JP7365069B2 - 多元素ヘテロ構造ナノ粒子およびその製造方法 - Google Patents

多元素ヘテロ構造ナノ粒子およびその製造方法 Download PDF

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Description

政府支援に関する記述
本発明は、全米科学財団の助成によるIIP-1621773の下で政府の支援を受けてなされた。政府は、本発明におけるある特定の権利を有する。
本開示は、多元素ナノ材料およびそれを作製する方法に関する。
関連技術の簡単な説明
相境界、または界面は、多元素ナノ材料の重要な構造的特徴である(1~3)。多相ナノ粒子(NP)の界面は、それらを構造的に画定するだけでなく(4、5)、そのような材料に構造的な不連続性を導入し(8、9)、同時に隣接するドメイン間の電子的相互作用を促進する(6、7)。これらの特徴により、多相NPは、触媒作用(2、3、10~12、プラズモニクス(13~15)、電子デバイス(4)、標的薬物送達(16)、およびバイオイメージング(5、17)にまたがる用途において役立つ。例えば、プラズモニックおよび触媒性のNPの場合、界面を横切って発生する電荷移動を利用して、1つの材料ドメインと隣接する材料ドメイン(13、18、および19)の特性を調整することができる。さらに、ひずみ工学は、近くの相がエピタキシャルであるときに材料の電子構造を変調する方式を提供する(20)。そのような相乗効果(21~23)は、2つのドメイン間の界面が高エネルギー欠陥(3、24、および25)に富み得る触媒作用においても観察される。最後に、複数の界面を有する単一のNPは、個々の成分(両方の組成および界面の数ならびにタイプ)で構成される粒子では観察されない集合的な特性を示すことができる(26-28)。多相多元素NPの分野は、より高い組成の多様性および構造の複雑さに向かって進歩し続けているため(1、2、29~32)、特定のクラスの界面を、1つの粒子において確立することができる方法を理解することは、新規で機能的なナノ構造を設計するために重要である。現在まで、NPは最大4つの相で合成および特性評価されており(1、2、33~38)、そのような研究ではユニークなアーキテクチャが特定されているが、特定のアーキテクチャが形成される理由に関する一般的な理解は限定されており、3つ以上の相を有するNPのアーキテクチャを制御する際の表面/界面エネルギーの役割は、完全には理解されていない。実際、多相NPにおける界面エネルギーは、ドメインの組成、ドメイン間の電子的相互作用、界面格子構造のコヒーレンス、および転位などの欠陥の影響に大きく依存し、それらのすべては、異なるシステム間で劇的に変化する可能性がある(1、2、9、33~41)。
多元素材料の場合、多くの興味深い特性が、2つ以上の相間の界面に由来する。ナノ構造を使用すると、これまでにない元素の組み合わせで材料を合成することができるが、そのような構造で相がどのように形成され、特定のクラスの界面がどのように設計および合成され得るかについてはまだよくわかっていない。実施形態によれば、走査型プローブブロックコポリマーリソグラフィーを使用して、PdSn合金が、既知であるが複雑な混和性を有する金属と混合組成相を形成する方法を調査することができる。この手法で合成されたすべての粒子は、7つ程度の元素を含むものを含め、物質の新しい組成を表しており、多くはパイ型または縞状のアーキテクチャを有するユニークな三相ヘテロ構造を形成する。観察された相の表面エネルギーと界面エネルギーとの間のバランスを決定するために、密度汎関数理論シミュレーションおよび実験作業が使用されていた、。これらの観察から、実施形態によれば、6つ程度の接合を有する四相ナノ粒子を含む、特定のヘテロ構造を有する多元素システムを作製する方法が提供される。触媒作用、プラズモニクス、およびエレクトロニクスにおけるヘテロ構造の重要性を考えると、この作業は、多くの分野にわたる材料およびデバイスの両方の開発に影響を与えることになる。
一実施形態によれば、三相ナノ粒子アーキテクチャを使用して四相多元素ナノ粒子を作製する方法は、2つ以上の三相ナノ粒子アーキテクチャを選択することであって、2つ以上の三相ナノ粒子アーキテクチャは、1つ以上の縞状の三相アーキテクチャ、1つ以上のパイ型三相アーキテクチャ、またはそれらの組み合わせである、選択することと、2つ以上の三相ナノ粒子アーキテクチャの各々を生成するために、金属の選択された2つ以上の三相ナノ粒子アーキテクチャ群から識別することと、インクでコーティングされたチップを基材に接触させてナノ粒子を形成することであって、そのインクは、ブロックコポリマーと、2つ以上の三相ナノ粒子アーキテクチャの各々を生成するために識別された金属の群からの金属とを含む、形成することと、四相多元素ナノ粒子を合成するのに十分な条件下でナノリアクターをアニールすることと、を含む。
ヘテロダイマー、ヘテロトリマー、おびヘテロテトラマーナノ粒子における界面の理論的に可能な数に関する概略図である。 二相、三相、および四相のナノ粒子のアーキテクチャの関係に関する模式図である。 本開示の一実施形態による、Au-Co-PdSnナノ粒子((Au0.30Co0.37Pd0.19Sn0.14、スケールバー10nm)のADF-STEM画像である。 Au、Co、およびPdSn相の混和性関係に関する模式図である。 図2Aのナノ粒子のEDS元素マッピングである。 Au-Coの相境界を示す図2Cの選択された元素マップのオーバーラップである。 Au-PdSnの相境界を示す図2Cの選択された元素マップのオーバーラップである。 Co-PdSnの相境界を示す図2Cの選択された元素マップのオーバーラップである。 Au-Co-PdSnナノ粒子における3つの相境界の構成を示している、図2Cのすべての元素マップのオーバーラップである。 Au-Co-PdSnナノ粒子(Au0.25Co0.36Pd0.29Sn0.10、スケールバー3nm)の三相接合のHRTEM画像である。破線は、3つの相境界の位置を強調する。挿入図は、ナノ粒子全体のADF-STEM画像およびEDSマッピングである。 図2Hにボックスで示される領域のFETである。 図2Hにおけるナノ粒子のAu、Co、およびPdSnドメインのEDSスペクトルである。 Au、Co、およびPdSn間の(111)界面のDFTシミュレーションされた緩和構造である。 Au、Co、PdSn(111)平面の表面エネルギーおよびAu、Co、PdSn(111)平面間の界面表面エネルギーをまとめた表である。 各相の等しい体積を有するAu-Co-PdSnナノ粒子(直径20nm)の計算された全表面および界面エネルギーの概略図である。 を500℃で経時的に流しながらアニールされたAu-Co-PdSnナノ粒子(Au0.33Co0.24Pd0.26Sn0.17)のADF-STEM画像(上段)および対応するEDSマッピング(下段)である。黄色の破線は、相境界の位置の輪郭を示す。スケールバー、15nm。 異なるアーキテクチャを有するナノ粒子(n=150)の統計的分布を示すグラフである。 Ag、Cu、Co、PdSn相から構成される三相または四相ナノ粒子のアーキテクチャを記載する概略図である。破線は、相境界の位置の輪郭を示す。 すべての相の組み合わせに関する代表的な三相ナノ粒子のADF-STEM画像(上段)およびEDSマッピング(下段)である。4つの三相ナノ粒子の組成は、Ag0.23Cu0.47Co0.30、Co0.34Cu0.29Pd0.21Sn0.16、Ag0.30Cu0.30Pd0.27Sn0.13、およびAg0.34Co0.24Pd0.27Sn0.17である。 Ag、Cu、Co、PdSn相(Ag0.32Cu0.20Co0.21Pd0.15Sn0.12)から構成された代表的な四相ナノ粒子のADF-STEM画像(上段)およびEDSマッピング(下段)である。選択された元素マップのオーバーレイ(中央の行)は、ナノ粒子中の4つの相の相対位置を示す。 AuAg、AuCu、Co、およびPdSn相から構成された三相および四相ナノ粒子のアーキテクチャを記載する概略図である。破線は、相境界の位置の輪郭を示す。 すべての相の組み合わせに関する代表的な三相ナノ粒子のADF-STEM画像(上段)およびEDSマッピング(下段)である。4つの三相ナノ粒子の組成は、Au0.30Ag0.19Cu0.29Co0.22、Au0.12Ag0.30Cu0.28Pd0.20Sn0.10、Au0.06Ag0.10Co0.24Pd0.39Sn0.21、およびAu0.13Cu0.27Co0.30Pd0.15Sn0.15である。 AuAg、AuCu、Co、PdSn相(Au0.18Ag0.16Cu0.20Co0.23Pd0.13Sn0.10)から構成された代表的な四相ナノ粒子のADF-STEM画像(上段)およびEDSマッピング(下段)である。選択された元素マップのオーバーレイ(中段)は、ナノ粒子中の4つの相の相対配置を示す。黄色の破線は、5つの相境界の位置を強調する(スケールバー15nm)。 Au、CoNi、NiSn、およびPdSn相から構成された三相または四相ナノ粒子のアーキテクチャの模式図である。破線は、相境界の位置の輪郭を示す。 すべての相の組み合わせに関する代表的な三相ナノ粒子のADF-STEM画像(上段)およびEDSマッピング(下段)である。4つの三相NPの組成は、Co0.13Ni0.35Pd0.26Sn0.26、Au0.37Co0.18Ni0.36Sn0.09、Au0.29Co0.17Ni0.19Pd0.20Sn0.15、およびAu0.25Ni0.24Pd0.20Sn0.31(スケールバー15nm)である。 Au、CoNi、NiSn、PdSn相(Au0.20Co0.11Ni0.30Pd0.21Sn0.18)から構成された代表的な四相ナノ粒子のADF-STEM画像(上段)およびEDSマッピング(下段)である。選択された元素マップのオーバーレイ(2つの中段)は、4つの相のうちの任意の2つの相対位置を示す。破線/円は、ナノ粒子における6つの相境界の位置の輪郭を示す(スケールバー15nm)。 ポリマーナノリアクターで合成された代表的なPd0.75Sn0.25ナノ粒子のHRTEM画像である(スケールバー5nm)。 ナノ粒子がPdSn金属間化合物構造を有することを示している図7Aにおけるナノ粒子の高速フーリエ変換(FFT)である。 ナノ粒子がPdSn金属間化合物構造を有することを示唆する、図7Aにおけるナノ粒子のEDSスペクトルである。 ポリマーナノリアクターで合成されたAu-Co(Au0.5Co0.5)ヘテロ構造化ナノ粒子のADF-STEM画像、EDS元素マッピング、およびEDSスペクトル(スケールバー20nm)である。EDSスペクトルにおける8.0keVでのCuKα信号は、TEMサンプルホルダー由来である。 ポリマーナノリアクターで合成されたAu-PdSn(Au0.57Pd0.27Sn0.16)ヘテロ構造化ナノ粒子のADF-STEM画像、EDS元素マッピング、およびEDSスペクトルである(スケールバー20nm)。EDSスペクトルにおける8.0keVでのCuKα信号は、TEMサンプルホルダー由来である。 ポリマーナノリアクターで合成されたCo-PdSn(Co0.66Pd0.17Sn0.17)ヘテロ構造化ナノ粒子のADF-STEM画像、EDS元素マッピング、およびEDSスペクトルである(スケールバー20nm)。EDSスペクトルにおける8.0keVでのCuKα信号は、TEMサンプルホルダー由来である。 (図9Aおよび9B)Au-PdSnおよび(図9Cおよび9D)Co-PdSnヘテロダイマーを熱アニーリングした安定性試験である。粒子は、異なる条件でH下で加熱し、迅速に0.5時間で周囲温度まで冷却した。図9Aおよび9Cは、各アニーリングステップ後の典型的なAu-PdSnおよび典型的なCo-PdSnナノ粒子の概略図、ADF-STEM画像、およびEDSマッピングを示す。スケールバー、20nm。図9Bおよび9Dは、熱処理後のAu-PdSnヘテロダイマーおよびCo-PdSnヘテロダイマーにおける各ドメインの組成変化を示す。結果は、ヘテロダイマーの各タイプについて15個の粒子の組成追跡に基づいて計算される。 高まる温度で熱アニールされたAu-PdSnヘテロダイマーのADF-STEM画像および対応するEDS元素マッピングである(スケールバー20nm)。 PdとSnの異なるモル比(Pd:Sn=1:1、Au0.24Co0.27Pd0.24Sn0.25;Pd:Sn=2:1、Au0.30Co0.26Pd0.30Sn0.14;Pd:Sn=3:1、Au0.29Co0.29Pd0.30Sn0.11;およびPd:Sn=4:1、Au0.38Co0.33Pd0.23Sn0.06)を有するAuCoPdSnナノ粒子のADF-STEM画像および対応するEDS特性評価。各粒子のPd:Sn比は、STEM画像の上に記載される(スケールバー、20nm)。 Pd:Sn=20:1(Au0.18Ni0.38Pd0.42Sn0.02)を有するAuNiPdSnのADF-STEM画像およびEDSマッピングである(スケールバー、20nm)。 異なる組成を有するAu-Co-PdSnナノ粒子のEDS特性評価である。Pd:Snのモル比は、各ナノ粒子において約1:1である。Au、Co、およびPdSnの含有量が変化すると、粒子中の各ドメインのサイズのみが変化する。すべての粒子は、3つの相互接続された相境界を有する同じアーキテクチャを有する。スケールバー:20nm。 界面がすべて画像面に垂直ではない、Au-Co-PdSnナノ粒子のADF-STEM画像およびEDS元素マッピングである。選択された元素マップのオーバーレイにおける破線/円は、視線のガイドとして界面の位置を強調する。スケールバー、15nm。図13Aは、Au0.57Co0.17Pd0.16Sn0.10であり、Au-PdSnおよびCo-PdSn界面は画像面に垂直であるが、Au-Co界面は画像面に対して傾斜し/平行である。スキームは、この粒子の提案された構造を示す。図13Bは、Au0.33Co0.34Pd0.18Sn0.15であり、Au-PdSn界面は画像面に垂直であり、Co-PdSnおよびAu-Co界面は画像面に対して傾斜している。スキームは、この粒子の提案された構造を示す。 ポリマーナノリアクターで合成されたAu-CoヘテロダイマーのHRTEMおよびADF-STEM特性評価である。各パネルにおいて、左側の列は、粒子全体のTEMおよびSTEM画像を示しており、右の列は、Au相とCo相との間の界面領域の拡大されたHRTEM画像を示す。挿入図は、AuドメインまたはCoドメインのFFTである。図14Aでは、Auは[011]晶帯軸に沿って配向される。Coは[411]晶帯軸に沿っている。界面におけるモアレパターン(D=1.02nm)は、Co{220}面とAu{220}面との間の周期的な格子整合に起因する。図14Bでは、AuおよびCoはエピタキシャルであり、どちらも[111]晶帯軸に沿って配向している。2つの相は、界面において{220}面を共有する。図14Cでは、Auは[111]晶帯軸に沿って配向されているが、Coは{220}面の1セットに対応する一方向の格子縞のみを示す。図14Dでは、AuとCoはエピタキシャルであり、どちらも[111]晶帯軸に沿って配向する。2つの相は、界面において{422}および{220}面を共有する。 ポリマーナノリアクターで合成されたCo-PdSnヘテロダイマーのHRTEMおよびADF-STEM特性評価である。各パネルにおいて、左側の列は、粒子全体のTEMおよびSTEM画像を示しており、右の列は、Co相とPdSn相との間の界面領域の拡大されたHRTEM画像を示す。挿入図は、PdSnドメインまたはCoドメインのFFTである。図15Aでは、CoドメインのFFTは、3対の反射を示しており、Coが[200]晶帯軸上にあることを示唆する。PdSnドメインのFFTは、PdSn(210)面に対応する1対の反射のみを示す。図15Bでは、Coは[111]晶帯軸に沿って配向しているが、PdSnドメインでは同じ方向に格子面は観察できない。図15Cにおいて、CoおよびPdSnは[411]晶帯軸上にある。2つの相は、界面において{311}面を共有する。 ポリマーナノリアクターで合成されたAu-PdSnヘテロダイマーのHRTEMおよびADF-STEM特性評価である。各パネルにおいて、左側の列は、粒子全体のTEMおよびSTEM画像を示しており、右の列は、Au相とPdSn相との間の界面領域の拡大されたHRTEM画像を示す。挿入図は、PdSnドメインまたはAuドメインのFFTである。図16Aでは、Auは[111]晶帯軸に沿って配向される。PdSnは、{220}面に起因している可能性がある格子縞を示す。2つの相は、界面において{220}面を共有する。図16Bでは、AuおよびPdSnは、界面において{111}面を共有する。図16Cでは、AuおよびPdSnは、界面の一部において{111}面を共有する。積層欠陥がAuドメインに存在する。 ポリマーナノリアクターで合成されたAu-Co-PdSnヘテロトリマーのHRTEMおよびADF-STEM特性評価である。各パネルにおいて、左側の列は、粒子全体のTEMおよびADF-STEM画像を示す。右の列は、Co、Au、およびPdSnドメイン間の三相接合の拡大されたHRTEM画像を示す。挿入図は、PdSnドメインまたはAuドメインのFFTである。破線は、3つの相境界の位置を強調する。図17Aでは、CoのFFTは、Co[411]晶帯軸を示す。AuおよびPdSnのFFTは、{220}面に対応する同じ方向の反射を示す。図17Bでは、AuおよびCoは、どちらも[411]晶帯軸に沿って配向する。2つの相は、界面において{311}面を共有する。PdSnドメインは、(224)結晶面のみを示す。図17Cでは、Auは[310]晶帯軸に沿っている。PDSnは[110]晶帯軸に沿っている。一方、Coドメインでは格子面は観察されない。図17A~17Cのナノ粒子を構成する同じドメイン(Au、Co、およびPdSn)にもかかわらず、界面格子構造は各ナノ粒子間で異なる。この観察にもかかわらず、すべてのAu-Co-PdSnナノ粒子のHRTEM画像では、1つの粒子において3つの固体界面の形成が確認される。 三相境界間の角度が異なるAu-Co-PdSn三相ナノ粒子(Pd:Sn=1:1)のADF-STEM画像およびEDS元素マッピングである。スケールバー、15nm。 三相境界間の角度が異なるAu-Co-PdSn三相ナノ粒子(Pd:Sn=2:1)のADF-STEM画像およびEDS元素マッピングである。スケールバー、15nm。図18Aまたは図18Bのナノ粒子は、同じ材料相で構成されるが、3つの相境界間の角度は、各粒子で異なる。これは、これらのナノ粒子における界面格子構造が異なることを提起する。ナノ粒子はすべてパイ型アーキテクチャを有する。 Ag、Cu、およびCo間の(111)界面のDFTシミュレーションされた緩和構造である。 Ag、Cu、およびCo(111)面の表面エネルギーと、Ag、Cu、およびCo(111)面の間の界面エネルギーの表である。 各相の体積が等しいAg-Cu-Coナノ粒子(直径20nm)の計算された全表面エネルギーと界面エネルギーを示す概略図である。 Ag-Cu-Coナノ粒子(Ag0.23Cu0.47Co0.30)のADF-STEM画像およびEDSマッピングである。スケールバー:15nm。 Co-PdSn系に関する平均絶対ひずみ対原子数のグラフである。異なるスーパーセルサイズおよびひずみを有するCo-PdSn系のすべての一致した構造が示す。赤い点は、小さいサイズと低い応力の両方を備えた最適な構造を指し、他のすべての青い点は、本開示の実施形態に従って検討された他の構造を表す。 (図21A)の3つまたは(図21B)の2つの界面のいずれかを有する球状ナノ粒子モデルに関する2次元の図である。両方の球状モデルは、3つの異なるドメイン(D1、D2、およびD3として示される)からなる。タイプIナノ粒子における3つのドメインは、相互接続されており、形状およびサイズは同じである。タイプIIナノ粒子における3つのドメインは、D1およびD3が接続されていない2つの界面を形成する。各モデルにおける3つのドメインの体積は、等しく、つまりV(D1)=V(D2)=V(D3)である。 ポリマーナノリアクターで合成された代表的なAu-Co-PdSn動力学的構造のADF-STEM画像およびEDSマッピングである。ADF-STEM画像中の破線の円は、視線のガイドとしてCo相の輪郭を示す。スケールバー、20nm。粒子合成の最後のアニーリングステップ(500℃、H)中に、動力学的粒子は、0.5時間の時点でトラップされ、4つ以上の金属ドメインを含有する粒子がもたらされる。図22Aでは、粒子はAu0.32Co0.31Pd0.24Sn0.14であり、図22Bでは、粒子はAu0.27Co0.34Pd0.27Sn0.12であり、Co相は完全に凝集して1つの一体型金属ドメインを形成していない。もう1時間の連続アニーリングは、個別のCoドメイン間の粒子内粗大化を効果的にトリガーする。 基本的なビルディングブロックとしてPdSnを利用する多相ヘテロ構造化ナノ粒子の7要素ライブラリーを例示する。図23Aでは、ヘテロダイマーは、PdSnを他の5つの金属のいずれかと組み合わせることによって合成することができ、Au-PdSn,Ag-PdSn、Cu0.92Pd0.08-Cu0.2(PdSn)0.8、Co-PdSn、およびNi0.6Sn0.4-Ni0.08(PdSn)0.92が得られる。図23Bでは、AuAg-PdSn、AuCu-PdSn、およびCoNi-PdSnはヘテロダイマーである。Au-Co-PdSn、Au-NiSn-PdSn、Au-Cu-PdSn、Ag-Cu-PdSn、Ag-NiSn-PdSn、およびAg-Co-PdSnは、3つの相互接続された界面を有するヘテロトリマーである。Co-Cu-PdSnは、2つの切断された界面を有するヘテロトリマーである。図23Cでは、AuAg-AuCu-PdSn、AuCu-CuNi-PdSn、AuAg-Co-PdSn、AuAg-NiSn-PdSn、AuCu-Co-PdSn、Au-CoNi-PdSn、Ag-CuNi-PdSn、Ag-CoNi-PdSnは、3つの切断された界面を有するヘテロトリマーである。CoNi-CuNi-PdSnは、2つの切断された界面を有するヘテロトリマーである。Ag-Cu-Co-PdSnは、4つの界面を有するヘテロテトラマーである。図23Dでは、AuAg-CoNi-PdSnおよびAuCu-CuNi-PdSnは、3つの界面を有するヘテロトリマーである。AuAg-AuCu-NiSn-PdSnおよびAuAg-AuCu-Co-PdSnは、5つの界面を有するヘテロテトラマーである。Ag-Cu-CoNi-PdSnは、4つの界面を有するヘテロテトラマーである。図23Eでは、AuAgCu-CoNi-PdSnは、3つの界面を有するヘテロトリマーである。1つの粒子における相数は、粒子組成に大きく依存する。ここでは、金属の各組み合わせに関して1つの特定の組成が示される。この図に示されるナノ粒子に関する詳細情報は、図25~28に見出すことができる。 Ag-Cu-PdSn三相ナノ粒子の主要なアーキテクチャを示すAg-Cu-PdSn三相ヘテロ構造化ナノ粒子のADF-STEM画像およびEDS元素マッピングである。 図23Aの3成分ナノ粒子のADF-STEM画像、EDSスペクトル、および詳細なEDSマッピングである。図25Aではナノ粒子は、Au0.57Pd0.27Sn0.16であり、図25Bではナノ粒子は、Ag0.55Pd0.26Sn0.19であり、図25Cではナノ粒子は、Cu0.46Pd0.39Sn0.15であり、図25Dではナノ粒子は、Co0.50Pd0.32Sn0.18であり、図25Eではナノ粒子は、Ni0.32Pd0.37Sn0.31である。スケールバー、15nm。 図23Bにおける四元ナノ粒子のADF-STEM画像、EDSスペクトル、および詳細なEDSマッピングである。図26Aではナノ粒子は、Au0.21Ag0.32Pd0.32Sn0.15であり、図26Bではナノ粒子は、Au0.31Co0.34Pd0.21Sn0.14であり、図26Cではナノ粒子は、Au0.25Ni0.24Pd0.20Sn0.31であり、図26Dではナノ粒子は、Au0.24Cu0.38Pd0.25Sn0.13であり、図26Eではナノ粒子は、Ag0.30Cu0.30Pd0.27Sn0.13であり、図26Fではナノ粒子は、Ag0.22Ni0.24Pd0.210.33であり、図26Gではナノ粒子は、Ag0.43Co0.23Pd0.23Sn0.11であり、図26Hではナノ粒子は、Cu0.33Ni0.32Pd0.16Sn0.19であり、図26Iではナノ粒子は、Cu0.29Co0.34Pd0.21Sn0.16であり、図26Jではナノ粒子は、Co0.38Ni0.23Pd0.18Sn0.21である。スケールバー、15nm。 図23Cにおける五元ナノ粒子のADF-STEM画像、EDSスペクトル、および詳細なEDSマッピングである。図27Aでは、ナノ粒子は、Au0.12Ag0.30Cu0.28Pd0.20Sn0.10であり、図27Bでは、ナノ粒子は、Au0.12Cu0.19Ni0.26Pd0.23Sn0.20であり、図27Cでは、ナノ粒子は、Au0.06Ag0.10Co0.24Pd0.39Sn0.21であり、図27Dでは、ナノ粒子は、Au0.20Ag0.16Ni0.21Pd0.19Sn0.24であり、図27Eでは、ナノ粒子は、Au0.25Cu0.25Co0.18Pd0.22Sn0.10であり、図27Fでは、ナノ粒子は、Au0.24Co0.21Ni0.15Pd0.17Sn0.23であり、図27Gでは、ナノ粒子は、Ag0.25Cu0.25Ni0.20Pd0.16Sn0.14であり、図27Hでは、ナノ粒子は、Ag0.32Cu0.20Co0.21Pd0.15Sn0.12であり、図27Iでは、ナノ粒子は、Cu0.38Co0.15Ni0.12Pd0.20Sn0.15であり、図27Jでは、ナノ粒子は、Ag0.31Co0.18Ni0.13Pd0.21Sn0.17である。スケールバー、15nm。 図23Dおよび23Eにおける六元および七元のナノ粒子のADF-STEM画像、EDSスペクトル、および詳細なEDSマッピングである。図28Aでは、ナノ粒子は、Au0.16Ag0.09Cu0.18Ni0.15Pd0.22Sn0.20であり、図28Bでは、ナノ粒子は、Ag0.25Cu0.16Co0.16Ni0.15Pd0.17Sn0.11であり、図28Cでは、ナノ粒子は、Au0.10Ag0.19Co0.19Ni0.15Pd0.20Sn0.17であり、図28Dでは、ナノ粒子は、Au0.18Ag0.16Cu0.20Co0.23Pd0.13Sn0.10であり、図28Eでは、ナノ粒子は、Au0.14Cu0.18Co0.22Ni0.16Pd0.17Sn0.13であり、図28Fでは、ナノ粒子は、Au0.16Ag0.13Cu0.16Co0.15Ni0.15Pd0.15Sn0.09である。スケールバー、15nm。 図4bにおける三相ナノ粒子(Ag0.23Cu0.47Co0.30、Co0.34Cu0.29Pd0.21Sn0.16、Ag0.30Cu0.30Pd0.27Sn0.13、およびAg0.34Co0.24Pd0.27Sn0.17)のADF-STEM画像および詳細なEDS元素マッピングである。スケールバー、15nm。すべての元素マップのオーバーレイ(第2の列)および選択された元素マップ(第3~第5の列)は、各粒子における3つの相の相対位置を示す。 3つの代表的なAg-Cu-Co-PdSn四相ナノ粒子(Ag0.28Cu0.23Co0.23Pd0.16Sn0.10、Ag0.31Cu0.19Co0.21Pd0.17Sn0.12、およびAg0.29Cu0.21Co0.23Pd0.17Sn0.11)のADF-STEM画像およびEDS元素マッピングである。スケールバー、15nm。すべての元素マップのオーバーレイ(中央の列)および選択された元素マップ(右の列)により、Ag-Cu-Co-PdSn粒子における4つの相の構成がわかる。 図4eの三相ナノ粒子(Au0.30Ag0.19Cu0.29Co0.22、Au0.12Ag0.30Cu0.28Pd0.20Sn0.10、Au0.06Ag0.10Co0.24Pd0.39Sn0.21、およびAu0.13Cu0.27Co0.30Pd0.15Sn0.15)のADF-STEM画像および詳細なEDS元素マッピング情報である。スケールバー、15nm。すべての元素マップのオーバーレイ(第2の列)および選択された元素マップ(第3~第5の列)は、各粒子における3つの相の相対位置を示す。 図4fにおけるAuAgCuCoPdSnナノ粒子の追加のEDSマッピング情報である。選択された元素マップのオーバーレイにより、粒子が、5つの相境界を有する4つの相(AuAg、AuCu、Co、およびPdSn)からなっていることがわかる。スケールバー、15nm。 代表的な(図33A)AuAg-AuCu-Co-PdSn(Au0.11Ag0.15Cu0.17Co0.28Pd0.19Sn0.10およびAu0.17Ag0.15Cu0.17Co0.23Pd0.18Sn0.10)ならびに(図33B)AuAg-AuCu-NiSn-PdSn(Au0.17Ag0.12Cu0.22Ni0.14Pd0.19Sn0.16)四相ナノ粒子のADF-STEM像およびEDS元素マッピングである。スケールバー、15nm。すべての元素マップのオーバーレイ(中央の列)および選択された元素マップ(右の列)により、ナノ粒子における4つの相の構成がわかる。黄色の破線は、1つのナノ粒子における5つの相境界の位置を示す。 図5bにおける三相ナノ粒子(Co0.13Ni0.35Pd0.26Sn0.26、Au0.37Co0.18Ni0.36Sn0.09、Au0.29Co0.17Ni0.19Pd0.20Sn0.15、およびAu0.25Ni0.24Pd0.20Sn0.31)のADF-STEM画像および詳細なEDS元素マッピング情報である。すべての元素マップのオーバーレイ(第2の列)および選択された元素マップ(第3~第5の列)は、各粒子における3つの相の相対位置を示す。スケールバー、15nm。 図5cにおけるAu-CoNi-NiSn-PdSn四相ナノ粒子の追加のEDSマッピング情報である。選択された元素マップのオーバーレイは、粒子が、6つの相境界を有する4つの相からなっていることを明確に示す。スケールバー、15nm。 粒子を60°回転させた後の同じ粒子のEDSマッピングである。画像中の破線の円は、視線のガイドとしてCoNi相の位置の概要を記述する。CoNi相は、画像の底部から画像の中央に移動し、CoNiドメインが粒子の頂部にあることを示す。 図35Cにおける傾斜したナノ粒子の詳細な元素マッピング情報を示すEDSマッピングである。 6つの相境界(Au0.18Co0.14Ni0.33Pd0.18Sn0.17)を有するAu-CoNi-NiSn-PdSn四相ナノ粒子のADF-STEM画像およびEDSマッピングである。スケールバー、20nm。画像の第1の列および第2の列の破線の円は、ガイドとしてCoNi相の位置を示す。 粒子を60°回転させた後の同じ粒子のADF-STEM画像およびEDSマッピングである。スケールバー、20nm。画像の第1の列および第2の列の破線の円は、ガイドとしてCoNi相の位置を示す。ナノ粒子を回転させた後、CoNi相は、画像の中心から画像の底部に移動し、CoNiドメインが粒子の頂部上に存在することを示す。 2つの代表的なAu-CONi-NiSn-PdSnテトラ相ナノ粒子(Au0.17Co0.11Ni0.33Pd0.24Sn0.15およびAu0.18Co0.09Ni0.33Pd0.25Sn0.15)のADF-STEM画像およびEDS元素マッピングである。すべての元素マップ(中央の列)および選択された元素マップ(右の列)のオーバーレイにより、CoNi相が、粒子の頂部または粒子の底部のいずれかに存在することを示す(スケールバー、20nm)。 CoNi相が縁部に配置されるAu-CoNi-NiSn-PdSn四相ナノ粒子(Au0.20Co0.12Ni0.32Pd0.20Sn0.16)のADF-STEM画像およびEDS元素マッピングである。破線の円は、ガイドとしてCoNi相の位置を示す。スケールバー、20nm。 異なるアーキテクチャを有するAu-CoNi-PdSn-NiSnヘテロテトラマーの分布を示すグラフである(30個の粒子に基づいて計算された)。 本開示に従ってポリマーナノリアクターにおいて合成された単結晶PdSnナノ粒子(Pd0.75Sn0.25)のHRTEM画像、ADF-STEM画像、高速フーリエ変換(FFT)、およびEDSスペクトルである(スケールバー5nm)。EDSマップにおいてナノ粒子を横切る矢印は、EDS線走査のトレースを示す。EDSマップにおけるピアソンの相関係数は、ナノ粒子中のPdとSnとの間の共局在を示唆する。 本開示に従ってポリマーナノリアクターにおいて合成された多結晶PdSnナノ粒子のHRTEM画像、ADF-STEM画像、高速フーリエ変換(FFT)、およびEDSスペクトルである(スケールバー5nm)。 本開示の方法に従って合成されたナノ粒子のPdSnドメインを横断するEDSである。線走査プロファイルとピアソンとの相関係数(PCC)は、PdSnドメインでのPdおよびSnの共局在を示す。スケールバーは15nmである。 図8BのAuPdSnナノ粒子を横断するEDS線走査である。線走査プロファイルおよびPCCによって、PdとSnとの間の合金化、AuとPDとの間の分離、およびAuとSnとの間の分離が確認される。スケールバーは15nmである。 前駆体/ポリマーをH中において500℃で12時間アニールすることによって合成されたPdSnナノ粒子のHRTEMおよびADF-STEM画像ならびにEDS元素マッピングである。Pd/Sn=73/27。 それぞれ図B)Pd/Sn=74/26、(C)Pd/Sn=71/29、(D)Pd/Sn=75/25において、500℃の空気中で12時間、PdSnナノ粒子をさらにアニールすることによって合成されたPdOx-SnOxナノ粒子のHRTEMおよびADF-STEM画像ならびにEDS元素マッピングを各々含む。 本開示に従う、堆積されたままのポリマーナノリアクターのADF-STEM画像であり、破線の円はリアクターの縁部を示す。スケールバーは300nmである。 160℃で6時間H2中でアニールした後の、図42Aのポリマーナノ粒子のADF-STEM画像であり、破線の円はリアクターの縁部を示す。スケールバーは300nmである。 図42Bにおける四角い枠内に配置されているナノ粒子のADFSTEM画像およびEDS元素マッピングである。ナノ粒子は、Au、Pd、およびAuPd合金の3つの相から構成される。スケールバーは15nmである。 SiNx基材上に合成されたCo-PdSnヘテロダイマーのADF-STEM画像である。ナノ粒子の位置をマークするために、粒子を電子ビームに10分間さらすことにより、長方形の炭素層を堆積させた。 650℃で12時間H中で熱アニールした後の、図43Aにおけるポリマーナノ粒子のADF-STEM画像である。熱アニールされた後、Co-PdSnヘテロダイマーは、回転し、炭素層の右上隅に向かって移動した。スケールバー、20nm。 650℃で24時間H中で熱アニールした後の、43Aにおけるナノ粒子のADF-STEM画像である。熱アニールされた後、Co-PdSnヘテロダイマーは、回転し、炭素層の右上隅に向かって移動した。スケールバー、20nm。 SiNx基材上に合成されたAu-PdSnヘテロダイマーのADF-STEM画像である。カーボン層を堆積させた後、ナノ粒子を550℃で12時間H中でアニールした。Au-PdSnヘテロダイマーは、炭素層から移動した。スケールバー、20nm。 長時間および高温で熱アニールされた2界面Au-Co-PdSnヘテロトリマーのADF-STEM画像および対応するEDS元素マッピングである。破線は、相境界の位置の輪郭を示す。スケールバー、15nm。2界面粒子は、3界面アーキテクチャへと進化する傾向を示す。粒子を750℃で長時間アニールすると、Snの蒸発による損失は避けられない。 長時間および高温で熱アニールされた3界面Au-Co-PdSnヘテロトリマーのADF-STEM画像および対応するEDS元素マッピングである。黄色の破線は、相境界の位置の輪郭を示す。スケールバー、15nm。3界面のアーキテクチャは、長期間の高温アニーリングでも比較的変化しない。ただし、粒子を750℃で長時間アニールすると、Snの蒸発による損失は避けられない。 Si Nx支持膜を有するSi TEMグリッドまたは炭素支持膜を有するCu TEMグリッド上で合成されたAuPd-CoヘテロダイマーのADF-STEM画像、EDS元素マッピング、およびEDSスペクトルであり、図46Aでは、ナノ粒子はAu0.32Co0.34Pd0.34であり、図46Bでは、ナノ粒子はAu0.29Co0.33Pd0.38である。 SiNx支持膜を有するSi TEMグリッドまたは炭素支持膜を有するCu TEMグリッド上で合成されたAu-Co-PdSnヘテロトリマーのADF-STEM画像、EDS元素マッピング、およびEDSスペクトルであり、図46Cでは、ナノ粒子は、Au0.31Co0.34Pd0.21Sn0.14であり、図46Dでは、ナノ粒子は、Au0.33Co0.29Pd0.25Sn0.13である。 図2Hのナノ粒子における界面に近いAu、Co、およびPdSnドメインおよび領域の全体に関するEDSスペクトルである。
走査型プローブブロックコポリマーリソグラフィー(SPBCL)は、リソグラフィーで画定されたポリマードームをナノリアクターとして使用して、幅広い材料の選択肢を有する多金属ナノ粒子(NP)を合成し、前例のない複雑さの多元素システムを研究することを可能にする30。SPBCL実験でのNPの位置は空間的に制御されるため、隣接しているNP間の粗大化を回避しながら、NPを加熱して熱力学的アーキテクチャに到達させることができる。したがって、SPBCLを使用すると、熱アニーリングおよび電子顕微鏡による特性評価に敏感に反応する基材上で、単一のNPレベルでの多相NPを研究することができる。
実施形態によれば、SPBCLは、密度汎関数理論(DFT)シミュレーションと組み合わせて使用して、多相NPにおける界面配置の原理を理解することができる。これらの研究から、PdSn合金と他の金属(Au、Ag、Cu、Co、およびNiなど)との間の並外れた混和性ギャップが、多相ナノ粒子の生成を可能にすることが有益にも見出された。実施形態では、PdSn合金と他の金属との間の混和性ギャップを、注意深く制御されたアニーリングパラメータと組み合わせて使用して、組成的および構造的に関連のある多相NPのライブラリーを構築することができる。結果として得られるNPのアーキテクチャに基づいて、複雑さが増す多元素ヘテロ構造を作製するための設計ルールを開発することができる。本開示の方法を使用して、6つの相境界を有するAu、Co、Pd、Sn、およびNiから作製された前例のない四相NPを形成することができることが実証されている。
本開示の方法は、ポリマーインク溶液の印刷された個体のために基材上にポリマーインク溶液を堆積させることと、それによりナノリアクターを形成することと、そして多段アニーリングプロセスを使用して、H中でアニールして、多元素、多相ナノ粒子を形成することと、を含むことができる。ポリマーインク溶液は、SPBCL、ディップペンナノリソグラフィー、マイクロコンタクトプリンティング、スピンコーティング、ディップコーティング、スプレーコーティング、ドロップキャスティングなどの任意の好適な技術を使用して基材上に堆積させることができる。各印刷表示には、アトリットルスケールでポリマーインク溶液のある量を含めることができる。例えば、各印刷表示は、約1アトリットル~約100アトリットルのポリマーインク溶液を含むことができる。
ポリマーインク溶液は、ブロックコポリマーと、最終的なナノ粒子中に存在する所望の金属のための金属および/または金属前駆体を含むことができる。最低限、ポリマーインク溶液は、スズおよび/またはスズ前駆体を含む。例えば、スズ前駆体は、SnCl、SnCl、NaSnO、およびKSnOのうちの1つ以上であり得る。多元素系にスズを含めると、別個の相ドメインの形成が可能になることがわかっている。例えば、Pdの存在下でのスズは、他の金属とPdSnドメインの相偏析を可能にすることが見出されている。図42A~42Cを参照すると、Snがない場合、Pdと他の金属との相間離隔は観察されないことが見出された。実施形態では、ポリマーインク溶液は、3:1以下のPd:Snのモル比を含む。図42Bを参照すると、4:1を超えるモル比では、PdSnは個々のドメインのままであり、過剰な量のPdは他の金属ドメインに拡散することが見出された。
ポリマーインク溶液は、金属および金属前駆体と適合性のある任意のブロックコポリマーを含むことができる。例えば、ポリマーは、PEO-b-P2VPまたはPEO-b-P4VPであることができる。ポリマーインク溶液は、1つ以上、好ましくは2つ以上の追加の金属および/または金属前駆体を含むことができる。金属は、Au、Ag、Cu、Co、Ni、およびPdの1つ以上2つ以上を含むことができる。金属前駆体は、HAuCl・3HO、AgNO、Cu(NO・xHO、Co(NO・6HO、Ni(NO・6HO、および(NHPdClの1つ以上または2つ以上を含むことができる。
ブロックコポリマーがピリジル基を含むとき、ポリマーインク溶液は、約4:1~約512:1、約48:1~約256:1、約4:1~約50:1、約200:1~約500:1、および他のそのような中間範囲のピリジル基対全金属および/または金属前駆体のモル比を含むことができる。
実施形態では、ポリマーインク溶液は、約1のpHを有することができる(または約1のpHを有するように調整することができる)。pHは、例えば、HClを添加することによって調整することができる。
ポリマーインク溶液は、ブロックコポリマーならびに金属および/または金属前駆体を水に溶解し、必要に応じてpHを調整することによって、作製することができる。インク溶液を撹拌して、ポリマー中の金属を分散させることができる。撹拌は、任意の好適な時間にわたって行うことができる。例えば、撹拌は、使用前に室温で1時間行うことができる。
本開示の方法は、Hにおいて完全に実施される多段階アニーリングプロセスを含み、そこでは、堆積されたナノリアクターを第1段階でアニールしてナノリアクター中の金属原子を凝集させ、次いで第2段階において、凝集された金属原子を還元して多元素多相ナノ粒子を生成させる。アニーリングの第1段階は、ナノリアクター内の様々な金属原子を凝集させるために、異なる金属元素を凝集させるために、異なる温度での複数のアニーリングステップを含むことができる。本開示の方法は、金属が凝集する最低温度で金属を凝集させるために、第1段階内の温度を上げることで複数のアニーリングステップを提供する。すなわち、この方法は、単一の温度(すなわち、凝集のために最高温度を必要とする金属の温度)を単に利用するのではなく、それぞれの凝集温度で金属タイプの各々を凝集させる。これは、単一のアニーリング段階のみを利用し、凝集のための最低温度での金属の個々の凝集のために個々のアニーリング温度を利用しない従来の方法とは対照的である。ナノリアクター中の異なる金属の数および関連の凝集温度に応じて、任意の好適な数のアニーリングステップを第1段階で行うことができる。所与の金属原子の凝集に好適なアニーリング温度の選択は、当技術分野の一般的な知識に基づいて容易に選択することができる。例えば、アニーリングプロセスの第1段階は、第1のアニール時間での第1の低温アニールと、第2のアニール時間での第2の高温アニールとを含むことができる。第1の低温アニールは約100℃~約200℃の温度で実施することができ、第2の高温アニールは約200℃~約300℃の温度で実施することができる。第1の段階のアニールは、一般に、アニーリング温度を上げる2つ以上のステップを含む。第1の段階のアニーリングステップの任意の1つ以上におけるアニーリング時間は、同じかまたは異なり得、約1時間~約12時間、約4時間~約6時間、および約6時間~約10時間の範囲であり得る。
アニーリングプロセスの第2の段階は、凝集した金属原子を還元して、ナノ粒子を形成させるのに十分に高い温度で実施される。例えば、第2の段階のアニーリングプロセスは、約500℃~約800℃の温度で実施することができる。第2の段階のアニーリングは、約6時間~約24時間、約10時間~約12時間、約6時間~約12時間、または約8時間~約14時間にわたって実施することができる。図44に示すように、より高い温度および/または長時間のアニーリングにより、ナノ粒子の構造が変化する可能性がある。しかしながら、750℃以上の温度で長時間アニールすると、Snの蒸発損失が発生する場合がある。
任意の好適なアニーリングランプ時間は、第1のアニーリング段階の2つ以上のステップ間、ならびに第1のアニーリング段階と第2のアニーリング段階との間で使用することができる。
例えば、実施形態では、第1のアニーリング段階は、10分でH下で160℃へのランプ、160℃で6時間の第1のアニーリングステップ、10分で300℃へのランプ、および300℃で6時間の第2のアニーリングステップを含むことができる。次いで、このプロセスには、500℃で12時間のアニーリングプロセスの第2段階を実施するために、10分で500℃へのランプを含めることができる。アニーリング時間と温度の他のそのような組み合わせもまた、本明細書で企図される。
多相ナノ粒子における理論的に可能な界面数
n相NPにおいて可能な異なる界面数は、n-1と
との間であり、
は、n相
から二相の合計選択数である。
動力学的粒子を考えると、多相NPは、固定された組成およびサイズを有する粒子内であっても、ほぼ無制限の数の可能なアーキテクチャを有する。しかしながら、粒子が再構成されて原子/ドメインの移動によって全表面エネルギーおよび界面エネルギーが減少するため、動力学的にトラップされた多相NPは、このプロセスをトリガーするのに十分なエネルギーが提供されると、熱力学的アーキテクチャに変換される。
様々な実施形態において、ヘテロ構造化NP(コアシェル構造を含まない)の熱力学的アーキテクチャが考えられた。n相NPの場合、異なる界面の最大可能数は
であり、これは、すべての相が相互接続されるときに起こる。n相は単一NPの一部でなければならないため、界面の最小可能数は(n-1)であり、これは、n相が連続して結合されているときに起こる。したがって、二相ヘテロ構造化NPは、1つのタイプのアーキテクチャ、すなわち、1つの界面を有するヘテロダイマーを有する。三相NPは、2つのタイプのアーキテクチャを有し、すなわち、1つは2つの界面を有する縞状ヘテロトリマーであり、もう1つは3つの界面からなるパイ型構造である。四相NPの場合、単一のNP内で可能な界面の数は3~6の範囲である。図1は、すべての可能な二相、三相、および四相のヘテロ構造化NPの提案されるアーキテクチャと、低次構造と高次元構造との間の提案される関係を記載する。
実施形態によれば、7元の系の体系的な研究を行うことができる。7元の系は、Au、Ag、Cu、Co、Ni、Pd、およびSnの組み合わせを含有する粒子を含むことができる。これにより、4つ程度の相を有する新しいNPのセットがもたらされる可能性がある。バルクの状態図によると、PdおよびSnは、他の5つの元素と混和性があり、固溶体または金属間化合物を形成する。実施形態では、それぞれAuPdSnまたはCoPdSnからなる3つの元素を1つのNPに組み合わせ、H下で500℃で24時間アニールすると、それぞれPdSnドメインおよびAuまたはCoドメインを有するヘテロダイマーが得られた(図7~8)。研究された組み合わせにおける2つの元素の任意のペアが互いに混和性であるため、これは驚くべき結果である。
図8を参照すると、Au-PdSnおよびCo-PdSnNPの環状暗視野走査透過型電子顕微鏡(ADF-STEM)画像は、PdSnとAuの間またはPdSnとCoの間の原子番号の違いに主として由来するコントラストを有するダイマー構造を示す。エネルギー分散型X線分光法(EDS)分析は、Au-PdSnおよびCo-PdSnヘテロダイマーにおける元素の分離をさらに検証する。ナノ粒子を説明する際に本明細書で使用される場合、「-」は、別個の異なる相を指す。以下の材料相がナノ粒子のために使用された。以下の表では、1つの材料相の主要元素(含有量>80%)によってその相を表す。ナノ粒子の様々な相は「-」で区切られる。例えば、Au-Co-PdSnは、Auドメイン、Coドメイン、およびPdSnドメインを有する三相ナノ粒子を意味する。
この予期しない相分離が観察された理由を理解するために、DFTシミュレーションを実施して、Open Quantum Materials Database(OQMD、表S2)を使用して、AuPdSn系における25の化学量論的組み合わせと、CoPdSn系における24の化学量論的組み合わせとの混合のギブス自由エネルギー(ΔG)を計算した47,48。すべての組み合わせのΔGに基づいて、熱力学的に安定な相は、グランドカノニカル線形計画法(GCLP)を用いて評価した49。AuまたはCoのいずかと、PdおよびSnとの等量混合物の場合、安定相は、PdSnと、AuまたはCoのいずれかであることが確認された(すなわち、X-PdSn、X=AuまたはCo)。シミュレーションを検証するために、Au-PdSnおよびCo-PdSnヘテロダイマーの熱安定性を、バルクAuの溶融温度(1064℃)に近く、かつバルクSn(232℃)の溶融温度をはるかに超えている500~800℃の範囲の温度までNPを加熱することによって、調べた(図9~10)。実験的に、Au-PdSnとCo-PdSnの両方の場合、ヘテロダイマーは500~800℃の温度で60時間アニールした後も安定しており、観察された相間離隔は動力学的結果ではないという結論を裏付ける。AuとCoとの間の混和性が低いことを考えると(図8A)、PdSn、Au、およびCoは、高次のヘテロ構造NPを構築するための新しいビルディングブロックのセットを構成する。
2つまたは3つの界面を有する三相ナノ粒子
二相構造は、3つ以上の相を有する構造のアーキテクチャを予測するために使用することができないことが観察された。
図1Bを参照すると、三相NPの場合、アーキテクチャの2つの可能なタイプが存在し、すなわち、2つまたは3つの界面のいずれかを有するアーキテクチャが存在する。図2A~Gおよび11~12を参照すると、例えば、一実施形態では、4つの元素のAu-Co-PdSnナノ粒子はSPBCLによって合成された。EDSマッピングにより、3つの相互接続ドメイン、Auドメイン(黄色)、Coドメイン(緑)、およびPdSnドメイン(青/紫、組成の変化、例えば:PdSn、PdSn、またはPdSnからなる)中への元素偏析が確認された。図2Aを参照すると、3つのドメイン間のSTEM画像のコントラストは、原子番号の違いに起因する。図13を参照すると、三相NPにおける相境界の配向は、基材(すなわち、図における画像平面)に関してランダムである。簡単にするために、基材に垂直な相境界を有する粒子を使用して、様々な相の位置を示した。図2Hを参照すると、Au-Co-PdSnNPにおける三相接合の高分解能透過型電子顕微鏡(HRTEM)特性評価により、3つのドメイン間の固体界面の形成が確認された。図47を参照すると、EDSスペクトルが、Au、Co、およびPdSnドメイン全体(破線によって強調表示)および図2Hのナノ粒子における界面に近い領域(白抜きの点で強調表示)に関して実施された。EDS特性評価中の粒子ドリフトおよび非原子形状界面に起因して、界面領域周辺の元素の分布を特定することは困難であった。界面領域周辺のEDSスペクトルには、すべての元素からの信号が認められる。
図2Iを参照すると、異なる領域の高速フーリエ変換(FFT)は、Coが[411]晶帯軸に沿って配向され、PdSnが[211]晶帯軸に沿って配向されていることを示す。AuドメインのFFTは、Au{311}平面に割り当てることができる反射のみを示す。図14~18を参照すると、実験的に、3つの金属ドメインの格子構造間に特定の関係は観察されなかった。図1A、2、および18を参照すると、Au-Co-PdSn NP内の界面の結晶構造は、粒子ごとに異なるが、NPにおけるすべてのドメインはパイ型構成になっている。図19を参照すると、対照的に、Ag-Cu-Co三相系は、中央のCuドメインがAgドメインおよびCoドメインによってキャップされる縞状ドメインアーキテクチャを採用する。Au-Co-PdSnおよびAg-Cu-Co系内では、3つの二相NPはすべて、ヘテロダイマーとして構造的に特徴付けられるが、それらは、2つの非常に異なるクラスの構造であり、二相アーキテクチャの挙動を使用して、三相NPのアーキテクチャを予測することはできない(図1B)。
各可能な相に関する相対的な表面エネルギーおよび界面エネルギーによって、界面の数および構造配置(パイ型対縞状)が決まる。異なるアーキテクチャが三相NPにおいて形成する理由を理解するために、DFTシミュレーションを実施して、すべての可能なアーキテクチャに関してAu-Co-PdSnおよびAg-Cu-Co三相NPの全表面/界面エネルギーを比較した。図3Aおよび20を参照すると、Au-Co、PdSn-Co、およびAu-PdSnの界面モデルが、(111)原子面で構成される各材料ドメインによって設定された。界面モデルは、以下の例で説明するように設定され、異なる系に関する平均絶対ひずみが以下の表3に示される。界面エネルギーを最小化するために、各界面の構造は、一方のドメインを他方に対して格子収縮または膨張およびねじることによって緩和することができた。図3Bおよび21を参照すると、3つの計算された表面エネルギーと、3つの計算された界面エネルギーとを組み合わせて、各相の体積が等しい球状モデルを使用して、NPの総エネルギーを評価した。各ナノ粒子モデルにおける界面および表面の面積は、以下の実施例の表4に提供する。図3Cに示すように、パイ型アーキテクチャを有するAu-Co-PdSn NPは、総エネルギーが最も低いことが見出された。対照的に、図19に例示されるように、Ag-Cu-Co三相系に関するDFTシミュレーションでは、中央ドメインとしてCuを有する縞状アーキテクチャは、合計が最低であることが明らかになった。したがって、各三相NPの優先的アーキテクチャは、組み合わされた表面エネルギーと界面エネルギーとを最小限に抑える。
図17および18を参照すると、DFTシミュレーションを、NPが様々な界面格子構造を有する実際のシナリオと完全には一致しない理想的な格子モデルに関して実施したが、SPBCLによって合成された三相NPのアーキテクチャは、シミュレーションの予測と一致する。理論に拘束されることを意図しないが、高温の長期アニーリングプロセスは、NPがそれらのアーキテクチャをエネルギー最小化状態に再構成するのに十分な時間およびエネルギーを提供することが考えられる。図22を参照すると、Au-Co-PdSn三相NPのためのアニーリングプロセスは、500℃で、それぞれ0.5時間および1.5時間後に動力学的に停止した。動力学は複雑であり、粒子内の粗大化により、3つの別個の金属ドメインを有する粒子が生じることが見出された。ポリマーナノリアクター内の金属元素の凝集がランダムであるため、そのようなアーキテクチャ内では元素の分布が異なる。具体的には、Au-Co-PdSn NP系の場合、2つの界面のみを含有する縞状の三相NPが、動力学的生成物として観察される(Au、Co、またはPdSnからなる3つのドメインのいずれかは、中央ドメインを形成する。図4B)。中央ドメインの互換性は、3つの相すべてが互いに同等によく相互作用するというさらなる証拠を提供する。重要なことに、500℃でアニーリングを続けると、Au-Co-PdSn NPはパイ型のアーキテクチャに変化する(図4A)。アニーリング温度は、バルクAuのタンマン温度(395℃)およびバルクSnの溶融温度(232℃)よりも高いため、変換は、無傷のドメインの全体的な動きではなく、NP上の表面原子の動きを通じて進行すると考えられる。図4Bを参照すると、実験的に、Au-Co-PdSn NPの大部分は、パイ型のアーキテクチャに変換されたことが見出された(アーキテクチャ収率:約75%、サンプルサイズ:150)。これは、パイ型のアーキテクチャは、熱力学的生成物であり、表面エネルギーと界面エネルギーとの間のバランスに起因している、という結論と一致する。
四相ナノ粒子における界面工学
低次のNPにおいて観察されない界面は、エネルギー的に不利であり、同じ相ドメインを含有する高次のNPでのそれらの存在を妨げる。
図1Aの下段を参照すると、4つの別個の金属相を有する四相ヘテロ構造化NPは、それらを含む異なる相によって画定される4つの別個のタイプの表面を有する。加えて、それらは最大6つの界面を有することができる。そのようなナノ粒子のDFTシミュレーションでは、4つの相の表面エネルギーと6つの界面の界面エネルギーとを比較する必要があり、界面の近くに存在する欠陥を考慮するとさらに複雑になる。四相NPは、常に4つの構成成分三相NPに分解することができるため、実験的に4つの三相NPのアーキテクチャ(縞状またはパイ型)は、四相NPの熱力学的アーキテクチャの予測となる。図1Bを参照すると、4つの三相NPのアーキテクチャを分類すると、6つの重複しない三相NPの組み合わせタイプが存在し、それらは、理論的には、それぞれ3つ、4つ、4つ、5つ、5つ、または6つの界面を有する四相NPとなる。
実施形態によれば、SPBCLを使用して、ポリマーナノリアクターの配合を変更することにより、NPのコンビナトリアルライブラリーを構築することができる。例えば、図23~28に示すように、一実施形態では、PdSnを基本ビルディングブロックとして、Au、Ag、Cu、Co、Ni、およびPdSnからなる31のタイプの多相ナノ粒子すべてを合成し、特性評価する。AuおよびCoに加えて、Ag、Cu、およびNiが、PdSnと相間離隔し、それぞれ、Ag-PdSn、Cu0.92Pd0.08-Cu0.2(PdSn)0.8、およびNi0.6Sn0.4-Ni0.08(PdSn)0.92ヘテロダイマーを形成することが見出された。これらの粒子における相間離隔は、以下で詳細に説明されるGCLP法で評価される熱力学的に安定な相によって説明することができる(表2)。図1B、5、および6を参照すると、高次構造が合成されるとき、PdSn系NPのライブラリーには、最大6つの界面を有する四相アーキテクチャを合成するために使用することができる三相NPの組み合わせが含まれる。
三相NPアーキテクチャを使用して四相NPアーキテクチャを予測することができることを確認するために、ますます複雑なアーキテクチャを生成するであろう三相NPの組み合わせを選択することによって、四相NPを合成した。図1Bおよび5Aを参照すると、第1のNPの組み合わせは、2つの縞状三相NPおよび2つのパイ型三相NPを含んでいた。図5Bおよび29を参照すると、Ag、Cu、Co、およびPdSnからなる系が、このシナリオに一致し、すべての三相NPのADF-STEM画像およびEDS元素マッピングで観察されるように、Ag-Cu-CoおよびPdSn-Cu-Coは縞状ヘテロトリマーであり、Ag-Cu-PdSnおよびAg-Co-PdSnはパイ型ヘテロトリマーである。
4つの三相NPのアーキテクチャは、Ag/Co間およびPdSn/Co間の界面が、他の4つの界面および4つの表面と比較してエネルギー的に不利であることを示唆しており、それにより、四相NPが熱力学的構成に達したときにそのような界面の形成は防止されるはずである。Ag-Cu-Co-PdSn NPが、合成され、それらの構造は、ADF-STEMおよびEDSで分析された。図5Cおよび30を参照すると、Ag-Cu-Co-PdSn NPの大部分(アーキテクチャ収率:約70%、サンプルサイズ:30)は、予測どおりのアーキテクチャを有していた。NPの中心にあるCuドメインは、CoドメインをAgおよびPdSnドメインから分離しているため、Ag-Co界面およびPdSn-Co界面の形成を回避させる。一方、Cu、Ag、およびPdSnドメイン間の3つの界面は互いに接続し、三相接合を形成する。この三相アーキテクチャの組み合わせを有する四相NPは、4つの界面と1つの三相接合を有するアーキテクチャを採用する。
図1Bおよび5Dを参照すると、第2のNPの組み合わせは、2つの界面を有する1つの三相NPからなり、他の3つの三相NPは、3つの界面を有する。AuAg、AuCu、Co、およびPdSnの三相の組み合わせは、このカテゴリを満たし、AuAg-AuCu-Coは縞状ヘテロトリマーであり、AuAg-AuCu-PdSn、AuAg-PdSn-Co、およびAuCu-PdSn-Coはパイ型ヘテロトリマーである。図5Eおよび31を参照すると、すべての三相NPのアーキテクチャは、ADF-STEM特性評価およびEDS元素マッピングによって検証された。この組み合わせタイプにおいて唯一の縞状NP(AuAg-AgCu-Co)は、四相NPを形成するときに、1つの界面だけがエネルギー的に不利であることを示唆する。予測を確認するために、AuAg-AuCu-PdSn-CoのNPを合成した。図5F、32、33に示すように、AuCuおよびPdSnドメインは、粒子の中心にあり、両端がAuAgドメインおよびCoドメインでキャップされている(アーキテクチャ収率:約70%、サンプルサイズ:30)。AuAg/AuCu/PdSn相の間に1つの三相接合が形成される。他の三相接合は、AuCu/PdSn/Co相の間に形成される。この三相粒子タイプの組み合わせを有する四相NPは、5つの界面と2つの三相接合を備えるアーキテクチャを有する。
多元素NPにおける界面工学の最後のデモンストレーションとして、4つの三相NPすべてが同じ構成上の特徴を共有する系、すなわち、パイ型アーキテクチャを利用した。図1Bを参照すると、4つの三相NPのアーキテクチャは、6つの界面すべてと、4つの表面とが、互いにエネルギー的に互換性があることを示す。図6A、6B、および34を参照すると、Au、CoNi、NiSn、およびPdSn相の組み合わせは、この組み合わせのタイプを満たすことを見出した。図6C、35~38を参照すると、これらの4つの相を1つのNPに組み込むと、4つの構成成分ドメインが相互に連結された前例のないナノ構造となる(アーキテクチャ収率:約65%、サンプルサイズ:30)。EDS元素マップのオーバーレイにより、1つの典型的なNPにおける4つの相の分布およびそれらの空間的関係が明らかになった。図35および6Cを参照すると、Au、PdSn、およびNiSnドメインは、相互連結し、CoNiドメインは、他の3つのドメインの上に位置し、1つの粒子に6つの相境界を形成する(図35および6c)。4つのパイ型三相NPのサブセットで構成される四相NPは、6つの界面、4つの三相接合、およびNPに埋め込まれている1つの四相接合を備えたアーキテクチャを有する。実施形態では、方法は、三相NPを利用することを含むことができ、より高次のNPにおける相境界の構成を設計するためのモデルとして利用することができる。
実施形態によれば、界面工学の方法は、多相NPの好ましい構造を決定するために表面エネルギーおよび界面エネルギーのバランスを決定することを含むことができる。例えば、四相多元素NPは、4つ、5つ、および6つの相境界を有する実施形態に従って生成させた。本開示の実施形態に従う方法は、4つを超える相を含むNPの複雑なアーキテクチャを解明するために使用することができ、NPは、10以上の異なる界面を有し得る。実施形態では、触媒作用、プラズモニクス、ナノエレクトロニクス、およびエネルギーハーベスティングにおけるそれらの使用を最適化するために、多元素ナノ材料における界面工学を使用することができる。
化学薬品および材料
ポリ(エチレンオキシド)-b-ポリ(2-ビニルピリジン)(PEO-b-P2VP、M=2.8-b-1.5kg/mol、多分散度指数=1.11)は、Polymer Source,Inc.から購入した。使用前に5日間、脱イオン水による透析(ThermoFisher透析カセット、2K MWCO)によって精製した。金属化合物(>99.9%微量金属ベース)、HAuCl・3HO、AgNO、Cu(NO・xHO、Co(NO・6HO、Ni(NO・6HO、(NHPdCl、およびSnClは、Sigma-Aldrich,Inc.から購入し、さらに精製することなく使用した。原子間力顕微鏡(AFM)マルチコンタクト1Dプローブ(タイプM、金コーティングなし)は、Advanced Creative Solutions Technology,Inc.から購入した。ヘキサメチルジシラザン(HMDS)は、Sigma-Aldrich,Inc.から購入した。15または50nm窒化ケイ素支持膜を有するTEMグリッドは、Ted Pella,Inc.から購入した。
ブロックコポリマー溶液の調製
ポリマーインク溶液は、PEO-b-P2VPおよび様々な金属化合物を脱イオン水中に所定のモル比で溶解することによって、調製された。インク溶液のポリマー濃度は5mg/mLであった。ピリジル基対全金属前駆体のモル比は、ナノ粒子のサイズを制御するために、48:1~256:1で変化した。SnClの加水分解を低減するために、HClの添加によりインク溶液のpHを1に調整した。そのインク溶液を、使用前に室温で1時間撹拌した。
ナノ粒子(NP)合成
ナノ粒子は、走査型プローブブロックコポリマーリソグラフィー(SPBCL)によってTEMグリッド上で合成した。典型的な実験では、疎水性TEMグリッドは、HMDSとヘキサンとの混合物(1:1、v/v)のバイアルを含有したデシケーター中でグリッドをHMDSで24時間蒸気コーティングすることによって得た。AFM 1Dプローブは、Park XE-150 AFMに取り付けた。そのプローブをポリマーインク溶液でディップコーティングし、続いて疎水性TEMグリッドと接触させて、ポリマーナノリアクターのアレイを堆積させた。パターニングプロセスは、25℃の制御された温度と85%の相対湿度のチャンバー内で実施された。ポリマーナノリアクターにおいてナノ粒子を合成するために、TEMグリッドを管状炉で熱アニールした。アニーリング条件は、次のとおりであった:H下で10分で160℃までランプ、160℃で6時間保持、10分で300℃までランプ、300℃で6時間保持、10分で500℃までランプ、グリッドを500℃で12時間熱アニールし、最後に0.5時間で室温まで冷却する。
Sn含有ナノ粒子を作製するために利用される前駆体であるSnClは、ポリマー水溶液中で加水分解可能であるため、SPBCLがSn含有ナノ粒子の組成を制御することは困難であった。Sn含有多相ナノ粒子に関する組成制御の改善は、HCLを添加してポリマー溶液のpHを約1に調整し、AnClと比較してHCLを大過剰に保ってSnCLの加水分解を減少させることで達成することができることを見出した(すべてのポリマーインク溶液についてHCl/SnCl>60:1)。さらに、1時間撹拌しながら新たに調製したポリマー溶液を使用した。
例のSPBCL実験では、0.2μLのポリマーインク溶液を使用してAFMプローブをディップコートした。1つのナノ粒子を作製するためのポリマーナノリアクターの実際の体積は、アトリットルスケールであった。1つのバッチでサンプルAFMプローブから作製された粒子の場合、ナノ粒子は同様の組成を有し、150ナノ粒子の所与のサンプルサイズに関する各元素で約5~10%変化することを見出した。同じポリマー溶液から作製されたが、AFMプローブディップコーティングの様々なバッチで作製されたナノ粒子の組成は、150のサンプルサイズにおける各元素で>25%の変動で、有意に変化することを見出した。理論に拘束されることを意図するものではないが、バッチ間の変動は、金属前駆体がポリマー溶液中に均一に分布していないことを示唆していると考えられ、それは実験で使用された短時間の撹拌に起因する可能性がある。単一バッチ分析で見出される均一性は、ポリマー溶液がアトリットルスケールで局所的に均一であることを示唆する。
密度汎関数理論(DFT)シミュレーション
すべてのDFT計算は、投影拡張波(PAW)ポテンシャル、および一般化勾配近似(GGA)のPerdew-Burke-Ernzerhof(PBE)式を有するVienna Ab-initio Simulation Package(VASP)を使用して行った51-53。界面エネルギーを計算するために、2つのドメインを含有する界面モデルを作り出し、各ドメインは4つの(111)原子平面からなる。界面構造は、Virtual NanoLab(VNL)パッケージを使用して作出され、各界面構造の最終ひずみは1.5%未満である。これらの構造はすべて完全に緩和され、Γ中心のk点メッシュを構築して、原子の逆数あたり少なくとも4000k点を達成した。各表面エネルギーの計算には、表面に垂直な方向に沿って周期的に配置される、結晶スラブモデルおよび真空領域を使用した。各表面は、(2×2)単位セルおよび厚さ15Åの真空領域を有する7つの(111)原子層を含有する。真ん中の3つの層は固定され、他の層は緩和させることができる。ブリュアンゾーン積分は、9×9×1グリッドに対応するΓ中心のk点メッシュを使用してサンプリングされる。界面計算と表面計算の両方で、電子波動関数を表すために使用される平面波基底系のために400eVのエネルギーカットオフが使用され、すべての構造の緩和のために1×10-5eVのエネルギー許容範囲が使用される。この研究では、すべてのDFT計算には、スピン偏極が含まれる。表面エネルギーは、γ=(Eスラブ-Σnμ)/2A表面によって計算され、式中、Eスラブは、表面スラブの総エネルギーであり、nは、系におけるi原子の数であり、μは、元素iの化学ポテンシャルであり、A表面は、表面積である。界面エネルギーは、σ=(EAB-E 歪ませた-E 歪ませた)/2A界面によって計算され、式中、EABは、界面構造の総エネルギーであり、E 歪ませたおよびE 歪ませたは、ドメインAおよびBに関する歪みバルクエネルギーであり、A界面は、界面面積である。
特性評価
ナノ粒子に関する走査型透過電子顕微鏡法(STEM)の特性評価は、日立HD-2300専用STEMを搭載した社内設計のデュアルエネルギー分散型X線分光法(EDS)検出器で実施された。暗視野画像は、200kVの電子加速電圧で環状暗視野(ADF)検出器を使用して撮影された。ナノ粒子の組成は、200kVの加速電圧でHD-2300 STEMに装備されたデュアルEDS検出器(Thermo Scientific)を使用して研究された。EDSスペクトルにおけるPd、Ag、Sn、およびAuのLαピークならびにCo、Ni、およびCuのKαピークを、元素マッピングのために、およびスタンダードレスCliff-Lorimer補正法による組成定量化のために、使用した。EDSで測定された原子組成は、X線吸収および蛍光に起因する5%未満の固有誤差を有する。各EDSマップは、256×192のピクセル寸法および203μsのピクセル滞留時間の30フレームに基づいて作られる。EDSデータ処理にはThermo Scientific NSSソフトウェアを使用した。高分解能透過型電子顕微鏡(HRTEM)による特性評価は、15nmのSiN支持膜を有するTEMグリッド上において調製されたナノ粒子を使用して、300kVの加速電圧でJEOL ARM300透過型電子顕微鏡で実施した。
金属間の相分離に関するDFTシミュレーション
量子材料公開データベース(Open Quantum Materials Database,OQMD)を使用して、金属間の相間離隔挙動を研究した。OQMDは、現在、無機結晶構造データベース(ICSD)からの化合物と、一般的に発生する結晶構造の修飾とに関する>500,000の密度関数理論(DFT)総エネルギー計算を含む、ハイスループットなデータベース(oqmd.orgで公開されている)である。OQMDは、グランドカノニカル線形計画法(GCLP)54-57を利用して、多成分組成物の複雑なT=OK相平衡を計算する。GCLPは、線形計画法ルーチンを利用して、相安定性および安定な反応経路を決定するために使用する。形式的には、相のコレクションの基底ポテンシャルは、最も一般的には以下のように表される。
式中、
は、各化合物の相対量を含有するベクトルであり、G(T,P)は、所定の温度および圧力での化合物iのギブス自由エネルギーであり、
は各元素jの化学ポテンシャルであり、
は組成マトリックスである。基底状態の組成は、
に関して
を最小化することによって見出した。特定の元素組成のための安定相を決定するために、各元素の量が初期組成と同じままになるように制約を適用する

単純に以下によって制約する:
基底ポテンシャルは、
において線形であり、制約
も線形であるため、非常に効率的な線形計画法を使用して、自由エネルギーを最小限に抑えることができる。このGCLP法を使用して、AuPdSn、CoPdSn、AuCoPdSn、AgPdSn、CuPdSn、およびNiPdSn系のための安定相を決定した。各系について、OQMDからの所定の相領域にあるすべての化合物に関する自由エネルギーG(T,P)を考慮した。表2は、様々な系に関して考えられた化合物の数を示す。形成の自由エネルギーは、0Kおよび0Paで決定された。すなわち、G(0,0)は、単に化合物の形成エネルギーである。実験の設定と一致させるために、初期組成は各元素が同じになるように設定した。GCLP分析の結果を表2に示す。GCLP分析から、Co、Au、Ag、およびCuを有するPdSn合金相偏析が見出された。NiPdSn系では、他の場合とは異なり、PdSn合金はNiSn合金と平衡化する。
Au-PdSnヘテロダイマーの熱安定性
Au-PdSnヘテロダイマーは、500~750℃で2日間を超えて加熱したとき、安定であることを見出した(図9、10)。アニーリング温度をさらに800℃まで上げると、ナノ粒子の形態が楕円体から不規則な形状に変化した。Snに富む枝が、PdSn半楕円体ドメイン上に形成された(図10、800℃12時間)。理論に拘束されることを意図するものではないが、バルクSnの融点が低い(232℃)ことを考えると、これはナノ粒子からのSnの浸出に由来していると考えられる。それにもかかわらず、AuとPdSnとの間の合金化は観察されず、AuとPdSnが偏析相であるというシミュレーションを裏付けている(図9)。
PdSn合金と他の金属との相間離隔のためのPd:Snの臨界比
混合のギブス自由エネルギーの計算によると、すべてのPdSn相(PdSn、PdSn、PdSn、PdSn、PdSn、およびPdSn)は、他の5つの金属から偏析するはずである。実験的に、Pd:Snのモル比が3:1以下のとき、PdSnドメインは、他の金属と偏析することを見出した(図11A)。それはDFTの予測と一致していた。Pd:Snのモル比を4:1に増やすと、PdSnは、別個のドメインのままであったが、過剰な量のPdが、他の金属ドメイン中に拡散した(図11B)。Pd:Snのモル比をさらに20:1に増やすと、PdSnと他の金属との間の相間離隔は観察できなくなった(図11C)。
単結晶PdSnナノ粒子(Pd0.75Sn0.25)および多結晶PdSnナノ粒子を、上記の堆積およびアニーリングを使用する本開示の方法に従って、ポリマーナノリアクターにおいて合成した。PdSnナノ粒子を合成するために、PEO-b-P2VPを水に溶解し、金属前駆体として(NH)PdClおよびSnClをモル比3:1で溶解することによって、ポリマーインク溶液を調製した。ポリマーインク溶液のpHは、HClの添加によって1に調整した。堆積されたナノリアクターをアニールして、ナノリアクターにおいてPdSnナノ粒子を形成させた。多結晶PdSnナノ粒子は、ナノリアクターを、160℃で6時間、300℃で6時間、次いで500℃で12時間アニールすることによって合成された。単結晶PdSnナノ粒子は、ナノリアクターを、160℃で6時間、300℃で6時間、次いで750℃で12時間アニールすることによって合成された。
図39Aを参照すると、PdSnのEDSマップにおける斑点状の外観は、いくつかの領域がPdに富み、他の領域がSnに富んでいる原子スケールで2つの元素が不均一に混合される、ことを示す。これは主に、異なるPdSn相の共存に起因するものと考えられる。Pd-Sn状態図は、多くの金属間相(PdSn、PdSn、およびPdSn)を示しており、それらはすべて、金属Au、Ag、Co、Cu、およびNiから相分離している。図39に示すように、異なるPdSn金属間相から構成された結晶粒(例えば、PdSnおよびPdSn)は、1つの粒子において見出すことができ、EDSマップで観察される斑点効果に寄与する。さらに、EDSマッピング解像度の限界(約2nm)およびEDS組成測定の固有誤差(<5%)も、画像の斑点効果に寄与する可能性がある。
図40A~40Eを参照して、PdおよびSnがPdSnドメインにおいて分離されていないことをさらに確認するために、EDSマップの斑点全体にわたって線走査を実施した。線走査は、PdとSnの両方が共存し、2つの元素が不均一に分布していることを示す。さらに、ピアソンの相関係数(PCC)を計算して、PdおよびSnの共局在を評価した。PCC値は-1~1の範囲であり、1は完全に線形的に相関した2つの画像、0は無相関の画像、-1は逆相関の画像である。図39と40に示すように、PdSn元素マップの斑点のある外観にもかかわらず、PDおよびSnの元素マップは、常に0.85を超えるPCC値を示し、それは、PdおよびSnが高度に共局在していることを示唆している。図40Fは、ピアソン係数が9に近いことが見出されたAuPdSnナノ粒子に関するEDS線走査を示しており、これにより、PdとSnの合金化、AuとPdの分離、およびAuとSnの分離が確認される。
本開示の方法により、ナノ粒子は、純粋なHの連続流を伴う密閉管状炉においてポリマーインク溶液(ポリマーおよび金属前駆体を含有する)を熱アニールすることによって合成した。そのステップは、Snが前駆体で利用されたときに、Snの酸化を回避するのに役立つことが見出された。Sn酸化の回避は、HRTEM特性評価でSnOx格子構造が観察されなかったという事実によって確認された。
SnOxの可能性をさらに排除するために、サンプルを意図的に空気中でアニールして、500℃で12時間SnOxを生成させた。酸化物粒子は、小さい結晶粒径および>0.25nmの大きな格子間隔を有する高度に多結晶であることが観察された。図41を参照すると、Hでアニールされたナノ粒子(PdSn)と、空気中でアニールされたナノ粒子(PdOx-SnOx)とを比較した場合、粒子の形態、観察された格子構造、およびDSマッピングパターンが明らかに異なることを見出した。空気中でアニールされたサンプルのPCCは、PdOxおよびSnOxの共局在が不十分であり、一方、PdとSnはHでアニールされたPdSn合金ナノ粒子において共局在していることを示唆する。意図的に酸化されたサンプルと比較することによって観察された有意差により、H下で合成されたナノ粒子が金属状態のSnを有することが確認される。
ヘテロ構造および相の動力学的トラッピングに及ぼす基材の効果
ポリマー反応器での単一ナノ粒子の形成は、原子および小さな粒子の凝集によってSPBCLで達成された。異なる金属が異なる速度/シーケンスで還元および凝集し、捕捉される動力学的相のタイプを決定する。AuCoPdSn系の場合、AuとPdは、CoとSnよりもはるかに速い速度で還元および凝集される。図42Aを参照すると、アニーリング前は、均一なポリマーリアクターに粒子は観察されない。図42Bを参照すると、リアクターを160℃で6時間アニールすると、Au、Pd、およびAuPd合金粒子が形成された。AuPd合金の存在によって、Au-Co-PdSn間の相分離が基材にトラップされた結果である可能性を除いて、PdSnとAuとの間の相分離は動力学的に不利であることが確認される。さらに、ナノ粒子は、熱的にアニールされたときに基材上に物理的にトラップされなかった。図43を参照すると、550℃を超える温度でアニールすると、ナノ粒子は、基材上で回転および動き回ることが観察され、Au、Co、およびPdSnの相分離挙動は依然として残存している。この観察により、観察された構造が基材に捕捉された可能性は低いという結論に達する。
界面モデルの構築
Coincidence Site Lattice Method58を使用して異なるドメインの2つの格子に一致した界面モデルを、VNLソフトウェアパッケージを使用して作製した。モデルは、2つのfcc格子の(111)ファセット間の結晶粒境界に焦点を合わせた。2つの格子を一致させる場合、最初にnv+mvによって与えられる異なるサイズのグリッドを検索した。式中、vおよびvは、最初のドメインの格子の基礎であり、nおよびmの両方は、-6~6の範囲の整数である。次いで、0~180までの2つの格子間の回転角を4刻みでスキャンした。各系について、一致したすべての結晶構造を、原子数および平均絶対ひずみの2つのパラメータを使用して分類した(例として、Co-PdSnを用いて図20に示した)。これらの構造の中から、小さなスーパーセルと低応力の間の良好な妥協点を示す1つの最適な構造を選択した。異なる系に関する平均絶対ひずみを表3にした。
格子不整合が界面エネルギーに及ぼす効果
界面エネルギーに関する格子不整合の効果を研究するために、DFTを使用して、Cu-Co-PdSn、Au-Co-PdSn、およびAg-Co-PdSn系(式中、Cuは、AuおよびAgとは異なる格子パラメータを有する)における界面エネルギーを計算した。表4に示すように、界面エネルギーは、界面を構成するドメインに大きく依存していることが見出され、単純な化学的考察に基づいてそれらを推定することは困難である。しかしながら、格子不整合と界面エネルギーとの間の傾向は、依然として観察された。より良好に一致した格子を有するドメインは、より低いエネルギーを有する界面となることを見出した。3つの三相系では、Cu-Coの界面エネルギーはAu-CoおよびAg-Coの界面エネルギーよりも小さく、Au-PdSnおよびAg-PdSnの界面エネルギーはCu-PdSnのそれよりも小さかった。これは、Cuは、Coとのより良好な格子整合を有し、AuおよびAgは、PdSnと十分に整合する格子を有しているためである。ナノ粒子のアーキテクチャは、すべての表面および界面の相対的なエネルギーによって決定され、それは、格子不整合に基づいて単純に予測することはできない。整合格子および不整合格子の両方を有する界面は3つの三相系に存在するが、Au-Co-PdSnおよびAg-Co-PdSnは、三界面アーキテクチャを選び、Co-Cu-PdSnは、二界面アーキテクチャを選ぶ(図23)。
球状ナノ粒子の全表面/界面エネルギー
全表面/界面エネルギーは、以下の式で計算することができる。
合計=Σγijij+Σγ
式中、γijは、ドメインDiとDjとの間の界面エネルギーであり、γは、ドメインDiの表面エネルギーである。総エネルギーとは、2つのドメイン間の界面エネルギーと、各ドメインの表面エネルギーの両方とみなす。全表面/界面エネルギーが最も低い構造は、熱力学的により安定していると予想される。
多相ナノ粒子の支配的な構造
同じ材料で構成され、かつSPBCLによって合成された三相または四相ナノ粒子は、異なるアーキテクチャを有することができるが、常に1つの主要な構造を有する(図4)。図24を参照すると、Ag-Cu-PdSnを例にとると、ほとんどの粒子が3つの相互接続された相境界を有する同様のアーキテクチャを有しているのに対し(形態学的収率約65%、サンプルサイズ:30)、一部の粒子は、2つの接続しない相境界を有するアーキテクチャをとっている。図23のライブラリーでは、支配的なアーキテクチャが示される。1つの粒子における相数は、粒子組成に大きく依存する。図23では、金属の組み合わせごとに1つの特定の組成が示される。この図に示されているナノ粒子のADF-STEM画像、EDSスペクトル、およびEDSマッピングは、図25~28において見出すことができる。
図44を参照すると、非支配的なアーキテクチャを有する粒子は、ナノ粒子に変換するためには、堆積されたナノリアクターに関して、より長いアニーリング時間または高いアニーリング温度が必要であることが見出された。Snの蒸気圧が高いため(750℃で1.92×10-5Pa)、ナノ粒子を非常に長時間または高温でアニールすると、必然的にSnの蒸発損失が発生し、予想される数の界面を有するナノ粒子の収率100%が達成されるのを妨げる可能性がある。
AuPd-CoおよびAu-Co-PdSnナノ粒子の合成
SiNx支持膜を有するSi TEMグリッドまたは炭素支持膜を有するCu TEMグリッド上で合成されたAuPd-CoヘテロダイマーおよびAu-Co-PdSnヘテロトリマーAu-Co-PdSnヘテロトリマーの合成は、PEO-b-P2VPと、1:1:1:1のモル比で金属前駆体としてHAuCl・3HO、Co(NO・6HO、(NHPdCl、およびSnClとを含有するポリマーインク溶液を調製することによって行った。ナノリアクターは、ポリマーインク溶液中でディップコーティングされたAFMプローブを使用してSPBCLによってSiNx支持膜またはCu TEMグリッド上に堆積させた。次いで、ナノリアクターを上記したようにアニールした。
Au-Co-PdSnヘテロトリマーの合成は、PEO-b-P2VPと、1:1:1のモル比で金属前駆体としてHAuCl・3HO、Co(NO・6HO、および(NHPdClとを含有するポリマーインク溶液を調製することによって行った。ナノリアクターは、ポリマーインク溶液中でディップコーティングされたAFMプローブを使用してSPBCLによってSiNx支持膜またはCu TEMグリッド上に堆積させた。次いで、ナノリアクターを上記したようにアニールした。
図46を参照、次のヘテロダイマーおよびヘテロ構造、(A)Au0.32Co0.34Pd0.34、(B)Au0.29Co0.33Pd0.38、(C)Au0.31Co0.34Pd0.21Sn0.14、(D)Au0.33Co0.29Pd0.25Sn0.13を合成した。(A)および(C)のEDSスペクトルの8.0keVでのCu K α信号はTEMサンプルホルダー由来である。すべてのEDSスペクトルの1.5keVでのAl K α信号は、TEMサンプルホルダーのAlグリッドカバー由来である。
加えて、「a」または「an」の使用は、本明細書の実施形態の要素および構成要素を説明するために用いられる。これは単に便宜のため、および本明細書の大まかな要旨を付与するために行われるものである。この記述は、1つまたは少なくとも1つを含むと読み取るべきであり、別の意味であることが明らかでない限り、単数形は複数形も含む。
なおさらに、図は、例示のみを目的として、コンピュータシステム100の好ましい実施形態を記載する。当業者は、以下の考察から、本明細書に記載の原理から逸脱することなく、本明細書に例示される構造および方法の代替の実施形態を用いることができることを容易に認識するであろう。
したがって、特定の実施形態および適用が図示され、説明されているが、開示された実施形態は、本明細書に開示された正確な構造および成分に限定されないことを理解されたい。当業者には明らかとなる、様々な修正、変更、および変形が、添付の特許請求の範囲で定義される趣旨および範囲から逸脱することなく、本明細書で開示される方法および装置の構成、動作、および詳細において行われ得る。本発明の態様の一部を以下記載する。
[態様1]
多元素ナノ粒子を作製する方法であって、
ポリマーインク溶液を基材上に堆積させて、前記ポリマーインク溶液の印刷表示を形成し、それにより前記基材上にナノリアクターを形成することであって、前記ポリマーインク溶液は、ブロックコポリマー、Snおよび/またはSn-前駆体、ならびに2つ以上の追加の金属および/ または追加の金属前駆体を含む、形成することと、
以下の段階を含む多段アニーリングを実施することであって、
前記ナノリアクター中の金属原子を凝集させるための第1段階のアニーリングであって、前記第1段階のアニーリングは、前記ナノリアクターを、第1の温度で少なくとも第1の第1段階のアニーリングステップに曝し、および第2の温度で第2の第1段階のアニーリングステップに曝すことを含み、前記第1の温度は前記第2の温度より低い、第1段階のアニーリング、および
前記凝集した金属原子を還元して前記ナノ粒子を形成するための第2段階のアニーリングであって、前記第2段階のアニーリングは、前記ナノリアクターを、第2段階のアニーリング時間の間、第2段階のアニーリング温度に曝すことを含み、前記第2段階のアニーリング温度は前記第2の温度よりも高い、第2段階のアニーリング、を含む、多段アニーリングを実施することと、を含む、多元素ナノ粒子を作製する方法。
[態様2]
前記2つ以上の追加の金属が、Au、Ag、Cu、Co、Ni、およびPdから選択される、態様1に記載の方法。
[態様3]
前記ブロックコポリマー、前記Snおよび/または前記Sn前駆体、ならびに前記2つ以上の追加の金属および/または追加の金属前駆体を水中で混ぜ、前記ポリマーインク溶液のpHを1に調整することによって、前記ポリマーインク溶液を作製することをさらに含む、態様1または2に記載の方法。
[態様4]
前記ポリマーインク溶液が、SnCl 、SnCl 、Na SnO 、およびK SnO のうちの1つ以上から選択される前記Sn前駆体前記Sn前駆体を含む、態様1~3のいずれか一項に記載の方法。
[態様5]
前記第1の温度が、約100℃~約200℃であり、前記第2の温度が、約200℃~約300℃である、態様1~4のいずれか一項に記載の方法。
[態様6]
前記第1の第1段階のアニーリングステップが、前記ナノリアクターを、前記第1の温度まで約2時間~約12時間曝すことを含む、態様1~5のいずれか一項に記載の方法。
[態様7]
前記第2の第1段階のアニーリングステップが、前記ナノリアクターを、前記第2の温度まで約2時間~約12時間曝すことを含む、態様1~6のいずれか一項に記載の方法。
[態様8]
前記第2段階のアニーリング温度が、約500℃~約800℃である、態様1~7のいずれか一項に記載の方法。
[態様9]
前記第2段階のアニーリングにおいて、前記ナノリアクターを、前記第2段階のアニーリング温度まで約6時間~約20時間曝すことを含む、態様1~8のいずれか一項に記載の方法。
[態様10]
前記2つ以上の追加の金属前駆体が、HAuCl ・3H O、AgNO 、Cu(NO ・xH O、Co(NO ・6H O、Ni(NO ・6H O、および(NH PdCl から選択される、態様1~9のいずれか一項に記載の方法。
[態様11]
前記ブロックコポリマーが、約1~約50mg/mlの濃度で前記インク中に存在する、態様1~10のいずれか一項に記載の方法。
[態様12]
前記ブロックコポリマーが、PEO-b-P2VPまたはPEO-b-P4VPである、態様1~11のいずれか一項に記載の方法。
[態様13]
前記インク中のピリジル基対金属化合物のモル比が、4:1~512:1である、態様12に記載の方法。
[態様14]
前記ポリマーインク溶液のpHが、酸性である、態様1~13のいずれか一項に記載の方法。
[態様15]
前記ポリマーインク溶液のpHが、1である、態様1~14のいずれか一項に記載の方法。
[態様16]
HClの添加により前記ポリマーインク溶液のpHを調整することを含む、態様14または15に記載の方法。
[態様17]
前記基材が、TEMグリッドである、態様1~16のいずれか一項に記載の方法。
[態様18]
チップが、AFMチップである、態様1~17のいずれか一項に記載の方法。
[態様19]
前記第1段階のアニーリングが、第3の温度での第3の第1段階のアニーリングステップを含み、前記第3の温度が、前記第1および第2の温度よりも高い、態様1~18のいずれか一項に記載の方法。
[態様20]
前記第3の第1段階のアニーリングステップが、前記ナノリアクターを、前記第3の温度まで約2時間~約12時間曝すことを含む、態様1~19のいずれか一項に記載の方法。
[態様21]
前記ポリマーインク溶液が、走査型プローブブロックコポリマーリソグラフィー、ディップペンナノリソグラフィー、マイクロコンタクトプリンティング、スピンコーティング、ディップコーティング、スプレーコーティング、およびドロップキャスティングのうちの1つ以上によって、堆積される、態様1~20のいずれか一項に記載の方法。
[態様22]
印刷表示1つあたりに1~100アトリットルのポリマーインク溶液が堆積される、態様1~21のいずれか一項に記載の方法。
態様
態様1.三相ナノ粒子アーキテクチャを使用して四相多元素ナノ粒子を作製する方法は、
2つ以上の三相ナノ粒子アーキテクチャを選択することであって、2つ以上の三相ナノ粒子アーキテクチャは、1つ以上の縞状の三相アーキテクチャ、1つ以上のパイ型三相アーキテクチャ、またはそれらの組み合わせである、選択することと、
2つ以上の三相ナノ粒子アーキテクチャの各々を生成させるために、金属の選択された2つ以上の三相ナノ粒子アーキテクチャ群から識別することと、
インクでコーティングされたチップを、基材に接触させて、ナノ粒子を形成することであって、そのインクは、ブロックコポリマーと、2つ以上の三相ナノ粒子アーキテクチャの各々を生成させるために識別された金属の群からの金属と、を含む、形成することと、
四相多元素ナノ粒子を合成するのに十分な条件下でナノリアクターをアニールすることと、を含む。
態様2.金属化合物が、Au、Ag、Cu、Co、Ni、Pd、Sn、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される金属を含有する化合物である、態様1に記載の方法。
態様3.三相ナノ粒子アーキテクチャの1つのための金属の群が、Au、Co、およびPdSnである、態様2に記載の方法。
態様4.三相ナノ粒子アーキテクチャAg、Co、およびCuの1つのための金属の群である、態様2または3に記載の方法。
態様5.インクが、Ag、Cu、Co、およびPdSnを含有する金属化合物含む、態様1~4のいずれか1つに記載の方法。
態様6.2つ以上の三相ナノ粒子アーキテクチャが、2つの縞状三相ナノ粒子および2つのパイ型三相ナノ粒子を含む、態様1~5のいずれか1つに記載の方法。
態様7.2つの縞状三相ナノ粒子のための金属の群が、Ag-Cu-CoおよびPdSn-Cu-Coであり、2つのパイ型三相ナノ粒子のための金属の群が、Ag-Cu-PdSnおよびAg-Co-PdSnである、である、態様5に記載の方法。
態様8.四相多元素ナノ粒子が、4つの界面および1つの三相接合を含む、態様7に記載の方法。
態様9.選択された三相ナノ粒子アーキテクチャが、2つの界面を有する1つの縞状三相アーキテクチャと、3つの界面を有する3つのパイ型三相アーキテクチャと、を含む、態様1に記載の方法。
態様10.2つの界面を有する縞状三相アーキテクチャのための金属の群が、AuAg-AuCu-Coである、態様9に記載の方法。
態様11.3つの界面を有するパイ型三相アーキテクチャのための金属の群が、AuAg-AuCu-PdSn、AuAg-PdSn-Co、およびAuCu-PdSn-Coからなる群から選択される、態様9または10に記載の方法。
態様12.四相多元素ナノ粒子が、5つの界面および2つの三相接合を含む、態様11に記載の方法。
態様13.インクが、Au、Ag、Cu、Co、Pd、およびSnを有する金属化合物を含む、態様1~12のいずれか1つに記載の方法。
態様14.同じアーキテクチャを有する4つの三相ナノ粒子アーキテクチャを選択することを含む、態様1~13のいずれか1つに記載の方法。
態様15.三相ナノ粒子構造が、パイ型アーキテクチャである、態様14に記載の方法。
態様16.四相多元素ナノ粒子が、Au、CoNi、NiSn、およびPdSnを4つの相として含む、態様14に記載の方法。
態様17.金属化合物が、HAuCl・3HO、AgNO、Cu(NO・xHO、Co(NO・6HO、Ni(NO・6HO、(NHPdCl、SnCl、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される化合物である、態様1~16のいずれか1つに記載の方法。
態様18.ナノリアクターをアニールすることが、500℃の温度まで12時間加熱することを含む、態様1~17のいずれか1つに記載の方法。
態様19.ブロックコポリマーが、PEO-b-P2VPまたはPEO-b-P4VPである、態様1~18のいずれか1つに記載の方法。
態様20.ブロックコポリマーが、約5mg/mlの濃度でインク中に存在する、態様1~19のいずれか1つに記載の方法。
態様21.インク中のピリジル基対金属化合物のモル比が、48:1~256:1である、態様1~20のいずれか1つに記載の方法。
態様22.インクのpHが、酸性である、態様1~21のいずれか1つに記載の方法。
態様23.インクのpHが、1である、態様1~22のいずれか1つに記載の方法。
態様24.基材が、TEMグリッドである、態様1~23のいずれか1つに記載の方法。
態様25.チップが、AFMチップである、態様1~24のいずれか1つに記載の方法。
態様26.互いに界面をなす4つの構成成分ドメインを示すAu、CoNi、NiSn、およびPdSnを含む四相ナノ粒子であって、そのナノ粒子が、6つの相境界を含む、四相ナノ粒子。
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Claims (21)

  1. 多元素ナノ粒子を作製する方法であって、
    ポリマーインク溶液を基材上に堆積させて、前記ポリマーインク溶液の印刷表示を形成し、それにより前記基材上にナノリアクターを形成することであって、前記ポリマーインク溶液は、ブロックコポリマー、Snおよび/またはSn-前駆体、ならびに2つ以上の、Au、Ag、Cu、Co、Ni、およびPdから選択される追加の金属および/またはAu、Ag、Cu、Co、Ni、およびPdから選択される金属を含む追加の金属前駆体を含む、形成することと、
    以下の段階を含む多段アニーリングを実施することであって、
    前記ナノリアクター中の金属原子を凝集させるための第1段階のアニーリングであって、前記第1段階のアニーリングは、前記ナノリアクターを、第1の温度で少なくとも第1の第1段階のアニーリングステップに曝し、および第2の温度で第2の第1段階のアニーリングステップに曝すことを含み、前記第1の温度は前記第2の温度より低い、第1段階のアニーリング、および
    前記凝集した金属原子を還元して前記ナノ粒子を形成するための第2段階のアニーリングであって、前記第2段階のアニーリングは、前記ナノリアクターを、第2段階のアニーリング時間の間、第2段階のアニーリング温度に曝すことを含み、前記第2段階のアニーリング温度は前記第2の温度よりも高い、第2段階のアニーリング、を含む、多段アニーリングを実施することと、を含む、多元素ナノ粒子を作製する方法。
  2. 前記ブロックコポリマー、前記Snおよび/または前記Sn前駆体、ならびに前記2つ以上の追加の金属および/または追加の金属前駆体を水中で混ぜ、前記ポリマーインク溶液のpHを1に調整することによって、前記ポリマーインク溶液を作製することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
  3. 前記ポリマーインク溶液が、SnCl、SnCl、NaSnO、およびKSnOのうちの1つ以上から選択される前記Sn前駆体を含む、請求項1または2に記載の方法。
  4. 前記第1の温度が、100℃~200℃であり、前記第2の温度が、200℃~300℃である、請求項1~のいずれか一項に記載の方法。
  5. 前記第1の第1段階のアニーリングステップが、前記ナノリアクターを、前記第1の温度に2時間~12時間曝すことを含む、請求項1~のいずれか一項に記載の方法。
  6. 前記第2の第1段階のアニーリングステップが、前記ナノリアクターを、前記第2の温度に2時間~12時間曝すことを含む、請求項1~のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記第2段階のアニーリング温度が、500℃~800℃である、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 前記第2段階のアニーリングにおいて、前記ナノリアクターを、前記第2段階のアニーリング温度に6時間~20時間曝すことを含む、請求項1~のいずれか一項に記載の方法。
  9. 前記2つ以上の追加の金属前駆体が、HAuCl・3HO、AgNO、Cu(NO・xHO、Co(NO・6HO、Ni(NO・6HO、および(NHPdClから選択される、請求項1~のいずれか一項に記載の方法。
  10. 前記ブロックコポリマーが、1~50mg/mlの濃度で前記インク中に存在する、請求項1~のいずれか一項に記載の方法。
  11. 前記ブロックコポリマーが、PEO-b-P2VPまたはPEO-b-P4VPである、請求項1~10のいずれか一項に記載の方法。
  12. 前記インク中のピリジル基対金属化合物のモル比が、4:1~512:1である、請求項11に記載の方法。
  13. 前記ポリマーインク溶液のpHが、酸性である、請求項1~12のいずれか一項に記載の方法。
  14. 前記ポリマーインク溶液のpHが、1である、請求項1~13のいずれか一項に記載の方法。
  15. HClの添加により前記ポリマーインク溶液のpHを調整することを含む、請求項13または14に記載の方法。
  16. 前記基材が、TEMグリッドである、請求項1~15のいずれか一項に記載の方法。
  17. チップが、AFMチップである、請求項1~16のいずれか一項に記載の方法。
  18. 前記第1段階のアニーリングが、第3の温度での第3の第1段階のアニーリングステップを含み、前記第3の温度が、前記第1および第2の温度よりも高く、前記第2段階のアニーリング温度よりも低い、請求項1~17のいずれか一項に記載の方法。
  19. 前記第3の第1段階のアニーリングステップが、前記ナノリアクターを、前記第3の温度に2時間~12時間曝すことを含む、請求項18に記載の方法。
  20. 前記ポリマーインク溶液が、走査型プローブブロックコポリマーリソグラフィー、ディップペンナノリソグラフィー、マイクロコンタクトプリンティング、スピンコーティング、ディップコーティング、スプレーコーティング、およびドロップキャスティングのうちの1つ以上によって、堆積される、請求項1~19のいずれか一項に記載の方法。
  21. 印刷表示1つあたりに1~100アトリットルのポリマーインク溶液が堆積される、請求項1~20のいずれか一項に記載の方法。
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