JP7259945B2 - 蒸着マスク欠陥原因特定システム、蒸着マスク欠陥原因特定方法およびプログラム - Google Patents
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Description
本願は、2019年4月26日に日本に出願された特願2019-086570号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
ところで、特許文献1に記載された技術では、面積、円形度、長い幅と短い幅との比などに基づいて欠陥種類が判定されるものの、特許文献1に記載されたウェーハ欠陥検出装置は、欠陥の原因(つまり、そのような欠陥が生じた原因)を特定することができない。
ところで、特許文献2に記載された技術では、バックライト画像、同軸反射画像などを用いることによって、スリット部に飛び出した異物などが検出される。しかし、特許文献2に記載されたメタルマスク検査装置によっても、欠陥の原因(つまり、そのような異物などが生じた原因)を特定することができない。
図1は第1実施形態の蒸着マスク欠陥原因特定システム1の概略構成の一例を示す図である。
図1に示す例では、蒸着マスク欠陥原因特定システム1が、蒸着マスクM(図2参照)の欠陥の原因を特定する。蒸着マスク欠陥原因特定システム1は、画像取得部11と、第1面積算出部12と、第2面積算出部13と、面積比率算出部14と、径寸法算出部15と、対称性判定部16と、欠陥原因特定部17とを備えている。
図14Aに示すように、基材M1の両面に、レジストRを配置する。基材M1は、鉄とニッケルとを主成分とする合金である鉄‐ニッケル系合金を用いることができる。例えば、30質量%以上のニッケルと、残余分の鉄を含む合金であってもよい。鉄およびニッケルに加えて、クロム、マンガン、炭素、およびコバルトなどの添加物を含んでいてもよい。また、基材M1は、熱膨張率の小さい、例えばニッケルを36質量%含むインバー材などの合金であってもよい。
基材M1は、鉄‐ニッケル‐コバルト系の合金を用いることもできる。例えば、30質量%以上のニッケル、3質量%以上のコバルト、および残余分の鉄を含む合金であってもよい。鉄、ニッケル、およびコバルトに加えて、クロム、マンガン、および炭素などの添加物を含んでいてもよい。また、基材M1は、さらに熱膨張率の小さい、例えばニッケルを32質量%、コバルトを4質量%以上5質量%以下含む合金、すなわちスーパーインバー材などの合金であってもよい。
レジストRは、ネガタイプまたはポジタイプのいずれを用いてもよい。また、レジストRは、ドライフィルムレジストであってもよい。レジストRがドライフィルムレジストである場合には、基材M1の表面にレジストRを含むドライフィルムがラミネートされる。以降、ドライフィルムレジストを用いる場合において、基材M1の表面にドライフィルムレジストをラミネートすることを、レジストRがラミネートされる、とも表現する。
図14Aに示す例では、基材M1の両面にレジストRが配置されているが、一方の面のみにレジストRが配置されてもよい。
本実施形態では、基材M1およびレジストRが積層された方向を上下方向といい、基材M1において、紙面上側の面を上面、紙面下側の面を下面と呼ぶ。また、上下方向から見ることを平面視といい、上下方向に沿った断面で見ることを断面視という。
ネガタイプのレジストRを用いた場合には、露光された部分のレジストRが硬化する。アルカリ水溶液で洗浄することで、露光マスクにより光が遮蔽された部分のレジストRを除去する。これにより、図14Bに示すように、レジストRに開口を形成することができる。ポジタイプのレジストRを用いた場合には、露光された部分のレジストRが分解する。分解したレジストRをアルカリ水溶液で除去することで、図14Bに示すように、レジストRに開口を形成することができる。
次に、図14Dに示すように、次工程で基材M1の下面をエッチング時に基材M1の上面側を保護するために、基材M1の上面側にエッチング保護用のニスNを塗布する。さらに、基材M1の下面側のバックシートBSを除去する。図14Cと同様にエッチングを行うことで、基材M1の下面に、上方向に向かって凸の球面状の孔が形成される。
ここで、基材M1の上面の孔の径は、下面の孔の径よりも小さくてもよい。以降、基材M1の上面の孔を小孔M2S、下面の孔を大孔M2Lとも呼ぶ。
なお、等方性エッチングにより孔M2を形成する例に限らず、異方性エッチングにより孔M2を形成してもよい。
高精細な蒸着マスクMを作製する場合、基材M1の下面からの1回のエッチングにより蒸着マスクMを上下方向に貫通する複数の孔M2を形成してもよい。この場合、孔M2の開口幅が最小になる箇所は、基材M1の上面(すなわち、DS=D1)となる。
孔M2のうち、上下方向においていずれの位置を撮像するかは、カメラの配置場所や撮像のための光を照射する方向を変更することにより適宜変更できる。例えば、第1開口部M2fの形状や開口幅D1を測定する場合には、カメラを基材M1の上面側に配置し、光源を基材M1の下面側に配置する。この場合、基材M1の下面側からの孔M2を透過する光により、基材M1を撮像する。
また、小孔M2Sの形状や開口幅DSを測定するために、カメラおよび光源を基材M1の上面側に配置し、基材M1の上面側から孔M2を反射する光により、基材M1を撮像してもよい。大孔M2Lの形状や開口幅DLを測定するために、カメラおよび光源を基材M1の下面側に配置し、基材M1の下面側から孔M2を反射する光により、基材M1を撮像してもよい。
また、第1開口部M2fの形状や開口幅D1を測定するために、カメラおよび光源を基材M1の下面側に配置し、基材M1の下面側から孔M2を反射する光により、基材M1を撮像してもよい。
この例に限らず、第1開口部M2fの形状や開口幅D1を測定するために、カメラを基材M1の下面側に配置し、光源を基材M1の上面側に配置する。この場合、基材M1の上面側からの孔M2を透過する光により、基材M1を撮像してもよい。
また、基材M1の下面において、複数形成された大孔M2Lの開口端同士がオーバーラップしていてもよい。この場合、形成された大孔M2L同士の大きさや重なり具合等の条件に応じて、あらかじめ設定した箇所の寸法を測定すればよい。
詳細は後述するが、正常孔部分M2N1~M2N5(図2の(A)~(E)を参照)が複数の孔部分M2に含まれる場合のみならず、不良孔部分M2F(図2の(F)を参照)も複数の孔部分M2に含まれる場合がある。この時に、蒸着マスク欠陥原因特定システム1は、不良孔部分M2Fが形成された原因を特定する。
第2面積算出部13は、画像取得部11によって取得された撮像画像IM上における不良孔部分M2Fの面積AFを算出する。
面積比率算出部14は、正常孔部分M2N1~M2N5の面積ANに対する不良孔部分M2Fの面積AFの割合である面積比率(AF/AN)を算出する。
対称性判定部16は、径寸法算出部15によって算出された径寸法L1~L8に基づいて不良孔部分M2Fの形状の対称性を判定する。
面積比率算出部14によって算出された面積比率(AF/AN)が1以上である場合に、欠陥原因特定部17は、不良孔部分M2Fの原因が、後述する第1原因または第2原因であると特定する。
そこで、第1実施形態の蒸着マスク欠陥原因特定システム1では、蒸着マスク作製時に用いるレジストがネガタイプである場合であって、面積比率算出部14によって算出された面積比率(AF/AN)が1以上である場合であって、撮像画像IM上における正常孔部分M2N1~M2N5の形状が対称性を有し、かつ不良孔部分M2Fの形状が対称性を有さないと対称性判定部16によって判定された場合に、欠陥原因特定部17は、不良孔部分M2Fの原因が第1原因であると特定する。
第2面積算出部13によって算出される不良孔部分M2Fの面積AFは333[pixel]である。
面積比率算出部14によって算出される面積比率(AF/AN)は1.07である(つまり、1以上である)。
第2面積算出部13によって算出される不良孔部分M2Fの面積AFは189[pixel]である。
面積比率算出部14によって算出される面積比率(AF/AN)は0.92である(つまり、1未満である)。
第2面積算出部13によって算出される不良孔部分M2Fの面積AFは131[pixel]である。
面積比率算出部14によって算出される面積比率(AF/AN)は0.43である(つまり、1未満である)。
図5に示す例では、径寸法算出部15が、画像取得部11によって取得された撮像画像IM上における、径寸法L1を算出する。径寸法L1は、不良孔部分M2Fの重心位置Cから、不良孔部分M2Fと不良孔部分M2Fの周囲の基材部分M1との境界部分M3までの長さである。また、径寸法算出部15は、不良孔部分M2Fの重心位置Cから境界部分M3までの長さである径寸法L2~L8であって、径寸法L1の向きと45°の角度をなす向きの径寸法L2と、径寸法L2の向きと45°の角度をなす向きの径寸法L3と、径寸法L3の向きと45°の角度をなす向きの径寸法L4と、径寸法L4の向きと45°の角度をなす向きの径寸法L5と、径寸法L5の向きと45°の角度をなす向きの径寸法L6と、径寸法L6の向きと45°の角度をなす向きの径寸法L7と、径寸法L7の向きと45°の角度をなす向きの径寸法L8と、を算出する。
上記の例に限らず、対称性判定部16は、8方向の径寸法L1~L8を算出し、径寸法L1~L8における最大値LMAXと最小値LMINとにより、不良孔部分M2Fの形状が対称性の有無を判定してもよい。
図6に示す例では、径寸法算出部15が、図5に示す例と同様に、径寸法L1~L8を算出する。
対称性判定部16は、図5に示す例と同様に、径寸法算出部15によって算出された径寸法L1~L8に基づいて不良孔部分M2Fの形状の対称性を判定する。
詳細には、図6に示す例では、径寸法L1と、径寸法L3と、径寸法L5と、径寸法L7とがほぼ等しいため、差分(LMAX-LMIN)が閾値TH未満になる。その結果、対称性判定部16は、不良孔部分M2Fの形状が対称性を有すると判定する。
上記の例に限らず、図5の説明と同様に、8方向の径寸法L1~L8を算出し、径寸法L1~L8における最大値LMAXと最小値LMINとにより、不良孔部分M2Fの形状が対称性の有無を判定してもよい。
図7に示す例では、蒸着マスクMの製造時に、例えばドライフィルムレジストなどのレジストRが蒸着マスクMの基材M1の上面に配置される。密着不良部Pは、基材M1に対するレジストRの密着性不良が生じている箇所であり、図7に示す例ではレジストRの開口端の近傍に形成されている。つまり、レジストRと基材M1とが密着しなかった密着不良部Pが不良孔部分M2Fにかかっている。この場合には、レジストRを介した基材M1のエッチング処理の時に、エッチング液がレジストRと基材M1との隙間(密着不良部P)に浸入する。
例えば、(1)基材M1に不純物が含まれる場合、(2)レジストRと基材M1との間にエアまたはミストが入り込む場合、(3)基材M1の表面粗さが大きい場合などに、基材M1に対するレジストRの密着性不良が生じる。
図8Aに示す例では、蒸着マスクMの製造時にレジストRが蒸着マスクMの基材M1の上面に配置される。異物CTがレジストR上またはレジストR中に含まれている。また、図8Aの例では、異物CTは、露光マスクPMの開口端の下側に位置している。この場合には、レジストRに対する露光が実行される時に、露光が異物CTによって遮られ、露光障害が生じてしまう(つまり、露光時の異物CTによる露光阻害が生じてしまう)。露光障害が生じた箇所(図8A中の異物CTの下側の部分)を露光不良部EF1とする。
図9に示す例では、蒸着マスクMの製造時にレジストRが蒸着マスクMの基材M1の上面に形成される。異物CTがレジストRと基材M1との間に存在する場合には、基材M1のエッチング処理の実行時に、エッチング液が異物CTによって遮られ、エッチングの遅れが生じてしまう。
エッチングの遅れが局所的に生じる場合には、対称性を有さない形状の不良孔部分M2Fが形成されてしまう。
例えば、(1)基材M1の上面の異物CTが整面処理で十分に除去されなかった場合、(2)レジストRのラミネート処理前に異物CTが基材M1の上面に付着した場合などに、レジストRと基材M1との間の異物CTによるエッチングの遅れが生じる。
図10に示す例では、蒸着マスクMの製造時に、レジストRが蒸着マスクMの基材M1の上面に形成され、現像によりレジストRのパターニングが行われる。パターニングが行われた後に残存物RSがレジストRの開口R1内に存在する場合には、基材M1のエッチング処理の実行時に、エッチング液が残存物RSによって遮られ、エッチングの遅れが生じてしまう。
エッチングの遅れが局所的に生じる場合には、対称性を有さない形状の不良孔部分M2Fが形成されてしまう。
例えば、(1)現像または水洗での不純物の乾き残り、(2)レジスト昇華物の溶解などによって、レジストRの開口R1内の残存物RSによるエッチングの遅れが生じる。
図11に示す例では、蒸着マスクMの作製時に用いるレジストがネガタイプである場合の蒸着マスクMの製造工程を示している。レジストRが蒸着マスクMの基材M1の上面に形成されている。レジストRにおいて露光された場所を説明するために、図中に露光マスクPMを図示している。異物CTがレジストRのキャリアフィルムRB上またはキャリアフィルムRBの内部に存在する場合には、レジストRに対する露光が実行される時に、異物CTによる光散乱(光の廻り込み)によってレジストRの裾引きが生じる。そのため、図示のように、露光マスクPMで遮光されている箇所においても、レジストRが硬化する場合がある。露光マスクPMにより遮光されていたが、レジストRが硬化した箇所(露光不良部EF2)の近傍では、エッチングの遅れが生じてしまう。
図11に示すキャリアフィルムRBおよびレジストRは、例えば「感光性フィルムの特性と応用」(https://www.jstage.jst.go.jp/article/networkpolymer/34/5/34_253/_pdf)に記載されているベースフィルムおよび感光層(レジスト層)に相当する。ベースフィルムとして、ポリエチレンテレフタレート(PET)が一般的に用いられる。
図12に示す例では、画像取得ステップS11において、画像取得部11が、蒸着マスクMの撮像画像IMを取得する。
次いで、第1面積算出ステップS12では、第1面積算出部12が、ステップS11において取得された撮像画像IM上における正常孔部分M2N1~M2N5の面積ANを算出する。
また、第2面積算出ステップS13では、第2面積算出部13が、ステップS11において取得された撮像画像IM上における不良孔部分M2Fの面積AFを算出する。
次いで、欠陥原因特定ステップにより、不良孔部分M2Fの原因を特定する。欠陥原因特定ステップは、以下のステップS14A、S15A~B、S16A~B、S17A~Dを含んでいてもよい。
ステップS14Aでは、例えば欠陥原因特定部17は、ステップS14において算出された面積比率(AF/AN)が1以上であるか否かを判定する。面積比率(AF/AN)が1以上である場合にはステップS15Aに進み、面積比率(AF/AN)が1未満である場合にはステップS15Bに進む。
次いで、ステップS16Aでは、対称性判定部16が、ステップS15Aにおいて算出された径寸法L1~L8に基づいて不良孔部分M2Fの形状の対称性を判定する。詳細には、対称性判定部16は、撮像画像IM上における正常孔部分M2N1~M2N5の形状が対称性を有するか否かと、撮像画像IM上における不良孔部分M2Fの形状が対称性を有するか否かと、を判定する。
次いで、ステップS16Bでは、対称性判定部16が、ステップS15Bにおいて算出された径寸法L1~L8に基づいて不良孔部分M2Fの形状の対称性を判定する。詳細には、対称性判定部16は、撮像画像IM上における正常孔部分M2N1~M2N5の形状が対称性を有するか否かと、撮像画像IM上における不良孔部分M2Fの形状が対称性を有するか否かと、を判定する。
ステップS17Bでは、欠陥原因特定部17は、不良孔部分M2Fの原因が、第2原因であると特定する。
ステップS17Cでは、欠陥原因特定部17は、不良孔部分M2Fの原因が、第3原因であると特定する。
ステップS17Dでは、欠陥原因特定部17は、不良孔部分M2Fの原因が、第4原因であると特定する。
そのため、第1実施形態の蒸着マスク欠陥原因特定システム1では、蒸着マスクMの検査担当者が不良孔部分M2Fの形状を目視で確認する必要なく、不良孔部分M2Fの原因を特定することができる。
上述した第1実施形態の蒸着マスク欠陥原因特定システム1は、例えば、有機EL(Electro Luminescence)の原版となる蒸着マスクの欠陥原因を特定するために用いられる。有機ELのRGB画素形成の原版となる蒸着マスクでは、40μm程度の大きさを有する孔が数万個並んでおり、それらの孔が規格を満足する必要がある。
第1実施形態の蒸着マスク欠陥原因特定システム1が用いられる適用例では、それらの孔形状が不良となる原因を特定することによって、孔形状の検査担当者の負担を軽減することができる。
第1実施形態の蒸着マスク欠陥原因特定システム1を用いることによって、孔形状が不良となる原因の解析を容易にすることができる。その結果、良品マスクの作製を容易にすることができる。
以下、本発明の蒸着マスク欠陥原因特定システム、蒸着マスク欠陥原因特定方法およびプログラムの第2実施形態について説明する。
第2実施形態の蒸着マスク欠陥原因特定システム1は、後述する点を除き、上述した第1実施形態の蒸着マスク欠陥原因特定システム1と同様に構成されている。従って、第2実施形態の蒸着マスク欠陥原因特定システム1によれば、後述する点を除き、上述した第1実施形態の蒸着マスク欠陥原因特定システム1と同様の効果を奏することができる。
図13に示す例では、蒸着マスク欠陥原因特定システム1が、蒸着マスクM(図2参照)の欠陥の原因を特定する。蒸着マスク欠陥原因特定システム1は、画像取得部11と、第1面積算出部12と、第2面積算出部13と、面積比率算出部14と、欠陥原因特定部17と、教師データ取得部1Aとを備えている。
教師データ取得部1Aは、学習用第1蒸着マスク(図示せず)の撮像画像(図示せず)と、学習用第1蒸着マスクに含まれる不良孔部分(図示せず)の原因との関係を示す第1教師データ(図示せず)を取得する。学習用第1蒸着マスクに含まれる正常孔部分の面積に対する不良孔部分の面積の割合(面積比率)は1以上である。
また、正常孔部分M2N1~M2N5の面積ANに対する不良孔部分M2Fの面積AFの割合(面積比率(AF/AN))が1未満の蒸着マスクMに含まれる不良孔部分M2Fの原因を特定する場合には、欠陥原因特定部17が、第2教師データを使用した教師あり学習の結果を反映させて、不良孔部分M2Fの原因を特定する。
Claims (8)
- 複数の孔が形成された基材を有する蒸着マスクの欠陥原因を特定する蒸着マスク欠陥原因特定システムにおいて、
正常孔部分と不良孔部分とを含む前記複数の孔を撮像した複数の孔部分と、前記複数の孔の周囲の前記基材を撮像した基材部分と、を含む前記蒸着マスクの撮像画像を取得する画像取得部と、
前記画像取得部によって取得された前記撮像画像における前記正常孔部分の面積を算出する第1面積算出部と、
前記画像取得部によって取得された前記撮像画像における前記不良孔部分の面積を算出する第2面積算出部と、
前記正常孔部分の面積に対する前記不良孔部分の面積の割合である面積比率を算出する面積比率算出部と、
前記不良孔部分の原因を特定する欠陥原因特定部と、を備え、
前記欠陥原因特定部は、
前記面積比率が1以上である場合に、前記不良孔部分の原因が、第1原因または第2原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない原因であると特定し、
前記画像取得部によって取得された前記撮像画像における、前記不良孔部分の重心位置から、前記不良孔部分と前記不良孔部分の周囲の前記基材部分との境界部分までの長さである径寸法を算出する径寸法算出部と、
前記径寸法算出部によって算出された前記径寸法に基づいて前記不良孔部分の形状の対称性を判定する対称性判定部と、を更に備え、
前記径寸法算出部は、前記重心位置を中心とする45°間隔の8方向の前記径寸法を算出し、
前記欠陥原因特定部は、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因であると特定し、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因とは異なる前記第2原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない第3原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因、前記第2原因および前記第3原因のいずれでもない第4原因であると特定し、
前記蒸着マスクの作製に用いるレジストは、液レジストまたはドライフィルムレジストであり、前記レジストがネガタイプである場合、
前記第1原因には、
前記レジスト自体に異物があり現像時に脱落したこと、
前記蒸着マスクの製造中に前記レジストに物理的に傷がついたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時に異物を挟み込み、前記ドライフィルムレジストと前記基材とが密着しなかった部分が前記不良孔部分にかかっていること、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材の前処理以降から前記ドライフィルムレジストの前記基材へのラミネート処理までに、前記基材の汚れが取れていないこと、
前記蒸着マスクの作製に用いる露光マスクに問題があること、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時のエアの挟み込みが生じたこと、および、
露光時の異物による露光阻害が生じたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第2原因には、
前記露光マスクの開口パターンに問題があること、
前記露光マスクの表面全体が一様に汚れていたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記基材へのラミネート処理の条件が適切ではなく、前記ドライフィルムレジストの前記基材への密着性が低下したこと、および、
エッチングでの浸み込みがあったこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第3原因には、
前記レジストと前記基材との間の異物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストのキャリアフィルムの上の異物による、前記ドライフィルムレジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている前記ドライフィルムレジストの一部が硬化し、局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の残存物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
前記露光マスクの前記開口パターンに局所的な欠損があること、および、
前記露光マスクの前記基材に対向する面において、前記基材に向かって突出する局所的なキズによるバリがあること、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第4原因には、
前記レジストの開口のバラツキまたはエッチング液の濡れ性不足によるエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の皮膜残渣によるエッチング不足が生じたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記キャリアフィルムの上の異物による、前記ドライフィルムレジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている前記ドライフィルムレジストの一部が硬化し、エッチングの遅れが生じたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記キャリアフィルムの内部の異物による、前記ドライフィルムレジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている前記ドライフィルムレジストの一部が硬化し、エッチングの遅れが生じたこと、および、
前記レジストの密着不足に起因する、前記レジストへの露光時の光の散乱によって、遮光されている前記レジストの一部が硬化し、エッチングの遅れが生じたこと、の少なくともいずれかが含まれる、
蒸着マスク欠陥原因特定システム。 - 複数の孔が形成された基材を有する蒸着マスクの欠陥原因を特定する蒸着マスク欠陥原因特定システムにおいて、
正常孔部分と不良孔部分とを含む前記複数の孔を撮像した複数の孔部分と、前記複数の孔の周囲の前記基材を撮像した基材部分と、を含む前記蒸着マスクの撮像画像を取得する画像取得部と、
前記画像取得部によって取得された前記撮像画像における前記正常孔部分の面積を算出する第1面積算出部と、
前記画像取得部によって取得された前記撮像画像における前記不良孔部分の面積を算出する第2面積算出部と、
前記正常孔部分の面積に対する前記不良孔部分の面積の割合である面積比率を算出する面積比率算出部と、
前記不良孔部分の原因を特定する欠陥原因特定部と、を備え、
前記欠陥原因特定部は、
前記面積比率が1以上である場合に、前記不良孔部分の原因が、第1原因または第2原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない原因であると特定し、
前記画像取得部によって取得された前記撮像画像における、前記不良孔部分の重心位置から、前記不良孔部分と前記不良孔部分の周囲の前記基材部分との境界部分までの長さである径寸法を算出する径寸法算出部と、
前記径寸法算出部によって算出された前記径寸法に基づいて前記不良孔部分の形状の対称性を判定する対称性判定部と、を更に備え、
前記径寸法算出部は、前記重心位置を中心とする45°間隔の8方向の前記径寸法を算出し、
前記欠陥原因特定部は、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因であると特定し、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因とは異なる前記第2原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない第3原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因、前記第2原因および前記第3原因のいずれでもない第4原因であると特定し、
前記蒸着マスクの作製に用いるレジストは、液レジストまたはドライフィルムレジストであり、前記レジストがポジタイプである場合、
前記第1原因には、
前記レジスト自体に異物があり現像時に脱落したこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時に異物を挟み込んだこと、
前記レジストと前記基材とが密着しなかった部分が前記不良孔部分にかかっていること、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時のエアの挟み込みが生じたこと、および、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストのキャリアフィルム上の異物による露光時の光散乱によって、遮光されている部分の前記ドライフィルムレジストの一部が分解し、局所的にエッチングが進行しすぎたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第2原因には、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記基材へのラミネート処理の条件が適切ではなく、前記ドライフィルムレジストの前記基材への密着性が低下したこと、
エッチングでの浸み込みがあったこと、
前記レジストのキャリアフィルム上の異物による、前記レジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている部分の前記レジストの一部が分解し、エッチングが進行しすぎたこと、
前記レジストのキャリアフィルムの内部の異物による露光時の光散乱によって、遮光されている部分の前記レジストの一部が分解し、エッチングが進行しすぎたこと、および、
前記レジストへの露光時の密着不足に伴う光の散乱による前記レジストの分解が生じたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第3原因には、
前記レジストと前記基材との間の異物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の残存物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
前記蒸着マスクの作製に用いる露光マスクに形成されている孔の一部を塞ぐような欠陥や異物の付着があること、および、
前記レジストへの露光時の異物による、前記レジストへの露光阻害が生じたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第4原因には、
前記レジストの開口のバラツキまたはエッチング液の濡れ性不足によるエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の皮膜残渣によるエッチング不足が生じたこと、および、
前記露光マスクの表面全体が一様に汚れていたこと、の少なくともいずれかが含まれる、
蒸着マスク欠陥原因特定システム。 - 複数の孔が形成された基材を有する蒸着マスクの欠陥原因を特定する蒸着マスク欠陥原因特定方法において、
正常孔部分と不良孔部分とを含む前記複数の孔を撮像した複数の孔部分と、前記複数の孔の周囲の前記基材を撮像した基材部分と、を含む前記蒸着マスクの撮像画像を取得する画像取得ステップと、
前記画像取得ステップにおいて取得された前記撮像画像における前記正常孔部分の面積を算出する第1面積算出ステップと、
前記画像取得ステップにおいて取得された前記撮像画像における前記不良孔部分の面積を算出する第2面積算出ステップと、
前記正常孔部分の面積に対する前記不良孔部分の面積の割合である面積比率を算出する面積比率算出ステップと、
前記不良孔部分の原因を特定する欠陥原因特定ステップと、を備え、
前記欠陥原因特定ステップでは、
前記面積比率が1以上である場合に、前記不良孔部分の原因が、第1原因または第2原因であると特定され、
前記面積比率が1未満である場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない原因であると特定され、
前記画像取得ステップによって取得された前記撮像画像における、前記不良孔部分の重心位置から、前記不良孔部分と前記不良孔部分の周囲の前記基材部分との境界部分までの長さである径寸法を算出する径寸法算出ステップと、
前記径寸法算出ステップによって算出された前記径寸法に基づいて前記不良孔部分の形状の対称性を判定する対称性判定ステップと、を更に備え、
前記径寸法算出ステップでは、前記重心位置を中心とする45°間隔の8方向の前記径寸法を算出し、
前記欠陥原因特定ステップでは、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因であると特定し、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因とは異なる前記第2原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない第3原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因、前記第2原因および前記第3原因のいずれでもない第4原因であると特定し、
前記蒸着マスクの作製に用いるレジストは、液レジストまたはドライフィルムレジストであり、前記レジストがネガタイプである場合、
前記第1原因には、
前記レジスト自体に異物があり現像時に脱落したこと、
前記蒸着マスクの製造中に前記レジストに物理的に傷がついたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時に異物を挟み込み、前記ドライフィルムレジストと前記基材とが密着しなかった部分が前記不良孔部分にかかっていること、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材の前処理以降から前記ドライフィルムレジストの前記基材へのラミネート処理までに、前記基材の汚れが取れていないこと、
前記蒸着マスクの作製に用いる露光マスクに問題があること、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時のエアの挟み込みが生じたこと、および、
露光時の異物による露光阻害が生じたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第2原因には、
前記露光マスクの開口パターンに問題があること、
前記露光マスクの表面全体が一様に汚れていたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記基材へのラミネート処理の条件が適切ではなく、前記ドライフィルムレジストの前記基材への密着性が低下したこと、および、
エッチングでの浸み込みがあったこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第3原因には、
前記レジストと前記基材との間の異物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストのキャリアフィルムの上の異物による、前記ドライフィルムレジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている前記ドライフィルムレジストの一部が硬化し、局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の残存物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
前記露光マスクの前記開口パターンに局所的な欠損があること、および、
前記露光マスクの前記基材に対向する面において、前記基材に向かって突出する局所的なキズによるバリがあること、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第4原因には、
前記レジストの開口のバラツキまたはエッチング液の濡れ性不足によるエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の皮膜残渣によるエッチング不足が生じたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記キャリアフィルムの上の異物による、前記ドライフィルムレジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている前記ドライフィルムレジストの一部が硬化し、エッチングの遅れが生じたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記キャリアフィルムの内部の異物による、前記ドライフィルムレジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている前記ドライフィルムレジストの一部が硬化し、エッチングの遅れが生じたこと、および、
前記レジストの密着不足に起因する、前記レジストへの露光時の光の散乱によって、遮光されている前記レジストの一部が硬化し、エッチングの遅れが生じたこと、の少なくともいずれかが含まれる、
蒸着マスク欠陥原因特定方法。 - 複数の孔が形成された基材を有する蒸着マスクの欠陥原因を特定する蒸着マスク欠陥原因特定方法において、
正常孔部分と不良孔部分とを含む前記複数の孔を撮像した複数の孔部分と、前記複数の孔の周囲の前記基材を撮像した基材部分と、を含む前記蒸着マスクの撮像画像を取得する画像取得ステップと、
前記画像取得ステップにおいて取得された前記撮像画像における前記正常孔部分の面積を算出する第1面積算出ステップと、
前記画像取得ステップにおいて取得された前記撮像画像における前記不良孔部分の面積を算出する第2面積算出ステップと、
前記正常孔部分の面積に対する前記不良孔部分の面積の割合である面積比率を算出する面積比率算出ステップと、
前記不良孔部分の原因を特定する欠陥原因特定ステップと、を備え、
前記欠陥原因特定ステップでは、
前記面積比率が1以上である場合に、前記不良孔部分の原因が、第1原因または第2原因であると特定され、
前記面積比率が1未満である場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない原因であると特定され、
前記画像取得ステップによって取得された前記撮像画像における、前記不良孔部分の重心位置から、前記不良孔部分と前記不良孔部分の周囲の前記基材部分との境界部分までの長さである径寸法を算出する径寸法算出ステップと、
前記径寸法算出ステップによって算出された前記径寸法に基づいて前記不良孔部分の形状の対称性を判定する対称性判定ステップと、を更に備え、
前記径寸法算出ステップでは、前記重心位置を中心とする45°間隔の8方向の前記径寸法を算出し、
前記欠陥原因特定ステップでは、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因であると特定し、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因とは異なる前記第2原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない第3原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因、前記第2原因および前記第3原因のいずれでもない第4原因であると特定し、
前記蒸着マスクの作製に用いるレジストは、液レジストまたはドライフィルムレジストであり、前記レジストがポジタイプである場合、
前記第1原因には、
前記レジスト自体に異物があり現像時に脱落したこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時に異物を挟み込んだこと、
前記レジストと前記基材とが密着しなかった部分が前記不良孔部分にかかっていること、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時のエアの挟み込みが生じたこと、および、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストのキャリアフィルム上の異物による露光時の光散乱によって、遮光されている部分の前記ドライフィルムレジストの一部が分解し、局所的にエッチングが進行しすぎたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第2原因には、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記基材へのラミネート処理の条件が適切ではなく、前記ドライフィルムレジストの前記基材への密着性が低下したこと、
エッチングでの浸み込みがあったこと、
前記レジストのキャリアフィルム上の異物による、前記レジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている部分の前記レジストの一部が分解し、エッチングが進行しすぎたこと、
前記レジストのキャリアフィルムの内部の異物による露光時の光散乱によって、遮光されている部分の前記レジストの一部が分解し、エッチングが進行しすぎたこと、および、
前記レジストへの露光時の密着不足に伴う光の散乱による前記レジストの分解が生じたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第3原因には、
前記レジストと前記基材との間の異物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の残存物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
前記蒸着マスクの作製に用いる露光マスクに形成されている孔の一部を塞ぐような欠陥や異物の付着があること、および、
前記レジストへの露光時の異物による、前記レジストへの露光阻害が生じたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第4原因には、
前記レジストの開口のバラツキまたはエッチング液の濡れ性不足によるエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の皮膜残渣によるエッチング不足が生じたこと、および、
前記露光マスクの表面全体が一様に汚れていたこと、の少なくともいずれかが含まれる、
蒸着マスク欠陥原因特定方法。 - 複数の孔が形成された基材を有する蒸着マスクの欠陥原因を特定する欠陥原因特定するプログラムにおいて、
コンピュータに、
正常孔部分と不良孔部分とを含む前記複数の孔を撮像した複数の孔部分と、前記複数の孔の周囲の前記基材を撮像した基材部分と、を含む前記蒸着マスクの撮像画像を取得する画像取得ステップと、
前記画像取得ステップにおいて取得された前記撮像画像における前記正常孔部分の面積を算出する第1面積算出ステップと、
前記画像取得ステップにおいて取得された前記撮像画像における前記不良孔部分の面積を算出する第2面積算出ステップと、
前記正常孔部分の面積に対する前記不良孔部分の面積の割合である面積比率を算出する面積比率算出ステップと、
前記不良孔部分の原因を特定する欠陥原因特定ステップと、
を実行させるためのプログラムであって、
前記欠陥原因特定ステップでは、
前記面積比率が1以上である場合に、前記不良孔部分の原因が、第1原因または第2原因であると特定され、
前記面積比率が1未満である場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない原因であると特定され、
前記画像取得ステップによって取得された前記撮像画像における、前記不良孔部分の重心位置から、前記不良孔部分と前記不良孔部分の周囲の前記基材部分との境界部分までの長さである径寸法を算出する径寸法算出ステップと、
前記径寸法算出ステップによって算出された前記径寸法に基づいて前記不良孔部分の形状の対称性を判定する対称性判定ステップと、を更に備え、
前記径寸法算出ステップでは、前記重心位置を中心とする45°間隔の8方向の前記径寸法を算出し、
前記欠陥原因特定ステップでは、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因であると特定し、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因とは異なる前記第2原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない第3原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因、前記第2原因および前記第3原因のいずれでもない第4原因であると特定し、
前記蒸着マスクの作製に用いるレジストは、液レジストまたはドライフィルムレジストであり、前記レジストがネガタイプである場合、
前記第1原因には、
前記レジスト自体に異物があり現像時に脱落したこと、
前記蒸着マスクの製造中に前記レジストに物理的に傷がついたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時に異物を挟み込み、前記ドライフィルムレジストと前記基材とが密着しなかった部分が前記不良孔部分にかかっていること、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材の前処理以降から前記ドライフィルムレジストの前記基材へのラミネート処理までに、前記基材の汚れが取れていないこと、
前記蒸着マスクの作製に用いる露光マスクに問題があること、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時のエアの挟み込みが生じたこと、および、
露光時の異物による露光阻害が生じたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第2原因には、
前記露光マスクの開口パターンに問題があること、
前記露光マスクの表面全体が一様に汚れていたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記基材へのラミネート処理の条件が適切ではなく、前記ドライフィルムレジストの前記基材への密着性が低下したこと、および、
エッチングでの浸み込みがあったこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第3原因には、
前記レジストと前記基材との間の異物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストのキャリアフィルムの上の異物による、前記ドライフィルムレジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている前記ドライフィルムレジストの一部が硬化し、局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の残存物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
前記露光マスクの前記開口パターンに局所的な欠損があること、および、
前記露光マスクの前記基材に対向する面において、前記基材に向かって突出する局所的なキズによるバリがあること、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第4原因には、
前記レジストの開口のバラツキまたはエッチング液の濡れ性不足によるエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の皮膜残渣によるエッチング不足が生じたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記キャリアフィルムの上の異物による、前記ドライフィルムレジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている前記ドライフィルムレジストの一部が硬化し、エッチングの遅れが生じたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記キャリアフィルムの内部の異物による、前記ドライフィルムレジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている前記ドライフィルムレジストの一部が硬化し、エッチングの遅れが生じたこと、および、
前記レジストの密着不足に起因する、前記レジストへの露光時の光の散乱によって、遮光されている前記レジストの一部が硬化し、エッチングの遅れが生じたこと、の少なくともいずれかが含まれる、
プログラム。 - 複数の孔が形成された基材を有する蒸着マスクの欠陥原因を特定する欠陥原因特定するプログラムにおいて、
コンピュータに、
正常孔部分と不良孔部分とを含む前記複数の孔を撮像した複数の孔部分と、前記複数の孔の周囲の前記基材を撮像した基材部分と、を含む前記蒸着マスクの撮像画像を取得する画像取得ステップと、
前記画像取得ステップにおいて取得された前記撮像画像における前記正常孔部分の面積を算出する第1面積算出ステップと、
前記画像取得ステップにおいて取得された前記撮像画像における前記不良孔部分の面積を算出する第2面積算出ステップと、
前記正常孔部分の面積に対する前記不良孔部分の面積の割合である面積比率を算出する面積比率算出ステップと、
前記不良孔部分の原因を特定する欠陥原因特定ステップと、
を実行させるためのプログラムであって、
前記欠陥原因特定ステップでは、
前記面積比率が1以上である場合に、前記不良孔部分の原因が、第1原因または第2原因であると特定され、
前記面積比率が1未満である場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない原因であると特定され、
前記画像取得ステップによって取得された前記撮像画像における、前記不良孔部分の重心位置から、前記不良孔部分と前記不良孔部分の周囲の前記基材部分との境界部分までの長さである径寸法を算出する径寸法算出ステップと、
前記径寸法算出ステップによって算出された前記径寸法に基づいて前記不良孔部分の形状の対称性を判定する対称性判定ステップと、を更に備え、
前記径寸法算出ステップでは、前記重心位置を中心とする45°間隔の8方向の前記径寸法を算出し、
前記欠陥原因特定ステップでは、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因であると特定し、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因とは異なる前記第2原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない第3原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定ステップで判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因、前記第2原因および前記第3原因のいずれでもない第4原因であると特定し、
前記蒸着マスクの作製に用いるレジストは、液レジストまたはドライフィルムレジストであり、前記レジストがポジタイプである場合、
前記第1原因には、
前記レジスト自体に異物があり現像時に脱落したこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時に異物を挟み込んだこと、
前記レジストと前記基材とが密着しなかった部分が前記不良孔部分にかかっていること、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時のエアの挟み込みが生じたこと、および、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストのキャリアフィルム上の異物による露光時の光散乱によって、遮光されている部分の前記ドライフィルムレジストの一部が分解し、局所的にエッチングが進行しすぎたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第2原因には、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記基材へのラミネート処理の条件が適切ではなく、前記ドライフィルムレジストの前記基材への密着性が低下したこと、
エッチングでの浸み込みがあったこと、
前記レジストのキャリアフィルム上の異物による、前記レジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている部分の前記レジストの一部が分解し、エッチングが進行しすぎたこと、
前記レジストのキャリアフィルムの内部の異物による露光時の光散乱によって、遮光されている部分の前記レジストの一部が分解し、エッチングが進行しすぎたこと、および、
前記レジストへの露光時の密着不足に伴う光の散乱による前記レジストの分解が生じたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第3原因には、
前記レジストと前記基材との間の異物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の残存物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
前記蒸着マスクの作製に用いる露光マスクに形成されている孔の一部を塞ぐような欠陥や異物の付着があること、および、
前記レジストへの露光時の異物による、前記レジストへの露光阻害が生じたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第4原因には、
前記レジストの開口のバラツキまたはエッチング液の濡れ性不足によるエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の皮膜残渣によるエッチング不足が生じたこと、および、
前記露光マスクの表面全体が一様に汚れていたこと、の少なくともいずれかが含まれる、
プログラム。 - 複数の孔が形成された基材を有する蒸着マスクの欠陥原因を特定する蒸着マスク欠陥原因特定システムにおいて、
正常孔部分と不良孔部分とを含む前記複数の孔を撮像した複数の孔部分と、前記複数の孔の周囲の前記基材を撮像した基材部分と、を含む前記蒸着マスクの撮像画像を取得する画像取得部と、
前記画像取得部によって取得された前記撮像画像における前記正常孔部分の面積を算出する第1面積算出部と、
前記画像取得部によって取得された前記撮像画像における前記不良孔部分の面積を算出する第2面積算出部と、
前記正常孔部分の面積に対する前記不良孔部分の面積の割合である面積比率を算出する面積比率算出部と、
前記不良孔部分の原因を特定する欠陥原因特定部と、
教師データ取得部と、を備え、
前記教師データ取得部は、
学習用第1蒸着マスクの撮像画像と、前記学習用第1蒸着マスクに含まれる不良孔部分の原因との関係を示す第1教師データと、
学習用第2蒸着マスクの撮像画像と、前記学習用第2蒸着マスクに含まれる不良孔部分の原因との関係を示す第2教師データとを取得し、
前記学習用第1蒸着マスクに含まれる正常孔部分の面積に対する前記不良孔部分の面積の割合である面積比率は1以上であり、
前記学習用第2蒸着マスクに含まれる正常孔部分の面積に対する前記不良孔部分の面積の割合である面積比率は1未満であり、
前記欠陥原因特定部は、前記第1教師データおよび前記第2教師データを使用した教師あり学習を実行した後に、前記面積比率算出部によって算出された前記面積比率が1以上である場合の前記不良孔部分の原因が、第1原因または第2原因であると特定し、前記面積比率算出部によって算出された前記面積比率が1未満である場合の前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない原因であると特定し、
前記画像取得部によって取得された前記撮像画像における、前記不良孔部分の重心位置から、前記不良孔部分と前記不良孔部分の周囲の前記基材部分との境界部分までの長さである径寸法を算出する径寸法算出部と、
前記径寸法算出部によって算出された前記径寸法に基づいて前記不良孔部分の形状の対称性を判定する対称性判定部と、を更に備え、
前記径寸法算出部は、前記重心位置を中心とする45°間隔の8方向の前記径寸法を算出し、
前記欠陥原因特定部は、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因であると特定し、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因とは異なる前記第2原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない第3原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因、前記第2原因および前記第3原因のいずれでもない第4原因であると特定し、
前記蒸着マスクの作製に用いるレジストは、液レジストまたはドライフィルムレジストであり、前記レジストがネガタイプである場合、
前記第1原因には、
前記レジスト自体に異物があり現像時に脱落したこと、
前記蒸着マスクの製造中に前記レジストに物理的に傷がついたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時に異物を挟み込み、前記ドライフィルムレジストと前記基材とが密着しなかった部分が前記不良孔部分にかかっていること、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材の前処理以降から前記ドライフィルムレジストの前記基材へのラミネート処理までに、前記基材の汚れが取れていないこと、
前記蒸着マスクの作製に用いる露光マスクに問題があること、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時のエアの挟み込みが生じたこと、および、
露光時の異物による露光阻害が生じたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第2原因には、
前記露光マスクの開口パターンに問題があること、
前記露光マスクの表面全体が一様に汚れていたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記基材へのラミネート処理の条件が適切ではなく、前記ドライフィルムレジストの前記基材への密着性が低下したこと、および、
エッチングでの浸み込みがあったこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第3原因には、
前記レジストと前記基材との間の異物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストのキャリアフィルムの上の異物による、前記ドライフィルムレジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている前記ドライフィルムレジストの一部が硬化し、局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の残存物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
前記露光マスクの前記開口パターンに局所的な欠損があること、および、
前記露光マスクの前記基材に対向する面において、前記基材に向かって突出する局所的なキズによるバリがあること、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第4原因には、
前記レジストの開口のバラツキまたはエッチング液の濡れ性不足によるエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の皮膜残渣によるエッチング不足が生じたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記キャリアフィルムの上の異物による、前記ドライフィルムレジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている前記ドライフィルムレジストの一部が硬化し、エッチングの遅れが生じたこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記キャリアフィルムの内部の異物による、前記ドライフィルムレジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている前記ドライフィルムレジストの一部が硬化し、エッチングの遅れが生じたこと、および、
前記レジストの密着不足に起因する、前記レジストへの露光時の光の散乱によって、遮光されている前記レジストの一部が硬化し、エッチングの遅れが生じたこと、の少なくともいずれかが含まれる、
蒸着マスク欠陥原因特定システム。 - 複数の孔が形成された基材を有する蒸着マスクの欠陥原因を特定する蒸着マスク欠陥原因特定システムにおいて、
正常孔部分と不良孔部分とを含む前記複数の孔を撮像した複数の孔部分と、前記複数の孔の周囲の前記基材を撮像した基材部分と、を含む前記蒸着マスクの撮像画像を取得する画像取得部と、
前記画像取得部によって取得された前記撮像画像における前記正常孔部分の面積を算出する第1面積算出部と、
前記画像取得部によって取得された前記撮像画像における前記不良孔部分の面積を算出する第2面積算出部と、
前記正常孔部分の面積に対する前記不良孔部分の面積の割合である面積比率を算出する面積比率算出部と、
前記不良孔部分の原因を特定する欠陥原因特定部と、
教師データ取得部と、を備え、
前記教師データ取得部は、
学習用第1蒸着マスクの撮像画像と、前記学習用第1蒸着マスクに含まれる不良孔部分の原因との関係を示す第1教師データと、
学習用第2蒸着マスクの撮像画像と、前記学習用第2蒸着マスクに含まれる不良孔部分の原因との関係を示す第2教師データとを取得し、
前記学習用第1蒸着マスクに含まれる正常孔部分の面積に対する前記不良孔部分の面積の割合である面積比率は1以上であり、
前記学習用第2蒸着マスクに含まれる正常孔部分の面積に対する前記不良孔部分の面積の割合である面積比率は1未満であり、
前記欠陥原因特定部は、前記第1教師データおよび前記第2教師データを使用した教師あり学習を実行した後に、前記面積比率算出部によって算出された前記面積比率が1以上である場合の前記不良孔部分の原因が、第1原因または第2原因であると特定し、前記面積比率算出部によって算出された前記面積比率が1未満である場合の前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない原因であると特定し、
前記画像取得部によって取得された前記撮像画像における、前記不良孔部分の重心位置から、前記不良孔部分と前記不良孔部分の周囲の前記基材部分との境界部分までの長さである径寸法を算出する径寸法算出部と、
前記径寸法算出部によって算出された前記径寸法に基づいて前記不良孔部分の形状の対称性を判定する対称性判定部と、を更に備え、
前記径寸法算出部は、前記重心位置を中心とする45°間隔の8方向の前記径寸法を算出し、
前記欠陥原因特定部は、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因であると特定し、
前記面積比率が1以上である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因とは異なる前記第2原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ前記不良孔部分の形状が対称性を有さないと前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因および前記第2原因のどちらでもない第3原因であると特定し、
前記面積比率が1未満である場合であって、前記撮像画像における前記正常孔部分の形状が対称性を有し、かつ、前記不良孔部分の形状が対称性を有すると前記対称性判定部によって判定された場合に、前記不良孔部分の原因が、前記第1原因、前記第2原因および前記第3原因のいずれでもない第4原因であると特定し、
前記蒸着マスクの作製に用いるレジストは、液レジストまたはドライフィルムレジストであり、前記レジストがポジタイプである場合、
前記第1原因には、
前記レジスト自体に異物があり現像時に脱落したこと、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時に異物を挟み込んだこと、
前記レジストと前記基材とが密着しなかった部分が前記不良孔部分にかかっていること、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記基材に対する前記ドライフィルムレジストのラミネート時のエアの挟み込みが生じたこと、および、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストのキャリアフィルム上の異物による露光時の光散乱によって、遮光されている部分の前記ドライフィルムレジストの一部が分解し、局所的にエッチングが進行しすぎたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第2原因には、
前記レジストが前記ドライフィルムレジストである場合であって、前記ドライフィルムレジストの前記基材へのラミネート処理の条件が適切ではなく、前記ドライフィルムレジストの前記基材への密着性が低下したこと、
エッチングでの浸み込みがあったこと、
前記レジストのキャリアフィルム上の異物による、前記レジストへの露光時の光散乱によって、遮光されている部分の前記レジストの一部が分解し、エッチングが進行しすぎたこと、
前記レジストのキャリアフィルムの内部の異物による露光時の光散乱によって、遮光されている部分の前記レジストの一部が分解し、エッチングが進行しすぎたこと、および、
前記レジストへの露光時の密着不足に伴う光の散乱による前記レジストの分解が生じたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第3原因には、
前記レジストと前記基材との間の異物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の残存物による局所的なエッチングの遅れが生じたこと、
前記蒸着マスクの作製に用いる露光マスクに形成されている孔の一部を塞ぐような欠陥や異物の付着があること、および、
前記レジストへの露光時の異物による、前記レジストへの露光阻害が生じたこと、の少なくともいずれかが含まれ、
前記第4原因には、
前記レジストの開口のバラツキまたはエッチング液の濡れ性不足によるエッチングの遅れが生じたこと、
現像によりパターニングが行われた後の前記レジストの開口内の皮膜残渣によるエッチング不足が生じたこと、および、
前記露光マスクの表面全体が一様に汚れていたこと、の少なくともいずれかが含まれる、
蒸着マスク欠陥原因特定システム。
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