JP7313856B2 - Xenon ultra-fine bubble generator - Google Patents
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Description
本発明は、液体中にキセノンウルトラファインバブル（Xenon Ultra Fine Bubble）（以下、「キセノンＵＦＢ」とも表示する。）を発生させるためのキセノンＵＦＢ発生剤であって、キセノン（Ｘｅ）含有率が３重量％以上の氷を含有することを特徴とする、前記キセノンＵＦＢ発生剤や、該発生剤を用いたキセノンＵＦＢ含有液体組成物の製造方法や、該キセノンＵＦＢ含有液体組成物などに関する。 The present invention relates to a xenon UFB generator for generating xenon ultra fine bubbles (hereinafter also referred to as "xenon UFB") in a liquid, the xenon UFB generator characterized by containing ice having a xenon (Xe) content of 3% by weight or more, a method for producing a xenon UFB-containing liquid composition using the generator, the xenon UFB-containing liquid composition, and the like.
常圧下の水などの溶媒中での直径が１０００ｎｍ以下の微細気泡は、「ウルトラファインバブル」とも称される。かかるウルトラファインバブルは、直径が１ｍｍ以上である通常の気泡と比較して、（１）気泡界面表面積が著しく大きいこと、（２）気泡泡内圧力が大きいこと、（３）気体溶解効率が高いこと、（４）気泡上昇速度が遅いこと、などの優れた特質を有することから、例えば半導体の洗浄処理、水浄化処理や殺菌処理、牡蠣や貝の養殖等で有用であると考えられている。このようなウルトラファインバブルの生成方法としては、これまでに種々の方法が提案されていると共に実施もされている（特許文献１、２、３）。しかし、これらの生成方法は、ウルトラファインバブル発生装置が必須であるため、ウルトラファインバブルの使用環境が制限され、消費者が手軽に取り扱えない等の問題を有していた。 Microbubbles with a diameter of 1000 nm or less in a solvent such as water under normal pressure are also referred to as "ultra-fine bubbles". Such ultra-fine bubbles have excellent characteristics such as (1) a remarkably large bubble interface surface area, (2) a large internal bubble pressure, (3) a high gas dissolution efficiency, and (4) a slow bubble rising speed, compared to ordinary bubbles having a diameter of 1 mm or more. Therefore, it is believed that such ultra-fine bubbles are useful, for example, in semiconductor cleaning, water purification and sterilization, oyster and shellfish farming, and the like. As a method for generating such ultra-fine bubbles, various methods have been proposed and implemented (Patent Documents 1, 2, and 3). However, since these production methods require an ultra-fine bubble generator, the environment in which the ultra-fine bubbles can be used is limited, and consumers cannot handle them easily.
ところで、キセノンは、管球やストロボ封入用のガスとして、医療用途では、Ｘ線検査用の造影剤（特許文献４）や、麻酔剤（特許文献５）などとして利用されている。また、キセノンは、臓器や細胞等の生体材料に対して保存作用を有すること（特許文献６）や、脳保護作用を有すること（特許文献７）も知られている。キセノンを造影剤や麻酔剤として用いる場合、キセノンを吸入投与する方法のほか、静脈内投与する方法（例えば点滴）などが用いられている。例えば、特許文献４には、内部にキセノンの気体を含有し、金属酸化物微粒子を内包乃至吸着させたリポソームを含む注射剤を造影剤として用いることが記載されている。 By the way, xenon is used as a gas for enclosing tubes and strobes, and in medical applications, as a contrast agent for X-ray examinations (Patent Document 4), an anesthetic agent (Patent Document 5), and the like. It is also known that xenon has a preservative effect on biomaterials such as organs and cells (Patent Document 6) and a brain protective effect (Patent Document 7). When xenon is used as a contrast agent or an anesthetic, xenon is administered by inhalation or by intravenous administration (for example, infusion). For example, Patent Document 4 describes the use of an injection as a contrast agent, which contains a liposome containing xenon gas and having metal oxide fine particles encapsulated or adsorbed therein.
キセノン含有率の高い氷の一種として、キセノンハイドレート（すなわち、キセノンガスハイドレート）という物質が知られている。キセノンハイドレートとは、水分子の結晶体の空寸にキセノン分子を閉じ込めた包接化合物をいう。結晶体を形成する水分子は「ホスト分子」、水分子の結晶体の空寸に閉じ込められている分子は「ゲスト分子」または「ゲスト物質」と呼ばれる。キセノンハイドレートは、融解するとキセノンと水に分解するため、融解時にキセノン（キセノンガス）を発生させる。キセノンハイドレートのキセノン含有率は、キセノンハイドレートの製法にもよるが、約３～５３．５重量％程度とすることができ、キセノン溶解水（２０℃）のキセノン含有率（約０．６重量％程度）と比較して顕著に高い。 A substance called xenon hydrate (that is, xenon gas hydrate) is known as a type of ice with a high xenon content. A xenon hydrate is a clathrate compound in which xenon molecules are confined in the voids of water molecule crystals. A water molecule that forms a crystal is called a "host molecule", and a molecule that is confined in the vacant space of the water molecule crystal is called a "guest molecule" or "guest substance". When xenon hydrate melts, it decomposes into xenon and water, so xenon (xenon gas) is generated when it melts. The xenon content of the xenon hydrate can range from about 3 to 53.5% by weight, depending on the manufacturing method of the xenon hydrate, which is significantly higher than the xenon content of the xenon-dissolved water (20°C) (about 0.6% by weight).
キセノンハイドレート等の希ガスハイドレート自体は公知である。希ガスハイドレートの用途としては、複数種の希ガスを含んだ混合ガスと水とを、低温かつ高圧力下で接触させて希ガスハイドレートを作製することで、前述の混合ガスから希ガスを分離することが知られている（特許文献８）。 Rare gas hydrates such as xenon hydrate are known per se. As an application of the rare gas hydrate, it is known to separate the rare gas from the above mixed gas by bringing a mixed gas containing multiple types of rare gases into contact with water at low temperature and high pressure to produce a rare gas hydrate (Patent Document 8).
メタンハイドレートなどのガスハイドレートを水に添加して融解させると、ガスハイドレートからゲスト分子の気泡が発生することは知られていたが、キセノンハイドレートを水に添加して融解させると、キセノンハイドレートからキセノンウルトラファインバブルが高濃度で発生することは知られていなかった。 It was known that when a gas hydrate such as methane hydrate is added to water and melted, bubbles of guest molecules are generated from the gas hydrate.
本発明の課題は、ウルトラファインバブル発生装置を必要とせずに、手軽にキセノンウルトラファインバブルを液体中に発生させることができるキセノンウルトラファインバブル発生剤や、キセノンウルトラファインバブル含有液体組成物の製造方法や、かかる製造方法により製造されるキセノンウルトラファインバブル含有液体組成物等を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a xenon ultra-fine bubble generator that can easily generate xenon ultra-fine bubbles in a liquid without requiring an ultra-fine bubble generator, a method for producing a xenon ultra-fine bubble-containing liquid composition, and a xenon ultra-fine bubble-containing liquid composition produced by such a production method.
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討する中で、キセノン含有率が３重量％以上の氷（好ましくはキセノンハイドレート）を融解させると、ウルトラファインバブル発生装置を必要とせずに、キセノンウルトラファインバブルを高濃度で含有する液体組成物を作製することができることを見いだし、本発明を完成するに至った。また、前述のキセノンウルトラファインバブル含有液体組成物のＣＴ値（Ｘ線吸収値）を測定したところ、水のＣＴ値や、ＣＯ２ウルトラファインバブル含有液体組成物のＣＴ値よりも高く、キセノンウルトラファインバブル含有液体組成物は造影剤として使用できることを見いだし、本発明を完成するに至った。 In the course of intensive studies to solve the above problems, the present inventors found that by melting ice with a xenon content of 3% by weight or more (preferably xenon hydrate), a liquid composition containing xenon ultra-fine bubbles at a high concentration can be produced without requiring an ultra-fine bubble generator, and have completed the present invention. In addition, when the CT value (X-ray absorption value) of the xenon ultra-fine bubble-containing liquid composition was measured, it was found to be higher than the CT value of water and the CT value of the CO2 ultra- fine bubble-containing liquid composition.
すなわち、本発明は、
（１）液体中にキセノンウルトラファインバブルを発生させるためのキセノンウルトラファインバブル発生剤であって、キセノン含有率が３重量％以上の氷を含有することを特徴とする、前記キセノンウルトラファインバブル発生剤；
（２）キセノン含有率が３重量％以上の氷が、キセノンハイドレートである上記（１）に記載のキセノンウルトラファインバブル発生剤；
（３）キセノン含有率が３重量％以上の氷が、以下の測定法Ｘ１で測定した場合のキセノンウルトラファインバブルの濃度が５百万個／ｍＬ以上となるように、キセノンウルトラファインバブルを水の中に発生させることができる氷であることを特徴とする上記（１）～（３）のいずれかに記載のキセノンウルトラファインバブル発生剤；
（測定法Ｘ１）
水に、キセノン含有率が３重量％以上である氷を３００ｍｇ／ｍＬ添加して調製した溶液中のキセノンウルトラファインバブルの濃度（個／ｍＬ）を、レーザー回折・散乱法又はナノトラッキング法で測定する；
（４）キセノン含有率が３重量％以上の氷を融解させる工程を含む、キセノンウルトラファインバブル含有液体組成物の製造方法；
（５）キセノン含有率が３重量％以上の氷を融解させる工程が、キセノン含有率が３重量％以上の氷を他の液体に接触させることによって融解させる工程、又は、キセノン含有率が３重量％以上の氷を他の液体に接触させずに融解させる工程である、上記（４）に記載のキセノンウルトラファインバブル含有液体組成物の製造方法；
（６）５百万個／ｍＬ以上のキセノンウルトラファインバブルを含有する液体組成物；
に関する。
That is, the present invention
(1) A xenon ultra-fine bubble generator for generating xenon ultra-fine bubbles in a liquid, the xenon ultra-fine bubble generator characterized by containing ice having a xenon content of 3% by weight or more;
(2) The xenon ultra-fine bubble generator according to (1) above, wherein the ice having a xenon content of 3% by weight or more is a xenon hydrate;
(3) The xenon ultra-fine bubble generating agent according to any one of (1) to (3) above, wherein the ice having a xenon content of 3% by weight or more is ice capable of generating xenon ultra-fine bubbles in water so that the concentration of the xenon ultra-fine bubbles is 5 million bubbles/mL or more when measured by the following measurement method X1;
(Measurement method X1)
Measure the concentration (number/mL) of xenon ultra-fine bubbles in a solution prepared by adding 300 mg/mL of ice having a xenon content of 3% by weight or more to water by a laser diffraction/scattering method or a nanotracking method;
(4) A method for producing a liquid composition containing xenon ultra-fine bubbles, including a step of melting ice having a xenon content of 3% by weight or more;
(5) The method for producing a xenon ultra-fine bubble-containing liquid composition according to (4) above, wherein the step of melting ice with a xenon content of 3% by weight or more is a step of melting ice with a xenon content of 3% by weight or more by contacting it with another liquid, or a step of melting ice with a xenon content of 3% by weight or more without contacting it with another liquid;
(6) a liquid composition containing 5 million/mL or more xenon ultrafine bubbles;
Regarding.
本発明によれば、ウルトラファインバブル発生装置を必要とせずに、手軽にキセノンウルトラファインバブルを液体中に発生させることができるキセノンウルトラファインバブル発生剤や、キセノンウルトラファインバブル含有液体組成物の製造方法や、かかる製造方法により製造されるキセノンウルトラファインバブル含有液体組成物等を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a xenon ultra-fine bubble generator that can easily generate xenon ultra-fine bubbles in a liquid without requiring an ultra-fine bubble generator, a method for producing a xenon ultra-fine bubble-containing liquid composition, and a xenon ultra-fine bubble-containing liquid composition produced by such a production method.
本発明は、
［１］液体中にキセノンウルトラファインバブルを発生させるためのキセノンウルトラファインバブル発生剤であって、キセノン含有率が３重量％以上の氷を含有することを特徴とする、前記キセノンウルトラファインバブル発生剤（以下、「本発明のキセノンＵＦＢ発生剤」とも表示する。）；や、
［２］キセノン含有率が３重量％以上の氷を融解させる工程を含む、キセノンウルトラファインバブル含有液体組成物の製造方法（以下、「本発明の製造方法」とも表示する。）；
［３］５百万個／ｍＬ以上のキセノンウルトラファインバブルを含有する液体組成物（以下、「本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物」とも表示する。）；
などの実施態様を含んでいる。
なお、本明細書において、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤は、本発明のキセノンＵＦＢ発生用の物質又は固体組成物と言い換えることもできる。
The present invention
[1] A xenon ultra-fine bubble generator for generating xenon ultra-fine bubbles in a liquid, characterized by containing ice with a xenon content of 3% by weight or more (hereinafter also referred to as "the xenon UFB generator of the present invention");
[2] A method for producing a liquid composition containing xenon ultra-fine bubbles, including a step of melting ice having a xenon content of 3% by weight or more (hereinafter also referred to as "the production method of the present invention");
[3] A liquid composition containing 5 million/mL or more xenon ultra-fine bubbles (hereinafter also referred to as "the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention");
and other embodiments.
In this specification, the xenon UFB generator of the present invention can also be referred to as the substance or solid composition for generating xenon UFB of the present invention.
（キセノン含有率が３重量％以上の氷）
本発明におけるキセノン含有率が３重量％以上の氷（キセノン高含有氷）は、キセノンハイドレートではないキセノン高含有氷であってもよいが、キセノンが有する効果をより多く得る観点から、キセノンハイドレートであることが好ましい。キセノンハイドレートは、水分子の結晶体の空寸にキセノン分子を閉じ込めた固体の包接化合物である。キセノンハイドレートは、通常、氷状の結晶体であり、例えば標準気圧条件下で、かつ、氷が融解するような温度条件下に置くと、融解しながらキセノンを放出する。また、本発明におけるキセノン高含有氷として、キセノンハイドレートを用いずに、キセノンハイドレートではないキセノン高含有氷を用いてもよいし、キセノンハイドレートではないキセノン高含有氷を用いずに、キセノンハイドレートを用いてもよいし、キセノンハイドレートではないキセノン高含有氷と、キセノンハイドレートを併用してもよい。
(Ice with a xenon content of 3% by weight or more)
The ice having a xenon content of 3% by weight or more (xenon-rich ice) in the present invention may be xenon-rich ice that is not xenon hydrate, but xenon hydrate is preferable from the viewpoint of obtaining more of the effects of xenon. Xenon hydrate is a solid clathrate compound in which xenon molecules are confined in the voids of water molecule crystals. Xenon hydrate is usually an ice-like crystal, and when placed under standard pressure conditions and under temperature conditions at which ice melts, xenon is released while melting. As the xenon-rich ice in the present invention, xenon-rich ice that is not a xenon hydrate may be used without using a xenon hydrate, xenon hydrate may be used without using a xenon-rich ice that is not a xenon hydrate, or xenon-rich ice that is not a xenon hydrate may be used in combination with xenon hydrate.
本発明におけるキセノン高含有氷としては、以下の測定法Ｘ１で測定した場合のキセノンＵＦＢの濃度（個／ｍＬ）で、好ましくは５百万個／ｍＬ以上、より好ましくは１千万個／ｍＬ以上、さらに好ましくは２千万個／ｍＬ以上、より好ましくは５千万個／ｍＬ以上、さらに好ましくは１億個／ｍＬ以上、より好ましくは２億個／ｍＬ以上、さらに好ましくは３億個／ｍＬ以上、より好ましくは４億個／ｍＬ以上のキセノンＵＦＢを水の中に発生させることができるキセノン高含有氷を好適に挙げることができる。
（測定法Ｘ１）
水に、キセノン含有率が３重量％以上である氷を３００ｍｇ／ｍＬ添加して調製した溶液中のキセノンＵＦＢの濃度（個／ｍＬ）を、レーザー回折・散乱法（好ましくは定量レーザー回折・散乱法）又はナノトラッキング法で測定する。
The xenon-rich ice in the present invention is preferably 5 million/mL or more, more preferably 10 million/mL or more, still more preferably 20 million/mL or more, more preferably 50 million/mL or more, still more preferably 100 million/mL or more, more preferably 200 million/mL or more, still more preferably 300 million/mL or more, and more preferably 400 million/mL or more, in xenon UFB concentration (pieces/mL) measured by the following measurement method X1. Xenon-rich ice that can generate senone UFB in water is suitable.
(Measurement method X1)
The xenon UFB concentration (units/mL) in a solution prepared by adding 300 mg/mL of ice having a xenon content of 3% by weight or more to water is measured by a laser diffraction/scattering method (preferably a quantitative laser diffraction/scattering method) or a nanotracking method.
上記測定法Ｘ１における溶液の温度としては特に制限されないが、例えば１～６０℃、１０～５０℃、１５～４５℃、２０～４０℃、２０℃などが挙げられる。 The temperature of the solution in the measurement method X1 is not particularly limited, but examples thereof include 1 to 60°C, 10 to 50°C, 15 to 45°C, 20 to 40°C, and 20°C.
本明細書において、キセノンＵＦＢの濃度をレーザー回折・散乱法で測定することとしては、キセノンＵＦＢの濃度を島津製作所社製ＳＡＬＤ－７５００ ウルトラファインバブル計測システムで測定することが好ましく挙げられる。なお、ＳＡＬＤ－７５００ ウルトラファインバブル計測システムは、定量レーザー回折・散乱法による測定装置である。また、本明細書において、キセノンＵＦＢの濃度をナノトラッキング法で測定することとしては、キセノンＵＦＢの濃度をＭａｌｖｅｒｎ社製 ナノサイト ＮＳ３００で測定することが好ましく挙げられる。 In this specification, the measurement of the xenon UFB concentration by the laser diffraction/scattering method preferably includes measurement of the xenon UFB concentration with a SALD-7500 ultra-fine bubble measurement system manufactured by Shimadzu Corporation. The SALD-7500 ultra-fine bubble measurement system is a measurement device based on the quantitative laser diffraction/scattering method. Further, in the present specification, measuring the concentration of xenon UFB by the nanotracking method preferably includes measuring the concentration of xenon UFB with Nanosite NS300 manufactured by Malvern.
本発明におけるキセノン高含有氷が、水の中に発生させることができるキセノンＵＦＢの濃度の上限としては、特に制限されないが、前述の測定法Ｘ１で測定した場合のキセノンＵＦＢの濃度が、例えば１００億個／ｍＬ以下、５０億個／ｍＬ以下、１０億個／ｍＬ以下であることが挙げられる。 The upper limit of the concentration of xenon UFB that can be generated in water by the xenon-rich ice of the present invention is not particularly limited, but the concentration of xenon UFB measured by the aforementioned measurement method X1 is, for example, 10 billion/mL or less, 5 billion/mL or less, or 1 billion/mL or less.
本発明におけるキセノン高含有氷が、水の中に発生させることができるキセノンＵＦＢのより具体的な濃度としては、測定法Ｘ１で測定した場合の濃度で、５百万～１００億個／ｍＬ、５百万～５０億個／ｍＬ、５百万～１０億個／ｍＬ、１千万～１００億個／ｍＬ、１千万～５０億個／ｍＬ、１千万～１０億個／ｍＬ、２千万～１００億個／ｍＬ、２千万～５０億個／ｍＬ、２千万～１０億個／ｍＬ、５千万～１００億個／ｍＬ、５千万～５０億個／ｍＬ、５千万～１０億個／ｍＬ、１億～１００億個／ｍＬ、１億～５０億個／ｍＬ、１億～１０億個／ｍＬ、２億～１００億個／ｍＬ、２億～５０億個／ｍＬ、２億～１０億個／ｍＬ、３億～１００億個／ｍＬ、３億～５０億個／ｍＬ、３億～１０億個／ｍＬ、４億～１００億個／ｍＬ、４億～５０億個／ｍＬ、４億～１０億個／ｍＬ等が挙げられる。 More specific concentrations of xenon UFB that can be generated in water by the xenon-rich ice of the present invention are 5 to 10 billion/mL, 5 to 5 billion/mL, 5 to 1 billion/mL, 10 to 10 billion/mL, 10 to 5 billion/mL, 10 to 1 billion/mL, and 20 to 10 billion/mL when measured by measurement method X1. , 20-5 billion/ml, 20-1 billion/ml, 50-10 billion/ml, 50-5 billion/ml, 50-1 billion/ml, 100-10 billion/ml, 100-5 billion/ml, 100-1 billion/ml, 200-10 billion/ml, 200-5 billion/ml, 200-1 billion/ml, 300-1 billion/ml 0 billion/mL, 300 million to 5 billion/mL, 300 million to 1 billion/mL, 400 million to 10 billion/mL, 400 million to 5 billion/mL, and 400 million to 1 billion/mL.
本発明におけるキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）のキセノン含有率としては、３重量％以上である限り特に制限されないが、キセノンが有する効果をより多く得る観点から、好ましくは５重量％以上、より好ましくは７重量％以上、さらに好ましくは１０重量％以上、より好ましくは１３重量％以上、さらに好ましくは１５重量％以上、より好ましくは１７重量％以上であることが挙げられる。また、上限値としては特に制限されないが、５５重量％や、４０重量％や、２５重量％が挙げられる。キセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）のより具体的なキセノン含有率としては、５～５５重量％、７～５５重量％、１０～５５重量％、１３～５５重量％、１５～５５重量％、１７～５５重量％、５～４０重量％、７～４０重量％、１０～４０重量％、１３～４０重量％、１５～４０重量％、１７～４０重量％、５～２５重量％、７～２５重量％、１０～２５重量％、１３～２５重量％、１５～２５重量％、１７～２５重量％等が挙げられる。 The xenon content of the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) in the present invention is not particularly limited as long as it is 3% by weight or more, but from the viewpoint of obtaining more of the effects of xenon, it is preferably 5% by weight or more, more preferably 7% by weight or more, still more preferably 10% by weight or more, more preferably 13% by weight or more, still more preferably 15% by weight or more, and more preferably 17% by weight or more. Although the upper limit is not particularly limited, it may be 55% by weight, 40% by weight, or 25% by weight. More specific xenon contents of xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) are 5 to 55 wt%, 7 to 55 wt%, 10 to 55 wt%, 13 to 55 wt%, 15 to 55 wt%, 17 to 55 wt%, 5 to 40 wt%, 7 to 40 wt%, 10 to 40 wt%, 13 to 40 wt%, 15 to 40 wt%, 17 to 40 wt%, 5 ~25 wt%, 7 to 25 wt%, 10 to 25 wt%, 13 to 25 wt%, 15 to 25 wt%, 17 to 25 wt%, and the like.
本発明におけるキセノン高含有氷のキセノン含有率は、本発明におけるキセノン高含有氷を製造する際の「キセノン分圧の高低」などにより調整することができ、例えばキセノン分圧を高くすると、キセノン高含有氷のキセノン含有率を高くすることができる。また、キセノン高含有氷がキセノンハイドレートである場合は、キセノンハイドレートを製造する際の「キセノン分圧の高低」、「脱水処理の程度」、「圧縮処理を行うか否か」、「圧縮処理する場合の圧縮の圧力の高低」などにより、キセノンハイドレートのキセノン含有率を調整することができる。例えば、キセノンハイドレートを製造する際の「キセノン分圧を高くし」、「脱水処理の程度を上げ」、「圧縮処理を行い」、「圧縮処理する場合の圧密の圧力を高くする」と、キセノンハイドレートのキセノン含有率を高くすることができる。なお、キセノンハイドレート等のキセノン高含有氷が融解すると、該キセノンハイドレート等のキセノン高含有氷に含まれていたキセノンが放出され、その分の重量が減少するので、キセノンハイドレート等のキセノン高含有氷のキセノン含有率は、例えば、キセノンハイドレート等のキセノン高含有氷を常温で融解させた際の重量変化から、下記式（１）を用いて算出する事ができる。
式（１）
（キセノン含有率）＝（融解前のサンプル重量－融解後のサンプル重量）／融解前のサンプル重量
The xenon content of the high xenon content ice of the present invention can be adjusted by adjusting the "level of the xenon partial pressure" when producing the high xenon content ice of the present invention. For example, if the xenon partial pressure is increased, the xenon content of the high xenon content ice can be increased. Further, when the xenon-rich ice is a xenon hydrate, the xenon content of the xenon hydrate can be adjusted according to factors such as "level of xenon partial pressure", "degree of dehydration", "whether or not compression is performed", and "level of compression pressure when compression is performed" when producing the xenon hydrate. For example, the xenon content of the xenon hydrate can be increased by "increasing the xenon partial pressure", "increasing the degree of dehydration", "performing compression", and "increasing the pressure for consolidation during compression" when manufacturing xenon hydrate. When the xenon-rich ice such as xenon hydrate melts, the xenon contained in the xenon-rich ice such as the xenon hydrate is released, and the weight of the xenon-rich ice such as the xenon hydrate is reduced. Therefore, the xenon content of the xenon-rich ice such as the xenon hydrate can be calculated using the following formula (1) from the weight change when the xenon-rich ice such as the xenon hydrate is melted at room temperature.
formula (1)
(xenon content) = (sample weight before melting - sample weight after melting) / sample weight before melting
また、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤が含有するキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）は、そのすべてが、３重量％以上のキセノン含有率であることが好ましいが、本発明の効果が得られる範囲において、キセノン含有率が３重量％未満の氷やキセノンハイドレートも含有していてもよい。本発明のキセノンＵＦＢ発生剤が含有するキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）に対する、キセノン含有率が３重量％未満の氷やキセノンハイドレートの割合（重量％）としては、１０重量％以下、好ましくは５重量％以下、より好ましくは３重量％以下、さらに好ましくは１重量％以下が挙げられる。 Further, the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) contained in the xenon UFB generator of the present invention preferably has a xenon content of 3% by weight or more, but may contain ice with a xenon content of less than 3% by weight or xenon hydrate as long as the effects of the present invention can be obtained. The ratio (% by weight) of ice or xenon hydrate with a xenon content of less than 3% by weight to the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) contained in the xenon UFB generator of the present invention is 10% by weight or less, preferably 5% by weight or less, more preferably 3% by weight or less, and further preferably 1% by weight or less.
本発明におけるキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）の形状としては、適宜設定することができ、例えば、略球状；略楕円体状；略直方体形状等の略多面体形状；あるいは、これらの形状にさらに凹凸を備えた形状；などが挙げられる。また、本発明におけるキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）は、キセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）の塊を適宜破砕して得られる様々な形状の破砕片（塊）であってもよい。 The shape of the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) in the present invention can be appropriately set, and includes, for example, a substantially spherical shape; a substantially ellipsoidal shape; In addition, the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) in the present invention may be crushed pieces (lumps) of various shapes obtained by appropriately crushing blocks of xenon-rich ice (preferably xenon hydrate).
本発明におけるキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）の大きさとしては、特に制限されず、適宜設定することができる。本発明におけるキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）の最大長の下限として、好ましくは３ｍｍ以上、より好ましくは５ｍｍ以上、さらに好ましくは７ｍｍ以上、より好ましくは１０ｍｍ以上が挙げられ、最大長の上限として１５０ｍｍ以下、１００ｍｍ以下、８０ｍｍ以下、６０ｍｍ以下が挙げられ、より具体的には３ｍｍ以上１５０ｍｍ以下、３ｍｍ以上１００ｍｍ以下、３ｍｍ以上８０ｍｍ以下、３ｍｍ以上６０ｍｍ以下や、５ｍｍ以上１５０ｍｍ以下、５ｍｍ以上１００ｍｍ以下、５ｍｍ以上８０ｍｍ以下、５ｍｍ以上６０ｍｍ以下、１０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下、１０ｍｍ以上８０ｍｍ以下、１０ｍｍ以上６０ｍｍ以下などが挙げられる。 The size of the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) in the present invention is not particularly limited and can be set as appropriate. The lower limit of the maximum length of the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) in the present invention is preferably 3 mm or more, more preferably 5 mm or more, still more preferably 7 mm or more, and more preferably 10 mm or more. mm or less, 5 mm or more and 150 mm or less, 5 mm or more and 100 mm or less, 5 mm or more and 80 mm or less, 5 mm or more and 60 mm or less, 10 mm or more and 150 mm or less, 10 mm or more and 100 mm or less, 10 mm or more and 80 mm or less, 10 mm or more and 60 mm or less.
本明細書において「キセノン高含有氷の最大長」とは、キセノン高含有氷のその塊の表面の２点を結び、かつ、その塊の重心を通る線分のうち、最も長い線分の長さを意味する。なお、キセノン高含有氷が例えば略楕円体状である場合は、前記最大長は長径（最も長い直径）を表し、略球状である場合は、前記最大長は直径を表し、略直方体形状である場合は、対角線の中で最も長い対角線の長さを表す。また、本明細書において「キセノン高含有氷の最小長」とは、キセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）のその塊の表面の２点を結び、かつ、その塊の重心を通る線分のうち、最も短い線分の長さを意味する。かかる最大長や最小長は、市販の画像解析式粒度分布測定装置などを用いて測定することもできるし、キセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）の塊に定規をあてて測定することもできる。 As used herein, the term “maximum length of high xenon ice” refers to the length of the longest line segment connecting two points on the surface of a block of high xenon content ice and passing through the center of gravity of the block. When the xenon-rich ice is, for example, substantially ellipsoidal, the maximum length represents the major axis (longest diameter); when substantially spherical, the maximum length represents the diameter; In this specification, the "minimum length of high xenon ice" means the length of the shortest of the line segments connecting two points on the surface of a block of high xenon content ice (preferably xenon hydrate) and passing through the center of gravity of the block. The maximum length and minimum length can be measured using a commercially available image analysis type particle size distribution analyzer or the like, or can be measured by applying a ruler to a mass of xenon-rich ice (preferably xenon hydrate).
本発明におけるキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）の好適な態様として、アスペクト比（最大長／最小長）が好ましくは１～５、より好ましくは１～４、さらに好ましくは１～３であるキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）が挙げられる。 A preferred embodiment of the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) in the present invention includes xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) having an aspect ratio (maximum length/minimum length) of preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4, and still more preferably 1 to 3.
キセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）の大きさは以下の方法で調整することができる。例えば、キセノンハイドレートではないキセノン高含有氷の最大長は、かかるキセノン高含有氷を製造する際の型の最大長を調整したり、製造後のキセノン高含有氷を破砕する際の破砕の程度を調整したりすることによって調整することができる。また、キセノンハイドレートの最大長は、キセノンハイドレートを圧縮成形する際に用いる型の最大長を調整したり、圧縮成形した後のキセノンハイドレートを破砕する際の破砕の程度を調整したりすることによって、調整することができる。また、最小長については、型の最小長を調整したり、製造後のキセノン高含有氷を破砕する際の程度を調整したりすることによって調整することができる。 The size of xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) can be adjusted by the following method. For example, the maximum length of xenon-rich ice that is not xenon hydrate can be adjusted by adjusting the maximum length of the mold when producing such xenon-rich ice, or by adjusting the degree of crushing when crushing xenon-rich ice after production. In addition, the maximum length of the xenon hydrate can be adjusted by adjusting the maximum length of the mold used for compression molding the xenon hydrate, or by adjusting the degree of crushing when crushing the xenon hydrate after compression molding. Moreover, the minimum length can be adjusted by adjusting the minimum length of the mold or by adjusting the degree of crushing of the high xenon content ice after production.
本発明におけるキセノン高含有氷の製造方法としては、キセノン高含有氷を製造できる限り特に制限されない。キセノンハイドレートではないキセノン高含有氷の製造方法としては、キセノンハイドレート生成条件を充たさない条件下で原料水中にキセノンを吹き込みながら原料水を冷凍する方法が挙げられる。また、キセノンハイドレートの製造方法としては、キセノンハイドレート生成条件を充たす条件下で原料水中にキセノンを吹き込みながら原料水を攪拌する気液攪拌方式や、キセノンハイドレート生成条件を充たす条件下でキセノン中に原料水をスプレーする水スプレー方式等の常法を用いることができる。これらの方式で生成されるキセノンハイドレートは、通常、キセノンハイドレートの微粒子が、未反応の水と混合しているスラリー状であるため、キセノンハイドレートの濃度を高めるために、脱水処理を行うことが好ましい。脱水処理によって含水率が比較的低くなったキセノンハイドレート（すなわち、比較的高濃度のキセノンハイドレート）は、ペレット成形機で一定の形状（例えば球状や直方体状）に圧縮成形することが好ましい。圧縮成形したキセノンハイドレートは、そのまま本発明に用いてもよいし、必要に応じてさらに破砕等したものを用いてもよい。なお、キセノンハイドレートの製造方法としては、前述のように、原料水を用いる方法が比較的広く用いられているが、水（原料水）の代わりに微細な氷（原料氷）をキセノンと、低温、かつ、低圧のキセノン分圧という条件下で反応させてキセノンハイドレートを製造する方法を用いることもできる。 The method for producing xenon-rich ice in the present invention is not particularly limited as long as xenon-rich ice can be produced. As a method for producing xenon-rich ice that is not xenon hydrate, there is a method of freezing raw material water while blowing xenon into the raw material water under conditions that do not satisfy the conditions for producing xenon hydrate. As a method for producing xenon hydrate, a conventional method such as a gas-liquid stirring method in which raw material water is stirred while blowing xenon into raw material water under conditions satisfying xenon hydrate producing conditions, or a water spray method in which raw material water is sprayed into xenon under conditions satisfying xenon hydrate producing conditions can be used. Since the xenon hydrate produced by these methods is usually in the form of a slurry in which fine particles of xenon hydrate are mixed with unreacted water, dehydration treatment is preferably performed in order to increase the concentration of xenon hydrate. The xenon hydrate having a relatively low water content due to the dehydration treatment (that is, the xenon hydrate having a relatively high concentration) is preferably compression-molded into a certain shape (for example, a spherical shape or a rectangular parallelepiped shape) by a pellet molding machine. The compression-molded xenon hydrate may be used in the present invention as it is, or may be further crushed and used as necessary. As a method for producing xenon hydrate, as described above, the method using raw material water is relatively widely used, but instead of water (raw material water), fine ice (raw material ice) can be reacted with xenon under conditions of low temperature and low partial pressure of xenon to produce xenon hydrate.
キセノンハイドレートは、キセノンと水を、低温、かつ、高圧のキセノン分圧という条件にすることにより製造することができ、例えば、ある温度であること、及び、その温度におけるキセノンハイドレートの平衡圧力よりもキセノン分圧（キセノン圧力）が高いことを含む条件（すなわち、「キセノンハイドレート生成条件」）において製造することができる。上記の「キセノンハイドレートの平衡圧力よりもキセノン分圧が高い条件」は、高圧力の科学と技術Vol. 12, No. 1 (2002), 34-39に開示されているキセノンハイドレートの平衡圧力曲線（例えば縦軸がキセノン圧力、横軸が温度を表す）において、かかる曲線の高圧側（キセノンハイドレートの平衡圧力曲線において、例えば縦軸がキセノン圧力、横軸が温度を表す場合は、該曲線の上方）の領域内のキセノン圧力と温度の組合せの条件として表される。また、Theoretic Physicochemical Problems of Clathrate Compounds, Advances in Chemical Physics, Volume 81,261-359、特開２０００－１０７５４９でも生成条件が開示されている。キセノンハイドレート生成条件の具体例として、「０～３０℃の範囲内」と「キセノン圧力０．１４８～１５ＭＰａの範囲内」の組合せの条件が挙げられる。 Xenon hydrate can be produced by exposing xenon and water to conditions of low temperature and high xenon partial pressure. For example, xenon hydrate can be produced under conditions including a certain temperature and a xenon partial pressure (xenon pressure) higher than the equilibrium pressure of xenon hydrate at that temperature (i.e., “xenon hydrate production conditions”). The above-mentioned "condition in which the xenon partial pressure is higher than the equilibrium pressure of the xenon hydrate" is the equilibrium pressure curve of the xenon hydrate (for example, the vertical axis represents the xenon pressure and the horizontal axis represents the temperature) disclosed in High Pressure Science and Technology Vol. 12, No. 1 (2002), 34-39. , above the curve) as a combination of xenon pressure and temperature conditions. Production conditions are also disclosed in Theoretic Physicochemical Problems of Clathrate Compounds, Advances in Chemical Physics, Volume 81, 261-359 and JP-A-2000-107549. A specific example of the xenon hydrate production conditions is a combination of "within the range of 0 to 30° C." and "within the range of xenon pressure of 0.148 to 15 MPa."
キセノンハイドレート率とは、キセノンハイドレートの塊の重量に対するキセノンハイドレートの重量の割合（％）を意味する。かかるキセノンハイドレート率は、以下の式（２）により算出することができる。
式（２）
キセノンハイドレート率（％）＝｛（融解前のサンプル重量－融解後のサンプル重量）＋（融解前のサンプル重量－融解後のサンプル重量）÷１３１．２９３×５．７５×１８｝×１００÷融解前のサンプル重量
式（２）を以下に説明する。（融解前のサンプル重量－融解後のサンプル重量）は、包蔵されるキセノンガス重量となる。キセノンガスをハイドレートとして包接するために必要な水量は、理論水和数５．７５、キセノンの分子量１３１．２９３、水の分子量１８を用いて算出し、それ以外の水は、ハイドレートを構成しない付着水とみなしている。
The xenon hydrate ratio means the ratio (%) of the weight of xenon hydrate to the weight of the mass of xenon hydrate. Such a xenon hydrate rate can be calculated by the following formula (2).
formula (2)
Xenon hydrate rate (%) = {(sample weight before melting - sample weight after melting) + (sample weight before melting - sample weight after melting) / 131.293 x 5.75 x 18} x 100 / sample weight before melting
Equation (2) is explained below. (Sample weight before melting−Sample weight after melting) is the weight of the occluded xenon gas. The amount of water required to clathrate xenon gas as a hydrate was calculated using a theoretical hydration number of 5.75, a molecular weight of xenon of 131.293, and a molecular weight of water of 18. Other water is regarded as adhering water that does not form a hydrate.
本発明におけるキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）のキセノンハイドレート率としては特に制限されないが、１０～９０％、２０～９０％、３０～９０％、１０～８０％、２０～８０％、３０～８０％などが挙げられる。 The xenon hydrate rate of the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) in the present invention is not particularly limited, but examples include 10 to 90%, 20 to 90%, 30 to 90%, 10 to 80%, 20 to 80%, and 30 to 80%.
本発明におけるキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）は、キセノンと氷のみからなるキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）（以下、「任意成分を含有しないキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）」とも表示する。）であってもよいが、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤の用途に応じた任意成分をさらに含有するキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）であってもよい。なお、キセノン高含有氷における任意成分としては、後述の、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤において例示している任意成分の他、後述の溶媒のうち、水以外の溶媒などが挙げられる。 The xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) in the present invention may be xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) consisting only of xenon and ice (hereinafter also referred to as "xenon-rich ice containing no optional components (preferably xenon hydrate)"), or may be xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) further containing optional components according to the application of the xenon UFB generator of the present invention. . Optional components in the xenon-rich ice include optional components exemplified in the xenon UFB generating agent of the present invention, which will be described later, and solvents other than water among the solvents described later.
１．＜本発明のキセノンＵＦＢ発生剤＞
本発明のキセノンＵＦＢ発生剤は、キセノン含有率が３重量％以上の氷（キセノン高含有氷）を含有する限り特に制限されない。本発明のキセノンＵＦＢ発生剤は、「任意成分を含有しないキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）」、又は、「任意成分を含有するキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）」のみからなるキセノンＵＦＢ発生剤であってもよいし、これらキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）以外に、任意成分をさらに含有していてもよい。
1. <Xenon UFB generator of the present invention>
The xenon UFB generator of the present invention is not particularly limited as long as it contains ice with a xenon content of 3% by weight or more (xenon-rich ice). The xenon UFB generator of the present invention may be a xenon UFB generator consisting only of "xenon-rich ice containing no optional component (preferably xenon hydrate)" or "xenon-rich ice containing optional components (preferably xenon hydrate)", or may further contain optional components in addition to these xenon-rich ice (preferably xenon hydrate).
本発明のキセノンＵＦＢ発生剤におけるキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）の含有量としては、特に制限されないが、キセノンＵＦＢ発生剤の総重量に対して、例えば５～１００重量％、５～９０重量％、５～８０重量％、５～７０重量％、３０～１００重量％、３０～９０重量％、３０～８０重量％、３０～７０重量％、４０～１００重量％、４０～９０重量％、４０～８０重量％、４０～７０重量％、５０～１００重量％、５０～９０重量％、５０～８０重量％、５０～７０重量％、６０～１００重量％、６０～９０重量％、６０～８０重量％、６０～７０重量％を挙げることができる。 The content of xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) in the xenon UFB generator of the present invention is not particularly limited, but is, for example, 5 to 100% by weight, 5 to 90% by weight, 5 to 80% by weight, 5 to 70% by weight, 30 to 100% by weight, 30 to 90% by weight, 30 to 80% by weight, 30 to 70% by weight, 40 to 100% by weight, based on the total weight of the xenon UFB generator. %, 40-90% by weight, 40-80% by weight, 40-70% by weight, 50-100% by weight, 50-90% by weight, 50-80% by weight, 50-70% by weight, 60-100% by weight, 60-90% by weight, 60-80% by weight, 60-70% by weight.
（本発明のキセノンＵＦＢ発生剤の任意成分）
任意成分を用いるかどうか、及び、任意成分を用いる場合にどのような任意成分を用いるかは、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤の使用目的、使用態様に応じて当業者は適宜設定することができる。任意成分としては、「薬学的に許容される担体」、「造影効果を有する、キセノン以外の成分」、「麻酔効果を有する、キセノン以外の成分」、「鎮痛効果を有する、キセノン以外の成分」、「脳保護作用を有する、キセノン以外の成分」、「臓器や細胞等の生体材料に対して保存作用を有する、キセノン以外の成分」などが挙げられる。
(Optional component of the xenon UFB generator of the present invention)
A person skilled in the art can appropriately determine whether or not an optional component is used, and what kind of optional component is used, depending on the purpose and mode of use of the xenon UFB generator of the present invention. Examples of the optional component include a “pharmaceutically acceptable carrier”, “a component other than xenon having an imaging effect”, “a component other than xenon having an anesthetic effect”, “a component other than xenon having an analgesic effect”, “a component other than xenon having a neuroprotective effect”, and “a component other than xenon having a preservative effect on biomaterials such as organs and cells”.
上記の薬学的に許容される担体としては、製剤素材として慣用の各種有機又は無機担体物質が挙げられ、例えば、等張化剤や緩衝剤が挙げられる。上記の等張化剤としては、例えばブドウ糖、Ｄ－ソルビトール、塩化ナトリウム、グリセリン、Ｄ－マンニトール等が挙げられ、上記の緩衝剤としては、例えばリン酸塩、酢酸塩、炭酸塩、クエン酸塩等の緩衝液等が挙げられる。 The above-mentioned pharmaceutically acceptable carriers include various organic or inorganic carrier substances commonly used as pharmaceutical materials, such as tonicity agents and buffers. Examples of the tonicity agent include glucose, D-sorbitol, sodium chloride, glycerin, D-mannitol and the like, and examples of the buffer include phosphate, acetate, carbonate, citrate and the like.
本発明のキセノンＵＦＢ発生剤は、少なくともキセノン高含有氷を用いて調製することができる。本発明のキセノンＵＦＢ発生剤が任意成分を有する場合は、キセノン高含有氷と任意成分を適宜混合するなどして調製することができる。また、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤は、その用途に応じて適当な剤型等とすることができる。 The xenon UFB generator of the present invention can be prepared using at least xenon-rich ice. When the xenon UFB generator of the present invention contains optional components, it can be prepared by appropriately mixing the xenon-rich ice and the optional components. Also, the xenon UFB generator of the present invention can be made into a suitable dosage form or the like according to its use.
（容器）
本発明のキセノンＵＦＢ発生剤は、容器に収容されていなくてもよいが、容器に収容されていることが好ましい。容器の形状や材質は特に制限されないが、容器の形状としては、略直方体状、略立方体状、略円柱形状、袋状などが挙げられ、容器の材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂；ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂；ガラス；アルミニウム等の金属；などが好ましく挙げられる。
(container)
The xenon UFB generator of the present invention may not be housed in a container, but is preferably housed in a container. The shape and material of the container are not particularly limited, but examples of the shape of the container include substantially rectangular parallelepiped, substantially cubic, substantially cylindrical, bag-like, and the like. Preferred examples of the container material include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; polyester resins such as polyethylene terephthalate; glass; and metals such as aluminum.
（本発明のキセノンＵＦＢ発生剤のウルトラファインバブル濃度）
本発明のキセノンＵＦＢ発生剤としては、以下の測定法Ｘ２で測定した場合のキセノンＵＦＢの濃度（個／ｍＬ）で、好ましくは５百万個／ｍＬ以上、より好ましくは１千万個／ｍＬ以上、さらに好ましくは２千万個／ｍＬ以上、より好ましくは５千万個／ｍＬ以上、さらに好ましくは１億個／ｍＬ以上、より好ましくは２億個／ｍＬ以上、さらに好ましくは３億個／ｍＬ以上、より好ましくは４億個／ｍＬ以上のキセノンＵＦＢを水の中に発生させることができるキセノンＵＦＢ発生剤を好適に挙げることができる。
（測定法Ｘ２）
水に、キセノンＵＦＢ発生剤を、キセノン含有率が３重量％以上の氷に換算して３００ｍｇ／ｍＬ添加して調製した溶液中のウルトラファインバブルの濃度（個／ｍＬ）を、レーザー回折・散乱法（好ましくは定量レーザー回折・散乱法）又はナノトラッキング法で測定する。
(Ultra-fine bubble concentration of the xenon UFB generator of the present invention)
As for the xenon UFB generator of the present invention, the xenon UFB concentration (units/mL) measured by the following measurement method X2 is preferably 5 million units/mL or more, more preferably 10 million units/mL or more, still more preferably 20 million units/mL or more, more preferably 50 million units/mL or more, still more preferably 100 million units/mL or more, more preferably 200 million units/mL or more, still more preferably 300 million units/mL or more, and more preferably 400 million units/mL or more. xenon UFB generator capable of generating xenon UFB in water.
(Measurement method X2)
The concentration (number/mL) of ultra-fine bubbles in a solution prepared by adding a xenon UFB generator to water at 300 mg/mL in terms of ice having a xenon content of 3% by weight or more is measured by a laser diffraction/scattering method (preferably a quantitative laser diffraction/scattering method) or a nanotracking method.
上記測定法Ｘ２における溶液の温度としては特に制限されないが、例えば１～６０℃、１０～５０℃、１５～４５℃、２０～４０℃、２０℃などが挙げられる。 The temperature of the solution in the measurement method X2 is not particularly limited, but examples thereof include 1 to 60°C, 10 to 50°C, 15 to 45°C, 20 to 40°C, and 20°C.
本発明のキセノンＵＦＢ発生剤が、液体（好ましくは水）の中に発生させることができるキセノンＵＦＢのより具体的な濃度としては、測定法Ｘ２で測定した場合の濃度で、５百万～１００億個／ｍＬ、５百万～５０億個／ｍＬ、５百万～１０億個／ｍＬ、１千万～１００億個／ｍＬ、１千万～５０億個／ｍＬ、１千万～１０億個／ｍＬ、２千万～１００億個／ｍＬ、２千万～５０億個／ｍＬ、２千万～１０億個／ｍＬ、５千万～１００億個／ｍＬ、５千万～５０億個／ｍＬ、５千万～１０億個／ｍＬ、１億～１００億個／ｍＬ、１億～５０億個／ｍＬ、１億～１０億個／ｍＬ、２億～１００億個／ｍＬ、２億～５０億個／ｍＬ、２億～１０億個／ｍＬ、３億～１００億個／ｍＬ、３億～５０億個／ｍＬ、３億～１０億個／ｍＬ、４億～１００億個／ｍＬ、４億～５０億個／ｍＬ、４億～１０億個／ｍＬ等が挙げられる。 More specific concentrations of xenon UFB that can be generated in a liquid (preferably water) by the xenon UFB generator of the present invention are 5 million to 10 billion/mL, 5 million to 5 billion/mL, 5 million to 1 billion/mL, 10 million to 10 billion/mL, 10 million to 5 billion/mL, 10 million to 1 billion/mL, and 20 million when measured by measurement method X2. ~10 billion/mL, 20-5 billion/mL, 20-1 billion/mL, 50-10 billion/mL, 50-5 billion/mL, 50-1 billion/mL, 100-10 billion/mL, 100-5 billion/mL, 100-1 billion/mL, 200-10 billion/mL, 200-5 billion/mL, 200-1 billion 300 million to 10 billion/mL, 300 million to 5 billion/mL, 300 million to 1 billion/mL, 400 million to 10 billion/mL, 400 million to 5 billion/mL, and 400 million to 1 billion/mL.
（本発明のキセノンＵＦＢ発生剤の用途）
本発明のキセノンＵＦＢ発生剤の用途としては、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤を使用できる用途である限り特に制限されず、キセノンの用途が挙げられ、例えば、造影剤、麻酔剤、鎮痛剤、脳保護剤、生体材料（細胞、組織、臓器等）の保存剤などの用途が好ましく挙げられる。
(Use of the xenon UFB generator of the present invention)
Applications of the xenon UFB generator of the present invention are not particularly limited as long as the xenon UFB generator of the present invention can be used, and include uses of xenon, such as contrast agents, anesthetics, analgesics, neuroprotective agents, and preservatives for biomaterials (cells, tissues, organs, etc.).
（本発明のキセノンＵＦＢ発生剤の使用方法）
本発明のキセノンＵＦＢ発生剤は、かかるキセノンＵＦＢ発生剤におけるキセノン高含有氷を融解させて用いる。本発明のキセノンＵＦＢ発生剤は、キセノン含有氷が融解する際に発生するキセノンガスを利用してもよいし、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤を本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物にしてそれを利用してもよいが、呼吸が安定しない動物に対しても使用できるなどの点で、キセノンＵＦＢ含有液体組成物を利用することが好ましい。キセノンガスを利用する方法としては、吸入装置等を使用してキセノンガスを動物（好ましくは哺乳動物、より好ましくはヒト）に吸入させる方法が挙げられる。また、キセノンＵＦＢ含有液体組成物を利用する方法は、後述の「キセノンＵＦＢ含有液体組成物」の項目で説明する。
(Method of using the xenon UFB generator of the present invention)
The xenon UFB generator of the present invention is used by melting the xenon-rich ice in the xenon UFB generator. The xenon UFB generator of the present invention may utilize the xenon gas generated when the xenon-containing ice melts, or the xenon UFB generator of the present invention may be used as the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention. However, it is preferable to use the xenon UFB-containing liquid composition because it can be used for animals whose breathing is not stable. A method of using xenon gas includes a method of inhaling xenon gas into animals (preferably mammals, more preferably humans) using an inhaler or the like. A method of using a xenon UFB-containing liquid composition will be described later in the section "Xenon UFB-containing liquid composition".
本発明のキセノンＵＦＢ発生剤を本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物にする方法は、後述の「本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物の製造方法」の項目において詳細に説明するが、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤中のキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）を融解させる工程を含んでいる限り特に制限されない。当業者であれば、本願明細書を参照することにより、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤におけるキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）の含有量や、該キセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）のキセノン含有率や、どの程度の濃度のキセノンＵＦＢを必要とするか等に応じて、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤の使用量を調整することができる。 The method for converting the xenon UFB generator of the present invention into the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention will be described in detail in the section "Method for producing the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention" below, but is not particularly limited as long as it includes the step of melting the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) in the xenon UFB generator of the present invention. By referring to the specification of the present application, those skilled in the art can adjust the amount of the xenon UFB generating agent of the present invention to be used according to the content of xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) in the xenon UFB generating agent of the present invention, the xenon content of the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate), the required concentration of xenon UFB, and the like.
（本発明のキセノンＵＦＢ発生剤の流通、保管の際の条件）
本発明のキセノンＵＦＢ発生剤の流通や保管の際の条件は以下のとおりである。
本発明のキセノンＵＦＢ発生剤がキセノンハイドレート以外のキセノン高含有氷を含有する場合、かかる本発明のキセノンＵＦＢ発生剤は、流通や保管の際に、氷が融解しない温度及び圧力で保持することが好ましい。かかる温度及び圧力として、例えば常圧（例えば１気圧）で０℃以下の条件が挙げられる。一方、キセノンハイドレートの製法等によっては、その保存性や安定性に優れているものもある。したがって、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤がキセノン高含有氷としてキセノンハイドレートを含有する場合、かかる本発明のキセノンＵＦＢ発生剤は、流通や保管の際に、常温（５～３５℃）、常圧（例えば１気圧）で保持してもよいが、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤をより長期間、より安定的に保つ観点から、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤は、流通や保管等の際に、「低温条件下」、又は「高圧条件下」、又は「低温条件下かつ高圧条件下」で保持することが好ましい。保持の簡便性の観点から、これらの中でも、「低温条件下」で保持することが好ましく、常圧（例えば１気圧）で「低温条件下」で保持することがより好ましい。
(Conditions for distribution and storage of the xenon UFB generator of the present invention)
The conditions for distribution and storage of the xenon UFB generator of the present invention are as follows.
When the xenon UFB generator of the present invention contains xenon-rich ice other than xenon hydrate, the xenon UFB generator of the present invention is preferably kept at a temperature and pressure at which the ice does not melt during distribution and storage. Examples of such temperature and pressure include normal pressure (eg, 1 atm) and 0° C. or less. On the other hand, depending on the manufacturing method of xenon hydrate, there are some that are excellent in storage stability and stability. Therefore, when the xenon UFB generating agent of the present invention contains xenon hydrate as xenon-rich ice, the xenon UFB generating agent of the present invention may be kept at normal temperature (5 to 35° C.) and normal pressure (for example, 1 atm) during distribution and storage. , or "high pressure conditions", or "low temperature and high pressure conditions". From the viewpoint of ease of maintenance, among these, it is preferable to maintain under "low temperature conditions", and more preferable to maintain under "low temperature conditions" at normal pressure (for example, 1 atm).
上記の「低温条件下」における上限温度としては、１０℃以下、好ましくは５℃以下、より好ましくは０℃以下、さらに好ましくは－５℃以下、より好ましくは－１０℃以下、さらに好ましくは－１５℃以下、より好ましくは－２０℃、さらに好ましくは－２５℃が挙げられ、上記の「低温条件下」における下限温度としては、－２７３℃以上、－８０℃以上、－５０℃以上、－４０℃以上、－３０℃以上などが挙げられる。 The upper limit temperature under the above "low temperature conditions" is 10°C or lower, preferably 5°C or lower, more preferably 0°C or lower, more preferably -5°C or lower, more preferably -10°C or lower, even more preferably -15°C or lower, more preferably -20°C, and more preferably -25°C.
上記の「高圧条件下」における下限圧力としては、１．０３６気圧以上、好ましくは１．１３５気圧以上、より好ましくは１．２８３気圧以上、さらに好ましくは１．４８０気圧以上が挙げられ、上記の「高圧条件下」における上限圧力としては、１４．８０気圧以下、１１．８４気圧以下、９．８６９気圧以下、７．８９５気圧以下、４．９３５気圧以下などが挙げられる。 The lower limit pressure under the above-mentioned "high pressure conditions" includes 1.036 atmospheres or more, preferably 1.135 atmospheres or more, more preferably 1.283 atmospheres or more, and more preferably 1.480 atmospheres or more.
２．＜本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物＞
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物としては、５百万個／ｍＬ以上のキセノンウルトラファインバブルを含有する液体組成物である限り特に制限されない。
2. <Xenon UFB-containing liquid composition of the present invention>
The xenon UFB-containing liquid composition of the present invention is not particularly limited as long as it contains 5 million/mL or more xenon ultra-fine bubbles.
本明細書における「キセノンＵＦＢ含有液体組成物」は、必ずしもすべてが液体状である場合に限られず、固体状のキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）（又は固体状の本発明のキセノンＵＦＢ発生剤）等と液体の混合物である場合も含まれる。 The "xenon UFB-containing liquid composition" in the present specification is not necessarily limited to the case where everything is liquid, but also includes a mixture of solid xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) (or the solid xenon UFB generator of the present invention) and the like.
（本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物のキセノンＵＦＢ濃度）
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物におけるキセノンＵＦＢの濃度は、５百万個／ｍＬ以上である限り特に制限されないが、好ましくは５百万個／ｍＬ以上、より好ましくは１千万個／ｍＬ以上、さらに好ましくは２千万個／ｍＬ以上、より好ましくは５千万個／ｍＬ以上、さらに好ましくは１億個／ｍＬ以上、より好ましくは２億個／ｍＬ以上、さらに好ましくは３億個／ｍＬ以上、より好ましくは４億個／ｍＬ以上であることが挙げられる。また、本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物におけるキセノンＵＦＢの濃度の上限としては、特に制限されないが、例えば１００億個／ｍＬ以下、５０億個／ｍＬ以下、１０億個／ｍＬ以下であることが挙げられる。本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物におけるウルトラファインバブルのより具体的な濃度としては、５百万～１００億個／ｍＬ、５百万～５０億個／ｍＬ、５百万～１０億個／ｍＬ、１千万～１００億個／ｍＬ、１千万～５０億個／ｍＬ、１千万～１０億個／ｍＬ、２千万～１００億個／ｍＬ、２千万～５０億個／ｍＬ、２千万～１０億個／ｍＬ、５千万～１００億個／ｍＬ、５千万～５０億個／ｍＬ、５千万～１０億個／ｍＬ、１億～１００億個／ｍＬ、１億～５０億個／ｍＬ、１億～１０億個／ｍＬ、２億～１００億個／ｍＬ、２億～５０億個／ｍＬ、２億～１０億個／ｍＬ、３億～１００億個／ｍＬ、３億～５０億個／ｍＬ、３億～１０億個／ｍＬ、４億～１００億個／ｍＬ、４億～５０億個／ｍＬ、４億～１０億個／ｍＬが挙げられる。
(Xenon UFB concentration of xenon UFB-containing liquid composition of the present invention)
The concentration of xenon UFBs in the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention is not particularly limited as long as it is 5 million/mL or more, but is preferably 5 million/mL or more, more preferably 10 million/mL or more, still more preferably 20 million/mL or more, more preferably 50 million/mL or more, still more preferably 100 million/mL or more, more preferably 200 million/mL or more, still more preferably 300 million/mL or more, and more preferably 400 million/mL or more. It is mentioned that it is. The upper limit of the xenon UFB concentration in the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention is not particularly limited, but may be, for example, 10 billion/mL or less, 5 billion/mL or less, or 1 billion/mL or less. More specific concentrations of ultra-fine bubbles in the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention are 5 to 10 billion/mL, 5 to 5 billion/mL, 5 to 1 billion/mL, 10 to 10 billion/mL, 10 to 5 billion/mL, 10 to 1 billion/mL, 20 to 10 billion/mL, 20 to 5 billion/mL, and 20 to 10 million. 50-10 billion/mL, 50-5 billion/mL, 50-1 billion/mL, 100-10 billion/mL, 100-5 billion/mL, 100-100 million/mL, 200-10 billion/mL, 200-5 billion/mL, 200-1 billion/mL, 300-10 billion/mL, 300-5 billion/mL, 3 400 million to 1 billion/mL, 400 million to 10 billion/mL, 400 million to 5 billion/mL, and 400 million to 1 billion/mL.
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物におけるキセノンＵＦＢの濃度の値は、キセノンＵＦＢの濃度を測定することができる、いかなる測定法の測定値であってもよいが、以下の測定法Ｘ３での測定値であることが好ましい。
（測定法Ｘ３）
キセノンＵＦＢ含有液体組成物中のウルトラファインバブルの濃度（個／ｍＬ）を、レーザー回折・散乱法（好ましくは定量レーザー回折・散乱法）又はナノトラッキング法で測定する。
The value of the concentration of xenon UFB in the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention may be the value measured by any measurement method capable of measuring the concentration of xenon UFB, but it is preferably the value measured by the following measurement method X3.
(Measurement method X3)
The concentration (number/mL) of ultra-fine bubbles in the xenon UFB-containing liquid composition is measured by a laser diffraction/scattering method (preferably a quantitative laser diffraction/scattering method) or a nanotracking method.
上記の測定法Ｘ３におけるキセノンＵＦＢ含有液体組成物としては、２０℃のキセノンＵＦＢ含有液体組成物が好ましく挙げられる。 A xenon UFB-containing liquid composition at 20° C. is preferably used as the xenon UFB-containing liquid composition in the measurement method X3.
（本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物のＣＴ値）
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物のＣＴ値としては、例えば１０ＨＵ（ハンスフィールド単位）以上、好ましくは２０ＨＵ以上、より好ましくは３０ＨＵ以上が挙げられる。かかるＣＴ値の上限は特に制限されないが、例えば１００ＨＵ以下、７０ＨＵ以下、５０ＨＵ以下が挙げられる。本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物のＣＴ値として具体的には、１０～１００ＨＵ、２０～１００ＨＵ、３０～１００ＨＵ、１０～７０ＨＵ、２０～７０ＨＵ、３０～７０ＨＵ、１０～５０ＨＵ、２０～５０ＨＵ、３０～５０ＨＵなどが挙げられる。
(CT value of xenon UFB-containing liquid composition of the present invention)
The CT value of the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention is, for example, 10 HU (Hounsfield units) or more, preferably 20 HU or more, more preferably 30 HU or more. Although the upper limit of the CT value is not particularly limited, examples thereof include 100 HU or less, 70 HU or less, and 50 HU or less. Specific examples of the CT value of the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention include 10 to 100 HU, 20 to 100 HU, 30 to 100 HU, 10 to 70 HU, 20 to 70 HU, 30 to 70 HU, 10 to 50 HU, 20 to 50 HU, and 30 to 50 HU.
上記のＣＴ値（ＨＵ）の測定法としては、例えばＸ線ＣＴ装置にキセノンＵＦＢ含有液体組成物をセットして、そのキセノンＵＦＢ含有液体組成物のＣＴ値を測定する方法が挙げられ、中でも、「小型実験動物用 ３ＤマイクロＸ線ＣＴ」(リガク社製)を用いて、以下の撮影条件で測定したＣＴ値を好ましく挙げることができる。
R_mCT2(Ver.2.3.1), 90kV, 200uA, FOV60(Vox size 120um), 2min
Examples of the method for measuring the CT value (HU) include a method in which a xenon UFB-containing liquid composition is set in an X-ray CT apparatus and the CT value of the xenon UFB-containing liquid composition is measured. Among them, a CT value measured under the following imaging conditions using a "3D micro X-ray CT for small experimental animals" (manufactured by Rigaku) can be preferably used.
R_mCT2(Ver.2.3.1), 90kV, 200uA, FOV60(Vox size 120um), 2min
（本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物の任意成分）
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物は、溶媒とキセノンのみからなる組成物であってもよいが、さらに、本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物の使用目的、使用態様に応じて当業者は適宜設定することができる。任意成分としては、「薬学的に許容される担体」、「造影効果を有する、キセノン以外の成分」、「麻酔効果を有する、キセノン以外の成分」、「鎮痛効果を有する、キセノン以外の成分」、「脳保護作用を有する、キセノン以外の成分」、「臓器や細胞等の生体材料に対して保存作用を有する、キセノン以外の成分」などが挙げられる。
(Optional components of the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention)
The xenon UFB-containing liquid composition of the present invention may be a composition consisting only of a solvent and xenon, but a person skilled in the art can appropriately set it according to the purpose and mode of use of the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention. Examples of the optional component include a “pharmaceutically acceptable carrier”, “a component other than xenon having an imaging effect”, “a component other than xenon having an anesthetic effect”, “a component other than xenon having an analgesic effect”, “a component other than xenon having a neuroprotective effect”, and “a component other than xenon having a preservative effect on biomaterials such as organs and cells”.
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物において、キセノンＵＦＢを含んでいる溶媒としては、キセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）をその溶媒中に含有させたときに、キセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）がウルトラファインバブルを発生させることができる溶媒が挙げられ、具体的には、（i）「親水性溶媒」、（ii）「疎水性溶媒」、（iii）「親水性溶媒と疎水性溶媒の混合溶媒」、「（i）～（iii）のいずれかの溶媒に任意の溶質を含んだ液体」等が挙げられる。本発明における「キセノンＵＦＢ含有液体組成物」が液体状である温度条件及び圧力条件は、溶媒の種類、キセノンＵＦＢ含有液体組成物の用途、キセノンＵＦＢ含有液体組成物の使用条件等によっても左右されるため一概に特定することはできないが、２０℃、１気圧の条件下で液体状であるキセノンＵＦＢ含有液体組成物が好ましく挙げられる。 In the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention, the xenon UFB-containing solvent includes a solvent in which xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) can generate ultra-fine bubbles when the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) is contained in the solvent. Examples thereof include "a liquid containing an arbitrary solute in any one of the solvents (i) to (iii)". The temperature conditions and pressure conditions under which the "xenon UFB-containing liquid composition" in the present invention is liquid depend on the type of solvent, the application of the xenon UFB-containing liquid composition, the usage conditions of the xenon UFB-containing liquid composition, etc., and therefore cannot be specified unconditionally.
本発明に用いられる「親水性溶媒」としては、溶解度パラメーター（ＳＰ値）が２０以上のものが好ましく、２９．９以上がさらに好ましい。具体的には、水（４７．９）、多価アルコール、低級アルコールからなる群から選ばれる１種以上を用いることが好ましい。多価アルコールとして、エチレングリコール（２９．９）、ジエチレングリコール（２４．８）、トリエチレングリコール（２１．９）、テトラエチレングリコール（２０．３）、プロピレングリコール（２５．８）等の２価アルコール、グリセリン（３３．８）、ジグリセリン、トリグリセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン等の３価アルコール、ジグリセリン、トリグリセリン、ポリグリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等の４価以上のアルコール、ソルビトール等のヘキシトール、グルコース等のアルドース、ショ糖等の糖骨格を有する化合物、その他ペンタエリスリトール等が挙げられる。低級アルコールとしてはイソプロパノール（２３．５）、ブチルアルコール（２３．３）、エチルアルコール（２６．９）が挙げられる。これらの親水性溶媒は２種以上を併用してもよい。なお括弧内は、溶解度パラメーターのδ値を示す。本発明における好ましい親水性溶媒としては、少なくとも水を含むことが好ましく、水であることがより好ましい。 The "hydrophilic solvent" used in the present invention preferably has a solubility parameter (SP value) of 20 or more, more preferably 29.9 or more. Specifically, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of water (47.9), polyhydric alcohols and lower alcohols. Examples of polyhydric alcohols include dihydric alcohols such as ethylene glycol (29.9), diethylene glycol (24.8), triethylene glycol (21.9), tetraethylene glycol (20.3) and propylene glycol (25.8); trihydric alcohols such as glycerin (33.8), diglycerin, triglycerin, polyglycerin and trimethylolpropane; Examples include tetrahydric or higher alcohols, hexitols such as sorbitol, aldoses such as glucose, compounds having a sugar skeleton such as sucrose, and pentaerythritol. Lower alcohols include isopropanol (23.5), butyl alcohol (23.3), ethyl alcohol (26.9). These hydrophilic solvents may be used in combination of two or more. The value in parenthesis indicates the δ value of the solubility parameter. A preferred hydrophilic solvent in the present invention preferably contains at least water, more preferably water.
本発明に用いられる「疎水性溶媒」としては、好ましくは溶解度パラメーター（ＳＰ値）が、２０．０未満の有機溶媒であり、具体的には、好ましくは炭化水素系溶剤もしくはシリコーン系溶剤またはそれらの混合物である。炭化水素系溶剤として、例えば、ヘキサン（１４．９）、ヘプタン（１４．３）、ドデカン（１６．２）、シクロヘキサン（１６．８）、メチルシクロヘキサン（１６．１）、オクタン（１６．０）、水添トリイソブチレン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン（１８．８）、トルエン（１８．２）、エチルベンゼン（１８．０）、キシレン（１８．０）等の芳香族炭化水素、クロロホルム（１９．３）、１，２ジクロロエタン（１９．９）、トリクロロエチレン（１９．１）等のハロゲン系炭化水素等を例示することができ、シリコーン系溶剤として、例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン等が例示される。これらの中でヘキサン（１４．９）、シクロヘキサン（１６．８）が特に好ましい。これらの疎水性溶媒は、２種以上を併用してもよい。 The "hydrophobic solvent" used in the present invention is preferably an organic solvent having a solubility parameter (SP value) of less than 20.0, specifically, preferably a hydrocarbon solvent, a silicone solvent, or a mixture thereof. Examples of hydrocarbon solvents include hexane (14.9), heptane (14.3), dodecane (16.2), cyclohexane (16.8), methylcyclohexane (16.1), octane (16.0), aliphatic hydrocarbons such as hydrogenated triisobutylene, aromatic hydrocarbons such as benzene (18.8), toluene (18.2), ethylbenzene (18.0) and xylene (18.0), Examples include halogen-based hydrocarbons such as amine (19.3), 1,2-dichloroethane (19.9), and trichlorethylene (19.1), and examples of silicone-based solvents include octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane, hexamethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, and the like. Among these, hexane (14.9) and cyclohexane (16.8) are particularly preferred. These hydrophobic solvents may be used in combination of two or more.
上記の「（i）～（iii）のいずれかの溶媒に任意の溶質を含んだ液体」における「溶質」としては、かかる液体中にキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）を含有させたときに、キセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）がウルトラファインバブルを発生させることができるものが挙げられる。「（i）～（iii）のいずれかの溶媒に任意の溶質を含んだ液体」として、具体的には、生理食塩水が挙げられる。 Examples of the "solute" in the above "liquid containing any solute in any of the solvents (i) to (iii)" include those that can generate ultra-fine bubbles from xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) when the liquid contains xenon-rich ice (preferably xenon hydrate). Specific examples of the "liquid containing any solute in any one of the solvents (i) to (iii)" include physiological saline.
上記の薬学的に許容される担体としては、製剤素材として慣用の各種有機又は無機担体物質が挙げられ、例えば、等張化剤、緩衝剤、溶媒などが挙げられる。 The above-mentioned pharmaceutically acceptable carriers include various organic or inorganic carrier substances commonly used as pharmaceutical materials, such as tonicity agents, buffers, solvents and the like.
上記の等張化剤としては、例えばブドウ糖、Ｄ－ソルビトール、塩化ナトリウム、グリセリン、Ｄ－マンニトール等が挙げられ、上記の緩衝剤としては、例えばリン酸塩、酢酸塩、炭酸塩、クエン酸塩等の緩衝液等が挙げられる。 Examples of the tonicity agent include glucose, D-sorbitol, sodium chloride, glycerin, D-mannitol and the like, and examples of the buffer include phosphate, acetate, carbonate, citrate and the like.
（容器）
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物は、容器に収容されていなくてもよいが、容器に収容されていることが好ましい。容器の形状や材質は特に制限されないが、容器の形状としては、略直方体状、略立方体状、略円柱形状、袋状などが挙げられ、容器の材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂；ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂；ガラス；アルミニウム等の金属；などが好ましく挙げられる。
(container)
The xenon UFB-containing liquid composition of the present invention may not be contained in a container, but is preferably contained in a container. The shape and material of the container are not particularly limited, but examples of the shape of the container include substantially rectangular parallelepiped, substantially cubic, substantially cylindrical, bag-like, and the like. Preferred examples of the container material include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; polyester resins such as polyethylene terephthalate; glass; and metals such as aluminum.
（本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物の用途）
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物の用途としては、本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物を使用できる用途である限り特に制限されず、キセノンの用途が挙げられ、例えば、造影剤、麻酔剤、鎮痛剤、脳保護剤、生体材料（細胞、組織、臓器等）の保存剤などの用途が好ましく挙げられる。すなわち、本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物は、造影用組成物、麻酔用組成物、鎮痛用組成物、脳保護用組成物、生体材料保存用組成物などとして用いることができる。
(Use of the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention)
Applications of the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention are not particularly limited as long as the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention can be used, and include uses of xenon. That is, the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention can be used as an imaging composition, an anesthetic composition, an analgesic composition, a brain-protecting composition, a composition for preserving biomaterials, and the like.
（本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物の使用方法）
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物の使用方法は、特に制限されず、目的とする用途に用いられる既知の組成物（例えば、造影用組成物、麻酔用組成物、鎮痛用組成物、脳保護用組成物、生体材料保存用組成物）の使用方法と同様の使用方法を用いることができる。
(Method of using the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention)
The method of using the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention is not particularly limited, and the same method of using known compositions (e.g., imaging compositions, anesthetic compositions, analgesic compositions, brain-protecting compositions, and biomaterial preservation compositions) used for intended applications can be used.
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物を、造影、麻酔、鎮痛及び脳保護から選ばれる１種又は２種以上の用途に用いる場合の具体的な使用方法としては、かかるキセノンＵＦＢ含有液体組成物を動物の静脈内に投与する方法が好ましく挙げられ、本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物を、生体材料保存の用途に用いる場合の具体的な使用方法としては、生体材料にキセノンＵＦＢ含有液体組成物を噴霧、浸漬又は塗布する方法が好ましく挙げられる。 A specific method of using the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention for one or more applications selected from imaging, anesthesia, analgesia, and brain protection is preferably a method of intravenously administering the xenon UFB-containing liquid composition to an animal. A specific method of using the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention for the purpose of preserving biomaterials is spraying, immersing, or applying the xenon UFB-containing liquid composition onto a biomaterial. A preferred method is to
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物を動物の静脈内に投与する際の投与量としては、目的とする効果が得られる限り特に制限されず、例えば、０．０００１～１ｍＬ／ｋｇ（体重）、０．００１～０．５ｍＬ／ｋｇ（体重）、０．００１～０．１ｍＬ／ｋｇ（体重）などが挙げられる。また、本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物を生体材料に噴霧又は塗布する際の噴霧量又は塗布量しては、生体材料の面積（表面積）１ｃｍ２あたり０．０１～１ｍＬ、０．０５～０．５ｍＬなどが挙げられる。 The dose when intravenously administering the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention to an animal is not particularly limited as long as the desired effect is obtained, and examples thereof include 0.0001 to 1 mL/kg (body weight), 0.001 to 0.5 mL/kg (body weight), and 0.001 to 0.1 mL/kg (body weight). In addition, when the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention is sprayed or applied to a biomaterial, the spray amount or application amount may be 0.01 to 1 mL, 0.05 to 0.5 mL per 1 cm 2 of the area (surface area) of the biomaterial.
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物の動物への投与回数としては、目的とする効果が得られる限り特に制限されず、また、本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物内の用途にも応じるため一概に述べることはできないが、例えば、１日あたり１回又は２回以上（好ましくは３回）が挙げられる。 The number of administrations of the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention to an animal is not particularly limited as long as the desired effect is obtained, and cannot be generally stated in order to meet the application of the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention.
（本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物の流通、保管の際の条件）
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物の流通や保管の際の条件としては、例えば、１～５０℃、５～４５℃、７～４０℃などが挙げられる。
(Conditions for distribution and storage of the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention)
Examples of conditions for distribution and storage of the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention include 1 to 50°C, 5 to 45°C, and 7 to 40°C.
３．＜本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物の製造方法＞
本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物の製造方法（本発明の製造方法）としては、キセノン含有率が３重量％以上の氷（好ましくはキセノンハイドレート）を融解させる工程を含んでいる限り特に制限されない。キセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）を融解させることにより、キセノンＵＦＢ含有液体組成物を製造することができる。かかる本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物は、キセノンＵＦＢと溶媒を含んでいる。なお、本発明のキセノンＵＦＢ含有液体組成物には、例えば以下の（Ａ）～（Ｃ）の液体が包含される。また、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤は、前述したように、液体中にキセノンウルトラファインバブルを発生させるためのものであり、かかる「液体」には以下の（Ａ）～（Ｃ）の液体が包含される。（Ａ）～（Ｃ）の液体における溶媒としては、前述した溶媒が挙げられる。
（Ａ）キセノン含有率が３重量％以上の氷（又は、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤におけるキセノン高含有氷）自体が融解した液体（以下、単に「融解液」とも表示する。）；
（Ｂ）融解液以外の他の液体（以下、単に「他の液体」とも表示する。）；
（Ｃ）融解液と他の液体の混合液；
3. <Method for Producing the Xenon UFB-Containing Liquid Composition of the Present Invention>
The method for producing the xenon UFB-containing liquid composition of the present invention (manufacturing method of the present invention) is not particularly limited as long as it includes a step of melting ice (preferably xenon hydrate) having a xenon content of 3% by weight or more. A xenon UFB-containing liquid composition can be produced by melting xenon-rich ice (preferably xenon hydrate). The xenon UFB-containing liquid composition of the present invention contains xenon UFB and a solvent. The xenon UFB-containing liquid composition of the present invention includes, for example, the following liquids (A) to (C). As described above, the xenon UFB generator of the present invention is for generating xenon ultra-fine bubbles in a liquid, and such "liquid" includes the following liquids (A) to (C). Solvents in the liquids (A) to (C) include the solvents described above.
(A) a liquid obtained by melting ice having a xenon content of 3% by weight or more (or xenon-rich ice in the xenon UFB generator of the present invention) itself (hereinafter also simply referred to as "melting liquid");
(B) liquids other than the melted liquid (hereinafter simply referred to as "other liquids");
(C) mixtures of melts and other liquids;
本明細書において「キセノン含有率が３重量％以上の氷を融解させる工程」としては、「キセノン含有率が３重量％以上の氷を他の液体に接触させることによって融解させる工程」、及び、「キセノン含有率が３重量％以上の氷を他の液体に接触させずに融解させる工程」などが好ましく挙げられ、キセノンが有する効果をより多く得る観点から、「キセノン含有率が３重量％以上の氷を他の液体に接触させずに融解させる工程」がより好ましく挙げられる。 In this specification, the "step of melting ice with a xenon content of 3% by weight or more" includes "a step of bringing ice with a xenon content of 3% by weight or more into contact with another liquid to melt it" and "a process of melting ice with a xenon content of 3% by weight or more without contacting it with other liquids". The step of causing” is more preferably exemplified.
本明細書において「キセノン含有率が３重量％以上の氷を他の液体に接触させることによって融解させる」方法としては、キセノン高含有氷が融解するような条件となるように、キセノン高含有氷を他の液体に接触させる方法である限り特に制限されず、キセノン高含有氷を他の液体に含有させる方法が好ましく挙げられ、中でも、キセノン高含有氷を他の液体に添加又は投入する方法や、キセノン高含有氷に他の液体を添加又は投入する方法がより好ましく挙げられ、中でも、キセノン高含有氷を他の液体に添加又は投入する方法がさらに好ましく挙げられる。 In the present specification, the method of "melting ice having a xenon content of 3% by weight or more by bringing it into contact with another liquid" is not particularly limited as long as it is a method of bringing xenon-rich ice into contact with another liquid so that the xenon-rich ice is melted, and preferably includes a method of incorporating xenon-rich ice into another liquid. More preferred is the method of adding or throwing xenon-rich ice into another liquid.
本明細書において「キセノン含有率が３重量％以上の氷を他の液体に接触させずに融解させる」方法としては、キセノン高含有氷を他の液体に接触させることなく、キセノン高含有氷が融解するような条件にキセノン高含有氷をさらす方法である限り特に制限されず、キセノン高含有氷が融解するような条件下にキセノン高含有氷を置く方法が好ましく挙げられ、中でも、容器に入れたキセノン高含有氷を、キセノン高含有氷が融解するような条件下で静置する方法や、キセノン高含有氷が融解するような条件下で、キセノン高含有氷を生体材料等に接触させる方法がより好ましく挙げられる。 In the present specification, the method of "melting ice having a xenon content of 3% by weight or more without contacting it with other liquids" is not particularly limited as long as it is a method of exposing the high xenon content ice to conditions under which the high xenon content ice melts without contacting the high xenon content ice with other liquids. A more preferred method is a method of allowing the ice to stand under conditions such that the xenon-rich ice melts, and a method of bringing the xenon-rich ice into contact with a biological material or the like under conditions such that the xenon-rich ice melts.
上記の「キセノン高含有氷が融解するような条件」としては、キセノン高含有氷が融解するような条件である限り特に制限されないが、０℃以上、好ましくは０～７０℃、より好ましくは５～６０℃、さらに好ましくは１０～５０℃という温度条件であって、かつ、常圧であるという条件が挙げられる。 The above-mentioned "conditions under which the high xenon content ice melts" is not particularly limited as long as the conditions are such that the high xenon content ice melts.
本発明の製造方法におけるキセノン高含有氷として、本発明のキセノンＵＦＢ発生剤を用いてもよい。 The xenon UFB generator of the present invention may be used as the xenon-rich ice in the production method of the present invention.
本発明の製造方法におけるキセノン高含有氷の使用量は、キセノン高含有氷を他の液体に接触させることによって融解させるか、キセノン高含有氷を他の液体に接触させずに融解させるか、キセノン高含有氷がキセノンハイドレートであるか否か、キセノン高含有氷のキセノン含有率、あるいは、どの程度の濃度のキセノンＵＦＢを必要とするか等に応じて、当業者は適宜設定することができる。キセノン高含有氷を他の液体に接触させることによって融解させる場合のキセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）の使用量（好ましくは添加量）（ｍｇ／ｍＬ）の下限として、例えば、１０ｍｇ／ｍＬ以上が挙げられ、キセノンが有する効果をより多く得る観点から、好ましくは２０ｍｇ／ｍＬ以上、より好ましくは５０ｍｇ／ｍＬ以上、さらに好ましくは１００ｍｇ／ｍＬ以上、より好ましくは１５０ｍｇ／ｍＬ以上、さらに好ましくは２００ｍｇ／ｍＬ以上が挙げられる。また、キセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）の使用量（好ましくは添加量）（ｍｇ／ｍＬ）の上限としては特に制限されないが、例えば、５０００ｍｇ／ｍＬ以下、３０００ｍｇ／ｍＬ以下、２０００ｍｇ／ｍＬ以下、１０００ｍｇ／ｍＬ以下が挙げられる。キセノンが有する効果をより多く得るための好適な態様として、キセノンハイドレートを５０～５０００ｍｇ／ｍＬ、５０～３０００ｍｇ／ｍＬ、５０～２０００ｍｇ／ｍＬ、５０～１０００ｍｇ／ｍＬ、７５～５０００ｍｇ／ｍＬ、７５～３０００ｍｇ／ｍＬ、７５～２０００ｍｇ／ｍＬ、７５～１０００ｍｇ／ｍＬ、１００～５０００ｍｇ／ｍＬ、１００～３０００ｍｇ／ｍＬ、１００～２０００ｍｇ／ｍＬ、又は１００～１０００ｍｇ／ｍＬ使用することが挙げられる。なお、キセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）の使用量（ｍｇ／ｍＬ）とは、液体１ｍＬあたりに使用する（好ましくは添加する）、キセノン高含有氷（好ましくはキセノンハイドレート）の重量（ｍｇ）を意味する。 The amount of xenon-rich ice to be used in the production method of the present invention can be appropriately set by those skilled in the art depending on whether the xenon-rich ice is melted by bringing it into contact with another liquid, whether the xenon-rich ice is melted without contacting it with another liquid, whether the xenon-rich ice is a xenon hydrate, the xenon content of the xenon-rich ice, or the required concentration of xenon UFB. The lower limit of the amount (preferably added amount) (mg/mL) of the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) used when the xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) is melted by bringing it into contact with another liquid is, for example, 10 mg/mL or more. is 200 mg/mL or more. The upper limit of the amount of xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) used (preferably added amount) (mg/mL) is not particularly limited, but examples thereof include 5000 mg/mL or less, 3000 mg/mL or less, 2000 mg/mL or less, and 1000 mg/mL or less. As a preferred embodiment for obtaining more of the effect of xenon, xenon hydrate is 50 to 5000 mg/mL, 50 to 3000 mg/mL, 50 to 2000 mg/mL, 50 to 1000 mg/mL, 75 to 5000 mg/mL, 75 to 3000 mg/mL, 75 to 2000 mg/mL, 75 to 1000 mg/mL, 100 to 5000 mg. /mL, 100-3000 mg/mL, 100-2000 mg/mL, or 100-1000 mg/mL. The amount of xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) used (mg/mL) means the weight (mg) of xenon-rich ice (preferably xenon hydrate) used (preferably added) per 1 mL of liquid.
キセノン高含有氷を他の液体に接触させる際の液体の温度としてはキセノンＵＦＢが発生する限り特に制限されず、例えば１～３７℃の範囲内を挙げることができる。 The temperature of the liquid when the xenon-rich ice is brought into contact with another liquid is not particularly limited as long as xenon UFB is generated, and can be, for example, within the range of 1 to 37°C.
以下に、本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
試験１．［キセノンハイドレート等の調製］
（１）キセノンハイドレートの調製
２０ｍＬの水にキセノンガスを０．６ＭＰａとなるように吹き込み、撹拌をしながら５℃でキセノンハイドレート生成反応を進行させて、キセノンハイドレート粒子が水中に懸濁しているキセノンハイドレートスラリーを得た。その後、かかるキセノンハイドレートスラリーを－２０℃まで冷却して、最大長が３ｍｍ以上６０ｍｍ以下の多面体形状で氷状のキセノンハイドレートを回収し、以降の実験で「キセノンハイドレート」として用いた。なお、かかるキセノンハイドレートのキセノン含有率は１９．３％であり、キセノンハイドレート率は約３４．６％であった。
Test 1. [Preparation of xenon hydrate etc.]
(1) Preparation of xenon hydrate Xenon gas was blown into 20 mL of water at 0.6 MPa, and the xenon hydrate production reaction was allowed to proceed at 5° C. with stirring to obtain a xenon hydrate slurry in which xenon hydrate particles were suspended in water. Thereafter, the xenon hydrate slurry was cooled to −20° C., and polyhedral ice-like xenon hydrate with a maximum length of 3 mm or more and 60 mm or less was recovered and used as “xenon hydrate” in subsequent experiments. The xenon content of this xenon hydrate was 19.3%, and the xenon hydrate rate was about 34.6%.
（２）圧密化ＣＯ２ハイドレートの調製
４Ｌの水にＣＯ２ガスを３ＭＰａとなるように吹き込み、撹拌をしながら１℃でＣＯ２ハイドレート生成反応を進行させて、ＣＯ２ハイドレート粒子が水中に懸濁しているＣＯ２ハイドレートスラリーを得た。かかるＣＯ２ハイドレートスラリーをシリンダー式の圧密成形機へ流し込み、圧密成形機内と脱水ドレンとの差圧（約１ＭＰａ）により脱水してＣＯ２ハイドレート粒子の結晶を濃縮した。これらのＣＯ２ハイドレート粒子の結晶を１０ＭＰａの圧搾圧で圧縮した後、－２０℃まで冷却して、圧密成形機からＣＯ２ハイドレートの円筒状の塊を回収した後、かかる円筒状の塊を破砕した。最大長が３ｍｍ以上６０ｍｍ以下の多面体形状のＣＯ２ハイドレートを選択して回収し、以降の実験で「圧密化ＣＯ２ハイドレート」として用いた。かかる圧密化ＣＯ２ハイドレートのＣＯ２含有率は２４重量％であり、ＣＯ２ハイドレート率は約６０％であった。
(2) Preparation of compacted CO 2 hydrate CO 2 gas was blown into 4 L of water so as to reach 3 MPa, and the CO 2 hydrate production reaction was allowed to proceed at 1 ° C. with stirring to obtain a CO 2 hydrate slurry in which CO 2 hydrate particles were suspended in water. The CO 2 hydrate slurry was poured into a cylinder-type compaction machine and dehydrated by the differential pressure (approximately 1 MPa) between the inside of the compaction machine and the dewatering drain to concentrate the crystals of the CO 2 hydrate particles. After compressing the crystals of these CO 2 hydrate particles with a compression pressure of 10 MPa, they were cooled to −20° C. and cylindrical lumps of CO 2 hydrate were collected from the compaction machine and then crushed. A polyhedral-shaped CO 2 hydrate with a maximum length of 3 mm or more and 60 mm or less was selected, collected, and used as the “consolidated CO 2 hydrate” in subsequent experiments. The CO2 content of such compacted CO2 hydrate was 24% by weight and the CO2 hydrate percentage was about 60%.
試験２．［ウルトラファインバブルの生成の確認］
キセノンハイドレートを水に添加して融解させたキセノンハイドレート水溶液における気泡がウルトラファインバブルであるか等を調べるために、以下の実験を行った。
Test 2. [Confirmation of generation of ultra-fine bubbles]
The following experiment was conducted in order to investigate whether or not the bubbles in the xenon hydrate aqueous solution obtained by adding xenon hydrate to water and melting them are ultra-fine bubbles.
（１）キセノンハイドレート水溶液の調製
前述の試験１の（１）で作製したキセノンハイドレートを、水１ｍＬに対して３００ｍｇの割合で水に添加し、２０℃で静置して、キセノンハイドレート水溶液を調製した。キセノンハイドレート水溶液の気泡の測定は、２４時間静置した後に行った。
(1) Preparation of xenon hydrate aqueous solution The xenon hydrate prepared in (1) of Test 1 was added to water at a rate of 300 mg per 1 mL of water, and allowed to stand at 20°C to prepare a xenon hydrate aqueous solution. The measurement of air bubbles in the xenon hydrate aqueous solution was performed after the solution was allowed to stand for 24 hours.
（２）ＣＯ２ハイドレート水溶液の調製
前述の試験１の（２）で作製した圧密化ＣＯ２ハイドレートを、水１ｍＬに対して３００ｍｇの割合で水に添加し、２０℃で静置して、ＣＯ２ハイドレート水溶液を調製した。ＣＯ２ハイドレート水溶液の気泡の測定は、２４時間静置した後に行った。
(2) Preparation of CO 2 hydrate aqueous solution The compacted CO 2 hydrate prepared in (2) of Test 1 above was added to water at a rate of 300 mg per 1 mL of water, and allowed to stand at 20 ° C. to prepare a CO 2 hydrate aqueous solution. Measurement of air bubbles in the CO 2 hydrate aqueous solution was performed after standing for 24 hours.
（３）気泡の濃度及び粒径の測定
上記（１）のキセノンハイドレート水溶液と、上記（２）のＣＯ２ハイドレート水溶液における気泡の濃度（個数）及び粒径（μｍ）を、Malvern社製 「ナノサイト NS300」を使用してそれぞれ測定した。
(3) Measurement of bubble concentration and particle size The concentration (number) and particle size (μm) of bubbles in the xenon hydrate aqueous solution of (1) above and the CO 2 hydrate aqueous solution of (2) above were measured using Malvern's "Nanosite NS300".
（４）結果
キセノンハイドレート水溶液と、上記（２）のＣＯ２ハイドレート水溶液におけるウルトラファインバブル（ＵＦＢ）の濃度（億個／ｍＬ）を、以下の表１にそれぞれ示す。
(4) Results Table 1 below shows the concentration (100 million/mL) of ultra-fine bubbles (UFB) in the xenon hydrate aqueous solution and the CO 2 hydrate aqueous solution in (2) above.
キセノンハイドレート水溶液における気泡は、１００～２００ｎｍの粒径を中央値とするＵＦＢであった。また、表１に示すように、キセノンハイドレートを用いた場合は、３５億個／ｍＬの濃度で水中にＵＦＢを発生させることができた。また、表１から分かるように、キセノンハイドレートは、圧密化ＣＯ２ハイドレートと比較して、顕著に高い濃度のＵＦＢを発生させることができた。圧密化ＣＯ２ハイドレートは、圧密化していないＣＯ２ハイドレートと比較して、高い濃度のＵＦＢを発生させることができる。本実施例のキセノンハイドレートは圧密化されていないにもかかわらず、圧密化ＣＯ２ハイドレートよりも高い濃度のＵＦＢを発生させることができたことから、キセノンハイドレートのＵＦＢ生成能は、ＣＯ２ハイドレートのＵＦＢ生成能と比較して顕著に優れていることが示された。 The bubbles in the xenon hydrate aqueous solution were UFB with a median particle size of 100-200 nm. Moreover, as shown in Table 1, when xenon hydrate was used, UFBs could be generated in water at a concentration of 3.5 billion/mL. Also, as can be seen from Table 1, xenon hydrate was able to generate significantly higher concentrations of UFB compared to compacted CO2 hydrate. Consolidated CO2 hydrate can generate higher concentrations of UFB compared to non-consolidated CO2 hydrate. Although the xenon hydrate in this example was not compacted, it was able to generate a higher concentration of UFB than the compacted CO2 hydrate, indicating that the UFB production capacity of xenon hydrate is significantly superior to that of CO2 hydrate.
試験３．［キセノンハイドレートによるウルトラファインバブルの安定性の確認］
キセノンハイドレートを用いて得られたＵＦＢの安定性を確認するために、以下の実験を行った。
Test 3. [Confirmation of stability of ultra-fine bubbles by xenon hydrate]
In order to confirm the stability of the UFB obtained using xenon hydrate, the following experiments were performed.
（１）キセノンハイドレート水溶液の調製
前述の試験１の（１）で作製したキセノンハイドレートを、水１ｍＬに対して３００ｍｇの割合で水に添加し、２０℃で静置して、キセノンハイドレート水溶液を調製した。かかるキセノンハイドレート水溶液を６か月間２０℃で静置して保存を行った。キセノンハイドレート水溶液の静置（保存）を開始してから１ヶ月後、２ヶ月後、３ヶ月後、および６ヶ月後に、キセノンハイドレート水溶液中のＵＦＢ濃度及びＵＦＢの粒径をそれぞれ測定した。測定は、Malvern社製 「ナノサイト NS300」を使用して行った。
(1) Preparation of xenon hydrate aqueous solution The xenon hydrate prepared in (1) of Test 1 was added to water at a rate of 300 mg per 1 mL of water, and allowed to stand at 20°C to prepare a xenon hydrate aqueous solution. The xenon hydrate aqueous solution was stored at 20° C. for 6 months. After 1 month, 2 months, 3 months, and 6 months from the start of standing (storage) of the xenon hydrate aqueous solution, the UFB concentration and UFB particle size in the xenon hydrate aqueous solution were measured. The measurement was performed using "Nanosite NS300" manufactured by Malvern.
（２）結果
これらの測定結果を以下の表２にそれぞれ示す。なお、初発とは、キセノンハイドレートを水に添加し、２０℃での静置を開始してから約２４時間経過後のキセノンハイドレート水溶液のＵＦＢ濃度の結果を表す。
(2) Results These measurement results are shown in Table 2 below. Note that the term "first occurrence" means the result of the UFB concentration of the xenon hydrate aqueous solution about 24 hours after the xenon hydrate was added to the water and the water was allowed to stand at 20°C.
表２から分かるように、キセノンハイドレートを用いて発生させたＵＦＢは、安定性がきわめて高いことが示された。 As can be seen from Table 2, the UFB generated using xenon hydrate was shown to be extremely stable.
試験４．［キセノンハイドレート水溶液の造影効果の確認］
キセノン（キセノンガス）が造影効果を有していることはすでに知られている。キセノンハイドレートを水に添加して融解させたキセノンハイドレート水溶液が造影効果を有しているかを調べるために、以下の実験を行った。
Test 4. [Confirmation of contrast enhancement effect of xenon hydrate aqueous solution]
It is already known that xenon (xenon gas) has a contrast enhancement effect. The following experiment was performed in order to investigate whether the xenon hydrate aqueous solution which added xenon hydrate to water and melt|dissolved has a contrast enhancement effect.
（１）キセノンハイドレート水溶液の調製
前述の試験１の（１）で作製したキセノンハイドレートを、水１ｍＬに対して３００ｍｇの割合で水に添加し、２０℃で２４時間静置して、キセノンハイドレート水溶液を調製した。
(1) Preparation of xenon hydrate aqueous solution The xenon hydrate prepared in (1) of Test 1 was added to water at a rate of 300 mg per 1 mL of water, and allowed to stand at 20°C for 24 hours to prepare a xenon hydrate aqueous solution.
（２）他のハイドレート水溶液の調製
二酸化炭素ハイドレート（ＣＯ２ハイドレート）、窒素ハイドレート、酸素ハイドレート、空気ハイドレートをそれぞれ調製した。各ハイドレートを水１ｍＬに対して３００ｍｇの割合で水に添加し、２０℃で２４時間静置して、各ハイドレート水溶液を調製した。
(2) Preparation of other hydrate aqueous solutions Carbon dioxide hydrate ( CO2 hydrate), nitrogen hydrate, oxygen hydrate and air hydrate were prepared respectively. Each hydrate was added to water at a rate of 300 mg per 1 mL of water, and allowed to stand at 20° C. for 24 hours to prepare each hydrate aqueous solution.
（３）各種ハイドレート水溶液のＣＴ値の測定
前述の試験１の（１）で作製したキセノンハイドレート水溶液をガラス瓶に封入した。このガラス瓶を「小型実験動物用 ３ＤマイクロＸ線ＣＴ」(リガク社製)にセットし、このガラス瓶についてＸ線によるコンピューター断層撮影（ＣＴ）を行って、キセノンハイドレート水溶液のＣＴ値を測定した。なお、撮影条件は以下のとおりである。
R_mCT2(Ver.2.3.1), 90kV, 200uA, FOV60(Vox size 120um), 2min
(3) Measurement of CT values of various hydrate aqueous solutions The xenon hydrate aqueous solutions prepared in (1) of Test 1 were sealed in glass bottles. This glass bottle was set in "3D micro X-ray CT for small experimental animals" (manufactured by Rigaku), and the glass bottle was subjected to X-ray computed tomography (CT) to measure the CT value of the xenon hydrate aqueous solution. The imaging conditions are as follows.
R_mCT2(Ver.2.3.1), 90kV, 200uA, FOV60(Vox size 120um), 2min
キセノンハイドレート水溶液以外の各ハイドレート水溶液についても同じ方法でＸ線によるＣＴを行って、各ハイドレート水溶液のＣＴ値を測定した。 Each hydrate aqueous solution other than the xenon hydrate aqueous solution was also subjected to X-ray CT in the same manner, and the CT value of each hydrate aqueous solution was measured.
（４）結果
各種ハイドレート水溶液のＣＴ値を以下の表３にそれぞれ示す。なお、ＣＴ値の単位は、ハンスフィールド単位（Hounsfield Unit；ＨＵ）であり、ＣＴ値が高いほどＸ線吸収値が高いことを示す。
(4) Results The CT values of various hydrate aqueous solutions are shown in Table 3 below. The unit of the CT value is the Hounsfield Unit (HU), and the higher the CT value, the higher the X-ray absorption value.
表３から分かるように、キセノンハイドレート水溶液のＣＴ値は３８．７であり、造影剤として使用できることが示された。一方、キセノンハイドレート水溶液以外のハイドレート水溶液のＣＴ値はいずれも水と同じかそれよりも少し低く、造影剤としては使用できないことが確認された。 As can be seen from Table 3, the xenon hydrate aqueous solution had a CT value of 38.7, indicating that it can be used as a contrast medium. On the other hand, all of the hydrate aqueous solutions other than the xenon hydrate aqueous solution had CT values equal to or slightly lower than those of water, and it was confirmed that they could not be used as contrast agents.
本発明によれば、ウルトラファインバブル発生装置を必要とせずに、手軽にキセノンウルトラファインバブルを液体中に発生させることができるキセノンウルトラファインバブル発生剤や、キセノンウルトラファインバブル含有液体組成物の製造方法や、かかる製造方法により製造されるキセノンウルトラファインバブル含有液体組成物等を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a xenon ultra-fine bubble generator that can easily generate xenon ultra-fine bubbles in a liquid without requiring an ultra-fine bubble generator, a method for producing a xenon ultra-fine bubble-containing liquid composition, and a xenon ultra-fine bubble-containing liquid composition produced by such a production method.
Claims (3)
前記キセノンハイドレートが、以下の測定法Ｘ１で測定した場合のキセノンウルトラファインバブルの濃度が１億個／ｍＬ以上となるように、キセノンウルトラファインバブルを水の中に発生させることができ、かつ、
レーザー回折・散乱法又はナノトラッキング法で測定した場合の、前記キセノンウルトラファインバブル含有液体組成物のキセノンウルトラファインバブルの濃度が、１億個／ｍＬ以上であり、かつ、
前記キセノンウルトラファインバブル含有液体組成物が造影用である、前記製造方法。
（測定法Ｘ１）
水に、キセノン含有率が３重量％以上であるキセノンハイドレートを３００ｍｇ／ｍＬ添加して調製した溶液中のキセノンウルトラファインバブルの濃度（個／ｍＬ）を、レーザー回折・散乱法又はナノトラッキング法で測定する； A method for producing a liquid composition containing xenon ultra-fine bubbles, comprising the step of melting a xenon hydrate having a xenon content of 3% by weight or more,
The xenon hydrate can generate xenon ultra-fine bubbles in water so that the xenon ultra-fine bubbles have a concentration of 100 million bubbles/mL or more when measured by the following measurement method X1 , and
The concentration of xenon ultra-fine bubbles in the xenon ultra-fine bubble-containing liquid composition is 100 million bubbles/mL or more as measured by a laser diffraction/scattering method or a nano-tracking method, and
The above manufacturing method, wherein the xenon ultra-fine bubble-containing liquid composition is for contrast imaging .
(Measurement method X1)
The concentration (number/mL) of xenon ultra-fine bubbles in a solution prepared by adding 300 mg/mL of xenon hydrate having a xenon content of 3% by weight or more to water is measured by a laser diffraction/scattering method or a nanotracking method;
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