JP7257025B2 - 流体供給システム - Google Patents
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Description
本発明は、このような課題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、合流ラインにおける流体の残留、混合、反応、及び反応物の発生を低減することができる、信頼性の高い流体供給システムを提供することにある。
本態様に係る流体供給システムは、複数の流体ラインと、複数の流体ラインの下流端に接続される合流ラインと、複数の流体ラインにそれぞれ設けられる第1三方弁と、複数の流体ラインに第1三方弁を介して接続される第1パージラインと、合流ラインに開閉弁を介して接続される第2パージラインとを備え、第2パージラインの下流端は、合流ラインの上流端に接続され、複数の流体ラインは、流体の流量を制御する流量制御装置と、流量制御装置から合流ラインに至る低圧ラインと、低圧ラインに設けられる第2三方弁とをそれぞれ備え、低圧ラインに第2三方弁を介して接続される第3パージラインをさらに備える。
<第1実施形態>
図1は、第1実施形態に係る流体供給システム1の系統図を示す。流体供給システム1は、種々の流体が流れる流体ライン4を複数配列して構成されている。
具体的には、1本の流体ライン4に処理ガスを流した後、この流体ライン4に第1三方弁16を介して第1パージライン26からN2ガスを供給し、この流体ライン4をパージ処理する。
以下、本発明の第2実施形態に係る流体供給システム1について説明する。図2は、本実施形態に係る流体供給システム1の系統図を示す。本実施形態の流体供給システム1は、第1実施形態で説明した第1及び第2パージライン26、30に加え、第3パージライン34をさらに備えている。
例えば、流体ライン4、第1~第3パージライン26、30、34に設けられる機器は、前述したものに限定されない。また、第1~第3パージライン26、30、34に使用されるパージガスは、前述したものに限定されない。
4 流体ライン
4a 流体ラインの下流端
4b 低圧ライン
14 開閉弁
16 第1三方弁
18 流量制御装置
22 合流ライン
22a 合流ラインの上流端(末端)
26 第1パージライン
26a 第1パージラインの下流端(末端)
30 第2パージライン
30a 第2パージラインの下流端
30b 第2パージラインの上流端
34 第3パージライン
36 第2三方弁
Claims (4)
- 複数の流体ラインと、
前記複数の流体ラインの下流端に接続される合流ラインと、
前記複数の流体ラインにそれぞれ設けられる第1三方弁と、
前記複数の流体ラインに前記第1三方弁を介して接続される第1パージラインと、
前記合流ラインに開閉弁を介して接続される第2パージラインと
を備え、
前記第2パージラインの下流端は、前記合流ラインの上流端に接続され、
前記複数の流体ラインは、
流体の流量を制御する流量制御装置と、
前記流量制御装置から前記合流ラインに至る低圧ラインと、
前記低圧ラインに設けられる第2三方弁と
をそれぞれ備え、
前記低圧ラインに前記第2三方弁を介して接続される第3パージラインをさらに備える、流体供給システム。 - 前記第2パージラインの上流端は、前記第1パージラインの下流端に接続される、請求項1に記載の流体供給システム。
- 前記複数の流体ラインの少なくとも何れか1つをパージ処理するとき、当該流体ラインに前記第1三方弁を介して前記第1パージラインからパージガスを供給するととともに、前記開閉弁を介して前記第2パージラインから前記合流ラインにパージガスを供給する、請求項1又は2に記載の流体供給システム。
- 前記複数の流体ラインの少なくとも何れか1つをパージ処理するとき、前記第1パージライン及び前記第2パージラインからパージガスを供給するとともに、前記第2三方弁を介して前記第3パージラインから前記低圧ラインを経て前記合流ラインにパージガスを供給する、請求項1から3の何れか一項に記載の流体供給システム。
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JP2003286573A (ja) | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Horiba Ltd | 薄膜堆積方法とその装置および薄膜堆積方法に用いる混合ガス供給装置並びに薄膜堆積方法に用いる赤外線ガス分析計 |
JP2007214406A (ja) | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Hitachi Metals Ltd | 流量検定機能付質量流量制御装置を搭載した半導体製造装置 |
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JP2007214406A (ja) | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Hitachi Metals Ltd | 流量検定機能付質量流量制御装置を搭載した半導体製造装置 |
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