JP7362431B2 - Film deposition equipment, how to remove the target unit, and how to attach the target unit - Google Patents

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Description

本発明は、スパッタリングにより基板に薄膜を形成する成膜装置、ターゲットユニットの取り外し方法、及びターゲットユニットの取り付け方法に関する。 The present invention relates to a film forming apparatus for forming a thin film on a substrate by sputtering, a method for removing a target unit, and a method for attaching a target unit.

スパッタリングにより基板に薄膜を形成する成膜装置においては、カソードの一部となる円筒状のターゲットが、回転しながらスパッタリングするように構成された技術が知られている。このような技術においては、ターゲットの両側に、それぞれ軸受機能が設けられている。 2. Description of the Related Art In a film forming apparatus that forms a thin film on a substrate by sputtering, a technique is known in which a cylindrical target, which is part of a cathode, is configured to perform sputtering while rotating. In such techniques, bearing functions are provided on each side of the target.

従来、ターゲットの片側に、ターゲットを回転させるための駆動系統と、ターゲットの内部に冷却液を供給する供給系統と、ターゲットに電圧を印加する電気系統を集中させて設ける構成が採用されていた。そのため、ターゲットの片側が大型化する傾向にあった。これにより、ターゲット等を交換する際のメンテナンス作業が大掛かりになる傾向にあった。 Conventionally, a configuration has been adopted in which a drive system for rotating the target, a supply system for supplying coolant into the target, and an electrical system for applying voltage to the target are concentrated on one side of the target. Therefore, there was a tendency for one side of the target to become larger. This tends to require extensive maintenance work when replacing targets and the like.

特開２０１６－１０８６３３号公報JP 2016-108633 Publication

本発明の目的は、メンテナンス性の向上を図ることのできる成膜装置、ターゲットユニットの取り外し方法、及びターゲットユニットの取り付け方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a film forming apparatus, a method for removing a target unit, and a method for attaching a target unit, which can improve maintainability.

本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。 The present invention employs the following means to solve the above problems.

本発明の成膜装置は、
スパッタリングによって、ターゲットの構成原子による薄膜を基板上に形成する成膜装置において、
チャンバーと、
前記チャンバー内に設けられ、前記ターゲットを有するターゲットユニットと、
前記チャンバーの一部を構成し、かつ、前記ターゲットユニットにおける回転中心軸線方向の一端側の軸受機能を有する第１ケースユニットと、
前記チャンバーの一部を構成し、かつ、前記ターゲットユニットにおける回転中心軸線方向の他端側の軸受機能を有する第２ケースユニットと、
を備え、
前記ターゲットユニットを回転させる駆動系統は、前記第１ケースユニット内から、前記ターゲットユニットへと接続され、
前記ターゲットユニットに供給される冷却液の供給系統と、前記ターゲットに電圧を印加する電気系統は、前記第２ケースユニット内から前記ターゲットユニットへと接続されると共に、
前記ターゲットユニットは、
筒状の前記ターゲットと、
前記ターゲットの内部に設けられ、かつ、磁力を発生する磁力発生部材を有する磁力
ユニットと、
を備え、
前記駆動系統は、
前記ターゲットを回転させる第１駆動機構と、
前記磁力ユニットを回転させる第２駆動機構と、
を備え、
前記磁力ユニットは、
径方向内側の空間が冷却液の通路として利用され、径方向外側の環状空間に前記磁力発生部材が収容される密閉空間となる２重管構造となっていることを特徴とする。
The film forming apparatus of the present invention includes:
In a film forming apparatus that forms a thin film of target constituent atoms on a substrate by sputtering,
chamber and
a target unit provided in the chamber and having the target;
a first case unit that constitutes a part of the chamber and has a bearing function on one end side in the rotation center axis direction of the target unit;
a second case unit that constitutes a part of the chamber and has a bearing function on the other end side in the rotation center axis direction of the target unit;
Equipped with
A drive system for rotating the target unit is connected to the target unit from within the first case unit,
A supply system for a cooling liquid supplied to the target unit and an electric system for applying voltage to the target are connected to the target unit from within the second case unit , and
The target unit is
The cylindrical target;
A magnetic force having a magnetic force generating member that is provided inside the target and generates magnetic force.
unit and
Equipped with
The drive system is
a first drive mechanism that rotates the target;
a second drive mechanism that rotates the magnetic force unit;
Equipped with
The magnetic force unit is
It is characterized by a double pipe structure in which the radially inner space is used as a coolant passage, and the radially outer annular space is a sealed space in which the magnetic force generating member is housed.

本発明によれば、ターゲットユニットにおける回転中心軸線方向の一方の側に、駆動系統と供給系統と電気系統が集中して配置されていないため、当該一方の側が大型化してし
まうことを抑制することができる。これにより、メンテナンス性を高めることができる。 According to the present invention, since the drive system, the supply system, and the electrical system are not arranged in a concentrated manner on one side of the target unit in the rotation center axis direction, it is possible to suppress the increase in size of the one side. I can do it. Thereby, maintainability can be improved.

以上説明したように、本発明によれば、メンテナンス性の向上を図ることができる。 As explained above, according to the present invention, it is possible to improve maintainability.

図１は本発明の実施例に係る成膜装置の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a film forming apparatus according to an embodiment of the present invention. 図２は本発明の実施例に係る磁石の配置構成を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing the arrangement of magnets according to an embodiment of the present invention. 図３は本発明の実施例に係るロータリーカソードの概略構成図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a rotary cathode according to an embodiment of the present invention. 図４は本発明の実施例に係るロータリーカソードの概略構成図である。FIG. 4 is a schematic diagram of a rotary cathode according to an embodiment of the present invention. 図５は本発明の実施例に係るロータリーカソードの概略構成図である。FIG. 5 is a schematic diagram of a rotary cathode according to an embodiment of the present invention.

以下に図面を参照して、この発明を実施するための形態を、実施例に基づいて例示的に詳しく説明する。ただし、この実施例に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。 EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, with reference to drawings, the form for implementing this invention is illustratively described in detail based on an Example. However, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, etc. of the components described in this example are not intended to limit the scope of this invention to only those, unless otherwise specified. .

（実施例）
図１～図５を参照して、本発明の実施例に係る成膜装置について説明する。本実施例に係る成膜装置は、スパッタリングによって、ターゲットの構成原子による薄膜を基板上に形成する装置である。以下の説明において、ターゲットの回転中心軸線を単に「回転中心軸線」と称し、回転中心軸線に平行な方向を「回転中心軸線方向」と称する。 (Example)
A film forming apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5. The film forming apparatus according to this embodiment is an apparatus that forms a thin film of constituent atoms of a target on a substrate by sputtering. In the following description, the rotation center axis of the target will be simply referred to as the "rotation center axis", and the direction parallel to the rotation center axis will be referred to as the "rotation center axis direction".

＜成膜装置の全体構成＞
図１及び図２を参照して、本実施例に係る成膜装置１の全体構成について説明する。図１は本発明の実施例１に係る成膜装置の概略構成図であり、成膜装置全体を断面的に見た場合の概略構成を示している。なお、図１中の上方は、成膜装置１が使用される際の鉛直方向の上方に相当し、図１中の下方は、成膜装置１が使用される際の鉛直方向下方に相当する。図２は磁石の配置構成を示す概略図である。 <Overall configuration of film forming apparatus>
The overall configuration of a film forming apparatus 1 according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a film deposition apparatus according to Example 1 of the present invention, and shows the schematic configuration when the entire film deposition apparatus is viewed in cross section. Note that the upper part in FIG. 1 corresponds to the upper part in the vertical direction when the film forming apparatus 1 is used, and the lower part in FIG. 1 corresponds to the lower part in the vertical direction when the film forming apparatus 1 is used. . FIG. 2 is a schematic diagram showing the arrangement of magnets.

本実施例に係る成膜装置１は、内部を真空雰囲気にすることのできるチャンバー２０と、チャンバー２０内の上部に設けられるロータリーカソード１０とを備えている。ただし、ロータリーカソード１０は複数の装置や部材により構成されており、本実施例においては、ロータリーカソード１０を構成する複数の装置及び部材のうちの一部は、チャンバー２０の外部に設けられている。そして、本実施例に係るチャンバー２０はアノードとしても機能する。また、チャンバー２０内の下部には、薄膜を形成させる基板４０を載置する載置台３０が設けられている。この載置台３０は、基板４０を所望の位置に搬送することができるように構成されている。 The film forming apparatus 1 according to this embodiment includes a chamber 20 that can create a vacuum atmosphere inside, and a rotary cathode 10 provided at the upper part of the chamber 20. However, the rotary cathode 10 is composed of a plurality of devices and members, and in this embodiment, some of the plurality of devices and members that make up the rotary cathode 10 are provided outside the chamber 20. . The chamber 20 according to this embodiment also functions as an anode. Furthermore, a mounting table 30 is provided at the lower part of the chamber 20 on which a substrate 40 on which a thin film is to be formed is mounted. This mounting table 30 is configured to be able to transport the substrate 40 to a desired position.

ロータリーカソード１０は、カソードの一部となる円筒状のターゲット１１０Ｒ１を有するターゲットユニット１００を備えている。ターゲット１１０Ｒ１としては、ＳＵＳやＴｉからなるバッキングチューブの外周面にＩｎ等の接着剤によりターゲット材料が接着されたタイプやバッキングチューブとターゲット材料が一体となった一体型タイプ等のいずれも適用可能である。そして、ターゲット１１０Ｒ１は、基板４０に対向する位置に設けられ、かつスパッタリングの際に回転するように構成されている。 The rotary cathode 10 includes a target unit 100 having a cylindrical target 110R1 that becomes a part of the cathode. Target 110R1 can be either a type in which the target material is adhered to the outer circumferential surface of a backing tube made of SUS or Ti using an adhesive such as In, or an integrated type in which the backing tube and target material are integrated. be. The target 110R1 is provided at a position facing the substrate 40 and is configured to rotate during sputtering.

また、ターゲットユニット１００は、ターゲット１１０Ｒ１の内部に設けられる磁力ユニット１２０Ｒ２を備えている。この磁力ユニット１２０Ｒ２は、２重管構造となっている（図３参照）。すなわち、磁力ユニット１２０Ｒ２は、外筒部１２１Ｒ２と、内筒部１
２２Ｒ２とを備えている。そして、内筒部１２２Ｒ２の内部の空間（径方向内側の空間）が冷却液の通路として利用され、外筒部１２１Ｒ２と内筒部１２２Ｒ２との間の環状空間（径方向外側の環状空間）に磁力発生部材としての磁石１２４Ｒ２が収容される。外筒部１２１Ｒ２と内筒部１２２Ｒ２との間の環状空間は、密閉空間となっており、冷却液が浸入することはない。 Further, the target unit 100 includes a magnetic force unit 120R2 provided inside the target 110R1. This magnetic force unit 120R2 has a double tube structure (see FIG. 3). That is, the magnetic force unit 120R2 has an outer cylinder part 121R2 and an inner cylinder part 1.
22R2. The space inside the inner cylindrical part 122R2 (radially inner space) is used as a coolant passage, and the annular space (radially outer annular space) between the outer cylindrical part 121R2 and the inner cylindrical part 122R2. A magnet 124R2 as a magnetic force generating member is housed. The annular space between the outer cylindrical portion 121R2 and the inner cylindrical portion 122R2 is a closed space, and the cooling liquid does not enter therein.

図２は図１中の磁石１２４Ｒ２を下方からみた図である。磁石１２４Ｒ２は、使用時において、下方に異なる２種類の磁極（Ｎ極とＳ極）が向くように配置される。Ｓ極は、Ｎ極との間に間隔を空けて、かつＮ極を取り囲むように設けられている。なお、Ｓ極とＮ極の配置関係は逆でも構わない。このように、ターゲット１１０Ｒ１の内部に磁力ユニット１２０Ｒ２が備えられることにより、ターゲット１１０Ｒ１と基板４０との間には磁場（漏えい磁場）が形成される。 FIG. 2 is a diagram of the magnet 124R2 in FIG. 1 viewed from below. During use, the magnet 124R2 is arranged so that two different types of magnetic poles (N pole and S pole) face downward. The south pole is provided with a space between the south pole and the north pole and to surround the north pole. Note that the arrangement relationship between the S pole and the N pole may be reversed. In this way, by providing the magnetic force unit 120R2 inside the target 110R1, a magnetic field (leakage magnetic field) is formed between the target 110R1 and the substrate 40.

以上のように構成される成膜装置１においては、ターゲット１１０Ｒ１とアノードとなるチャンバー２０との間に一定以上の電圧を印加することにより、これらの間にプラズマが発生する。そして、プラズマ中の陽イオンがターゲット１１０Ｒ１に衝突することで、ターゲット１１０Ｒ１からターゲット材料の粒子が放出される。ターゲット１１０Ｒ１から放出された粒子は、衝突を繰り返しながら、放出された粒子のうちターゲット物質の中性の原子が基板４０に堆積していく。これにより、基板４０には、ターゲット１１０Ｒ１の構成原子による薄膜が形成される。また、本実施例に係る成膜装置１においては、上記の漏えい磁場によって、図１中Ｐに示す付近（ターゲット１１０Ｒ１に対して略平行な磁場が形成される付近）にプラズマを集中させることができる。これにより、効率的にスパッタリングが行われるため、基板４０へのターゲット物質の堆積速度を向上させることができる。更に、本実施例に係る成膜装置１においては、スパッタリングの最中にはターゲット１１０Ｒ１が回転しているように構成されている。これにより、ターゲット１１０Ｒ１の消耗領域（エロ―ジョンによる浸食領域）が一部に集中することはなく、ターゲット１１０Ｒ１の利用効率を高めることができる。 In the film forming apparatus 1 configured as described above, plasma is generated between the target 110R1 and the chamber 20 serving as an anode by applying a voltage of a certain level or more between them. Then, when the positive ions in the plasma collide with the target 110R1, particles of the target material are released from the target 110R1. As the particles emitted from the target 110R1 repeatedly collide, neutral atoms of the target material among the ejected particles are deposited on the substrate 40. As a result, a thin film made of constituent atoms of the target 110R1 is formed on the substrate 40. Furthermore, in the film forming apparatus 1 according to the present embodiment, the leakage magnetic field described above makes it possible to concentrate the plasma in the vicinity indicated by P in FIG. 1 (the vicinity where a magnetic field approximately parallel to the target 110R1 is formed). can. As a result, sputtering is performed efficiently, so that the deposition rate of the target material onto the substrate 40 can be improved. Furthermore, the film forming apparatus 1 according to this embodiment is configured such that the target 110R1 is rotating during sputtering. As a result, the consumed area (corroded area due to erosion) of the target 110R1 is not concentrated in one part, and the utilization efficiency of the target 110R1 can be improved.

＜ロータリーカソード＞
特に、図３を参照して、本実施例に係るロータリーカソード１０について、より詳細に説明する。図３は本発明の実施例１に係るロータリーカソード１０の概略構成図であり、ロータリーカソード１０を断面的に見た場合の概略構成を示している。なお、図中、符号Ｂはボールベアリングなどの軸受であり、符号Ｇは相対的に静止した表面間を封止するガスケットであり、符号Ｓは相対的に運動する表面間を封止する密封装置である。これら軸受Ｂ，ガスケットＧ及び密封装置Ｓについては、説明に必要な個所に設けられたものについてのみ適宜説明し、その他の個所に設けられたものについては特に説明は行わない。 <Rotary cathode>
In particular, with reference to FIG. 3, the rotary cathode 10 according to this embodiment will be described in more detail. FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the rotary cathode 10 according to the first embodiment of the present invention, and shows the schematic configuration when the rotary cathode 10 is viewed in cross section. In the figure, the symbol B is a bearing such as a ball bearing, the symbol G is a gasket that seals between relatively stationary surfaces, and the symbol S is a sealing device that seals between relatively moving surfaces. It is. Regarding these bearings B, gaskets G, and sealing devices S, only those provided at the locations necessary for the explanation will be explained as appropriate, and those provided at other locations will not be particularly explained.

ロータリーカソード１０は、第１ケースユニットとしてのエンドブロック２００と、第２ケースユニットとしてのサポートブロック３００により支持されている。また、エンドブロック２００とサポートブロック３００は、支持部材４００により支持されている。これらエンドブロック２００とサポートブロック３００と支持部材４００は、いずれもチャンバー２０の一部を構成する部材である。 The rotary cathode 10 is supported by an end block 200 as a first case unit and a support block 300 as a second case unit. Further, the end block 200 and the support block 300 are supported by a support member 400. The end block 200, the support block 300, and the support member 400 are all members that constitute a part of the chamber 20.

上記の通り、ロータリーカソード１０はターゲットユニット１００を備えている。このターゲットユニット１００は、チャンバー２０の内部（Ｖ）に設けられる。そして、ターゲットユニット１００における回転中心軸線方向の一端側の軸受機能がエンドブロック２００に設けられ、ターゲットユニット１００における回転中心軸線方向の他端側の軸受機能がサポートブロック３００に設けられている。 As described above, the rotary cathode 10 includes the target unit 100. This target unit 100 is provided inside the chamber 20 (V). The end block 200 has a bearing function on one end of the target unit 100 in the rotation center axis direction, and the support block 300 has a bearing function on the other end of the target unit 100 in the rotation center axis direction.

また、ロータリーカソード１０は、ターゲットユニット１００を回転させる駆動系統と
、ターゲットユニット１００に供給される冷却液の供給系統と、ターゲット１１０Ｒ１に電圧を印加する電気系統とを備えている。これら駆動系統、供給系統、及び電気系統は、いずれも複数の部材により構成される。また、ロータリーカソード１０は、各種装置の駆動制御を行う制御装置６００も備えている。 Further, the rotary cathode 10 includes a drive system for rotating the target unit 100, a supply system for a coolant supplied to the target unit 100, and an electric system for applying voltage to the target 110R1. Each of the drive system, supply system, and electrical system is composed of a plurality of members. The rotary cathode 10 also includes a control device 600 that controls the drive of various devices.

駆動系統は、エンドブロック２００内から、ターゲットユニット１００へ接続されるように構成されている。すなわち、エンドブロック２００は、ケース状のエンドブロック本体２１０を備えている。このエンドブロック本体２１０の内部に駆動系統を構成する各種部材が配されることで、駆動系統は、エンドブロック２００内からターゲットユニット１００に接続されている。なお、エンドブロック本体２１０の内部は、大気（Ａ）に曝されている。 The drive system is configured to be connected to the target unit 100 from within the end block 200. That is, the end block 200 includes a case-shaped end block main body 210. The drive system is connected to the target unit 100 from within the end block 200 by disposing various members constituting the drive system inside the end block main body 210. Note that the inside of the end block main body 210 is exposed to the atmosphere (A).

また、冷却液の供給系統と、ターゲット１１０Ｒ１に電圧を印加する電気系統は、サポートブロック３００内からターゲットユニット１００へと接続されるように構成されている。すなわち、サポートブロック３００は、ケース状のサポートブロック本体３１０を備えている。このサポートブロック本体３１０の内部に、供給系統を構成する各種部材と、電気系統を構成する各種部材が配されることで、これら供給系統と電気系統は、いずれもサポートブロック３００内からターゲットユニット１００に接続されている。なお、サポートブロック本体３１０の内部は、大気（Ａ）に曝されている。 Further, the cooling liquid supply system and the electric system that applies voltage to the target 110R1 are configured to be connected to the target unit 100 from within the support block 300. That is, the support block 300 includes a case-shaped support block main body 310. Various members constituting a supply system and various members constituting an electrical system are arranged inside the support block main body 310, so that both the supply system and the electrical system can be connected to the target unit 100 from within the support block 300. It is connected to the. Note that the inside of the support block main body 310 is exposed to the atmosphere (A).

また、ロータリーカソード１０は、エンドブロック２００に回転自在に軸支される第１支持軸部と、サポートブロック３００に回転自在に軸支される第２支持軸部とを備えている。そして、ターゲットユニット１００は、これら第１支持軸部と第２支持軸部の双方に対して着脱自在に構成されている。 Further, the rotary cathode 10 includes a first support shaft portion rotatably supported by the end block 200 and a second support shaft portion rotatably supported by the support block 300. The target unit 100 is configured to be detachable from both the first support shaft and the second support shaft.

より具体的には、第１支持軸部は、ターゲット１１０Ｒ１に着脱自在に構成される環状の第１ターゲット用支持軸２２０Ｒ１と、磁力ユニット１２０Ｒ２に着脱自在に構成される第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２とを備えている。第１ターゲット用支持軸２２０Ｒ１は、エンドブロック本体２１０に形成された挿通孔２１１に挿通されるように配されて、軸受Ｂによって、エンドブロック本体２１０に回転自在に軸支されている。なお、挿通孔２１１と第１ターゲット用支持軸２２０Ｒ１との間の環状隙間は、密封装置Ｓにより封止されている。また、第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２は、第１ターゲット用支持軸２２０Ｒ１の内側を挿通するように配されて、軸受Ｂによって、第１ターゲット用支持軸２２０Ｒ１に対して回転自在に軸支されている。なお、第１ターゲット用支持軸２２０Ｒ１と第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２との間の環状隙間も、密封装置Ｓにより封止されている。 More specifically, the first support shaft portion includes an annular first target support shaft 220R1 that is configured to be detachably attached to the target 110R1, and a first magnetic force unit support shaft that is configured to be detachably attached to the magnetic force unit 120R2. 230R2. The first target support shaft 220R1 is arranged so as to be inserted through the insertion hole 211 formed in the end block main body 210, and is rotatably supported by the end block main body 210 by a bearing B. Note that the annular gap between the insertion hole 211 and the first target support shaft 220R1 is sealed by a sealing device S. Further, the first magnetic force unit support shaft 230R2 is disposed so as to pass through the inside of the first target support shaft 220R1, and is rotatably supported by the bearing B with respect to the first target support shaft 220R1. ing. Note that the annular gap between the first target support shaft 220R1 and the first magnetic force unit support shaft 230R2 is also sealed by the sealing device S.

ターゲット１１０Ｒ１は、固定具２４０Ｒ１によって、第１ターゲット用支持軸２２０Ｒ１に固定される。また、固定具２４０Ｒ１を外すことで、ターゲット１１０Ｒ１を第１ターゲット用支持軸２２０Ｒ１から取り外すことができる。固定具２４０Ｒ１については、クランプなどの締め付け具やボルトとナットの組み合わせなど、各種公知技術を適用することができる。また、磁力ユニット１２０Ｒ２は、第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２に対して、回転中心軸線方向への挿抜により着脱することができる。なお、例えば、図示のように、磁力ユニット１２０Ｒ２の端部に設けられる凸部と、第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２の端部に設けられる凹部とによる凹凸嵌合構造によって、磁力ユニット１２０Ｒ２を第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２に対して着脱自在に構成することができる。なお、これら磁力ユニット１２０Ｒ２と第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２は、回転中心軸線を中心とする回転方向の相対的な移動は規制されるように構成されている。従って、第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２が回転すると、磁力ユニット１２０Ｒ２も第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２と一体的に回転する。なお、磁力ユニット１２０Ｒ２
を第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２に対して着脱自在に構成するための構造について、図示の例に限定されることはなく、適宜、公知技術を採用することができる。 The target 110R1 is fixed to the first target support shaft 220R1 by a fixture 240R1. Further, by removing the fixture 240R1, the target 110R1 can be removed from the first target support shaft 220R1. As for the fixture 240R1, various known techniques can be applied, such as a tightening tool such as a clamp or a combination of bolts and nuts. Moreover, the magnetic force unit 120R2 can be attached to and removed from the first magnetic force unit support shaft 230R2 by being inserted into and removed from the rotation center axis direction. For example, as shown in the figure, the magnetic force unit 120R2 is connected to the first magnetic force unit 120R2 by a concave-convex fitting structure formed by a convex portion provided at the end of the magnetic force unit 120R2 and a recessed portion provided at the end of the first magnetic force unit support shaft 230R2. It can be configured to be detachable from the support shaft 230R2 for one magnetic force unit. Note that the magnetic force unit 120R2 and the first magnetic force unit support shaft 230R2 are configured so that relative movement in the rotational direction about the rotation center axis is restricted. Therefore, when the first magnetic force unit support shaft 230R2 rotates, the magnetic force unit 120R2 also rotates integrally with the first magnetic force unit support shaft 230R2. In addition, magnetic force unit 120R2
The structure for attaching and detaching the first magnetic force unit support shaft 230R2 to the first magnetic force unit support shaft 230R2 is not limited to the illustrated example, and any known technology can be adopted as appropriate.

また、第２支持軸部は、ターゲット１１０Ｒ１に着脱自在に構成される環状の第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１と、磁力ユニット１２０Ｒ２に着脱自在に構成される第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２とを備えている。第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１は、サポートブロック本体３１０に形成された挿通孔３１１に挿通されるように配されて、軸受Ｂによって、サポートブロック本体３１０に回転自在に軸支されている。なお、挿通孔３１１と第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１との間の環状隙間は、密封装置Ｓにより封止されている。また、第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２は、第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１の内側を挿通するように配されて、軸受Ｂによって、第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１に対して回転自在に軸支されている。なお、第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１と第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２との間の環状隙間も、密封装置Ｓにより封止されている。 Further, the second support shaft portion includes an annular second target support shaft 320R1 configured to be detachably attached to the target 110R1, and a second magnetic force unit support shaft 330R2 configured to be detachably attached to the magnetic force unit 120R2. ing. The second target support shaft 320R1 is arranged so as to be inserted through the insertion hole 311 formed in the support block body 310, and is rotatably supported by the support block body 310 by a bearing B. Note that the annular gap between the insertion hole 311 and the second target support shaft 320R1 is sealed by a sealing device S. Further, the second magnetic force unit support shaft 330R2 is arranged to pass through the inside of the second target support shaft 320R1, and is rotatably supported by the bearing B with respect to the second target support shaft 320R1. ing. Note that the annular gap between the second target support shaft 320R1 and the second magnetic force unit support shaft 330R2 is also sealed by the sealing device S.

第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１は、内筒部３２１Ｒ１と、内筒部３２１Ｒ１と同軸的に設けられ、かつ内筒部３２１Ｒ１の外周面側に設けられる外筒部３２２Ｒ１とを備えている。これら内筒部３２１Ｒ１と外筒部３２２Ｒ１は、中心軸線方向に対しては、相対的なスライド移動が可能に構成されつつ、回転方向に対しての相対的な移動ができないように、回り止め部材３２３Ｒ１によって、回り止めがなされている。従って、駆動系統により回転駆動力が伝達される際においては、内筒部３２１Ｒ１と外筒部３２２Ｒ１は一体的に回転する。なお、外筒部３２２Ｒ１の端部かつ内周面側には、スライド移動による回り止め部材３２３Ｒ１の進入と退出を可能とする切り欠き部３２２ａＲ１が設けられている。 The second target support shaft 320R1 includes an inner cylindrical portion 321R1 and an outer cylindrical portion 322R1 provided coaxially with the inner cylindrical portion 321R1 and provided on the outer peripheral surface side of the inner cylindrical portion 321R1. The inner cylindrical portion 321R1 and the outer cylindrical portion 322R1 are configured to be able to slide relative to each other in the direction of the central axis, but are provided with anti-rotation members so that they cannot move relative to the rotational direction. 323R1 prevents rotation. Therefore, when the rotational driving force is transmitted by the drive system, the inner cylinder part 321R1 and the outer cylinder part 322R1 rotate integrally. Note that a notch portion 322aR1 is provided at the end and inner peripheral surface side of the outer cylinder portion 322R1 to allow the rotation prevention member 323R1 to enter and exit by sliding movement.

ここで、第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２は、その内部に冷却液の通路が設けられている。より具体的には、第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２の内部に配管部３３１Ｒ２が設けられており、この配管部３３１Ｒ２の内部と外部に冷却液の通路が設けられている。 Here, the second magnetic force unit support shaft 330R2 is provided with a coolant passage therein. More specifically, a piping portion 331R2 is provided inside the second magnetic force unit support shaft 330R2, and a coolant passage is provided inside and outside the piping portion 331R2.

そして、ターゲット１１０Ｒ１は、固定具３４０Ｒ１によって、第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１（より具体的には、内筒部３２１Ｒ１）に固定される。また、固定具３４０Ｒ１を外すことで、ターゲット１１０Ｒ１を第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１から取り外すことができる。固定具３４０Ｒ１については、クランプなどの締め付け具やボルトとナットの組み合わせなど、各種公知技術を適用することができる。また、磁力ユニット１２０Ｒ２は、第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２に対して、回転中心軸線方向への挿抜により着脱することができる。本実施例においては、内筒部１２２Ｒ２の内側に配管部３３１Ｒ２が差し込まれるようにすることで、磁力ユニット１２０Ｒ２を第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２に対して着脱自在に構成することができる。なお、これら磁力ユニット１２０Ｒ２と第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２は、回転中心軸線を中心とする回転方向の相対的な移動は規制されるように構成されている。従って、磁力ユニット１２０Ｒ２が回転すると、第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２も磁力ユニット１２０Ｒ２と一体的に回転する。なお、磁力ユニット１２０Ｒ２を第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２に対して着脱自在に構成するための構造について、図示の例に限定されることはなく、適宜、公知技術を採用することができる。 Then, the target 110R1 is fixed to the second target support shaft 320R1 (more specifically, the inner cylinder portion 321R1) by a fixture 340R1. Further, by removing the fixture 340R1, the target 110R1 can be removed from the second target support shaft 320R1. As for the fixture 340R1, various known techniques can be applied, such as a tightening tool such as a clamp or a combination of bolts and nuts. Moreover, the magnetic force unit 120R2 can be attached to and detached from the second magnetic force unit support shaft 330R2 by being inserted into and removed from the second magnetic force unit support shaft 330R2 in the rotation center axis direction. In this embodiment, by inserting the piping portion 331R2 inside the inner cylinder portion 122R2, the magnetic force unit 120R2 can be configured to be detachable from the second magnetic force unit support shaft 330R2. Note that the magnetic force unit 120R2 and the second magnetic force unit support shaft 330R2 are configured so that relative movement in the rotational direction about the rotation center axis is restricted. Therefore, when the magnetic force unit 120R2 rotates, the second magnetic force unit support shaft 330R2 also rotates integrally with the magnetic force unit 120R2. Note that the structure for configuring the magnetic force unit 120R2 to be detachably attached to the second magnetic force unit support shaft 330R2 is not limited to the illustrated example, and any known technology can be adopted as appropriate.

また、第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１を介して、ターゲットユニット１００とは反対側に、第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２を回転自在に軸支する軸受ユニット３５０が設けられている。この軸受ユニット３５０は、駆動系統による回転駆動力は伝達されず、かつ、第２支持軸部（第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１及び第２磁力ユニット用支持
軸３３０Ｒ２）がサポートブロック３００に対して回転中心軸線方向にスライドする際には、第２支持軸部と共に移動可能に構成されている。この軸受ユニット３５０の端部に設けられた挿通孔３５１内に、第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２の端部に設けられた軸部３３２Ｒ２が挿通され、軸受Ｂによって、第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２は軸受ユニット３５０に対して回転自在に軸支されている。 Further, a bearing unit 350 that rotatably supports the second magnetic force unit support shaft 330R2 is provided on the opposite side of the target unit 100 via the second target support shaft 320R1. In this bearing unit 350, the rotational driving force from the drive system is not transmitted, and the second support shaft portion (the second target support shaft 320R1 and the second magnetic force unit support shaft 330R2) rotates with respect to the support block 300. When sliding in the central axis direction, it is configured to be movable together with the second support shaft. The shaft portion 332R2 provided at the end of the second magnetic force unit support shaft 330R2 is inserted into the insertion hole 351 provided at the end of the bearing unit 350, and the second magnetic force unit support shaft 330R2 is inserted by the bearing B. 330R2 is rotatably supported by a bearing unit 350.

＜駆動系統＞
駆動系統について、より詳細に説明する。駆動系統は、ターゲット１１０Ｒ１を回転させる第１駆動機構と、磁力ユニット１２０Ｒ２を回転させる第２駆動機構とを備えている。本実施例においては、駆動源であるモータ５００によって、第１駆動機構と第２駆動機構の両者を駆動させることができるように構成されている。なお、第１駆動機構によって、回転中心軸線を中心に回転する各種部材については数字の符号の後に「Ｒ１」を付している。同様に、第２駆動機構によって、回転中心軸線を中心に回転する各種部材については数字の符号の後に「Ｒ２」を付している。 <Drive system>
The drive system will be explained in more detail. The drive system includes a first drive mechanism that rotates the target 110R1 and a second drive mechanism that rotates the magnetic force unit 120R2. In this embodiment, the configuration is such that both the first drive mechanism and the second drive mechanism can be driven by the motor 500 that is the drive source. In addition, "R1" is attached after the numerical code|symbol about the various members rotated by the 1st drive mechanism centering on a rotation center axis line. Similarly, "R2" is attached after the numerical code for various members that are rotated around the rotation center axis by the second drive mechanism.

モータ５００によって回転する回転軸５１０は、軸受Ｂが備えられた軸受部材５２０によって、回転自在に支持されている。ターゲット１１０Ｒ１を回転させるための第１駆動機構は、回転軸５１０に取り付けられる第１プーリ５３０と、第１ターゲット用支持軸２２０Ｒ１に取り付けられる第２プーリ２２１Ｒ１と、これら第１プーリ５３０と第２プーリ２２１Ｒ１に巻き付けられる第１ベルト２２２とから構成される。以上のように構成される第１駆動機構によれば、モータ５００により回転軸５１０が回転すると、回転動力が第１ベルト２２２によって第２プーリ２２１Ｒ１に伝達されて、ターゲット１１０Ｒ１が第１ターゲット用支持軸２２０Ｒ１及び第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１と共に回転する。 A rotating shaft 510 rotated by the motor 500 is rotatably supported by a bearing member 520 provided with a bearing B. The first drive mechanism for rotating the target 110R1 includes a first pulley 530 attached to the rotating shaft 510, a second pulley 221R1 attached to the first target support shaft 220R1, and the first pulley 530 and the second pulley. 221R1. According to the first drive mechanism configured as described above, when the rotating shaft 510 is rotated by the motor 500, the rotational power is transmitted to the second pulley 221R1 by the first belt 222, and the target 110R1 becomes the first target support. It rotates together with the shaft 220R1 and the second target support shaft 320R1.

磁力ユニット１２０Ｒ２を回転させるための第２駆動機構は、回転軸５１０に取り付けられる第３プーリ５４０と、第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２に取り付けられる第４プーリ２３１Ｒ２と、これら第３プーリ５４０と第４プーリ２３１Ｒ２に巻き付けられる第２ベルト２３２とから構成される。第３プーリ５４０と回転軸５１０との間には軸受Ｂが設けられている。また、回転軸５１０には、回転動力の第２駆動機構への伝達と遮断を切り替えるクラッチ５５０が備えられている。より具体的には、このクラッチ５５０は、回転軸５１０に対して回転軸５１０の回転中心軸線と平行に往復移動可能に構成されている。そして、クラッチ５５０が、第３プーリ５４０に接触した状態では回転軸５１０の回転動力が第３プーリ５４０に伝達され、第３プーリ５４０から離れると回転軸５１０の回転動力が第３プーリ５４０に伝達されないように構成されている。なお、図３においては、第３プーリ５４０に接触した状態のクラッチ５５０を実線で示し、第３プーリ５４０から離れた状態のクラッチ５５０ａを点線で示している。なお、クラッチ５５０の動力として、電磁力を利用した電磁式クラッチを好適に利用することができる。ただし、これに限らず、機械式、油圧式、空圧式など各種のクラッチを利用することもできる。 The second drive mechanism for rotating the magnetic unit 120R2 includes a third pulley 540 attached to the rotating shaft 510, a fourth pulley 231R2 attached to the first magnetic unit support shaft 230R2, and a third pulley 540 and a third pulley 231R2 attached to the first magnetic unit support shaft 230R2. The second belt 232 is wound around the four pulleys 231R2. A bearing B is provided between the third pulley 540 and the rotating shaft 510. Further, the rotating shaft 510 is equipped with a clutch 550 that switches between transmitting and interrupting the rotational power to the second drive mechanism. More specifically, this clutch 550 is configured to be able to reciprocate with respect to the rotating shaft 510 in parallel to the rotation center axis of the rotating shaft 510. When the clutch 550 is in contact with the third pulley 540, the rotational power of the rotating shaft 510 is transmitted to the third pulley 540, and when the clutch 550 is separated from the third pulley 540, the rotational power of the rotating shaft 510 is transmitted to the third pulley 540. is configured so that it does not occur. In addition, in FIG. 3, the clutch 550 in a state in which it is in contact with the third pulley 540 is shown by a solid line, and the clutch 550a in a state in which it is separated from the third pulley 540 is shown in a dotted line. Note that as the power for the clutch 550, an electromagnetic clutch using electromagnetic force can be suitably used. However, the present invention is not limited to this, and various types of clutches such as mechanical, hydraulic, and pneumatic clutches may also be used.

また、第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２には、磁力ユニット１２０Ｒ２の回転を制止させるブレーキ２３３Ｒ２が設けられている。より具体的には、このブレーキ２３３Ｒ２は、第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２に対して回転中心軸線と平行に往復移動可能に構成されている。そして、ブレーキ２３３Ｒ２が第４プーリ２３１Ｒ２に接触した状態では第４プーリ２３１Ｒ２の回転が制止され、ブレーキ２３３Ｒ２が第４プーリ２３１Ｒ２から離れると、第４プーリ２３１Ｒ２の回転が可能な状態となる。なお、図３においては、第４プーリ２３１Ｒ２に接触した状態のブレーキ２３３ａを点線で示し、第４プーリ２３１Ｒ２から離れた状態のブレーキ２３３Ｒ２を実線で示している。なお、ブレーキ２３３Ｒ２の動力として、電磁力を利用した電磁式ブレーキを好適に利用することができる。ただし、これに限らず、機械式、油圧式、空圧式など各種のブレーキを利用することも
できる。 Further, the first magnetic force unit support shaft 230R2 is provided with a brake 233R2 that stops the rotation of the magnetic force unit 120R2. More specifically, this brake 233R2 is configured to be able to reciprocate in parallel to the rotation center axis with respect to the first magnetic force unit support shaft 230R2. When the brake 233R2 is in contact with the fourth pulley 231R2, the fourth pulley 231R2 is prevented from rotating, and when the brake 233R2 is separated from the fourth pulley 231R2, the fourth pulley 231R2 is allowed to rotate. In addition, in FIG. 3, the brake 233a in a state of contacting the fourth pulley 231R2 is shown by a dotted line, and the brake 233R2 in a state of being separated from the fourth pulley 231R2 is shown by a solid line. Note that an electromagnetic brake using electromagnetic force can be suitably used as the power for the brake 233R2. However, the brake is not limited to this, and various types of brakes such as mechanical, hydraulic, and pneumatic types can also be used.

以上のように構成される第２駆動機構によれば、クラッチ５５０により駆動伝達がなされる状態、かつブレーキ２３３Ｒ２が解除された状態においては、モータ５００により回転軸５１０が回転すると、回転動力が第２ベルト２３２によって第４プーリ２３１Ｒ２に伝達されて、第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２と共に磁力ユニット１２０Ｒ２が回転する。そして、クラッチ５５０により動力の伝達が遮断された状態においては、回転軸５１０の回転動力は磁力ユニット１２０Ｒ２には伝達されない。しかしながら、複数の軸受Ｂと密封装置Ｓによる摺動抵抗が発生するため、第２駆動機構によって、磁力ユニット１２０Ｒ２に動力が伝達されていなくても、ターゲット１１０Ｒ１が回転すると磁力ユニット１２０Ｒ２が摺動抵抗によって多少連れ回りする可能性がある。そこで、本実施例に係る第２駆動機構には、上記の通りブレーキ２３３Ｒ２が設けられている。これにより、クラッチ５５０により動力の伝達が遮断される場合には、ブレーキ２３３Ｒ２によって第４プーリ２３１Ｒ２の回転を制止させることで、磁力ユニット１２０Ｒ２の連れ回りが阻止される。 According to the second drive mechanism configured as described above, when the rotation shaft 510 is rotated by the motor 500 when the drive is transmitted by the clutch 550 and the brake 233R2 is released, the rotational power is transmitted to the second drive mechanism. 2 belt 232 to the fourth pulley 231R2, and the magnetic unit 120R2 rotates together with the first magnetic unit support shaft 230R2. In a state where power transmission is interrupted by the clutch 550, the rotational power of the rotating shaft 510 is not transmitted to the magnetic force unit 120R2. However, since sliding resistance is generated by the plurality of bearings B and the sealing device S, when the target 110R1 rotates, even if power is not transmitted to the magnetic unit 120R2 by the second drive mechanism, the magnetic unit 120R2 will cause sliding resistance. There is a possibility that it will be carried around to some extent. Therefore, the second drive mechanism according to this embodiment is provided with the brake 233R2 as described above. Thereby, when the transmission of power is cut off by the clutch 550, the rotation of the fourth pulley 231R2 is stopped by the brake 233R2, thereby preventing the magnetic force unit 120R2 from rotating together.

＜供給系統と電気系統＞
供給系統を構成する第１配管７１０と第２配管７２０は、軸受ユニット３５０に接続されている。軸受ユニット３５０には、第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２の内部に設けられた冷却液の通路と、第１配管７１０の管内、及び第２配管７２０の管内とを繋ぐための貫通孔３５２，３５３がそれぞれ設けられている。なお、第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２の内部に設けられた冷却液の通路のうち、径方向に向かう通路は、放射状に伸びるように複数設けられている。そして、貫通孔３５２の両側と貫通孔３５３の両側に、それぞれ密封装置Ｓが設けられている。このような構成により、いわゆるロータリージョイントが構成され、静止状態にある軸受ユニット３５０、第１配管７１０及び第２配管７２０と、回転する第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２との間において、冷却液が外部に漏れることなく、冷却液を循環させることが可能となっている。なお、ロータリージョイントについては、公知技術であるので、その詳細な説明は省略する。 <Supply system and electrical system>
The first pipe 710 and the second pipe 720 that constitute the supply system are connected to the bearing unit 350. The bearing unit 350 has through holes 352 and 353 for connecting the coolant passage provided inside the second magnetic force unit support shaft 330R2 with the inside of the first pipe 710 and the inside of the second pipe 720. are provided for each. Note that among the coolant passages provided inside the second magnetic force unit support shaft 330R2, a plurality of passages extending in the radial direction are provided so as to extend radially. Sealing devices S are provided on both sides of the through hole 352 and on both sides of the through hole 353, respectively. With such a configuration, a so-called rotary joint is configured, and the coolant flows between the bearing unit 350, the first pipe 710, and the second pipe 720 in a stationary state and the rotating second magnetic force unit support shaft 330R2. This allows the coolant to circulate without leaking to the outside. Note that since the rotary joint is a known technology, detailed explanation thereof will be omitted.

図３においては、冷却液の流れ方の一例を矢印にて示している。すなわち、第１配管７１０から貫通孔３５２を通って、第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２の内部に供給された冷却液は、配管部３３１Ｒ２内を通って、磁力ユニット１２０Ｒ２における内筒部１２２Ｒ２内へと送られる。ターゲットユニット１００においては、磁力ユニット１２０Ｒ２における内筒部１２２Ｒ２の内部の空間と、磁力ユニット１２０Ｒ２とターゲット１１０Ｒ１との間の環状隙間が貫通孔１２３Ｒ２により連通されて、冷却液が流れる通路となっている。これにより、内筒部１２２Ｒ２内に送られた冷却液は、貫通孔１２３Ｒ２を通って、磁力ユニット１２０Ｒ２とターゲット１１０Ｒ１との間の環状隙間に送られる。その後、冷却液は、第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２における配管部３３１Ｒ２の外側に設けられた通路を通って、貫通孔３５３から第２配管７２０を通じて排出される。なお、配管部３３１Ｒ２の外側に設けられる通路は、例えば、貫通孔３５３に通じるように複数設けられた放射状の通路から、それぞれ第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２における図中左側の端面に至るように複数設けられる連通孔により構成することができる。また、図示の例では、第１配管７１０から第２配管７２０に冷却液が流れるように構成する場合を示したが、第２配管７２０から第１配管７１０に冷却液が流れるように構成するようにしても構わない。 In FIG. 3, arrows indicate an example of how the coolant flows. That is, the coolant supplied from the first pipe 710 to the inside of the second magnetic force unit support shaft 330R2 through the through hole 352 passes through the pipe part 331R2 and enters the inner cylinder part 122R2 of the magnetic force unit 120R2. is sent. In the target unit 100, the space inside the inner cylindrical portion 122R2 of the magnetic force unit 120R2 and the annular gap between the magnetic force unit 120R2 and the target 110R1 are communicated by the through hole 123R2, and serve as a passage through which the cooling liquid flows. . Thereby, the coolant sent into the inner cylinder portion 122R2 is sent to the annular gap between the magnetic force unit 120R2 and the target 110R1 through the through hole 123R2. Thereafter, the coolant passes through a passage provided outside the piping portion 331R2 in the second magnetic force unit support shaft 330R2, and is discharged from the through hole 353 through the second piping 720. Note that the passages provided on the outside of the piping portion 331R2 include, for example, a plurality of radial passages leading to the through hole 353, each leading to an end surface on the left side in the figure of the second magnetic force unit support shaft 330R2. It can be configured with a plurality of communicating holes. Further, in the illustrated example, the configuration is such that the cooling liquid flows from the first piping 710 to the second piping 720, but it is also possible to configure the cooling liquid to flow from the second piping 720 to the first piping 710. It doesn't matter if you do it.

電気系統は、電気配線８１０と、電気配線８１０に接続されるスリップリング８２０とを備えている。スリップリング８２０は、軸受ユニット３５０に固定され、かつ第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１に摺動するように設けられている。これにより、静止状態にある軸受ユニット３５０、電気配線８１０及びスリップリング８２０に対して、第２ターゲ
ット用支持軸３２０Ｒ１が回転しても、スリップリング８２０を通じて第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１に電圧が印加される。また、第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１とターゲット１１０Ｒ１も接しているため、ターゲット１１０Ｒ１にも電圧が印加されることになる。 The electrical system includes an electrical wiring 810 and a slip ring 820 connected to the electrical wiring 810. The slip ring 820 is fixed to the bearing unit 350 and is provided to slide on the second target support shaft 320R1. As a result, even if the second target support shaft 320R1 rotates, voltage is applied to the second target support shaft 320R1 through the slip ring 820 with respect to the bearing unit 350, electric wiring 810, and slip ring 820 that are in a stationary state. be done. Further, since the second target support shaft 320R1 and the target 110R1 are also in contact with each other, a voltage is also applied to the target 110R1.

＜ロータリーカソードの動作制御＞
制御装置６００によるロータリーカソード１０の動作制御について説明する。スパッタリングを行う場合には、基板４０の形状等に応じて、薄膜を形成させる部位が異なることがある。そして、薄膜を形成させる部位は、プラズマを集中させる位置を変えることで設定することができる。本実施例に係るロータリーカソード１０によれば、磁力ユニット１２０Ｒ２を回転させて、ターゲット１１０Ｒ１に対する磁石１２４Ｒ２の向きを変えることで、プラズマを集中させる位置を変えることが可能となる。 <Operation control of rotary cathode>
Operation control of rotary cathode 10 by control device 600 will be explained. When sputtering is performed, the portion where the thin film is formed may vary depending on the shape of the substrate 40 and the like. The location where the thin film is to be formed can be determined by changing the location where the plasma is concentrated. According to the rotary cathode 10 according to this embodiment, by rotating the magnetic force unit 120R2 and changing the direction of the magnet 124R2 with respect to the target 110R1, it is possible to change the position where plasma is concentrated.

また、長期間に亘ってロータリーカソード１０が使用されていない場合など、ターゲット１１０Ｒ１の表面が酸化してしまったり、表面に汚れが付着してしまったりする場合がある。そのため、基板４０に薄膜を形成させるためのスパッタリングを行う前に、基板４０への薄膜の形成を伴わないスパッタリング動作（プリスパッタリングと呼ばれる）を行って、汚れなどを除去する制御を行うことがある。この場合には、例えば、基板４０が配置される側とは反対側に磁石１２４Ｒ２を向かせた状態でプリスパッタリングが行われる。 Further, when the rotary cathode 10 is not used for a long period of time, the surface of the target 110R1 may become oxidized or dirt may adhere to the surface. Therefore, before performing sputtering to form a thin film on the substrate 40, a sputtering operation that does not involve forming a thin film on the substrate 40 (referred to as pre-sputtering) may be performed to remove dirt and the like. . In this case, for example, pre-sputtering is performed with the magnet 124R2 facing the opposite side to the side where the substrate 40 is placed.

以上のような制御が行われることで、基板４０に対する所望の位置に薄膜を形成させることが可能となる。 By performing the above control, it becomes possible to form a thin film at a desired position on the substrate 40.

＜メンテナンス＞
ターゲット１１０Ｒ１等が長期使用により経時的に劣化した際に、ターゲット１１０Ｒ１等を交換する際のメンテナンスについて、特に、図４及び図５を参照して説明する。本実施例においては、ターゲットユニット１００の着脱を、以下のように容易に行うことができる。すなわち、まず、固定具３４０Ｒ１が取り外される（ターゲットユニット１００と第２支持軸部との固定を解除する工程）。そして、第２支持軸部（第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１及び第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２）と軸受ユニット３５０が、中心軸線方向にスライドされることで、これらはターゲットユニット１００から離間した状態となる（第２支持軸部を第２ケースユニット（サポートブロック３００）に対して回転中心軸線方向にスライドさせて、第２支持軸部をターゲットユニット１００から離間させる工程（図４参照））。なお、第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１については、内筒部３２１Ｒ１のみがスライド移動し、外筒部３２２Ｒ１は移動しない。 <Maintenance>
Maintenance when replacing the target 110R1 etc. when the target 110R1 etc. deteriorate over time due to long-term use will be explained with particular reference to FIGS. 4 and 5. In this embodiment, the target unit 100 can be easily attached and detached as follows. That is, first, the fixture 340R1 is removed (a step of releasing the fixation between the target unit 100 and the second support shaft). Then, the second support shaft portion (the second target support shaft 320R1 and the second magnetic force unit support shaft 330R2) and the bearing unit 350 are slid in the central axis direction, so that they are separated from the target unit 100. (Step of separating the second support shaft part from the target unit 100 by sliding the second support shaft part in the rotation center axis direction with respect to the second case unit (support block 300) (see FIG. 4)). In addition, regarding the second target support shaft 320R1, only the inner cylinder part 321R1 slides and the outer cylinder part 322R1 does not move.

ここで、冷却液を供給するポンプなどの冷却液供給源（不図示）や、電圧を印加する電源（不図示）が移動可能に構成される場合には、図中、実線で示すように、第１配管７１０及び第２配管７２０と、電気配線８１０も、軸受ユニット３５０と共にスライドする構成を採用することができる。ただし、冷却液供給源や電源が固定される場合には、これらを、可撓性を有する部材により構成するとよい。これにより、軸受ユニット３５０の移動に伴って、それぞれ点線で示される第１配管７１０ａ、第２配管７２０ａ、及び電気配線８１０ａは撓むように変形する。従って、冷却液供給源や電源は固定されたままでも支障がない。 Here, if the coolant supply source (not shown) such as a pump that supplies the coolant and the power source (not shown) that applies voltage are configured to be movable, as shown by the solid line in the figure, A configuration may be adopted in which the first pipe 710, the second pipe 720, and the electric wiring 810 also slide together with the bearing unit 350. However, when the coolant supply source and the power source are fixed, it is preferable to configure them with flexible members. As a result, as the bearing unit 350 moves, the first piping 710a, the second piping 720a, and the electric wiring 810a, each indicated by a dotted line, are deformed so as to be bent. Therefore, there is no problem even if the coolant supply source and power source remain fixed.

そして、上記のスライド動作が終了された後に、固定具２４０Ｒ１が取り外される（ターゲットユニット１００と第１支持軸部との固定を解除する工程）。これにより、ターゲットユニット１００は、第１支持軸部（第１ターゲット用支持軸２２０Ｒ１及び第１磁力ユニット用支持軸２３０Ｒ２）から取り外される（図５参照）。 After the above slide operation is completed, the fixture 240R1 is removed (a step of releasing the fixation between the target unit 100 and the first support shaft). Thereby, the target unit 100 is removed from the first support shaft portion (first target support shaft 220R1 and first magnetic force unit support shaft 230R2) (see FIG. 5).

このように、ターゲットユニット１００を第１支持軸部及び第２支持軸部から簡単に取り外すことができる。そして、ターゲット１１０Ｒ１を新品のものに交換した後にターゲットユニット１００（または、新品のターゲットユニット１００）を、上記の取り外し順序とは逆の順序で、簡単に取り付けることができる。つまり、ターゲットユニットの取り付け方法については、以下の通りである。まず、固定具２４０Ｒ１によって、ターゲットユニット１００と第１支持軸部とが固定される（ターゲットユニット１００と第１支持軸部とを固定する工程（図４参照））。そして、第２支持軸部と軸受ユニット３５０が、中心軸線方向にスライドされることで、これらはターゲットユニット１００に近づけられる（第２支持軸部を第２ケースユニット（サポートブロック３００）に対して回転中心軸線方向にスライドさせて、第２支持軸部をターゲットユニット１００に近づける工程）。その後、固定具３４０Ｒ１によって、ターゲットユニット１００と第２支持軸部とが固定される（ターゲットユニット１００と第２支持軸部とを固定する工程）。以上の工程により、ターゲットユニット１００が取り付けられる（図３参照）。 In this way, the target unit 100 can be easily removed from the first support shaft and the second support shaft. After replacing the target 110R1 with a new one, the target unit 100 (or the new target unit 100) can be easily attached in the reverse order of the above-mentioned removal order. That is, the method for attaching the target unit is as follows. First, the target unit 100 and the first support shaft section are fixed by the fixture 240R1 (step of fixing the target unit 100 and the first support shaft section (see FIG. 4)). Then, by sliding the second support shaft portion and the bearing unit 350 in the direction of the central axis, they are brought closer to the target unit 100 (the second support shaft portion is moved relative to the second case unit (support block 300)). (a step of moving the second support shaft portion closer to the target unit 100 by sliding it in the direction of the rotation center axis). Thereafter, the target unit 100 and the second support shaft portion are fixed by the fixture 340R1 (a step of fixing the target unit 100 and the second support shaft portion). Through the above steps, the target unit 100 is attached (see FIG. 3).

＜本実施例に係る成膜装置の優れた点＞
本実施例に係る成膜装置によれば、ターゲットユニットにおける回転中心軸線方向の一方の側（例えば、エンドブロック２００側）に、駆動系統と供給系統と電気系統が集中して配置されていないため、当該一方の側が大型化してしまうことを抑制することができる。これにより、メンテナンス性を高めることができる。 <Excellent points of the film forming apparatus according to this example>
According to the film forming apparatus according to this embodiment, the drive system, supply system, and electrical system are not arranged in a concentrated manner on one side (for example, on the end block 200 side) in the rotation center axis direction of the target unit. , it is possible to prevent the one side from increasing in size. Thereby, maintainability can be improved.

また、本実施例によれば、第２支持軸部（第２ターゲット用支持軸３２０Ｒ１及び第２磁力ユニット用支持軸３３０Ｒ２）と軸受ユニット３５０が、サポートブロック本体３１０に対してスライド可能に構成されている。これにより、メンテナンス性をより一層高くすることができる。 Further, according to this embodiment, the second support shaft portion (the second target support shaft 320R1 and the second magnetic force unit support shaft 330R2) and the bearing unit 350 are configured to be slidable with respect to the support block main body 310. ing. Thereby, maintainability can be further improved.

（その他）
上記実施例においては、駆動源であるモータ５００によって、第１駆動機構と第２駆動機構の両者を駆動させることができるように構成される場合を示した。しかしながら、本発明においては、そのような構成に限定されることはなく、第１駆動機構と第２駆動機構を別々の駆動源（モータ）によって駆動させる構成も適用可能である。 (others)
In the above embodiment, a case has been shown in which the motor 500 serving as the drive source is configured to drive both the first drive mechanism and the second drive mechanism. However, the present invention is not limited to such a configuration, and a configuration in which the first drive mechanism and the second drive mechanism are driven by separate drive sources (motors) is also applicable.

１ 成膜装置
１０ ロータリーカソード
２０ チャンバー
３０ 載置台
４０ 基板
１００ ターゲットユニット
１１０Ｒ１ ターゲット
１２０Ｒ２ 磁力ユニット
１２１Ｒ２ 外筒部
１２２Ｒ２ 内筒部
１２３Ｒ２ 貫通孔
１２４Ｒ２ 磁石
２００ エンドブロック
２１０ エンドブロック本体
２１１ 挿通孔
２３３Ｒ２ ブレーキ
２４０Ｒ１ 固定具
３００ サポートブロック
３１０ サポートブロック本体
３１１ 挿通孔
３２１Ｒ１ 内筒部
３２２Ｒ１ 外筒部
３２３Ｒ１ 回り止め部材
３３１Ｒ２ 配管部
３３２Ｒ２ 軸部
３４０Ｒ１ 固定具
３５０ 軸受ユニット
３５１ 挿通孔
３５２，３５３ 貫通孔
４００ 支持部材
５００ モータ
５１０ 回転軸
５２０ 軸受部材
５５０ クラッチ
６００ 制御装置
７１０ 第１配管
７２０ 第２配管
８１０ 電気配線
８２０ スリップリング
Ｂ 軸受
Ｇ ガスケット
Ｓ 密封装置 1 Film forming apparatus 10 Rotary cathode 20 Chamber 30 Mounting table 40 Substrate 100 Target unit 110R1 Target 120R2 Magnetic force unit 121R2 Outer cylinder part 122R2 Inner cylinder part 123R2 Through hole 124R2 Magnet 200 End block 210 End block body 211 Insertion hole 233R 2 Brake 240R1 Fixture 300 Support block 310 Support block body 311 Insertion hole 321R1 Inner cylinder part 322R1 Outer cylinder part 323R1 Stopper member 331R2 Piping part 332R2 Shaft part 340R1 Fixture 350 Bearing unit 351 Insertion hole 352, 353 Through hole 400 Support member 500 Motor 510 Rotation axis 520 Bearing member 550 Clutch 600 Control device 710 First piping 720 Second piping 810 Electrical wiring 820 Slip ring B Bearing G Gasket S Sealing device

Claims (12)

スパッタリングによって、ターゲットの構成原子による薄膜を基板上に形成する成膜装置において、
チャンバーと、
前記チャンバー内に設けられ、前記ターゲットを有するターゲットユニットと、
前記チャンバーの一部を構成し、かつ、前記ターゲットユニットにおける回転中心軸線方向の一端側の軸受機能を有する第１ケースユニットと、
前記チャンバーの一部を構成し、かつ、前記ターゲットユニットにおける回転中心軸線方向の他端側の軸受機能を有する第２ケースユニットと、
を備え、
前記ターゲットユニットを回転させる駆動系統は、前記第１ケースユニット内から、前記ターゲットユニットへと接続され、
前記ターゲットユニットに供給される冷却液の供給系統と、前記ターゲットに電圧を印加する電気系統は、前記第２ケースユニット内から前記ターゲットユニットへと接続されると共に、
前記ターゲットユニットは、
筒状の前記ターゲットと、
前記ターゲットの内部に設けられ、かつ、磁力を発生する磁力発生部材を有する磁力ユニットと、
を備え、
前記駆動系統は、
前記ターゲットを回転させる第１駆動機構と、
前記磁力ユニットを回転させる第２駆動機構と、
を備え、
前記磁力ユニットは、
径方向内側の空間が冷却液の通路として利用され、径方向外側の環状空間に前記磁力発生部材が収容される密閉空間となる２重管構造となっていることを特徴とする成膜装置。 In a film forming apparatus that forms a thin film of target constituent atoms on a substrate by sputtering,
chamber and
a target unit provided in the chamber and having the target;
a first case unit that constitutes a part of the chamber and has a bearing function on one end side in the rotation center axis direction of the target unit;
a second case unit that constitutes a part of the chamber and has a bearing function on the other end side in the rotation center axis direction of the target unit;
Equipped with
A drive system for rotating the target unit is connected to the target unit from within the first case unit,
A supply system for a cooling liquid supplied to the target unit and an electric system for applying voltage to the target are connected to the target unit from within the second case unit , and
The target unit is
The cylindrical target;
a magnetic force unit that is provided inside the target and has a magnetic force generating member that generates magnetic force;
Equipped with
The drive system is
a first drive mechanism that rotates the target;
a second drive mechanism that rotates the magnetic force unit;
Equipped with
The magnetic force unit is
A film forming apparatus characterized in that it has a double tube structure in which a radially inner space is used as a passage for a cooling liquid, and a radially outer annular space is a sealed space in which the magnetic force generating member is accommodated. 前記磁力ユニットにおける前記径方向内側の空間と、前記磁力ユニットと前記ターゲットとの間の環状隙間が連通されて、冷却液が流れる通路となっていることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。 The structure according to claim 1 , wherein the radially inner space in the magnetic force unit and an annular gap between the magnetic force unit and the target are communicated with each other to form a passage through which a cooling liquid flows. Membrane device. スパッタリングによって、ターゲットの構成原子による薄膜を基板上に形成する成膜装置において、
チャンバーと、
前記チャンバー内に設けられ、前記ターゲットを有するターゲットユニットと、
前記チャンバーの一部を構成し、かつ、前記ターゲットユニットにおける回転中心軸線方向の一端側の軸受機能を有する第１ケースユニットと、
前記チャンバーの一部を構成し、かつ、前記ターゲットユニットにおける回転中心軸線方向の他端側の軸受機能を有する第２ケースユニットと、
を備え、
前記ターゲットユニットを回転させる駆動系統は、前記第１ケースユニット内から、前記ターゲットユニットへと接続され、
前記ターゲットユニットに供給される冷却液の供給系統と、前記ターゲットに電圧を印加する電気系統は、前記第２ケースユニット内から前記ターゲットユニットへと接続されると共に、
前記第１ケースユニットに回転自在に軸支される第１支持軸部と、
前記第２ケースユニットに回転自在に軸支される第２支持軸部と、
を備え、
前記ターゲットユニットは、これら第１支持軸部と第２支持軸部の双方に対して着脱自在に構成され、
前記ターゲットユニットは、
筒状の前記ターゲットと、
前記ターゲットの内部に設けられ、かつ、磁力を発生する磁力発生部材を有する磁力ユニットと、
を備えると共に、
前記第２支持軸部は、
前記ターゲットに着脱自在に構成される環状の第２ターゲット用支持軸と、
前記磁力ユニットに着脱自在に構成される第２磁力ユニット用支持軸と、
を備え、
前記第２磁力ユニット用支持軸は、前記第２ターゲット用支持軸に対して回転自在に軸支され、
前記第２磁力ユニット用支持軸の内部に冷却液の通路が設けられていることを特徴とする成膜装置。 In a film forming apparatus that forms a thin film of target constituent atoms on a substrate by sputtering,
chamber and
a target unit provided in the chamber and having the target;
a first case unit that constitutes a part of the chamber and has a bearing function on one end side in the rotation center axis direction of the target unit;
a second case unit that constitutes a part of the chamber and has a bearing function on the other end side in the rotation center axis direction of the target unit;
Equipped with
A drive system for rotating the target unit is connected to the target unit from within the first case unit,
A supply system for a cooling liquid supplied to the target unit and an electric system for applying voltage to the target are connected to the target unit from within the second case unit , and
a first support shaft rotatably supported by the first case unit;
a second support shaft rotatably supported by the second case unit;
Equipped with
The target unit is configured to be detachable from both the first support shaft portion and the second support shaft portion,
The target unit is
The cylindrical target;
a magnetic force unit that is provided inside the target and has a magnetic force generating member that generates magnetic force;
In addition to providing
The second support shaft portion is
an annular second target support shaft configured to be detachably attached to the target;
a second magnetic force unit support shaft configured to be detachably attached to the magnetic force unit;
Equipped with
The second magnetic force unit support shaft is rotatably supported with respect to the second target support shaft,
A film forming apparatus characterized in that a coolant passage is provided inside the second magnetic force unit support shaft . 前記ターゲットユニットは、
筒状の前記ターゲットと、
前記ターゲットの内部に設けられ、かつ、磁力を発生する磁力発生部材を有する磁力ユニットと、
を備えると共に、
前記第１支持軸部は、
前記ターゲットに着脱自在に構成される環状の第１ターゲット用支持軸と、
前記磁力ユニットに着脱自在に構成される第１磁力ユニット用支持軸と、
を備え、
前記第１磁力ユニット用支持軸は、前記第１ターゲット用支持軸に対して回転自在に軸支されていることを特徴とする請求項３に記載の成膜装置。 The target unit is
The cylindrical target;
a magnetic force unit that is provided inside the target and has a magnetic force generating member that generates magnetic force;
In addition to providing
The first support shaft portion is
an annular first target support shaft configured to be detachably attached to the target;
a first magnetic force unit support shaft configured to be detachably attached to the magnetic force unit;
Equipped with
4. The film forming apparatus according to claim 3 , wherein the first magnetic force unit support shaft is rotatably supported with respect to the first target support shaft. スパッタリングによって、ターゲットの構成原子による薄膜を基板上に形成する成膜装
置において、
チャンバーと、
前記チャンバー内に設けられ、前記ターゲットと、前記ターゲットの内部に設けられ、かつ、磁力を発生する磁力発生部材を有する磁力ユニットと、を備えるターゲットユニットと、
前記ターゲットユニットにおける回転中心軸線方向の一端側の軸受機能を有する第１ケースユニットと、
前記ターゲットユニットにおける回転中心軸線方向の他端側の軸受機能を有する第２ケースユニットと、
前記ターゲットに着脱自在に構成される環状の第２ターゲット用支持軸と、前記磁力ユニットに着脱自在に構成される第２磁力ユニット用支持軸と、前記第２磁力ユニット用支持軸の内部に設けられた冷却液の通路と、前記第２ターゲット用支持軸を介して、前記ターゲットユニットとは反対側に、前記第２磁力ユニット用支持軸を回転自在に軸支する軸受ユニットと、電気配線と、前記電気配線に接続され、かつ前記軸受ユニットに固定されると共に、前記第２ターゲット用支持軸に摺動するように設けられるスリップリングと、を備え、前記第２ケースユニットに回転自在に軸支される第２支持軸部と、
を備え、
前記ターゲットユニットを回転させる駆動系統は、前記第１ケースユニット内から、前記ターゲットユニットへと接続され、
前記ターゲットユニットに供給される冷却液の供給系統と、前記ターゲットに電圧を印加する電気系統は、前記第２ケースユニット内から前記ターゲットユニットへと接続されることを特徴とする成膜装置。 In a film forming apparatus that forms a thin film of target constituent atoms on a substrate by sputtering,
chamber and
a target unit that is provided in the chamber and includes the target; and a magnetic force unit that is provided inside the target and has a magnetic force generating member that generates magnetic force;
a first case unit having a bearing function on one end side in the rotation center axis direction of the target unit;
a second case unit having a bearing function on the other end side in the rotation center axis direction of the target unit;
an annular second target support shaft configured to be detachably attached to the target; a second magnetic force unit support shaft configured to be detachably attached to the magnetic force unit; and a second magnetic force unit support shaft provided inside the second magnetic force unit support shaft. A bearing unit rotatably supports the second magnetic force unit support shaft, and an electric wiring, on the opposite side of the target unit through the coolant passage and the second target support shaft. a slip ring connected to the electrical wiring, fixed to the bearing unit, and provided to slide on the second target support shaft; a second support shaft portion supported;
Equipped with
A drive system for rotating the target unit is connected to the target unit from within the first case unit,
A film forming apparatus characterized in that a supply system for a cooling liquid supplied to the target unit and an electric system for applying voltage to the target are connected to the target unit from inside the second case unit. 前記軸受ユニットは、前記駆動系統による回転駆動力は伝達されず、かつ、前記第２支持軸部が前記第２ケースユニットに対して回転中心軸線方向にスライドする際には、前記第２支持軸部と共に移動可能に構成されていることを特徴とする請求項５に記載の成膜装置。 When the rotational driving force from the drive system is not transmitted to the bearing unit and the second support shaft portion slides in the direction of the rotation center axis with respect to the second case unit, the second support shaft portion 6. The film forming apparatus according to claim 5 , wherein the film forming apparatus is configured to be movable together with the shaft. 前記軸受ユニットの内部に冷却液の通路が設けられており、該軸受ユニットに前記供給系統を構成する配管が接続されていることを特徴とする請求項５または６に記載の成膜装置。 7. The film forming apparatus according to claim 5 , wherein a coolant passage is provided inside the bearing unit, and a pipe constituting the supply system is connected to the bearing unit. 前記配管は可撓性を有することを特徴とする請求項７に記載の成膜装置。 8. The film forming apparatus according to claim 7 , wherein the piping has flexibility. 前記電気配線は可撓性を有することを特徴とする請求項５～８のいずれか一つに記載の成膜装置。 9. The film forming apparatus according to claim 5, wherein the electrical wiring has flexibility. スパッタリングによって、ターゲットの構成原子による薄膜を基板上に形成する成膜装置において、
チャンバーと、
前記チャンバー内に設けられ、前記ターゲットを有するターゲットユニットと、
前記チャンバーの一部を構成し、かつ、前記ターゲットユニットにおける回転中心軸線方向の一端側の軸受機能を有する第１ケースユニットと、
前記チャンバーの一部を構成し、かつ、前記ターゲットユニットにおける回転中心軸線方向の他端側の軸受機能を有する第２ケースユニットと、
を備え、
前記ターゲットユニットを回転させる駆動系統は、前記第１ケースユニット内から、前記ターゲットユニットへと接続され、
前記ターゲットユニットに供給される冷却液の供給系統と、前記ターゲットに電圧を印加する電気系統は、前記第２ケースユニット内から前記ターゲットユニットへと接続され
ると共に、
前記第１ケースユニットに回転自在に軸支される第１支持軸部と、
前記第２ケースユニットに回転自在に軸支される第２支持軸部と、
を備え、
前記ターゲットユニットは、これら第１支持軸部と第２支持軸部の双方に対して着脱自在に構成され、
前記ターゲットユニットと前記第２支持軸部とが固定されていない状態においては、該第２支持軸部は、前記第２ケースユニットに対して回転中心軸線方向にスライド可能に構成されていることを特徴とする成膜装置。 In a film forming apparatus that forms a thin film of target constituent atoms on a substrate by sputtering,
chamber and
a target unit provided in the chamber and having the target;
a first case unit that constitutes a part of the chamber and has a bearing function on one end side in the rotation center axis direction of the target unit;
a second case unit that constitutes a part of the chamber and has a bearing function on the other end side in the rotation center axis direction of the target unit;
Equipped with
A drive system for rotating the target unit is connected to the target unit from within the first case unit,
A supply system for a cooling liquid supplied to the target unit and an electric system for applying voltage to the target are connected to the target unit from within the second case unit , and
a first support shaft rotatably supported by the first case unit;
a second support shaft rotatably supported by the second case unit;
Equipped with
The target unit is configured to be detachable from both the first support shaft portion and the second support shaft portion,
When the target unit and the second support shaft are not fixed, the second support shaft is configured to be slidable in the direction of the rotational center axis with respect to the second case unit. Characteristic film forming equipment. 請求項１０に記載の成膜装置における前記ターゲットユニットの取り外し方法であって、
前記ターゲットユニットと前記第２支持軸部との固定を解除する工程と、
前記第２支持軸部を前記第２ケースユニットに対して回転中心軸線方向にスライドさせて、該第２支持軸部を前記ターゲットユニットから離間させる工程と、
前記ターゲットユニットと前記第１支持軸部との固定を解除する工程と、
を有することを特徴とするターゲットユニットの取り外し方法。 A method for removing the target unit in the film forming apparatus according to claim 10 , comprising:
releasing the fixation between the target unit and the second support shaft;
a step of separating the second support shaft from the target unit by sliding the second support shaft with respect to the second case unit in the rotation center axis direction;
releasing the fixation between the target unit and the first support shaft;
A method for removing a target unit, comprising: 請求項１０に記載の成膜装置における前記ターゲットユニットの取り付け方法であって、
前記ターゲットユニットと前記第１支持軸部とを固定する工程と、
前記第２支持軸部を前記第２ケースユニットに対して回転中心軸線方向にスライドさせて、該第２支持軸部を前記ターゲットユニットに近づける工程と、
前記ターゲットユニットと前記第２支持軸部とを固定する工程と、
を有することを特徴とするターゲットユニットの取り付け方法。 A method for attaching the target unit in the film forming apparatus according to claim 10 ,
fixing the target unit and the first support shaft;
sliding the second support shaft portion relative to the second case unit in the direction of the rotation center axis, and bringing the second support shaft portion closer to the target unit;
fixing the target unit and the second support shaft;
A method for attaching a target unit, comprising:
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