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthal Examples include acid dianhydrides. Examples of monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides include 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride [pyromellitic dianhydride (PMDA)], Examples of the cyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride.
Among these, preferred are pyromellitic dianhydride (PMDA), 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3 , 3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl) ) Propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA), 1,2- Bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride Anhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, more preferably 4,4'- Oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA), bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, and 4,4'-(p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride are mentioned. It will be done. These can be used alone or in combination of two or more.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、１，２，４，５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ［２．２．２］オクト－７－エン－２，３，５，６－テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル－３，３’，４，４’－テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸二無水物、及び１，２，３，４－ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。 Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride. Cycloaliphatic tetracarboxylic dianhydride is a tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride. dianhydride, cycloalkane tetracarboxylic dianhydride such as 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentane tetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2 .2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3',4,4'-tetracarboxylic dianhydride and positional isomers thereof. It will be done. These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride. These can be used alone or in combination of two or more. Furthermore, a combination of a cycloaliphatic tetracarboxylic dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride may be used.

上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、光学特性、表面硬度、耐屈曲性及び耐水性を向上しやすい観点から、ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）、４，４’－オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物が好ましく、ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）及び４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）、並びにこれらの混合物がより好ましい。 Among the above tetracarboxylic dianhydrides, pyromellitic dianhydride (PMDA), 4 , 4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2' , 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride, and mixtures thereof are preferred; pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid More preferred are dianhydride (BPDA) and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA), and mixtures thereof.

樹脂の合成に用いられるジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられ、２種以上を併用してもよい。具体例としては、テレフタル酸；２－メチルテレフタル酸；２－メトキシテレフタル酸；２，５－ビス（トリフルオロメチル）テレフタル酸；イソフタル酸；２，５－ジメチルテレフタル酸；２，５－ジメトキシテレフタル酸；ナフタレンジカルボン酸；４，４’－ビフェニルジカルボン酸；３，３’－ビフェニルジカルボン酸；２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ビフェニルジカルボン酸；炭素数８以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物及び２つの安息香酸が単結合、－ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、－ＳＯ２－又はフェニレン基で連結された化合物並びに、それらの酸クロライド化合物が挙げられる。これらのジカルボン酸化合物の中でも、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、光学特性、表面硬度、耐屈曲性及び耐水性を向上しやすい観点から、４，４’－オキシビス安息香酸、テレフタル酸、２－メチルテレフタル酸クロライド、２－メトキシテレフタル酸クロライド（ＯＭＴＰＣ）、２，５－ジメチルテレフタル酸、２，５－ジメトキシテレフタル酸、２，５－ビス（トリフルオロメチル）テレフタル酸、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ビフェニルジカルボン酸及びそれらの酸クロリドが好ましく、２－メトキシテレフタル酸クロライド（ＯＭＴＰＣ）、２，５－ジメチルテレフタル酸クロライド（ＤＭＴＰＣ）、２，５－ジメトキシテレフタル酸クロライド（２ＭＯＴＰＣ）、２，５－ビス（トリフルオロメチル）テレフタル酸クロライド（６ＦＴＰＣ）、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ビフェニルジカルボン酸クロライド（６ＦＢＰＤＯＣ）がより好ましい。 Examples of dicarboxylic acid compounds used in resin synthesis include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, and their analogous acid chloride compounds, acid anhydrides, etc., and two or more types may be used in combination. Specific examples include terephthalic acid; 2-methylterephthalic acid; 2-methoxyterephthalic acid; 2,5-bis(trifluoromethyl)terephthalic acid; isophthalic acid; 2,5-dimethylterephthalic acid; 2,5-dimethoxyterephthalic acid; Acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-biphenyldicarboxylic acid; carbon number 8 or less A dicarboxylic acid compound of a chain hydrocarbon and two benzoic acids have a single bond, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 - or phenylene group. Included are linked compounds as well as their acid chloride compounds. Among these dicarboxylic acid compounds, 4,4'-oxybisbenzoic acid, terephthalic acid, 2 -Methylterephthalic acid chloride, 2-methoxyterephthalic acid chloride (OMTPC), 2,5-dimethylterephthalic acid, 2,5-dimethoxyterephthalic acid, 2,5-bis(trifluoromethyl)terephthalic acid, 2,2'- Bis(trifluoromethyl)-4,4'-biphenyldicarboxylic acid and their acid chlorides are preferred, including 2-methoxyterephthalic acid chloride (OMTPC), 2,5-dimethylterephthalic acid chloride (DMTPC), 2,5-dimethoxy Terephthalic acid chloride (2MOTPC), 2,5-bis(trifluoromethyl)terephthalic acid chloride (6FTPC), and 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-biphenyldicarboxylic acid chloride (6FBPDOC) are more preferable.

なお、上記ポリアミドイミド樹脂は、光学フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記の樹脂合成に用いられるテトラカルボン酸化合物に加えて、他のテトラカルボン酸及びトリカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体を更に反応させたものであってもよい。 In addition to the tetracarboxylic acid compound used in the resin synthesis, the polyamide-imide resin may contain other tetracarboxylic acids and tricarboxylic acids, as well as their anhydrides and derivatives, to the extent that various physical properties of the optical film are not impaired. It may be further reacted.

他のテトラカルボン酸としては、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。 Other tetracarboxylic acids include water adducts of anhydrides of the above tetracarboxylic acid compounds.

トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、２種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、１，３，５－ベンゼントリカルボン酸及びその酸クロリド、１，２，４－ベンゼントリカルボン酸の無水物；２，３，６－ナフタレントリカルボン酸－２，３－無水物；フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、－ＳＯ２－又はフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。 Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, and their analogous acid chloride compounds, acid anhydrides, etc., and two or more types may be used in combination. Specific examples include 1,3,5-benzenetricarboxylic acid and its acid chloride, 1,2,4-benzenetricarboxylic anhydride; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; phthalate A compound in which an acid anhydride and benzoic acid are connected by a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 - or phenylene group can be mentioned.

樹脂の合成に用いられるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及びこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施態様において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環である。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。 Examples of diamine compounds used in resin synthesis include aliphatic diamines, aromatic diamines, and mixtures thereof. In this embodiment, "aromatic diamine" refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and may include an aliphatic group or other substituent as part of its structure. This aromatic ring may be a single ring or a condensed ring, and examples thereof include, but are not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring. Among these, a benzene ring is preferred. Moreover, "aliphatic diamine" refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and may include an aromatic ring or other substituents as part of its structure.

脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン、並びに１，３－ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，４－ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン及び４，４’－ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。 Examples of aliphatic diamines include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylene diamine, 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, norbornanediamine, and 4,4' - Cycloaliphatic diamines such as diaminodicyclohexylmethane and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンとしては、例えばｐ－フェニレンジアミン、ｍ－フェニレンジアミン、２，４－トルエンジアミン、ｍ－キシリレンジアミン、ｐ－キシリレンジアミン、１，５－ジアミノナフタレン、２，６－ジアミノナフタレン等の、芳香環を１つ有する芳香族ジアミン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルプロパン、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、３，４’－ジアミノジフェニルエーテル、３，３’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン、３，４’－ジアミノジフェニルスルホン、３，３’－ジアミノジフェニルスルホン、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス〔４－（４－アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、ビス〔４－（３－アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス［４－（３－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’－ジメチルベンジジン、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢと記載することがある）、４，４’－（ヘキサフルオロプロピリデン）ジアニリン（６ＦＤＡＭと記載することがある）、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、９，９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－アミノ－３－メチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－アミノ－３－クロロフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－アミノ－３－フルオロフェニル）フルオレン等の、芳香環を２つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。 Examples of aromatic diamines include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene, etc. Aromatic diamine having one aromatic ring, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'- Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4 -aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl] Propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (with TFMB) ), 4,4'-(hexafluoropropylidene) dianiline (sometimes written as 6FDAM), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 9,9-bis(4 -aminophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-methylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-chlorophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3 Examples include aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as (fluorophenyl)fluorene. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンとしては、好ましくは４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルプロパン、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、３，３’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン、３，３’－ジアミノジフェニルスルホン、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス〔４－（４－アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、ビス〔４－（３－アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス［４－（３－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’－ジメチルベンジジン、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニルであり、より好ましくは４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルプロパン、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス〔４－（４－アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’－ジメチルベンジジン、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）、４，４’－（ヘキサフルオロプロピリデン）ジアニリン（６ＦＤＡＭ）、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニルである。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。 The aromatic diamine is preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino Diphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2 -Bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4' -(hexafluoropropylidene) dianiline (6FDAM), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl. These can be used alone or in combination of two or more.

上記ジアミン化合物の中でも、光学フィルムの弾性率、降伏点歪、光学特性、表面硬度、耐屈曲性及び耐水性を向上しやすい観点からは、２，２’－ジメチルベンジジン、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’－（ヘキサフルオロプロピリデン）ジアニリン（６ＦＤＡＭ）及び４，４’－ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる１種以上を用いることがより好ましく、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）及び／又は４，４’－（ヘキサフルオロプロピリデン）ジアニリン（６ＦＤＡＭ）を用いることがよりさらに好ましい。 Among the above diamine compounds, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 4,4'-(hexafluoropropylidene) dianiline (6FDAM) and 4,4 It is more preferable to use one or more selected from the group consisting of '-diaminodiphenyl ether, such as 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB) and/or 4,4'- It is even more preferable to use (hexafluoropropylidene) dianiline (6FDAM).

樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の使用量は、所望とする樹脂の各構成単位の比率に応じて適宜選択できる。 In the production of the resin, the amounts of the diamine compound, tetracarboxylic acid compound, and dicarboxylic acid compound to be used can be appropriately selected depending on the desired ratio of each constituent unit of the resin.

樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の反応温度は、特に限定されないが、例えば５～３５０℃であり、好ましくは２０～２００℃、より好ましくは２５～１００℃である。反応時間も特に限定されないが、例えば３０分～１０時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。好ましい態様では、反応は、常圧及び／又は不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。また、反応は、反応に不活性な溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、１－メトキシ－２－プロパノール、２－ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒；Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒；及びそれらの組合せなどが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、アミド系溶媒を好適に使用できる。 In the production of resin, the reaction temperature of the diamine compound, tetracarboxylic acid compound and dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but is, for example, 5 to 350°C, preferably 20 to 200°C, more preferably 25 to 100°C. . The reaction time is also not particularly limited, and is, for example, about 30 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be carried out under an inert atmosphere or under reduced pressure. In a preferred embodiment, the reaction is carried out under normal pressure and/or an inert gas atmosphere with stirring. Further, the reaction is preferably carried out in a solvent inert to the reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, but examples include water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy-2-propanol, Alcohol solvents such as 2-butoxyethanol and propylene glycol monomethyl ether; Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, methyl isobutyl ketone; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane; alicyclic hydrocarbon solvents such as ethylcyclohexane; toluene, xylene Aromatic hydrocarbon solvents such as; nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; amides such as N,N-dimethylacetamide and N,N-dimethylformamide Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, and sulfolane; carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof. Among these, amide solvents can be preferably used from the viewpoint of solubility.

本発明の好適な態様において、上記の構成単位（１）及び構成単位（２）を少なくとも有するポリアミドイミド樹脂の製造方法は、上記のポリアミドイミド樹脂が得られる限り特に限定されないが、光学フィルムの弾性率及び降伏点歪を高め、衝撃による反射色相変化を抑制しやすい観点からは、ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物とジカルボン酸化合物とを反応させる製造方法であって、ジカルボン酸化合物を分割添加する製造方法により、ポリアミドイミド樹脂を製造することが好ましく、ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物とを反応させて中間体（Ａ）を生成する工程（Ｉ）、及び、該中間体（Ａ）とジカルボン酸化合物とを反応させる工程（ＩＩ）を含み、該工程（ＩＩ）において、該ジカルボン酸化合物を分割添加する方法によりポリアミドイミド樹脂を製造することがより好ましい。ジカルボン酸化合物を分割添加する方法を用いる場合、理由は明らかではないが、光学フィルムの弾性率及び降伏点歪を高め、衝撃による反射色相変化を抑制するために最適な樹脂が得られると考えられる。また、ポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量を上記範囲内に調整しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the method for producing the polyamideimide resin having at least the above structural unit (1) and the structural unit (2) is not particularly limited as long as the above polyamideimide resin can be obtained, but the elasticity of the optical film is From the viewpoint of increasing the yield point strain and the change in reflection hue due to impact, there is a manufacturing method in which a diamine compound, a tetracarboxylic acid compound, and a dicarboxylic acid compound are reacted, and the dicarboxylic acid compound is added in portions. It is preferable to produce a polyamideimide resin by a method, which includes a step (I) of reacting a diamine compound and a tetracarboxylic acid compound to produce an intermediate (A), and a step (I) of producing an intermediate (A) with the intermediate (A) and a dicarboxylic acid compound. It is more preferable to produce the polyamide-imide resin by a method in which the dicarboxylic acid compound is added in portions in the step (II). When using the method of adding dicarboxylic acid compounds in portions, the reason is not clear, but it is thought that the optimal resin can be obtained for increasing the elastic modulus and yield point strain of the optical film and suppressing changes in reflection hue due to impact. . Further, the weight average molecular weight of the polyamideimide resin can be easily adjusted within the above range.

したがって、本発明の光学フィルムに含まれるポリアミドイミド樹脂は、ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物とジカルボン酸化合物とを反応させる製造方法であって、ジカルボン酸化合物を分割添加する製造方法により製造された樹脂であることが好ましく、ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物とを反応させて中間体（Ａ）を生成する工程（Ｉ）、及び、該中間体（Ａ）とジカルボン酸化合物とを反応させる工程（ＩＩ）を含む製造方法であって、該工程（ＩＩ）において、該ジカルボン酸化合物を分割添加する製造方法により製造された樹脂であることがより好ましい。 Therefore, the polyamide-imide resin contained in the optical film of the present invention is a resin manufactured by a manufacturing method in which a diamine compound, a tetracarboxylic acid compound, and a dicarboxylic acid compound are reacted, and the dicarboxylic acid compound is added in portions. Preferably, the step (I) of reacting a diamine compound and a tetracarboxylic acid compound to produce an intermediate (A), and the step (II) of reacting the intermediate (A) with a dicarboxylic acid compound ), the resin is preferably produced by a production method in which the dicarboxylic acid compound is added in portions in step (II).

上記の工程（Ｉ）及び工程（ＩＩ）を含む製造方法によりポリアミドイミド樹脂を製造する場合、ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物とを反応させて中間体（Ａ）を生成する工程（Ｉ）の反応温度は、特に限定されないが、例えば５～２００℃、好ましくは５～１００℃、より好ましくは５～５０℃、さらに好ましくは５～２５℃であってよい。反応時間は、例えば１分～７２時間、好ましくは１０分～２４時間であってよい。また、反応は空気中又は窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気で撹拌しながら行ってよく、常圧下、加圧下又は減圧下で行ってもよい。好ましい実施態様では、常圧及び／又は前記不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。 When producing a polyamideimide resin by the production method including the above steps (I) and (II), the reaction in step (I) is to react a diamine compound and a tetracarboxylic acid compound to produce an intermediate (A). The temperature is not particularly limited, but may be, for example, 5 to 200°C, preferably 5 to 100°C, more preferably 5 to 50°C, and still more preferably 5 to 25°C. The reaction time may be, for example, 1 minute to 72 hours, preferably 10 minutes to 24 hours. Further, the reaction may be carried out with stirring in air or in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon, and may be carried out under normal pressure, increased pressure, or reduced pressure. In a preferred embodiment, the reaction is carried out under normal pressure and/or the inert gas atmosphere with stirring.

工程（Ｉ）では、ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物とが反応して中間体（Ａ）、すなわち、ポリアミック酸が生成する。そのため、中間体（Ａ）はジアミン化合物由来の構成単位とテトラカルボン酸化合物由来の構成単位とを少なくとも有する。 In step (I), the diamine compound and the tetracarboxylic acid compound react to produce intermediate (A), that is, polyamic acid. Therefore, the intermediate (A) has at least a structural unit derived from a diamine compound and a structural unit derived from a tetracarboxylic acid compound.

次に工程（ＩＩ）において、中間体（Ａ）とジカルボン酸化合物とを反応させ、ここで、該ジカルボン酸化合物を分割添加することが好ましい。工程（Ｉ）で得られた反応液にジカルボン酸化合物を分割添加し、中間体（Ａ）とジカルボン酸化合物とを反応させる。ジカルボン酸化合物を一度に添加するのではなく、分割添加することにより、ポリアミドイミド系樹脂の重量平均分子量を上記の好ましい範囲に調整しやすい。なお、本明細書において、分割添加とは、添加するジカルボン酸化合物を何回かにわけて添加すること、より詳細には添加するジカルボン酸を特定量に分け、所定間隔又は所定時間あけてそれぞれ添加することを意味する。該所定間隔又は所定時間は非常に短い間隔又は時間も含まれるため、分割添加には連続添加又は連続フィードも含まれる。 Next, in step (II), it is preferable to react the intermediate (A) with a dicarboxylic acid compound, and then add the dicarboxylic acid compound in portions. A dicarboxylic acid compound is added in portions to the reaction solution obtained in step (I), and the intermediate (A) and the dicarboxylic acid compound are reacted. By adding the dicarboxylic acid compound in portions rather than all at once, the weight average molecular weight of the polyamide-imide resin can be easily adjusted to the above-mentioned preferred range. In addition, in this specification, dividing addition means adding the dicarboxylic acid compound to be added in several parts, more specifically, dividing the dicarboxylic acid to be added into specific amounts and adding each at a predetermined interval or a predetermined time. It means to add. Since the predetermined interval or predetermined time includes very short intervals or times, the divided addition also includes continuous addition or continuous feeding.

工程（ＩＩ）において、ジカルボン酸化合物を分割添加する際の分割回数は、反応スケールや原料の種類等により適宜選択でき、好ましくは２～２０回、より好ましくは３～１０回、さらに好ましくは３～６回である。 In step (II), the number of times the dicarboxylic acid compound is added in portions can be selected appropriately depending on the reaction scale, the type of raw materials, etc., and is preferably 2 to 20 times, more preferably 3 to 10 times, and even more preferably 3 times. ~6 times.

ジカルボン酸化合物は、均等な量に分割して添加してもよく、不均等な量に分割して添加してもよい。各添加の間の時間（以下、添加間隔という場合がある）は、全て同一であっても異なっていてもよい。また、ジカルボン酸化合物を二種以上添加する場合、用語「分割添加」は、全てのジカルボン酸化合物の合計量を分割して添加することを意味し、各ジカルボン酸化合物の分割の仕方は特に限定されないが、例えば各ジカルボン酸化合物を別々に一括又は分割添加してもよいし、各ジカルボン酸化合物を一緒に分割添加してもよいし、これらの組合せであってもよい。 The dicarboxylic acid compound may be added in equal amounts, or may be added in unequal amounts. The time between each addition (hereinafter sometimes referred to as addition interval) may be the same or different. In addition, when adding two or more types of dicarboxylic acid compounds, the term "divided addition" means adding the total amount of all dicarboxylic acid compounds in divided parts, and the method of dividing each dicarboxylic acid compound is particularly limited. However, for example, each dicarboxylic acid compound may be added separately at once or in portions, each dicarboxylic acid compound may be added together in portions, or a combination thereof may be used.

工程（ＩＩ）において、ポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量が、得られるポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量に対して好ましくは１０％以上、より好ましくは１５％以上に達した時点で、添加するジカルボン酸化合物の総モル量に対して好ましくは１～４０モル％、より好ましくは２～２５モル％のジカルボン酸化合物を添加することが好ましい。 In step (II), when the weight average molecular weight of the polyamideimide resin reaches preferably 10% or more, more preferably 15% or more with respect to the weight average molecular weight of the polyamideimide resin obtained, the dicarboxylic acid compound to be added. It is preferable to add the dicarboxylic acid compound in an amount of preferably 1 to 40 mol%, more preferably 2 to 25 mol%, based on the total molar amount of the dicarboxylic acid compound.

工程（ＩＩ）の反応温度は、特に限定されないが、例えば５～２００℃、好ましくは５～１００℃、より好ましくは５～５０℃、さらに好ましくは５～２５℃であってよい。また、反応は空気中又は窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気で撹拌しながら行ってよく、常圧下、加圧下又は減圧下で行ってもよい。好ましい態様では、常圧及び／又は前記不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら工程（ＩＩ）を行う。 The reaction temperature in step (II) is not particularly limited, but may be, for example, 5 to 200°C, preferably 5 to 100°C, more preferably 5 to 50°C, even more preferably 5 to 25°C. Further, the reaction may be carried out with stirring in air or in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon, and may be carried out under normal pressure, increased pressure, or reduced pressure. In a preferred embodiment, step (II) is performed under normal pressure and/or the inert gas atmosphere with stirring.

工程（ＩＩ）において、ジカルボン酸化合物を分割添加後、所定時間撹拌等して反応させることで、ポリアミドイミド前駆体が得られる。なお、ポリアミドイミド前駆体は、例えば、ポリアミドイミド前駆体を含む反応液に多量の水等を加え、ポリアミドイミド前駆体を析出させ、濾過、濃縮、乾燥等を行うことにより単離できる。 In step (II), a polyamide-imide precursor is obtained by adding the dicarboxylic acid compound in portions and reacting by stirring for a predetermined period of time. Note that the polyamide-imide precursor can be isolated, for example, by adding a large amount of water or the like to a reaction solution containing the polyamide-imide precursor, precipitating the polyamide-imide precursor, and performing filtration, concentration, drying, and the like.

工程（ＩＩ）では、中間体（Ａ）とジカルボン酸化合物とが反応してポリアミドイミド前駆体が得られる。そのため、ポリアミドイミド前駆体は、ジアミン化合物由来の構成単位、テトラカルボン酸由来の構成単位、及びジカルボン酸化合物由来の構成単位を少なくとも有するイミド化前、言い換えると閉環前のポリアミドイミドを示す。 In step (II), the intermediate (A) and the dicarboxylic acid compound react to obtain a polyamideimide precursor. Therefore, the polyamide-imide precursor refers to a polyamide-imide before imidization, in other words, before ring closure, which has at least a structural unit derived from a diamine compound, a structural unit derived from a tetracarboxylic acid, and a structural unit derived from a dicarboxylic acid compound.

ポリアミドイミド樹脂の製造方法は、さらに、イミド化触媒の存在下、ポリアミドイミド前駆体をイミド化する工程（ＩＩＩ）を含んでいてもよい。工程（ＩＩ）で得たポリアミドイミド前駆体を工程（ＩＩＩ）に供することにより、ポリアミドイミド前駆体の構成単位のうち、ポリアミック酸構造を有する構造単位部分がイミド化され（閉環され）、式（１）で表される構成単位と式（２）で表される構成単位とを含むポリアミドイミド樹脂を得ることができる。イミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン；Ｎ－エチルピペリジン、Ｎ－プロピルピペリジン、Ｎ－ブチルピロリジン、Ｎ－ブチルピペリジン、及びＮ－プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン（単環式）；アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン、アザビシクロ［３．２．１］オクタン、アザビシクロ［２．２．２］オクタン、及びアザビシクロ［３．２．２］ノナン等の脂環式アミン（多環式）；並びにピリジン、２－メチルピリジン（２－ピコリン）、３－メチルピリジン（３－ピコリン）、４－メチルピリジン（４－ピコリン）、２－エチルピリジン、３－エチルピリジン、４－エチルピリジン、２，４－ジメチルピリジン、２，４，６－トリメチルピリジン、３，４－シクロペンテノピリジン、５，６，７，８－テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。 The method for producing a polyamide-imide resin may further include a step (III) of imidizing the polyamide-imide precursor in the presence of an imidization catalyst. By subjecting the polyamide-imide precursor obtained in step (II) to step (III), among the structural units of the polyamide-imide precursor, the structural unit portion having a polyamic acid structure is imidized (ring-closed), and the formula ( A polyamide-imide resin containing the structural unit represented by 1) and the structural unit represented by formula (2) can be obtained. Examples of imidization catalysts include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyldibutylamine; N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydr Alicyclic amines (monocyclic) such as azepine; azabicyclo[2.2.1]heptane, azabicyclo[3.2.1]octane, azabicyclo[2.2.2]octane, and azabicyclo[3.2. 2] Alicyclic amines (polycyclic) such as nonane; and pyridine, 2-methylpyridine (2-picoline), 3-methylpyridine (3-picoline), 4-methylpyridine (4-picoline), 2- Ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and Examples include aromatic amines such as isoquinoline. Further, from the viewpoint of easily promoting the imidization reaction, it is preferable to use an acid anhydride together with the imidization catalyst. Examples of acid anhydrides include commonly used acid anhydrides used in imidization reactions. Specific examples thereof include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and butyric anhydride, and aromatic acid anhydrides such as phthalic acid. Examples include acid anhydrides.

ポリアミドイミド樹脂は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手段により分離精製して単離してもよく、好ましい態様では、ポリアミドイミド系樹脂を含む反応液に、多量のメタノール等のアルコールを加え、樹脂を析出させ、濃縮、濾過、乾燥等を行うことにより単離することができる。 The polyamide-imide resin may be isolated by separation and purification by conventional methods such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, etc., or a combination of these separation methods, and is preferred. In this embodiment, a large amount of alcohol such as methanol is added to a reaction solution containing a polyamide-imide resin to precipitate the resin, and the resin can be isolated by concentration, filtration, drying, etc.

＜添加剤＞
本発明の光学フィルムは、添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、光学フィルムの用途に応じて適宜選択でき、例えば、シリカ粒子等のフィラー、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、ブルーイング剤、可塑剤、界面活性剤等が挙げられる。これらの添加剤は単独又は二種以上組合せて使用できる。光学フィルムが添加剤を含む場合、添加剤の含有量は、光学フィルム１００質量部に対して、例えば０．００１～６０質量部、好ましくは０．１～４０質量部、より好ましくは０．２～２０質量部程度である。 <Additives>
The optical film of the present invention may contain additives. The additives can be selected as appropriate depending on the use of the optical film, and include fillers such as silica particles, leveling agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, bluing agents, plasticizers, surfactants, and the like. These additives can be used alone or in combination. When the optical film contains an additive, the content of the additive is, for example, 0.001 to 60 parts by mass, preferably 0.1 to 40 parts by mass, more preferably 0.2 parts by mass, based on 100 parts by mass of the optical film. ~20 parts by mass.

本発明の光学フィルムの用途は特に限定されず、種々の用途に使用してよい。本発明の光学フィルムは、上記に述べたように単層であっても、積層体であってもよく、本発明の光学フィルムをそのまま使用してもよいし、さらに他のフィルムとの積層体として使用してもよい。なお、光学フィルムが積層体である場合、光学フィルムの片面又は両面に積層された全ての層を含めて光学フィルムと称する。 The use of the optical film of the present invention is not particularly limited, and it may be used for various purposes. The optical film of the present invention may be a single layer or a laminate as described above, and the optical film of the present invention may be used as is or may be a laminate with other films. May be used as In addition, when an optical film is a laminate, all the layers laminated|stacked on one side or both sides of an optical film are called an optical film.

本発明の光学フィルムが積層体である場合、光学フィルムの少なくとも一方の面に１以上の機能層を有することが好ましい。機能層としては、例えば紫外線吸収層、ハードコート層、プライマー層、ガスバリア層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層などが挙げられる。機能層は単独又は二種以上組合せて使用できる。 When the optical film of the present invention is a laminate, it is preferable to have one or more functional layers on at least one surface of the optical film. Examples of the functional layer include an ultraviolet absorbing layer, a hard coat layer, a primer layer, a gas barrier layer, an adhesive layer, a hue adjusting layer, and a refractive index adjusting layer. The functional layers can be used alone or in combination.

紫外線吸収層は、紫外線吸収の機能を有する層であり、例えば、紫外線硬化型の透明樹脂、電子線硬化型の透明樹脂、及び熱硬化型の透明樹脂から選ばれる主材と、この主材に分散した紫外線吸収剤とから構成される。 The ultraviolet absorbing layer is a layer that has an ultraviolet absorbing function, and includes a main material selected from, for example, an ultraviolet curing transparent resin, an electron beam curing transparent resin, and a thermosetting transparent resin, and this main material. It consists of a dispersed ultraviolet absorber.

粘着層は、粘着性の機能を有する層であり、光学フィルムを他の部材に接着させる機能を有する。粘着層の形成材料としては、通常知られたものを用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いることができる。この場合、事後的にエネルギーを供給することで熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を高分子化し硬化させることができる。 The adhesive layer is a layer having an adhesive function, and has the function of adhering the optical film to another member. As the material for forming the adhesive layer, commonly known materials can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used. In this case, the thermosetting resin composition or the photocurable resin composition can be polymerized and cured by supplying energy afterwards.

粘着層は、感圧型接着剤（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ａｄｈｅｓｉｖｅ、ＰＳＡ）と呼ばれる、押圧により対象物に貼着される層であってもよい。感圧型接着剤は、「常温で粘着性を有し、軽い圧力で被着材に接着する物質」（ＪＩＳ Ｋ ６８００）である粘着剤であってもよく、「特定成分を保護被膜（マイクロカプセル）に内容し、適当な手段（圧力、熱等）によって被膜を破壊するまでは安定性を保持できる接着剤」（ＪＩＳ Ｋ ６８００）であるカプセル型接着剤であってもよい。 The adhesive layer may be a layer called pressure sensitive adhesive (PSA) that is attached to the object by pressure. Pressure-sensitive adhesives may be adhesives that are "substances that are sticky at room temperature and adhere to adherends with light pressure" (JIS K 6800), or "substances that contain specific components in a protective coating (microcapsules)" (JIS K 6800). ) and can maintain stability until the film is destroyed by appropriate means (pressure, heat, etc.) (JIS K 6800).

色相調整層は、色相調整の機能を有する層であり、光学フィルムを目的の色相に調整することができる層である。色相調整層は、例えば、樹脂及び着色剤を含有する層である。この着色剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、チタニウムオキサイド系焼成顔料、群青、アルミン酸コバルト、及びカーボンブラック等の無機顔料；アゾ系化合物、キナクリドン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合物、イソインドリノン系化合物、フタロシアニン系化合物、キノフタロン系化合物、スレン系化合物、及びジケトピロロピロール系化合物等の有機顔料；硫酸バリウム、及び炭酸カルシウム等の体質顔料；並びに塩基性染料、酸性染料、及び媒染染料等の染料を挙げることができる。 The hue adjustment layer is a layer that has a hue adjustment function, and is a layer that can adjust the optical film to a desired hue. The hue adjustment layer is, for example, a layer containing a resin and a colorant. Examples of the coloring agent include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, Bengara, titanium oxide fired pigments, ultramarine, cobalt aluminate, and carbon black; azo compounds, quinacridone compounds, anthraquinone compounds, Organic pigments such as perylene compounds, isoindolinone compounds, phthalocyanine compounds, quinophthalone compounds, threne compounds, and diketopyrrolopyrrole compounds; extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; and basic dyes, Dyes such as acid dyes and mordant dyes can be mentioned.

屈折率調整層は、屈折率調整の機能を有する層であり、例えば単層の光学フィルムとは異なる屈折率を有し、光学フィルムに所定の屈折率を付与することができる層である。屈折率調整層は、例えば、適宜選択された樹脂、及び場合によりさらに顔料を含有する樹脂層であってもよいし、金属の薄膜であってもよい。屈折率を調整する顔料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化タンタルが挙げられる。該顔料の平均一次粒子径は、０．１μｍ以下であってもよい。顔料の平均一次粒子径を０．１μｍ以下とすることにより、屈折率調整層を透過する光の乱反射を防止し、透明度の低下を防止することができる。屈折率調整層に用いられる金属としては、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸窒化チタン、窒化チタン、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素等の金属酸化物又は金属窒化物が挙げられる。 The refractive index adjustment layer is a layer that has a refractive index adjustment function, and has a refractive index different from that of a single-layer optical film, for example, and is a layer that can impart a predetermined refractive index to the optical film. The refractive index adjusting layer may be, for example, a resin layer containing an appropriately selected resin and optionally a pigment, or may be a thin metal film. Examples of pigments that adjust the refractive index include silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and tantalum oxide. The average primary particle size of the pigment may be 0.1 μm or less. By setting the average primary particle diameter of the pigment to 0.1 μm or less, it is possible to prevent diffuse reflection of light passing through the refractive index adjusting layer and prevent a decrease in transparency. Examples of metals used in the refractive index adjustment layer include metals such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, and silicon nitride. Mention may be made of oxides or metal nitrides.

本発明の一実施態様において、光学フィルムは、少なくとも一方の面、言い換えると片面又は両面に保護フィルムを有していてもよい。例えば光学フィルムの片面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、光学フィルム側の表面又は機能層側の表面に積層されていてもよく、光学フィルム側と機能層側の両方に積層されていてもよい。光学フィルムの両面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、片方の機能層側の表面に積層されていてもよく、両方の機能層側の表面に積層されていてもよい。保護フィルムは、光学フィルム又は機能層の表面を一時的に保護するためのフィルムであり、光学フィルム又は機能層の表面を保護できる剥離可能なフィルムである限り特に限定されない。保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム；ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィン系樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルム等が挙げられ、ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルム及びアクリル系樹脂フィルムからなる群から選択されることが好ましい。光学フィルムが保護フィルムを２つ有する場合、各保護フィルムは同一であっても異なっていてもよい。 In one embodiment of the present invention, the optical film may have a protective film on at least one surface, in other words, on one or both surfaces. For example, when the optical film has a functional layer on one side, the protective film may be laminated on the optical film side surface or the functional layer side surface, or may be laminated on both the optical film side and the functional layer side. It's okay. When the optical film has functional layers on both sides, the protective film may be laminated on the surface on one functional layer side, or may be laminated on the surfaces on both functional layer sides. The protective film is a film for temporarily protecting the surface of the optical film or functional layer, and is not particularly limited as long as it is a removable film that can protect the surface of the optical film or functional layer. Examples of the protective film include polyester resin films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polyolefin resin films such as polyethylene and polypropylene films; acrylic resin films; Preferably, the film is selected from the group consisting of terephthalate resin films and acrylic resin films. When the optical film has two protective films, each protective film may be the same or different.

保護フィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、通常、１０～１２０μｍ、好ましくは１５～１１０μｍ、より好ましくは２０～１００μｍである。光学フィルムが保護フィルムを２つ有する場合、各保護フィルムの厚さは同一であっても異なっていてもよい。 The thickness of the protective film is not particularly limited, but is usually 10 to 120 μm, preferably 15 to 110 μm, and more preferably 20 to 100 μm. When the optical film has two protective films, the thickness of each protective film may be the same or different.

〔光学フィルムの製造方法〕
本発明の光学フィルムは、特に限定されないが、例えば以下の工程：
（ａ）前記樹脂を含む液（樹脂ワニスと称する場合がある）を調製するワニス調製工程、
（ｂ）樹脂ワニスを基材に塗布して塗膜を形成する塗布工程、及び
（ｃ）塗布された液（塗膜）を乾燥させて、光学フィルムを形成する光学フィルム形成工程
を含む方法によって製造することができる。 [Optical film manufacturing method]
Although the optical film of the present invention is not particularly limited, for example, the following steps:
(a) a varnish preparation step of preparing a liquid containing the resin (sometimes referred to as resin varnish);
(b) a coating step of applying a resin varnish to a base material to form a coating film; and (c) an optical film forming step of drying the applied liquid (coating film) to form an optical film. can be manufactured.

ワニス調製工程において、前記樹脂を溶媒に溶解し、必要に応じて前記添加剤を添加して撹拌混合することによりワニスを調製する。 In the varnish preparation step, a varnish is prepared by dissolving the resin in a solvent, adding the additives as needed, and stirring and mixing.

ワニスの調製に用いられる溶媒は、前記樹脂を溶解可能であれば特に限定されない。かかる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒；γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン等のラクトン系溶媒；ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒；及びそれらの組合せが挙げられる。これらの中でも、アミド系溶媒又はラクトン系溶媒が好ましい。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。また、樹脂ワニスには水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、非環状エステル系溶媒、エーテル系溶媒などが含まれてもよい。ワニスの固形分濃度は、好ましくは１～２５質量％、より好ましくは５～１５質量％である。なお、本明細書において、ワニスの固形分とは、ワニスから溶媒を除いた成分の合計量を示す。 The solvent used for preparing the varnish is not particularly limited as long as it can dissolve the resin. Examples of such solvents include amide solvents such as N,N-dimethylacetamide and N,N-dimethylformamide; lactone solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone; sulfur-containing solvents such as dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, and sulfolane. Examples include solvents; carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof. Among these, amide solvents or lactone solvents are preferred. These solvents can be used alone or in combination. Further, the resin varnish may contain water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent, and the like. The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25% by weight, more preferably 5 to 15% by weight. Note that in this specification, the solid content of the varnish refers to the total amount of components excluding the solvent from the varnish.

塗布工程において、公知の塗布方法により、基材上にワニスを塗布して塗膜を形成する。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法、流涎成形法等が挙げられる。 In the coating step, a varnish is applied onto the base material to form a coating film using a known coating method. Known coating methods include, for example, wire bar coating, reverse coating, roll coating such as gravure coating, die coating, comma coating, lip coating, spin coating, screen coating, fountain coating, dipping, Examples include spray method and drool molding method.

光学フィルム形成工程において、塗膜を乾燥し、基材から剥離することによって、光学フィルムを形成することができる。剥離後にさらに光学フィルムを乾燥する乾燥工程を行ってもよい。塗膜の乾燥は、通常５０～３５０℃の温度にて行うことができる。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において塗膜の乾燥を行ってよい。 In the optical film forming step, an optical film can be formed by drying the coating film and peeling it off from the base material. After peeling, a drying step may be performed to further dry the optical film. Drying of the coating film can usually be carried out at a temperature of 50 to 350°C. If necessary, the coating film may be dried in an inert atmosphere or under reduced pressure.

基材の例としては、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルム、他のポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂フィルム等が挙げられる。中でも、耐熱性に優れる観点から、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルム等が好ましく、さらに光学フィルムとの密着性及びコストの観点から、ＰＥＴフィルムがより好ましい。 Examples of the base material include PET film, PEN film, other polyimide resin or polyamide resin films, and the like. Among these, PET film, PEN film, etc. are preferred from the viewpoint of excellent heat resistance, and PET film is more preferred from the viewpoint of adhesiveness with optical films and cost.

本発明の光学フィルムは、表示装置、特にフレキシブル表示装置の前面版（以下、ウインドウフィルムということがある）として好適に使用できる。該前面板は、フレキシブル表示装置の表示素子を保護する機能を有する。表示装置としては、テレビ、スマートフォン、携帯電話、カーナビゲーション、タブレットＰＣ、携帯ゲーム機、電子ペーパー、インジケーター、掲示板、時計、及びスマートウォッチ等のウェアラブルデバイス等が挙げられる。フレキシブルディスプレイとしては、フレキシブル特性を有する表示装置、例えばテレビ、スマートフォン、携帯電話、スマートウォッチ等が挙げられる。 The optical film of the present invention can be suitably used as a front plate (hereinafter sometimes referred to as a window film) of a display device, particularly a flexible display device. The front plate has a function of protecting the display element of the flexible display device. Examples of display devices include televisions, smartphones, mobile phones, car navigation systems, tablet PCs, portable game consoles, electronic paper, indicators, bulletin boards, watches, and wearable devices such as smart watches. Examples of flexible displays include display devices having flexible characteristics, such as televisions, smartphones, mobile phones, and smart watches.

〔フレキシブル表示装置〕
本発明は、本発明の光学フィルムを備える、フレキシブル表示装置を包含する。本発明の光学フィルムは、好ましくはフレキシブル表示装置において前面板として用いられ、該前面板はウインドウフィルムと称されることがある。該フレキシブル表示装置は、フレキシブル表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなり、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側にフレキシブル表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル表示装置用積層体としては、さらに偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサ又はウインドウフィルム、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサよりも視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、前記ウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。 [Flexible display device]
The present invention includes a flexible display device comprising the optical film of the present invention. The optical film of the present invention is preferably used as a front plate in a flexible display device, and the front plate is sometimes referred to as a window film. The flexible display device is composed of a flexible display device laminate and an organic EL display panel, and the flexible display device laminate is arranged on the viewing side with respect to the organic EL display panel, and is configured to be foldable. The laminate for a flexible display device may further contain a polarizing plate and a touch sensor, and the order of stacking them is arbitrary. , a polarizing plate are preferably laminated in this order. It is preferable that the polarizing plate is present on the viewing side of the touch sensor because the pattern of the touch sensor becomes less visible and the visibility of the displayed image improves. Each member can be laminated using an adhesive, a pressure-sensitive adhesive, or the like. Further, a light shielding pattern may be provided on at least one surface of any one of the window film, polarizing plate, and touch sensor layer.

〔偏光板〕
本発明のフレキシブル表示装置は、上記の通り、偏光板、中でも円偏光板をさらに備えることが好ましい。円偏光板は、直線偏光板にλ／４位相差板を積層することにより右円偏光成分又は左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。例えば外光を右円偏光に変換して有機ＥＬパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ＥＬの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ／４位相差板の遅相軸は理論上４５°である必要があるが、実用的には４５±１０°である。直線偏光板とλ／４位相差板は必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ／４位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。 〔Polarizer〕
As described above, the flexible display device of the present invention preferably further includes a polarizing plate, especially a circularly polarizing plate. A circularly polarizing plate is a functional layer that has a function of transmitting only a right circularly polarized light component or a left circularly polarized light component by laminating a λ/4 retardation plate on a linearly polarizing plate. For example, by converting external light into right-handed circularly polarized light, blocking the left-handed circularly polarized external light that is reflected by the organic EL panel, and transmitting only the organic EL light emitting component, the effect of reflected light is suppressed and the image is imaged. It is used to make it easier to see. In order to achieve the circular polarization function, the absorption axis of the linear polarizing plate and the slow axis of the λ/4 retardation plate should theoretically be 45°, but in practice they are 45±10°. The linear polarizing plate and the λ/4 retardation plate do not necessarily need to be stacked adjacent to each other, as long as the relationship between the absorption axis and the slow axis satisfies the above range. Although it is preferable to achieve complete circularly polarized light at all wavelengths, it is not necessary in practice, so the circularly polarizing plate in the present invention also includes an elliptically polarizing plate. It is also preferable to further laminate a λ/4 retardation film on the viewing side of the linearly polarizing plate to make the emitted light circularly polarized, thereby improving visibility when wearing polarized sunglasses.

直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独又は直線偏光子及びその少なくとも一面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、２００μｍ以下であってもよく、好ましくは、０．５～１００μｍである。直線偏光板の厚さが前記の範囲にあると直線偏光板の柔軟性が低下し難い傾向にある。 The linear polarizing plate is a functional layer that allows light vibrating in the direction of the transmission axis to pass through, but has the function of blocking polarized light with a vibration component perpendicular to it. The linear polarizing plate may include a linear polarizer alone or a linear polarizer and a protective film attached to at least one surface thereof. The thickness of the linearly polarizing plate may be 200 μm or less, preferably 0.5 to 100 μm. When the thickness of the linearly polarizing plate is within the above range, the flexibility of the linearly polarizing plate tends to be less likely to decrease.

前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略すことがある）系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したＰＶＡ系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、又はＰＶＡに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はＰＶＡ系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルムと積層された状態で行うこともできる。用いられるＰＶＡ系フィルムの厚さは好ましくは１０～１００μｍであり、前記延伸倍率は好ましくは２～１０倍である。
さらに前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子が挙げられる。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は、液晶状態を示す性質を有していればよく、スメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は、重合性官能基を有することが好ましい。
前記二色性色素化合物は、前記液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、重合性官能基を有していてもよく、また、二色性色素自身が液晶性を有していてもよい。
液晶偏光組成物に含まれる化合物のいずれかは重合性官能基を有する。前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができ、その厚さは好ましくは０．５～１０μｍ、より好ましくは１～５μｍである。 The linear polarizer may be a film-type polarizer manufactured by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (hereinafter sometimes abbreviated as PVA) film. A dichroic dye such as iodine is adsorbed to a PVA-based film that is oriented by stretching, or by being stretched while being adsorbed to PVA, the dichroic dye is oriented and exhibits polarizing performance. The production of the film-type polarizer may include other steps such as swelling, crosslinking with boric acid, washing with an aqueous solution, and drying. The stretching and dyeing steps may be performed on the PVA film alone, or may be performed on the PVA film laminated with another film such as polyethylene terephthalate. The thickness of the PVA film used is preferably 10 to 100 μm, and the stretching ratio is preferably 2 to 10 times.
Further, another example of the polarizer is a liquid crystal coated polarizer formed by applying a liquid crystal polarizing composition. The liquid crystal polarizing composition may include a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. The liquid crystalline compound need only have a property of exhibiting a liquid crystal state, and it is preferable that it has a high-order alignment state such as a smectic phase because it can exhibit high polarization performance. Moreover, it is preferable that the liquid crystal compound has a polymerizable functional group.
The dichroic dye compound is a dye that exhibits dichroism when aligned with the liquid crystal compound, and may have a polymerizable functional group, and the dichroic dye itself has liquid crystallinity. You can leave it there.
Any of the compounds contained in the liquid crystal polarizing composition has a polymerizable functional group. The liquid crystal polarizing composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, and the like.
The liquid crystal polarizing layer is manufactured by coating a liquid crystal polarizing composition on an alignment film to form a liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal polarizing layer can be formed thinner than a film-type polarizer, and its thickness is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.

前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することにより製造される。前記配向膜形成組成物は、配向剤を含み、さらに溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類が挙げられる。偏光照射により配向性を付与する配向剤を用いる場合、シンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量は、例えば、１０，０００～１，０００，０００程度である。前記配向膜の厚さは、好ましくは５～１０，０００ｎｍであり、配向規制力が十分に発現される点で、より好ましくは１０～５００ｎｍである。
前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。 The alignment film is manufactured, for example, by applying an alignment film-forming composition onto a base material and imparting alignment properties by rubbing, polarized light irradiation, or the like. The alignment film forming composition contains an alignment agent, and may further contain a solvent, a crosslinking agent, an initiator, a dispersant, a leveling agent, a silane coupling agent, and the like. Examples of the alignment agent include polyvinyl alcohols, polyacrylates, polyamic acids, and polyimides. When using an alignment agent that imparts orientation through polarized light irradiation, it is preferable to use an alignment agent containing a cinnamate group. The weight average molecular weight of the polymer used as the alignment agent is, for example, about 10,000 to 1,000,000. The thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, more preferably 10 to 500 nm in terms of sufficient alignment control force.
The liquid crystal polarizing layer can be peeled off from the base material and transferred and laminated, or the base material can be laminated as is. It is also preferable that the base material serves as a transparent base material for a protective film, a retardation plate, or a window film.

前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく前記ウインドウフィルムの透明基材に使用される材料や添加剤と同じものが使用できる。また、エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。該保護フィルムは、必要により可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。該保護フィルムの厚さは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１～１００μｍである。保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、該フィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。 The protective film may be any transparent polymer film, and the same materials and additives as those used for the transparent base material of the window film can be used. Alternatively, it may be a coating type protective film obtained by applying and curing a cationic curing composition such as an epoxy resin or a radical curing composition such as an acrylate. The protective film may optionally contain plasticizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, colorants such as pigments and dyes, optical brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, antistatic agents, and antioxidants. , a lubricant, a solvent, etc. The thickness of the protective film is preferably 200 μm or less, more preferably 1 to 100 μm. When the thickness of the protective film is within the above range, the flexibility of the film tends to be less likely to decrease.

前記λ／４位相差板は、入射光の進行方向に直交する方向、言い換えるとフィルムの面内方向にλ／４の位相差を与えるフィルムである。前記λ／４位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。前記λ／４位相差板は、必要により位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。
前記延伸型位相差板の厚さは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１～１００μｍである。延伸型位相差板の厚さが前記の範囲にあると、該延伸型位相差板の柔軟性が低下し難い傾向にある。
さらに前記λ／４位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板が挙げられる。
前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す液晶性化合物を含む。前記液晶性化合物は、重合性官能基を有する。
前記液晶組成物は、さらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層と同様に、液晶組成物を下地上に塗布、硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは０．５～１０μｍ、より好ましくは１～５μｍである。
前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。 The λ/4 retardation plate is a film that provides a retardation of λ/4 in a direction perpendicular to the traveling direction of incident light, in other words, in the in-plane direction of the film. The λ/4 retardation plate may be a stretched retardation plate manufactured by stretching a polymer film such as a cellulose film, an olefin film, or a polycarbonate film. The λ/4 retardation plate may contain a retardation adjuster, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a colorant such as a pigment or dye, an optical brightener, a dispersant, a heat stabilizer, and a light stabilizer, if necessary. It may contain agents, antistatic agents, antioxidants, lubricants, solvents, etc.
The thickness of the stretched retardation plate is preferably 200 μm or less, more preferably 1 to 100 μm. When the thickness of the stretched retardation plate is within the above range, the flexibility of the stretched retardation plate tends to be less likely to decrease.
Another example of the λ/4 retardation plate is a liquid crystal coated retardation plate formed by applying a liquid crystal composition.
The liquid crystal composition includes a liquid crystal compound exhibiting a liquid crystal state such as nematic, cholesteric, or smectic. The liquid crystal compound has a polymerizable functional group.
The liquid crystal composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, and the like.
The liquid crystal coated retardation plate can be manufactured, similarly to the liquid crystal polarizing layer, by applying a liquid crystal composition onto a base and curing it to form a liquid crystal retardation layer. A liquid crystal coated retardation plate can be formed thinner than a stretched retardation plate. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.
The liquid crystal coated retardation plate can be peeled off from the base material and transferred and laminated, or the base material can be laminated as is. It is also preferable that the base material serves as a transparent base material for a protective film, a retardation plate, or a window film.

一般的には、短波長ほど複屈折が大きく長波長になるほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ／４の位相差を達成することはできないので、視感度の高い５６０ｎｍ付近に対してλ／４となるように、面内位相差は、好ましくは１００～１８０ｎｍ、より好ましくは１３０～１５０ｎｍとなるように設計される。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ／４位相差板は、視認性が良好となる点で好ましい。このような材料としては、例えば延伸型位相差板は特開２００７‐２３２８７３号公報等に、液晶塗布型位相差板は特開２０１０－３０９７９号公報等に記載されているものを用いることができる。
また、他の方法としてはλ／２位相差板と組合せることで広帯域λ／４位相差板を得る技術も知られている（例えば、特開平１０－９０５２１号公報など）。λ／２位相差板もλ／４位相差板と同様の材料方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板の組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることにより厚さを薄くすることができる。
前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のＣプレートを積層する方法が知られている（例えば、特開２０１４－２２４８３７号公報など）。正のＣプレートは、液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。該位相差板の厚さ方向の位相差は、好ましくは－２００～－２０ｎｍ、より好ましくは－１４０～－４０ｎｍである。 In general, many materials exhibit birefringence as the wavelength becomes shorter, and birefringence decreases as the wavelength increases. In this case, it is not possible to achieve a retardation of λ/4 in the entire visible light region, so the in-plane retardation is preferably 100 to λ/4 at around 560 nm, where visibility is high. It is designed to have a wavelength of 180 nm, more preferably 130 to 150 nm. An inverse dispersion λ/4 retardation plate using a material having birefringence and wavelength dispersion characteristics opposite to normal ones is preferable in terms of good visibility. As such materials, for example, those described in JP-A No. 2007-232873 for a stretched retardation plate, and those described in JP-A No. 2010-30979 for a liquid crystal coated retardation plate can be used. .
Furthermore, as another method, a technique for obtaining a broadband λ/4 retardation plate by combining it with a λ/2 retardation plate is also known (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 10-90521). The λ/2 retardation plate is also manufactured using the same material method as the λ/4 retardation plate. Although the combination of the stretched retardation plate and the liquid crystal coated retardation plate is arbitrary, the thickness can be reduced by using the liquid crystal coated retardation plate.
A method is known in which a positive C plate is laminated on the circularly polarizing plate in order to improve visibility in an oblique direction (for example, Japanese Patent Application Publication No. 2014-224837). The positive C plate may be a liquid crystal coated retardation plate or a stretched retardation plate. The retardation in the thickness direction of the retardation plate is preferably -200 to -20 nm, more preferably -140 to -40 nm.

〔タッチセンサ〕
本発明のフレキシブル表示装置は、上記の通り、タッチセンサをさらに備えることが好ましい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が挙げられ、好ましくは静電容量方式が挙げられる。
静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される表示部である領域に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない非表示部である領域に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と、前記基板の活性領域に形成された感知パターンと、前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウフィルムの透明基板と同様の材料が使用できる。 [Touch sensor]
As described above, the flexible display device of the present invention preferably further includes a touch sensor. A touch sensor is used as an input means. As the touch sensor, there are various types such as a resistive film type, a surface acoustic wave type, an infrared type, an electromagnetic induction type, and a capacitance type, and preferably a capacitance type is used.
A capacitive touch sensor is divided into an active area and a non-active area located around the active area. The active area corresponds to the area of the display panel where the screen is displayed, and is the area where the user's touch is sensed, and the inactive area is the non-display area where the screen is not displayed on the display device. This is an area corresponding to an area. The touch sensor includes a flexible substrate, a sensing pattern formed in an active area of the substrate, and a sensing pattern formed in an inactive area of the substrate, and connected to an external driving circuit through the sensing pattern and a pad. Each sensing line can be included. As the flexible substrate, the same material as the transparent substrate of the window film can be used.

前記感知パターンは、第１方向に形成された第１パターン及び第２方向に形成された第２パターンを備えることができる。第１パターンと第２パターンとは互いに異なる方向に配置される。第１パターン及び第２パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第１パターンは複数の単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第２パターンは複数の単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第２パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。第２パターンの接続のための電極には、周知の透明電極を適用することができる。該透明電極の素材としては、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＺＴＯ）、インジウムガリウム亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ）、カドミウムスズ酸化物（ＣＴＯ）、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４－ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、グラフェン及び金属ワイヤなどが挙げられ、好ましくはＩＴＯが挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して使用できる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、セレニウム及びクロムなどが挙げられ、これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。
ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成されることができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの２種以上の合金で形成することもできる。
第１パターンと第２パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。該絶縁層は、第１パターンの継ぎ手とブリッジ電極との間にのみ形成することや、感知パターン全体を覆う層として形成することもできる。感知パターン全体を覆う層の場合、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第２パターンを接続することができる。 The sensing pattern may include a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions. The first pattern and the second pattern are formed on the same layer and must be electrically connected to each other in order to sense a touched point. The first pattern has a plurality of unit patterns connected to each other via joints, but the second pattern has a structure in which a plurality of unit patterns are separated from each other in the form of an island. A separate bridge electrode is required to make a direct connection. A well-known transparent electrode can be applied to the electrode for connection of the second pattern. Examples of the material for the transparent electrode include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), and indium gallium zinc oxide (IGZO). , cadmium tin oxide (CTO), PEDOT (poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), carbon nanotubes (CNT), graphene, and metal wires, and preferably ITO. These can be used alone or in combination of two or more. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, selenium, and chromium, and these may be used alone or in a mixture of two or more. I can do it.
A bridge electrode may be formed on the sensing pattern through an insulating layer, and the bridge electrode may be formed on a substrate, and an insulating layer and a sensing pattern may be formed on the bridge electrode. The bridge electrode may be formed of the same material as the sensing pattern, or may be formed of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more of these. can.
Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer may be formed only between the joint of the first pattern and the bridge electrode, or may be formed as a layer covering the entire sensing pattern. In the case of a layer covering the entire sensing pattern, the bridge electrode can connect the second pattern through a contact hole formed in the insulating layer.

前記タッチセンサは、感知パターンが形成されたパターン領域と、感知パターンが形成されていない非パターン領域との間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができる。該光学調節層は、無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を高くすることができる。
前記光硬化性有機バインダーは、本発明の効果を損ねない範囲で、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
前記無機粒子としては、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などが挙げられる。
前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。 The touch sensor is triggered by a difference in transmittance between a patterned area where a sensing pattern is formed and a non-patterned area where a sensing pattern is not formed, specifically, a difference in refractive index in these areas. An optical adjustment layer may further be included between the substrate and the electrodes as a means for appropriately compensating for differences in light transmittance. The optical adjustment layer can include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical adjustment layer can be formed by coating a photocurable composition containing a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further include inorganic particles. The inorganic particles can increase the refractive index of the optical adjustment layer.
The photocurable organic binder contains, for example, a copolymer of each monomer such as an acrylate monomer, a styrene monomer, or a carboxylic acid monomer, within a range that does not impair the effects of the present invention. be able to. The photocurable organic binder may be a copolymer containing different repeating units such as epoxy group-containing repeating units, acrylate repeating units, and carboxylic acid repeating units.
Examples of the inorganic particles include zirconia particles, titania particles, and alumina particles.
The photocurable composition may further contain additives such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing aid.

〔接着層〕
前記フレキシブル表示装置用積層体を形成するウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサ等の各層並びに各層を構成する直線偏光板やλ／４位相差板等のフィルム部材は接着剤によって接合することができる。該接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、水系溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤、感圧型粘着剤、再湿型接着剤等、通常使用されている接着剤等が使用でき、好ましくは水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤を使用できる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、好ましくは０．０１～５００μｍ、より好ましくは０．１～３００μｍである。前記フレキシブル表示装置用積層体には、複数の接着層が存在するが、それぞれの厚さや種類は、同一であっても異なっていてもよい。 [Adhesive layer]
Each layer such as a window film, circularly polarizing plate, touch sensor, etc. forming the laminate for a flexible display device, and film members such as a linearly polarizing plate and a λ/4 retardation plate constituting each layer can be bonded with an adhesive. . The adhesives include water-based adhesives, organic solvent-based adhesives, solvent-free adhesives, solid adhesives, solvent-vaporizing adhesives, water-based solvent-vaporizing adhesives, moisture-curing adhesives, heat-curing adhesives, and anaerobic adhesives. Commonly used adhesives such as hardening type, active energy ray hardening type adhesive, curing agent mixed type adhesive, hot melt type adhesive, pressure sensitive type adhesive, pressure sensitive adhesive, rewetting type adhesive, etc. Preferably, a water-based solvent volatilization adhesive, an active energy ray curable adhesive, or a pressure-sensitive adhesive can be used. The thickness of the adhesive layer can be adjusted as appropriate depending on the required adhesive strength, and is preferably 0.01 to 500 μm, more preferably 0.1 to 300 μm. A plurality of adhesive layers are present in the laminate for a flexible display device, and the thickness and type of each adhesive layer may be the same or different.

前記水系溶剤揮散型接着剤としては、ポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン－酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン－ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。前記主剤ポリマーと水とに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１～１０μｍ、より好ましくは０．１～１μｍである。前記水系溶剤揮散型接着剤を複数層に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同一であっても異なっていてもよい。 As the water-based solvent volatilization type adhesive, a water-dispersed polymer such as a polyvinyl alcohol polymer, a water-soluble polymer such as starch, an ethylene-vinyl acetate emulsion, a styrene-butadiene emulsion, etc. can be used as the main polymer. In addition to the main polymer and water, a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent, etc. may be blended. In the case of bonding with the aqueous solvent volatile adhesive, adhesiveness can be imparted by injecting the aqueous solvent volatile adhesive between the adherend layers, bonding the adherend layers, and then drying. When using the aqueous solvent volatile adhesive, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. When the aqueous solvent volatilization type adhesive is used in multiple layers, the thickness and type of each layer may be the same or different.

前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物に含まれるものと同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物は、ハードコート組成物におけるラジカル重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物におけるカチオン重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物が好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。 The active energy ray-curable adhesive can be formed by curing an active energy ray-curable composition containing a reactive material that forms an adhesive layer by irradiating active energy rays. The active energy ray-curable composition may contain at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationic polymerizable compound similar to those contained in the hard coat composition. As the radically polymerizable compound, the same compound as the radically polymerizable compound in the hard coat composition can be used.
As the cationic polymerizable compound, the same compound as the cationic polymerizable compound in the hard coat composition can be used.
As the cationically polymerizable compound used in the active energy ray-curable composition, epoxy compounds are preferred. It is also preferable to include a monofunctional compound as a reactive diluent in order to lower the viscosity of the adhesive composition.

活性エネルギー線組成物は、粘度を低下させるために、単官能の化合物を含むことができる。該単官能の化合物としては、１分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート系単量体や、１分子中に１個のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、例えば、グリシジル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
活性エネルギー線組成物は、さらに重合開始剤を含むことができる。該重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、これらは適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカル又はカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。
前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって２つの被接着層を接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか一方又は両方に塗布後、貼合し、いずれかの被着層又は両方の被接着層に活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、で接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１～２０μｍ、より好ましくは０．１～１０μｍである。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数の接着層形成に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同一であっても異なっていてもよい。 The active energy ray composition can contain a monofunctional compound in order to reduce the viscosity. Examples of the monofunctional compound include acrylate monomers having one (meth)acryloyl group in one molecule, compounds having one epoxy group or oxetanyl group in one molecule, such as glycidyl (meth) ) acrylate, etc.
The active energy ray composition can further contain a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include radical polymerization initiators, cationic polymerization initiators, radical and cationic polymerization initiators, and these are appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cationic polymerization. In the description of the hard coat composition, an initiator capable of initiating at least either radical polymerization or cationic polymerization by irradiation with active energy rays can be used.
The active energy ray-curable composition further contains an ion scavenger, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion promoter, a thermoplastic resin, a filler, a flow viscosity modifier, a plasticizer, an antifoaming agent, an additive, and a solvent. can include. When bonding two adherend layers with the active energy ray-curable adhesive, the active energy ray-curable composition is applied to either or both of the adherend layers, and then laminated, and either of the adherend layers is bonded. Alternatively, both layers to be bonded can be bonded by irradiating active energy rays and curing them. When using the active energy ray-curable adhesive, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.1 to 10 μm. When the active energy ray-curable adhesive is used to form a plurality of adhesive layers, the thickness and type of each layer may be the same or different.

前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類され何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着剤層接着層が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．１～５００μｍ、より好ましくは１～３００μｍである。前記粘着剤を複数層用いる場合には、それぞれの層の厚さや種類は同一であっても異なっていてもよい。 The adhesive may be classified into acrylic adhesives, urethane adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, etc. depending on the main polymer, and any of them can be used. In addition to the base polymer, the adhesive may contain a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a tackifier, a plasticizer, a dye, a pigment, an inorganic filler, and the like. A pressure-sensitive adhesive composition is obtained by dissolving and dispersing each component constituting the pressure-sensitive adhesive in a solvent, and the pressure-sensitive adhesive composition is applied onto a base material and then dried to form a pressure-sensitive adhesive layer. Ru. The adhesive layer may be formed directly or may be separately formed on a base material and transferred. It is also preferable to use a release film to cover the adhesive surface before adhesion. When using the active energy ray-curable adhesive, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.1 to 500 μm, more preferably 1 to 300 μm. When using multiple layers of the adhesive, the thickness and type of each layer may be the same or different.

〔遮光パターン〕
前記遮光パターンは、前記フレキシブル表示装置のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記フレキシブル表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーであってもよい。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は２種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、好ましくは１～１００μｍ、より好ましくは２～５０μｍである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。 [Shading pattern]
The light shielding pattern may be applied as at least a portion of a bezel or a housing of the flexible display device. The visibility of the image is improved by hiding the wiring arranged at the edge of the flexible display device by the light-shielding pattern and making it difficult to see. The light blocking pattern may have a single layer or a multilayer structure. The color of the light-shielding pattern is not particularly limited, and may be various colors such as black, white, and metallic color. The light-shielding pattern can be formed using pigments for realizing colors and polymers such as acrylic resin, ester resin, epoxy resin, polyurethane, and silicone. These can be used alone or in a mixture of two or more. The light-shielding pattern can be formed by various methods such as printing, lithography, and inkjet. The thickness of the light shielding pattern is preferably 1 to 100 μm, more preferably 2 to 50 μm. Further, it is also preferable to provide a shape such as an inclination in the thickness direction of the light shielding pattern.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部を意味する。まず評価方法について説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. "%" and "parts" in the examples mean % by mass and parts by mass unless otherwise specified. First, the evaluation method will be explained.

＜弾性率及び降伏点歪の測定＞
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの２５℃、５０％Ｒ．Ｈ．における弾性率を（株）島津製作所製「オートグラフＡＧ－ＩＳ」を用いて測定した。より詳細には縦横１０ｍｍ幅のフィルムを作製し、チャック間距離５０ｍｍ、引張速度２０ｍｍ／分の条件でＳ－Ｓ曲線を測定し、その傾きから弾性率を算出した。
また、降伏点歪は以下の通り算出した。
（１）Ｓ－Ｓ曲線のデータ整理
Ｓ－Ｓ曲線における測定開始点から連続１０点をサンプリングし、最小二乗法により二次関数にフィッティングする。その後、サンプリング範囲１０点の二次関数フィッティングにより上に凸の形状になるまで、測定開始点の左側から１点を除外し右側の１点を追加する。フィッティング関数が上に凸になった時点でデータ整理を終了とする。
（２）Ｓ－Ｓ曲線の接線方程式の計算
前記１．のデータのｎ＝ｉ～ｊ番目（ｊ＝２～５０）のデータで最小二乗法により傾きと切片を求める。その後、ｊ－１個の傾きについてｋ番目（ｋ＝１～４８）から４９番目のデータを最小二乗法で１次関数にフィッティングし、歪が０の時の傾きを外挿により求める。得られた４８点の中央値をとり、歪０のときの直線の傾き（Ｓ－Ｓ曲線接線）と定義する。切片についても同様に計算し、歪０におけるＳ－Ｓ曲線の接線の方程式を得る。
（３）降伏点歪の計算
前記２．で得られたＳ－Ｓ曲線の歪０における接線を歪方向に０．２％平行移動する。応力の測定データが、平行移動した直線の応力を上回ったデータの歪値を降伏点歪とする。 <Measurement of elastic modulus and yield point strain>
25° C., 50% R.I. of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples. H. The elastic modulus was measured using "Autograph AG-IS" manufactured by Shimadzu Corporation. More specifically, a film with a width of 10 mm in length and width was prepared, and an SS curve was measured under conditions of a distance between chucks of 50 mm and a pulling speed of 20 mm/min, and the elastic modulus was calculated from the slope of the film.
Moreover, the yield point strain was calculated as follows.
(1) Data organization of SS curve Ten consecutive points from the measurement start point on the SS curve are sampled and fitted to a quadratic function using the least squares method. Thereafter, one point is excluded from the left side of the measurement starting point and one point on the right side is added until an upwardly convex shape is obtained by quadratic function fitting of the 10 points in the sampling range. Data reduction ends when the fitting function becomes convex upward.
(2) Calculating the tangent equation of the SS curve 1. The slope and intercept are determined using the least squares method using the n=i to jth data (j=2 to 50) of the data. Thereafter, the kth (k=1 to 48) to 49th data of the j-1 slopes are fitted to a linear function using the least squares method, and the slope when the distortion is 0 is obtained by extrapolation. The median value of the 48 points obtained is taken and defined as the slope of the straight line (SS curve tangent) when strain is 0. The intercept is calculated in the same way to obtain the equation of the tangent to the SS curve at zero strain.
(3) Calculation of yield point strain 2. The tangent line of the obtained SS curve at zero strain is translated by 0.2% in the strain direction. The strain value of the data in which the stress measurement data exceeds the stress of the parallel-shifted straight line is defined as the yield point strain.

＜耐衝撃性試験前後の反射色相＞
（１）耐衝撃性評価用サンプルの作製
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置及び窒素導入管を備えた反応容器に、アクリル酸ｎ－ブチル９７．０質量部、アクリル酸１．０質量部、アクリル酸２－ヒドロキシエチル０．５質量部、酢酸エチル２００質量部、及び２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．０８質量部を仕込み、上記反応容器内の空気を窒素ガスで置換した。窒素雰囲気下で攪拌しながら、反応溶液を６０℃に昇温し、６時間反応させた後、室温まで冷却した。得られた溶液の一部の重量平均分子量を測定したところ、１，８００，０００の（メタ）アクリル酸エステル重合体の生成を確認した。
上記工程で得られた（メタ）アクリル酸エステル重合体１００質量部（固形分換算値；以下同じ）と、イソシアネート系架橋剤として、トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート（東ソー（株）製、商品名「コロネート（登録商標）Ｌ」）０．３０質量部と、シランカップリング剤として、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製，商品名「ＫＢＭ４０３」）０．３０質量部とを混合し、十分に撹拌して、酢酸エチルで希釈することにより、粘着剤組成物の塗工溶液を得た。
セパレータ（リンテック（株）製：ＳＰ－ＰＬＲ３８２１９０）の離型処理面（剥離層面）に、アプリケーターにより、乾燥後の厚さが２５μｍとなるように前記塗工溶液を塗工した後、１００℃で１分間乾燥し、粘着剤層のセパレータが貼合された面とは反対面に、もう１枚のセパレータ（リンテック（株）製：ＳＰ－ＰＬＲ３８１０３１）を貼合し、両面セパレータ付き粘着剤層を得た。
両面セパレータ付き粘着剤層から粘着剤層をガラスに移着することで粘着剤層を形成し、該粘着剤層上に実施例及び比較例で得られた光学フィルムを貼り合わせて、ガラス、粘着剤層、及び光学フィルムがこの順に積層された積層体（耐衝撃性評価用サンプル）を得た。
（２）耐衝撃性試験
得られた耐衝撃性評価用サンプルの光学フィルム面上の直径８ｍｍの範囲内に、高さ１０ｃｍの位置から重りを落下させる操作を２０回繰り返して実施した。重りは、質量４．６ｇ、該光学フィルム面に衝突する箇所が直径０．７５ｍｍの球状で、ステンレス製である。 <Reflection hue before and after impact resistance test>
(1) Preparation of sample for impact resistance evaluation 97.0 parts by mass of n-butyl acrylate and 1.0 parts by mass of acrylic acid were placed in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping device, and a nitrogen introduction tube. 1 part by mass, 0.5 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, 200 parts by mass of ethyl acetate, and 0.08 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile, and the air in the reaction vessel was replaced with nitrogen gas. Replaced. The reaction solution was heated to 60°C while stirring under a nitrogen atmosphere, reacted for 6 hours, and then cooled to room temperature. When the weight average molecular weight of a part of the obtained solution was measured, it was confirmed that a (meth)acrylic acid ester polymer of 1,800,000 was produced.
100 parts by mass of the (meth)acrylic acid ester polymer obtained in the above step (solid content equivalent; the same applies hereinafter) and trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate (manufactured by Tosoh Corporation, trade name) as an isocyanate crosslinking agent. 0.30 parts by mass of "Coronate (registered trademark) L") and 0.30 parts by mass of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name "KBM403") as a silane coupling agent. A coating solution of the pressure-sensitive adhesive composition was obtained by thoroughly stirring the mixture and diluting with ethyl acetate.
The coating solution was applied to the release-treated surface (release layer surface) of a separator (Lintec Corporation: SP-PLR382190) using an applicator so that the thickness after drying was 25 μm, and then heated at 100°C. After drying for 1 minute, another separator (manufactured by Lintec Corporation: SP-PLR381031) was pasted on the opposite side of the adhesive layer to the side on which the separator was pasted, and the adhesive layer with double-sided separators was formed. Obtained.
An adhesive layer is formed by transferring the adhesive layer from the adhesive layer with a double-sided separator to glass, and the optical films obtained in the Examples and Comparative Examples are laminated onto the adhesive layer, and the glass, adhesive A laminate (sample for impact resistance evaluation) in which the agent layer and the optical film were laminated in this order was obtained.
(2) Impact resistance test An operation of dropping a weight from a height of 10 cm within a diameter range of 8 mm on the optical film surface of the obtained impact resistance evaluation sample was repeated 20 times. The weight had a mass of 4.6 g, had a spherical shape with a diameter of 0.75 mm at the point where it collided with the optical film surface, and was made of stainless steel.

（３）反射色相
該試験前後の光学フィルムの反射色相（反射ａ＊及びｂ＊）を、コニカミノルタ（株）製分光測色計（ＣＭ３７００Ａ）を用いて下記条件にて評価を行った。
・光源：Ｄ光源
・入射光：光学フィルムに対して、法線方向から角度２°で照射
・検出モード：反射ＳＣＥ
・ターゲットマスク：ＬＡＶマスク（測定範囲：直径８ｍｍ）
・サンプル測定条件：光学フィルムを反射測定位置に設置し、ダークボックスで蔽い測定。
以下のように耐衝撃性試験前後の反射Ｌ＊及び反射ａ＊の変化率を評価した。
○・・・耐衝撃性試験前後の変化率≦±５％
×・・・耐衝撃性試験前後の変化率＞±５％ (3) Reflection Hue The reflection hue (reflection a * and b * ) of the optical film before and after the test was evaluated under the following conditions using a spectrophotometer (CM3700A) manufactured by Konica Minolta, Inc.
・Light source: D light source ・Incident light: Irradiates the optical film at an angle of 2° from the normal direction ・Detection mode: Reflection SCE
・Target mask: LAV mask (measurement range: 8mm diameter)
・Sample measurement conditions: An optical film is installed at the reflection measurement position, and the measurement is covered with a dark box.
The rate of change in reflection L * and reflection a * before and after the impact resistance test was evaluated as follows.
○...Change rate before and after impact resistance test ≦±5%
×...Change rate before and after impact resistance test > ±5%

＜全光線透過率の測定＞
ＪＩＳ Ｋ ７１０５：１９８１に準拠して、スガ試験機（株）製の全自動直読ヘーズコンピュータＨＧＭ－２ＤＰにより、実施例及び比較例で得られた光学フィルムの全光線透過率を測定した。 <Measurement of total light transmittance>
In accordance with JIS K 7105:1981, the total light transmittance of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples was measured using a fully automatic direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.

＜ヘーズ＞
ＪＩＳ Ｋ ７１３６：２０００に準拠して、実施例及び比較例で得られた光学フィルムを３０ｍｍ×３０ｍｍの大きさにカットし、ヘーズコンピュータ（スガ試験機（株）製、「ＨＧＭ－２ＤＰ」）を用いてヘーズ（％）を測定した。 <Haze>
In accordance with JIS K 7136:2000, the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 30 mm x 30 mm, and a haze computer (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., "HGM-2DP") was used. The haze (%) was measured using the following method.

＜重量平均分子量の測定＞
ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定
（１）前処理方法
実施例及び比較例で得られたポリアミドイミド樹脂をサンプルとし、該サンプルにＤＭＦ溶離液（１０ｍｍｏｌ／ｌ臭化リチウム溶液）を濃度２ｍｇ／ｍＬとなるように加え、８０℃にて３０分間攪拌しながら加熱し、冷却後、０．４５μｍメンブランフィルターろ過したものを測定溶液とした。
（２）測定条件
カラム：東ソー（株）製ＴＳＫｇｅｌ α－２５００（（７）７．８ｍｍ径×３００ｍｍ）×１本、α－Ｍ（（１３）７．８ｍｍ径×３００ｍｍ）×２本
溶離液：ＤＭＦ（１０ｍｍｏｌ／ｌの臭化リチウム添加）
流量：１．０ｍＬ／分
検出器：ＲＩ検出器
カラム温度：４０℃
注入量：１００μＬ
分子量標準：標準ポリスチレン <Measurement of weight average molecular weight>
Gel permeation chromatography (GPC) measurement (1) Pretreatment method The polyamideimide resin obtained in the examples and comparative examples was used as a sample, and a DMF eluent (10 mmol/l lithium bromide solution) was added to the sample at a concentration of 2 mg/mL. The solution was heated at 80° C. with stirring for 30 minutes, cooled, and filtered through a 0.45 μm membrane filter to obtain a measurement solution.
(2) Measurement conditions Column: Tosoh Corporation TSKgel α-2500 ((7) 7.8 mm diameter x 300 mm) x 1, α-M ((13) 7.8 mm diameter x 300 mm) x 2 Eluent :DMF (addition of 10 mmol/l lithium bromide)
Flow rate: 1.0 mL/min Detector: RI detector Column temperature: 40°C
Injection volume: 100μL
Molecular weight standard: standard polystyrene

＜厚さの測定＞
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの厚さは、マイクロメーター（（株）ミツトヨ製「ＩＤ－Ｃ１１２ＸＢＳ」）を用いて測定した。 <Thickness measurement>
The thickness of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples was measured using a micrometer ("ID-C112XBS" manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.).

＜実施例１＞
［ポリアミドイミド樹脂（１）の調製］
窒素雰囲気下、撹拌翼を備えたセパラブルフラスコに、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（ＴＦＭＢ）及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）をＴＦＭＢの固形分が５．４３質量％となるように加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃ中に溶解させた。次に、フラスコにピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）をＴＦＭＢに対して３０．１５ｍｏｌ％になるように添加し、室温で３時間撹拌した。その後、１０℃に冷却した後に、４，４’－オキシビス（ベンゾイルクロライド）（ＯＢＢＣ）をＴＦＭＢに対して１０．０５ｍｏｌ％、２，５－ビス（トリフルオロメチル）テレフタル酸クロライド（６ＦＴＰＣ）をＴＦＭＢに対して５４．２７ｍｏｌ％になるように加え、３０分間攪拌した。その後、はじめに加えたＤＭＡｃと同量のＤＭＡｃを加え、１０分間攪拌した後に、６ＦＴＰＣをＴＭＦＢに対して６．０３ｍｏｌ％になるように加え、２時間攪拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミンと４－ピコリンをそれぞれＴＦＭＢに対して７０．３５ｍｏｌ％、無水酢酸をＴＦＭＢに対して２１１．０６ｍｏｌ％とを加え、３０分間撹拌した後、内温を７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノール中に６時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、６０℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂（１）を得た。得られたポリアミドイミド樹脂（１）の重量平均分子量は、２６０，０００であった。 <Example 1>
[Preparation of polyamideimide resin (1)]
Under a nitrogen atmosphere, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine (TFMB) and N,N-dimethylacetamide (DMAc) were added to a separable flask equipped with a stirring blade, with a solid content of TFMB of 5.43% by mass. TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, pyromellitic dianhydride (PMDA) was added to the flask in an amount of 30.15 mol % based on TFMB, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, after cooling to 10°C, 10.05 mol% of 4,4'-oxybis(benzoyl chloride) (OBBC) was added to TFMB, and 2,5-bis(trifluoromethyl)terephthalic acid chloride (6FTPC) was added to TFMB. and stirred for 30 minutes. Thereafter, the same amount of DMAc as initially added was added and stirred for 10 minutes, and then 6FTPC was added in an amount of 6.03 mol % based on TMFB and stirred for 2 hours. Next, diisopropylethylamine and 4-picoline (70.35 mol% relative to TFMB) and acetic anhydride (211.06 mol% relative to TFMB) were added to the flask, and after stirring for 30 minutes, the internal temperature was raised to 70°C. The mixture was further stirred for 3 hours to obtain a reaction solution.
The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of a thread, and the deposited precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60°C to obtain polyamide-imide resin (1). The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin (1) was 260,000.

［光学フィルム（１）の製造］
得られたポリアミドイミド樹脂（１）に、濃度が１０質量％となるようにＤＭＡｃを加え、ポリアミドイミド樹脂ワニス（１）を作製した。得られたポリアミドイミド樹脂ワニス（１）をポリエステル基材（東洋紡（株）製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の厚さが５０μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗工し、５０℃で３０分間、次いで１４０℃で１５分間乾燥し、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに２００℃で６０分間乾燥し、厚さ４８μｍの光学フィルム（１）を得た。なお、光学フィルム（１）において、衝撃性試験前後の反射色相ｂ＊の変化率は±５％以下であった。 [Manufacture of optical film (1)]
DMAc was added to the obtained polyamide-imide resin (1) at a concentration of 10% by mass to produce a polyamide-imide resin varnish (1). The obtained polyamide-imide resin varnish (1) was applied onto the smooth surface of a polyester base material (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name "A4100") using an applicator so that the thickness of the self-supporting film was 50 μm. , dried at 50°C for 30 minutes and then at 140°C for 15 minutes to obtain a self-supporting membrane. The self-supporting film was fixed to a metal frame and further dried at 200° C. for 60 minutes to obtain an optical film (1) with a thickness of 48 μm. In addition, in the optical film (1), the rate of change in reflection hue b * before and after the impact test was ±5% or less.

＜実施例２＞
［ポリアミドイミド樹脂（２）の調製］
窒素雰囲気下、撹拌翼を備えたセパラブルフラスコに、ＴＦＭＢ及びＤＭＡｃをＴＦＭＢの固形分が５．６３質量％となるように加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃ中に溶解させた。次に、フラスコに４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）をＴＦＭＢに対して２０．２０ｍｏｌ％になるように添加し、室温で３時間撹拌した。その後、１０℃に冷却した後に、２，５－ジメチルテレフタル酸クロライド（ＤＭＴＰＣ）をＴＦＭＢに対して７２．７３ｍｏｌ％になるように加え、３０分間攪拌した。その後、はじめに加えたＤＭＡｃと同量のＤＭＡｃを加え、１０分間攪拌した後に、ＤＭＴＰＣをＴＭＦＢに対して８．０８ｍｏｌ％になるように加え、２時間攪拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミンと４－ピコリンをそれぞれＴＦＭＢに対して８０．８１ｍｏｌ％、無水酢酸をＴＦＭＢに対して１４１．４１ｍｏｌ％とを加え、３０分間撹拌した後、内温を７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノール中に６時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、６０℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂（２）を得た。得られたポリアミドイミド樹脂（２）の重量平均分子量は、４８２，０００であった。 <Example 2>
[Preparation of polyamideimide resin (2)]
Under a nitrogen atmosphere, TFMB and DMAc were added to a separable flask equipped with a stirring blade so that the solid content of TFMB was 5.63% by mass, and TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA) was added to the flask at a concentration of 20.20 mol% based on TFMB, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, after cooling to 10° C., 2,5-dimethylterephthalic acid chloride (DMTPC) was added in an amount of 72.73 mol% based on TFMB, and the mixture was stirred for 30 minutes. Thereafter, the same amount of DMAc as initially added was added and stirred for 10 minutes, and then DMTPC was added at a concentration of 8.08 mol % based on TMFB and stirred for 2 hours. Next, diisopropylethylamine and 4-picoline (80.81 mol% relative to TFMB) and acetic anhydride (141.41 mol% relative to TFMB) were added to the flask, and after stirring for 30 minutes, the internal temperature was raised to 70°C. The mixture was further stirred for 3 hours to obtain a reaction solution.
The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of a thread, and the deposited precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60°C to obtain a polyamide-imide resin (2). The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin (2) was 482,000.

［光学フィルム（２）の製造］
得られたポリアミドイミド樹脂（２）に、濃度が１０質量％となるようにＤＭＡｃを加え、ポリアミドイミド樹脂ワニス（２）を作製した。得られたポリアミドイミド樹脂ワニス（２）をポリエステル基材（東洋紡（株）製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の厚さが５５μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗工し、５０℃で３０分間、次いで１４０℃で１５分間乾燥し、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに２００℃で６０分間乾燥し、厚さ４２μｍの光学フィルム（２）を得た。 [Manufacture of optical film (2)]
DMAc was added to the obtained polyamide-imide resin (2) at a concentration of 10% by mass to produce a polyamide-imide resin varnish (2). The obtained polyamide-imide resin varnish (2) was applied onto the smooth surface of a polyester base material (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name "A4100") using an applicator so that the thickness of the self-supporting film was 55 μm. , dried at 50°C for 30 minutes and then at 140°C for 15 minutes to obtain a self-supporting membrane. The self-supporting film was fixed to a metal frame and further dried at 200° C. for 60 minutes to obtain an optical film (2) with a thickness of 42 μm.

＜比較例１＞
［ポリアミドイミド樹脂（３）の調製］
窒素雰囲気下、撹拌翼を備えたセパラブルフラスコに、ＴＦＭＢ及びＤＭＡｃをＴＦＭＢの固形分が５．３５質量％となるように加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃ中に溶解させた。次に、フラスコに６ＦＤＡをＴＦＭＢに対して４１．２４ｍｏｌ％になるように添加し、室温で３時間撹拌した。その後、１０℃に冷却した後に、テレフタル酸クロライド（ＴＰＣ）をＴＦＭＢに対して５５．６７ｍｏｌ％になるように加え、３０分間攪拌した。その後、はじめに加えたＤＭＡｃと同量のＤＭＡｃを加え、１０分間攪拌した後に、ＴＰＣをＴＭＦＢに対して６．１９ｍｏｌ％になるように加え、２時間攪拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミンと４－ピコリンをそれぞれＴＦＭＢに対して６１．８６ｍｏｌ％、無水酢酸をＴＦＭＢに対して２８８．６６ｍｏｌ％とを加え、３０分間撹拌した後、内温を７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノール中に６時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、６０℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂（３）を得た。得られたポリアミドイミド樹脂（３）の重量平均分子量は、４０２，０００であった。 <Comparative example 1>
[Preparation of polyamideimide resin (3)]
TFMB and DMAc were added to a separable flask equipped with a stirring blade under a nitrogen atmosphere so that the solid content of TFMB was 5.35% by mass, and TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 6FDA was added to the flask at a concentration of 41.24 mol% based on TFMB, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, after cooling to 10° C., terephthalic acid chloride (TPC) was added in an amount of 55.67 mol % based on TFMB, and the mixture was stirred for 30 minutes. Thereafter, the same amount of DMAc as initially added was added and stirred for 10 minutes, and then TPC was added in an amount of 6.19 mol % based on TMFB and stirred for 2 hours. Next, diisopropylethylamine and 4-picoline (61.86 mol% relative to TFMB) and acetic anhydride (288.66 mol% relative to TFMB) were added to the flask, and after stirring for 30 minutes, the internal temperature was raised to 70°C. The mixture was further stirred for 3 hours to obtain a reaction solution.
The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of a thread, and the deposited precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60°C to obtain a polyamide-imide resin (3). The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin (3) was 402,000.

［光学フィルム（３）の製造］
得られたポリアミドイミド樹脂（３）に、濃度が１０質量％となるようにＤＭＡｃを加え、ポリアミドイミド樹脂ワニス（３）を作製した。得られたポリアミドイミド樹脂ワニス（３）をポリエステル基材（東洋紡（株）製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の厚さが５５μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗工し、５０℃で３０分間、次いで１４０℃で１５分間乾燥し、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに２００℃で６０分間乾燥し、厚さ５０μｍの光学フィルム（３）を得た。 [Manufacture of optical film (3)]
DMAc was added to the obtained polyamide-imide resin (3) at a concentration of 10% by mass to produce a polyamide-imide resin varnish (3). The obtained polyamide-imide resin varnish (3) was applied onto the smooth surface of a polyester base material (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name "A4100") using an applicator so that the thickness of the self-supporting film was 55 μm. , dried at 50°C for 30 minutes and then at 140°C for 15 minutes to obtain a self-supporting membrane. The self-supporting film was fixed to a metal frame and further dried at 200° C. for 60 minutes to obtain an optical film (3) with a thickness of 50 μm.

＜比較例２＞
［ポリアミドイミド樹脂（４）の調製］
窒素雰囲気下、撹拌翼を備えたセパラブルフラスコに、ＴＦＭＢ及びＤＭＡｃをＴＦＭＢの固形分が５．５４質量％となるように加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃ中に溶解させた。次に、フラスコに６ＦＤＡをＴＦＭＢに対して３０．２０ｍｏｌ％になるように添加し、室温で３時間撹拌した。その後、１０℃に冷却した後に、ＯＢＢＣをＴＦＭＢに対して１０．０７ｍｏｌ％、ＴＰＣをＴＦＭＢに対して５４．３５ｍｏｌ％になるように加え、３０分間攪拌した。その後、はじめに加えたＤＭＡｃと同量のＤＭＡｃを加え、１０分間攪拌した後に、ＴＰＣをＴＭＦＢに対して６．０４ｍｏｌ％になるように加え、２時間攪拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミンと４－ピコリンをそれぞれＴＦＭＢに対して７０．４６ｍｏｌ％、無水酢酸をＴＦＭＢに対して２１１．３７ｍｏｌ％とを加え、３０分間撹拌した後、内温を７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノール中に６時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、６０℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂（４）を得た。得られたポリアミドイミド樹脂（４）の重量平均分子量は、１７３，０００であった。 <Comparative example 2>
[Preparation of polyamideimide resin (4)]
TFMB and DMAc were added to a separable flask equipped with a stirring blade under a nitrogen atmosphere so that the solid content of TFMB was 5.54% by mass, and TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 6FDA was added to the flask at a concentration of 30.20 mol % based on TFMB, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, after cooling to 10° C., OBBC was added in an amount of 10.07 mol% based on TFMB, and TPC was added in an amount of 54.35 mol% based on TFMB, and the mixture was stirred for 30 minutes. Thereafter, the same amount of DMAc as initially added was added and stirred for 10 minutes, and then TPC was added in an amount of 6.04 mol % based on TMFB and stirred for 2 hours. Next, diisopropylethylamine and 4-picoline (70.46 mol% relative to TFMB) and acetic anhydride (211.37 mol% relative to TFMB) were added to the flask, and after stirring for 30 minutes, the internal temperature was raised to 70°C. The mixture was further stirred for 3 hours to obtain a reaction solution.
The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of a thread, and the deposited precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60°C to obtain a polyamide-imide resin (4). The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin (4) was 173,000.

［光学フィルム（４）の製造］
得られたポリアミドイミド樹脂（４）に、濃度が１０質量％となるようにＤＭＡｃを加え、ポリアミドイミド樹脂ワニス（４）を作製した。得られたポリアミドイミド樹脂ワニス（４）をポリエステル基材（東洋紡（株）製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の厚さが５５μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗工し、５０℃で３０分間、次いで１４０℃で１５分間乾燥し、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに２００℃で６０分間乾燥し、厚さ５０μｍの光学フィルム（４）を得た。 [Manufacture of optical film (4)]
DMAc was added to the obtained polyamide-imide resin (4) at a concentration of 10% by mass to produce a polyamide-imide resin varnish (4). The obtained polyamide-imide resin varnish (4) was applied onto the smooth surface of a polyester base material (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name "A4100") using an applicator so that the thickness of the self-supporting film was 55 μm. , dried at 50°C for 30 minutes and then at 140°C for 15 minutes to obtain a self-supporting membrane. The self-supporting film was fixed to a metal frame and further dried at 200° C. for 60 minutes to obtain an optical film (4) with a thickness of 50 μm.

＜実施例３＞
［ポリアミドイミド樹脂（４）の調製］
窒素雰囲気下、撹拌翼を備えたセパラブルフラスコに、ＴＦＭＢ及びＤＭＡｃをＴＦＭＢの固形分が６．０８質量％となるように加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃ中に溶解させた。次に、フラスコに６ＦＤＡをＴＦＭＢに対して２０．１０ｍｏｌ％になるように添加し、室温で３時間撹拌した。その後、１０℃に冷却した後に、２－メトキシテレフタル酸クロライド（ＯＭＴＰＣ）をＴＦＭＢに対して２７．１４ｍｏｌ％になるように加え、１０分攪拌後に、さらにＯＭＴＰＣをＴＦＭＢに対して３６．３７ｍоｌ％になるように加え、３０分間攪拌した。その後、はじめに加えたＤＭＡｃと同量のＤＭＡｃを加え、１０分間攪拌した後に、ＯＭＴＰＣをＴＦＭＢに対して６．０３ｍｏｌ％になるように加え、２時間攪拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミンと４－ピコリンをそれぞれＴＦＭＢに対して６０．３０ｍｏｌ％、無水酢酸をＴＦＭＢに対して１４０．７０ｍｏｌ％とを加え、３０分間撹拌した後、内温を７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノール中に６時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、６０℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂（４）を得た。得られたポリアミドイミド樹脂（４）の重量平均分子量は、４４１，０００であった。 <Example 3>
[Preparation of polyamideimide resin (4)]
TFMB and DMAc were added to a separable flask equipped with a stirring blade under a nitrogen atmosphere so that the solid content of TFMB was 6.08% by mass, and TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 6FDA was added to the flask at a concentration of 20.10 mol% based on TFMB, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Then, after cooling to 10°C, 2-methoxyterephthalic acid chloride (OMTPC) was added to 27.14 mol% based on TFMB, and after stirring for 10 minutes, OMTPC was further added to 36.37 mol% based on TFMB. and stirred for 30 minutes. Thereafter, the same amount of DMAc as initially added was added and stirred for 10 minutes, and then OMTPC was added at a concentration of 6.03 mol % based on TFMB and stirred for 2 hours. Next, diisopropylethylamine and 4-picoline (60.30 mol% relative to TFMB) and acetic anhydride (140.70 mol% relative to TFMB) were added to the flask, and after stirring for 30 minutes, the internal temperature was raised to 70°C. The mixture was further stirred for 3 hours to obtain a reaction solution.
The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of a thread, and the deposited precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60°C to obtain a polyamide-imide resin (4). The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin (4) was 441,000.

［光学フィルム（４）の製造］
得られたポリアミドイミド樹脂（４）に、濃度が１０質量％となるようにＤＭＡｃを加え、ポリアミドイミド樹脂ワニス（４）を作製した。得られたポリアミドイミド樹脂ワニス（４）をポリエステル基材（東洋紡（株）製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の厚さが５５μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗工し、５０℃で３０分間、次いで１４０℃で１５分間乾燥し、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに２００℃で６０分間乾燥し、厚さ５０μｍの光学フィルム（４）を得た。 [Manufacture of optical film (4)]
DMAc was added to the obtained polyamide-imide resin (4) at a concentration of 10% by mass to produce a polyamide-imide resin varnish (4). The obtained polyamide-imide resin varnish (4) was applied onto the smooth surface of a polyester base material (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name "A4100") using an applicator so that the thickness of the self-supporting film was 55 μm. , dried at 50°C for 30 minutes and then at 140°C for 15 minutes to obtain a self-supporting membrane. The self-supporting film was fixed to a metal frame and further dried at 200° C. for 60 minutes to obtain an optical film (4) with a thickness of 50 μm.

＜実施例４＞
［ポリアミドイミド樹脂（５）の調製］
窒素雰囲気下、撹拌翼を備えたセパラブルフラスコに、ＴＦＭＢ及びＤＭＡｃをＴＦＭＢの固形分が５．６１質量％となるように加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃ中に溶解させた。次に、フラスコに６ＦＤＡをＴＦＭＢに対して２０．２０ｍｏｌ％になるように添加し、室温で３時間撹拌した。その後、１０℃に冷却した後に、２－メトキシテレフタル酸クロライド（ＯＭＴＰＣ）をＴＦＭＢに対して３６．３６ｍｏｌ％になるように加え、１０分攪拌後に、さらにＯＭＴＰＣをＴＦＭＢに対して３６．３７ｍоｌ％になるように加え、３０分間攪拌した。その後、はじめに加えたＤＭＡｃと同量のＤＭＡｃを加え、１０分間攪拌した後に、ＯＭＴＰＣをＴＦＭＢに対して８．０８ｍｏｌ％になるように加え、２時間攪拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミンと４－ピコリンをそれぞれＴＦＭＢに対して８０．８１ｍｏｌ％、無水酢酸をＴＦＭＢに対して１４１．４１ｍｏｌ％とを加え、３０分間撹拌した後、内温を７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノール中に６時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、６０℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂（５）を得た。得られたポリアミドイミド樹脂（５）の重量平均分子量は、４８３，０００であった。 <Example 4>
[Preparation of polyamideimide resin (5)]
TFMB and DMAc were added to a separable flask equipped with a stirring blade under a nitrogen atmosphere so that the solid content of TFMB was 5.61% by mass, and TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 6FDA was added to the flask in an amount of 20.20 mol% based on TFMB, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Then, after cooling to 10°C, 2-methoxyterephthalic acid chloride (OMTPC) was added to 36.36 mol% based on TFMB, and after stirring for 10 minutes, OMTPC was further added to 36.37 mol% based on TFMB. and stirred for 30 minutes. Thereafter, the same amount of DMAc as initially added was added and stirred for 10 minutes, and then OMTPC was added at a concentration of 8.08 mol % based on TFMB and stirred for 2 hours. Next, diisopropylethylamine and 4-picoline (80.81 mol% relative to TFMB) and acetic anhydride (141.41 mol% relative to TFMB) were added to the flask, and after stirring for 30 minutes, the internal temperature was raised to 70°C. The mixture was further stirred for 3 hours to obtain a reaction solution.
The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of a thread, and the deposited precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60°C to obtain a polyamide-imide resin (5). The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin (5) was 483,000.

［光学フィルム（５）の製造］
得られたポリアミドイミド樹脂（５）に、濃度が１０質量％となるようにＤＭＡｃを加え、ポリアミドイミド樹脂ワニス（５）を作製した。得られたポリアミドイミド樹脂ワニス（５）をポリエステル基材（東洋紡（株）製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の厚さが５５μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗工し、５０℃で３０分間、次いで１４０℃で１５分間乾燥し、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに２００℃で６０分間乾燥し、厚さ５０μｍの光学フィルム（５）を得た。 [Manufacture of optical film (5)]
DMAc was added to the obtained polyamide-imide resin (5) at a concentration of 10% by mass to produce a polyamide-imide resin varnish (5). The obtained polyamide-imide resin varnish (5) was applied onto the smooth surface of a polyester base material (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name "A4100") using an applicator so that the thickness of the self-supporting film was 55 μm. The film was dried at 50°C for 30 minutes and then at 140°C for 15 minutes to obtain a self-supporting film. The self-supporting film was fixed to a metal frame and further dried at 200° C. for 60 minutes to obtain an optical film (5) with a thickness of 50 μm.

実施例１～４、並びに比較例１及び２で得られた光学フィルムの弾性率、降伏点歪（ＹＳ）、全光線透過率、ヘーズ（％）、及び、耐衝撃性試験前後の反射色相の変化率を評価した結果を表１に示す。

Elastic modulus, yield point strain (YS), total light transmittance, haze (%), and reflected hue before and after the impact test of the optical films obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2. Table 1 shows the results of evaluating the rate of change.

表１に示されるように、実施例１～４で得られた光学フィルムは、耐衝撃性試験前後の反射Ｌ＊及びａ＊両方における変化率評価の結果が良好であった。これに対して、比較例１で得られた光学フィルムは反射ａ＊の変化率評価の結果が不良であり、比較例２で得られた光学フィルムは反射Ｌ＊及びａ＊両方における変化率評価の結果が不良であった。従って、本発明の光学フィルムは、衝撃を受けても反射Ｌ＊及びａ＊の変化を有効に抑制できることが確認された。さらに本発明の光学フィルムは、高全光線透過率及び低ヘーズを示し、優れた光学特性を有することも確認された。 As shown in Table 1, the optical films obtained in Examples 1 to 4 had good results in evaluating the rate of change in both reflection L * and a * before and after the impact resistance test. On the other hand, the optical film obtained in Comparative Example 1 had a poor change rate evaluation result in reflection a * , and the optical film obtained in Comparative Example 2 had a poor change rate evaluation result in both reflection L * and a * . The results were poor. Therefore, it was confirmed that the optical film of the present invention can effectively suppress changes in reflection L * and a * even when subjected to impact. Furthermore, it was confirmed that the optical film of the present invention exhibits high total light transmittance and low haze, and has excellent optical properties.

Claims (7)

式（Ａ）、式（Ｂ）及び式（Ｃ）
３．０％≧降伏点歪≧１．６０％ （Ａ）
弾性率≧５．０ＧＰａ （Ｂ）
全光線透過率≧８９％ （Ｃ）
の関係を満たす、光学フィルム。 Formula (A), Formula (B) and Formula (C)
3.0%≧ yield point strain≧1.60% (A)
Elastic modulus≧5.0GPa (B)
Total light transmittance ≧89% (C)
An optical film that satisfies the following relationships. ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂からなる群から選択される少なくとも１つの樹脂を含む、請求項１に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, comprising at least one resin selected from the group consisting of polyamide resin, polyimide resin, and polyamideimide resin. ポリアミドイミド樹脂を含み、該ポリアミドイミド樹脂は、式（１）
Figure 0007382810000025
 ［式（１）中、Ｘは２価の有機基を表し、Ｙは４価の有機基を表す］
で表される構成単位、及び式（２）
Figure 0007382810000026
 ［式（２）中、Ｘは２価の有機基を表し、Ｚは置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す］
で表される構成単位を少なくとも有する、請求項２に記載の光学フィルム。 Contains a polyamide-imide resin, the polyamide-imide resin has the formula (1)
Figure 0007382810000025
 [In formula (1), X represents a divalent organic group, and Y represents a tetravalent organic group]
The structural unit represented by and formula (2)
Figure 0007382810000026
 [In formula (2), X represents a divalent organic group, and Z represents a divalent aromatic group which may have a substituent]
The optical film according to claim 2, which has at least a structural unit represented by: 厚さは４０～５００μｍである、請求項１～３のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 3, having a thickness of 40 to 500 μm. 請求項１～４のいずれかに記載の光学フィルムを備える、フレキシブル表示装置。 A flexible display device comprising the optical film according to any one of claims 1 to 4. タッチセンサをさらに備える、請求項５に記載のフレキシブル表示装置。 The flexible display device according to claim 5, further comprising a touch sensor. 偏光板をさらに備える、請求項５又は６に記載のフレキシブル表示装置。 The flexible display device according to claim 5 or 6, further comprising a polarizing plate.
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