JP7315149B2 - 表面処理装置 - Google Patents
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Description
この表面処理装置は、所謂オートクレーブであり、圧力容器であるチャンバーと、この チャンバー内で処理対象である複数のアルミニウム合金片を吊り下げ保持する合金片保持部と、高圧・中高温の処理水蒸気を生成する処理蒸気生成部を備えている。
また、処理蒸気生成部として直接加熱方式を採用した場合、同じく、複数のアルミニウム合金片を合金片保持部に吊り下げてセットした後、チャンバー外のヒータに通電して、そのチャンバー内に位置する発熱部でチャンバー下部の純水を直接加熱することで、チャンバー内において処理水蒸気を生成する。
すなわち、本発明の第一の態様は、チャンバーと、チャンバー内で処理対象を保持する処理対象保持部と、処理対象保持部に保持された処理対象を水で浸漬するためにチャンバーに水を導入するための水導入部と、チャンバー外に配置されチャンバー内に導入する処理水蒸気を生成する処理蒸気生成部と、処理蒸気生成部で生成された処理水蒸気をチャンバーに導入する処理水蒸気導入部と、処理水蒸気導入部の処理水蒸気の導入を制御するための処理水蒸気導入制御部と、水導入部からチャンバーに導入された処理対象を浸漬するための水及びチャンバーに導入された処理水蒸気によって生じる凝縮水をチャンバー底部からチャンバー外に導出する水導出部と、水導出部から導出された水をチャンバー内圧力が維持された状態で滞留可能な凝縮槽部と、を有する構成としている。
<実施形態1>
<概要>
<構成>
この場合、チャンバー0110内の下部には、多数のノズル0131及びこれらの多数のノズル01310と連通する図1Aに破線で示す流路0132が形成されたノズルプレート0133が配置されており、このノズルプレート0133の流路0132を処理水蒸気導入部0130に連通させることで、ボイラ0120で生成された飽和水蒸気を多数のノズル0131からチャンバー0110内に導入するようになっている。
一方、圧力コントローラ0142は、圧力センサ0162の検出結果に応じて、後述する圧力調整器0144を適宜開閉動作させることで、チャンバー0110内の圧力が所定高さの圧力となるように制御する。
なお、プレート駆動機構としては、モータを駆動源とするチェーンを用いた駆動機構やラックアンドピニオン式の駆動機構を採用し得るほか、シリンダを駆動源とするプッシュプル式の駆動機構を採用し得る。
<処理の流れ>
この際、表面処理に供する試験片が小さく且つ個数が多い場合は、これらの小試験片を絶縁材やこれに類する材料で被覆された容器に収容して表面処理を行うようにする。
<効果>
<実施形態2>
<概要>
このように、チャンバーに導入する飽和水蒸気をさらに加熱して過熱水蒸気とすることで、処理時間のより一層の短縮及びより高品質の皮膜の形成が可能であるというという効果を奏する。
<構成>
<効果>
<実施形態3>
<概要>
このように、外部ジャケット及びジャケット温調部を用いて、チャンバーを加熱し又は/及び冷却するように成すことで、処理時間のより一層の短縮が可能であるという効果を奏する。
<構成>
<効果>
0115 水導出孔(水導出部)
0120 ボイラ(処理蒸気生成部)
0130 処理水蒸気導入部
0140 集中制御盤(処理水蒸気導入制御部)
0150 処理対象保持部
0160 検出部
0161 温度センサ(温度検出手段)
0162 圧力センサ(圧力検出手段)
0170 凝縮槽部
0180 水導入部
Claims (5)
- チャンバーと、
チャンバー内で処理対象を保持する処理対象保持部と、
処理対象保持部に保持された処理対象を水で浸漬するためにチャンバーに水を導入するための水導入部と、
チャンバー外に配置されチャンバー内に導入する処理水蒸気を生成する処理蒸気生成部と、
処理蒸気生成部で生成された処理水蒸気をチャンバーに導入する処理水蒸気導入部と、
処理水蒸気導入部の処理水蒸気の導入を制御するための処理水蒸気導入制御部と、
水導入部からチャンバーに導入された処理対象を浸漬するための水及びチャンバーに導入された処理水蒸気によって生じる凝縮水をチャンバー底部からチャンバー外に導出する水導出部と、
水導出部から導出された水をチャンバー内圧力が維持された状態で滞留可能な凝縮槽部と、
を有し、
チャンバーは、外部ジャケットと、外部ジャケットを加熱し又は/及び冷却するジャケット温調部と、をさらに有する表面処理装置。 - チャンバーの雰囲気を検出する検出部をさらに有し、
処理水蒸気導入制御部は、検出部の検出結果に応じて処理水蒸気の導入及びチャンバー内圧力を制御する検出制御手段をさらに有する請求項1に記載の表面処理装置。 - 前記検出部は、温度検出手段及び圧力検出手段である請求項2に記載の表面処理装置。
- 導入する処理水蒸気を加熱するための処理水蒸気加熱部をさらに有する請求項1から請求項3のいずれか一に記載の表面処理装置。
- 処理対象は金属表面を有するものである請求項1から請求項4に記載の表面処理装置。
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Citations (7)
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-
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- 2019-11-29 JP JP2019216220A patent/JP7315149B2/ja active Active
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