JP7256655B2 - 光学積層体、及び、有機ｅｌ表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学積層体、及び、有機ＥＬ表示装置に関する。

近年、有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬともいう。）表示装置に代表される画像表示装置が急速に普及している。有機ＥＬ表示装置には、偏光フィルム及び位相差フィルム（λ／４板、位相差値約１４０ｎｍ）を備える円偏光板が搭載される。円偏光板を配置することにより、外光の反射を防止し、画面の視認性を向上させることができる。表示装置が外光の反射を防止する能力は、黒を本来の黒として表示する性能に直結する。この性能が高いほど、表示装置はコントラストが高くなる。

円偏光板は、偏光フィルムとＡプレート（λ／４板、位相差値約１４０ｎｍ）とを組み合わせることにより得られる（例えば、特許文献１参照）。Ａプレートの位相差値は、斜め方向から見たときと、正面方向から見たときとで、見かけ上異なる。そのため、画面を見る方向によっては、外光反射強度が変化し、表示装置の黒表示能力が角度によって変化してしまうという問題がある。

画面を見る方向に依存した位相差値の変化を補償するために、さらにＣプレートを組み合わせることが提案されている。従来の知見からＡプレートとＣプレートの積層順は組み合わされる光反射層の特性によらず任意とされてきた。しかしながら、光反射層の特性にあわせた設計を施していない位相差フィルムを備える円偏光板を搭載した表示装置は、必ずしも画面を見る方向に依存しない黒表示能力を達成するものとは言えなかった。

特開２０１６－４０６０３号公報

円偏光板を理想鏡面反射層上に設置し斜め視野で面内方位角を変化させた場合の外光反射率を均一にするためには、偏光フィルム、Ａプレート、Ｃプレートの積層順が最適である。これはＭｕｅｌｌｅｒ行列を用いた偏光伝搬解析計算を実行することで確認できる。偏光フィルムとＡプレートを有する円偏光板を理想鏡面反射層上に設置すると面内方位角の観測角によってＡプレートの位相差値が変化する。このため、Ａプレートの遅相軸と観測者視線のなす角が概ね４５°となるとき位相差変化は極小となって反射率は極小値となり、この観測角が反射率極小角となる。また、Ａプレートの遅相軸と観測者視線のなす角が概ね９０°又は０°となるとき、位相差変化は極大となって反射率は極大値となり、この観測角が反射率極大角となる。

偏光フィルム、Ｃプレート、Ａプレート、の積層順や、偏光フィルム、Ｃプレート、Ａプレート、Ｃプレートの積層順等のように、偏光フィルムとＡプレートとの間にＣプレートが位置する積層順は、理論計算上望ましくない。すなわち、円偏光板に入射し反射層で反射された後にＡプレートを通過した反射光は、直線偏光となる。反射率極大角においてＡプレートを出射した直線偏光の振動電場方向と観測者視線のなす角度は概ね４５°となる。Ｃプレートの遅相軸は観測者視線と平行となるため、Ａプレートを出射した直線偏光の振動電場方向とＣプレートの遅相軸のなす角は概ね４５°となる。このとき、反射率極大角で観察される、偏光フィルムに入射する光は楕円偏光となり、偏光フィルムを通過して視認される反射光の偏光フィルムの吸収軸方向と直交する反射光偏光成分は吸収されずに透過する。この反射率増加に上記観測角によるＡプレート位相差値変化による反射率増加が加算された値が反射率極大値となる。一方、Ａプレートを出射した直線偏光の振動電場方向とＣプレートの遅相軸のなす角は概ね０°となり、反射率変化は上記観測角によるＡプレート位相差値変化による反射率増加のみとなる。この結果、反射率極小値から反射率極大値の変化率が大きくなる。

有機ＥＬ表示装置に対して光拡散性の多い反射層を用いることが検討されている。このような有機ＥＬ表示装置では、理想鏡面での計算結果とは逆に、偏光フィルム、Ｃプレート、Ａプレートの積層順や、偏光フィルム、Ｃプレート、Ａプレート、Ｃプレートの積層順等の、偏光フィルムとＡプレートとの間にＣプレートが位置する積層順が望ましいことが明らかになった。これは、反射層の拡散反射によって、各観測角での角度分解能が低下し、理想鏡面での計算における反射率極小角と反射率極大角のそれぞれの観測角での反射光の重ね合わせが起こり、極小値と極大値の平均化が生じるためである。すなわち、理想鏡面の場合と比較して、反射率極小値は増加し、反射率極大値は低下する。その結果、光拡散性の多い反射層に対して、偏光フィルムとＡプレートとの間にＣプレートが位置する積層順を適用すると、方位角を変化させた場合の反射率の変化率が小さくなる。

本発明の目的は、適用した画像表示装置において外光反射による黒表示能力変化を抑制し、当該画像表示装置を斜め方向から見たときにも正面方向と同程度の良好な黒表示能力を付与することができる光学積層体、及び、これを備える有機ＥＬ表示装置を提供することである。

本発明は、偏光フィルム、Ａプレート、及び第１のＣプレートを備え、偏光フィルムの吸収軸と、Ａプレートの遅相軸とのなす角度が略４５°であり、光反射層に貼合した際の視感度補正反射率の変化率が１５％未満である、光学積層体を提供する。

このように構成された光学積層体は、適用した画像表示装置において外光反射による黒表示能力変化を抑制し、当該画像表示装置を斜め方向から見たときにも正面方向と同程度の良好な黒表示能力を付与することができる

本発明の光学積層体は、偏光フィルム、第１のＣプレート、及び、Ａプレートをこの順に備えていてもよい。

また、本発明の光学積層体は、光反射層の散乱半値角が１０°以上であり、下記式（ｉ）及び（ｉｉ）を満たすものであってもよい。
１３５ｎｍ＜Ｒ_０Ａ（５５０）＜１５０ｎｍ …（ｉ）
－１００ｎｍ≦Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）≦０ｎｍ …（ｉｉ）
〔上記式中、Ｒ_０Ａ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおけるＡプレートの面内位相差値を表し、Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第１のＣプレートの厚さ方向の位相差値を表す。〕

また、本発明の光学積層体は、第２のＣプレートをさらに備え、偏光フィルム、第１のＣプレート、Ａプレート、及び、第２のＣプレートをこの順に備えていてもよい。

また、本発明の光学積層体は、光反射層の散乱半値角が１０°以上であり、下記式（ｉｉｉ）、（ｉｖ）及び（ｖ）を満たすものであってもよい。
１３５ｎｍ＜Ｒ_０Ａ（５５０）＜１５０ｎｍ …（ｉｉｉ）
－１００ｎｍ≦Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）＜Ｒ_ｔｈＣ２（５５０）≦０ｎｍ …（ｉｖ）
－１００ｎｍ≦Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）＋Ｒ_ｔｈＣ２（５５０） …（ｖ）
〔上記式中、Ｒ_０Ａ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおけるＡプレートの面内位相差値を表し、Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第１のＣプレートの厚さ方向の位相差値を表し、Ｒ_ｔｈＣ２（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第２のＣプレートの厚さ方向の位相差値を表す。〕

また、本発明の光学積層体は、光反射層の散乱半値角が１０°未満であり、下記式（ｉｉｉ）、（ｖｉ）及び（ｖｉｉ）を満たすものであってもよい。
１３５ｎｍ＜Ｒ_０Ａ（５５０）＜１５０ｎｍ …（ｉｉｉ）
－１００ｎｍ≦Ｒ_ｔｈＣ２（５５０）＜Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）≦０ｎｍ …（ｖｉ）
－１００ｎｍ≦Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）＋Ｒ_ｔｈＣ２（５５０） …（ｖｉｉ）
〔上記式中、Ｒ_０Ａ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおけるＡプレートの面内位相差値を表し、Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第１のＣプレートの厚さ方向の位相差値を表し、Ｒ_ｔｈＣ２（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第２のＣプレートの厚さ方向の位相差値を表す。〕

また、本発明の光学積層体は、下記式（ｖｉｉｉ）を満たすものであってもよい。
０．８０＜Ｒ_０Ａ（４５０）／Ｒ_０Ａ（５５０）＜０．９３ …（ｖｉｉｉ）
〔上記式中、Ｒ_０Ａ（４５０）は、波長４５０ｎｍにおけるＡプレートの面内位相差値を表し、Ｒ_０Ａ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおけるＡプレートの面内位相差値を表す。〕

また、本発明は、光反射層と、上記いずれか一つの光学積層体とを備える有機ＥＬ表示装置を提供する。このとき、散乱半値角が１０°以上であるか１０°未満であるかの違いによって上記のようにＡプレート及びＣプレートを組み合わせることが好ましい。

本発明によれば、適用した画像表示装置において外光反射による黒表示能力変化を抑制し、当該画像表示装置を斜め方向から見たときにも正面方向と同程度の良好な黒表示能力を付与することができる光学積層体、及び、これを備える有機ＥＬ表示装置を提供することができる。

本発明の一実施形態に係る光学積層体の断面図である。 （Ａ）、（Ｂ）ともに、視感度補正反射率の変化率の測定を説明するための概略図である。

以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。

＜光学積層体＞
図１に示されているとおり、本実施形態の光学積層体（以下、単に「積層体」ともいう。）１００は、一つの実施形態において、偏光フィルム１０の一方の面に保護フィルム１１が積層された偏光板１と、位相差フィルム２とを備えている。偏光板１と位相差フィルム２とは、偏光フィルム１０と位相差フィルム２とが対面するようにして、粘着剤層１３を介して積層されている。図１では、積層体１００が粘着剤層１４を介して光反射層１７に貼合されている様子が描かれている。なお、図１において偏光フィルム１０と保護フィルム１１とをそれぞれ貼合するための接着剤層は図示していない。

位相差フィルム２は、偏光フィルム１０に近い側から順に、第１のＣプレート２０、Ａプレート２１、及び、第２のＣプレート２２をこの順に備えている。第１のＣプレート２０とＡプレート２１とが接着層１５を介して積層され、Ａプレート２１と第２のＣプレート２２とが接着層１６を介して積層されている。また、位相差フィルムは、Ａプレート、第１のＣプレート及び第２のＣプレート以外に、例えば重合性液晶化合物を配向させるための配向膜や、基材フィルム、その他の位相差層を有していてもよい。これらについては後述する。なお、他の実施形態として、第１のＣプレート２０と第２のＣプレート２２のいずれか一方を備えない態様としてもよい。また、偏光フィルム１０の両面に保護フィルム１１が積層された態様としてもよい。

光反射層１７は、例えば、有機ＥＬ表示素子が備える電極であることができる。この場合、光反射層１７と位相差フィルムとの間に、さらに、透明又は半透明電極、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、正孔防止層、電子輸送層、電子注入層からなる群から選ばれる少なくとも一つの層を備えることができる。

第１のＣプレート２０と第２のＣプレート２２の最適な位相差値及びその大小関係は光反射層の散乱反射半値角によって異なる。これについては、後の「＜位相差フィムル＞」の「（４）光反射層との関係」で述べる。

積層体１００は、図１に示した層以外の層を有することができる。積層体がさらに有していてもよい層としては、前面板、遮光パターン、タッチセンサー等が挙げられる。前面板は、偏光板における位相差フィルムが積層された側とは反対側に配置されることができる。遮光パターンは、前面板と積層体との間に配置することができる。遮光パターンは、前面板における偏光板側の面上に形成することができる。遮光パターンは、画像表示装置の額縁（非表示領域）に形成され、画像表示装置の配線が使用者に視認されないようにすることができる。タッチセンサーは、前面板と積層体との間、積層体における位相差フィルムと光反射層との間等に配置されることができる。

積層体１００の形状は特に限定されるものではない。積層体１００が実質的に矩形である場合、長辺の長さは５ｃｍ以上３５ｃｍ以下であることが好ましく、１０ｃｍ以上２５ｃｍ以下であることがより好ましく、短辺の長さは５ｃｍ以上２５ｃｍ以下であることが好ましく、６ｃｍ以上２０ｃｍ以下であることがより好ましい。

実質的に矩形であるとは、積層体１００が、それぞれ、主面の４つの隅（角部）のうち少なくとも１つの角部が鈍角となるように切除された形状や丸みを設けた形状であったり、主面に垂直な端面の一部が面内方向に窪んだ凹み部（切り欠け）を有したり、主面内の一部が、円形、楕円形、多角形及びそれらの組合せ等の形状にくり抜かれた穴あき部を有したりしてもよいことをいう。

本実施形態の積層体は、光反射層に貼合した際の視感度補正反射率の変化率が１５％未満であり、１４％未満であることがより好ましい。視感度補正反射率の変化率の下限値は特に限定されないが、理想的には０％であり、５％以上であってもよい。視感度補正反射率の変化率が、このような値をとると、有機ＥＬ表示装置の反射光の反射率をより均一にすることができる。

本明細書において、視感度補正反射率の変化率は、有機ＥＬ表示装置が黒表示の状態で、仰角５０°の方向から観察したときに、視感度補正反射率が最大になる面内角度における視感度補正反射率Ｙｍａｘと、当該面内角度に９０°加えた角度における視感度補正反射率Ｙｍｉｎとの変化率のことをいう。視感度補正反射率が最大になる面内角度は、仰角を５０°として、面内角度を０°から３６０°まで変えて視感度補正反射率を測定し、視感度補正反射率が最大になる角度のことをいう。

具体的に図２を参照して、視感度補正反射率の変化率を説明する。図２（Ａ）は、積層体１００を側面から見たものである。視感度補正反射率の変化率を算出するための視感度補正反射率値は、仰角３０が、５０°となる方向４０から観察したときの値を採用する。図２（Ｂ）は、積層体１００を上面から（偏光フィルムを基準にして位相差フィルム側とは反対側から）見たものである。視感度補正反射率の変化率は、視感度補正反射率値が最大になる方向４１から観察したときの視感度補正反射率値と、当該方向４１の面内角度に９０°（面内角度３２）を加えた角度の方向４２から観察したときの視感度補正反射率値とをそれぞれ測定し、以下の式から算出される。
視感度補正反射率の変化率＝（Ｙｍａｘ－Ｙｍｉｎ）／Ｙｍａｘ

視感度補正反射率は、測定波長λの範囲でＳＣＩ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｉｎｃｌｕｄｅ）モードで測定された反射分光スペクトルＲ（λ）、等色関数ｙ（λ）、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５放射分光スペクトルＳ（λ）を用いて、以下の式から算出される。測定波長範囲λは３８０ｍｍから７８０ｍｍの範囲である。
視感度補正反射率＝Σ（Ｒ（λ）×ｙ（λ）×Ｓ（λ））／Σ（ｙ（λ）×Ｓ（λ））

視感度補正反射率が最大になる面内角度における視感度補正反射率Ｙｍａｘは、４．０％以上６．０％以下であることが好ましく、４．０％以上５．０％以下であることがより好ましい。また、その面内角度に９０°加えた角度における視感度補正反射率Ｙｍｉｎは４．０％以上６．０％以下であることが好ましく、４．０％以上５．０％以下であることがより好ましい。

＜偏光板＞
本実施形態において偏光板とは、偏光フィルムと、偏光フィルムの片面又は両面に貼合された保護フィルムとからなるフィルムのことをいう。偏光板が備える保護フィルムは、後述のハードコート層、反射防止層、帯電防止層等の表面処理層を有していてもよい。偏光フィルムと保護フィルムとは、例えば接着剤層や粘着剤層を介して積層することができる。偏光板が備える部材について、以下に説明する。

（１）偏光フィルム
偏光板が備える偏光フィルムは、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する（透過軸と平行な）振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有する吸収型の偏光フィルムであることができる。偏光フィルムとしては、一軸延伸されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させた偏光フィルムを好適に用いることができる。偏光フィルムは、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程；ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより二色性色素を吸着させる工程；二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液等の架橋液で処理する工程；及び、架橋液による処理後に水洗する工程を含む方法によって製造できる。

ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルと共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体の例は、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、及びアンモニウム基を有する（メタ）アクリルアミド類等を含む。

本明細書において「（メタ）アクリル」とは、アクリル及びメタクリルから選択される少なくとも一方を意味する。「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリレート」等においても同様である。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は通常、８５～１００ｍｏｌ％であり、９８ｍｏｌ％以上が好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール又はポリビニルアセタール等を用いることもできる。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は通常、１０００～１００００であり、１５００～５０００が好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６に準拠して求めることができる。

このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光フィルムの原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法が採用される。ポリビニルアルコール系原反フィルムの厚さは特に制限されないが、偏光フィルムの厚さを１５μｍ以下とするためには、５～３５μｍのものを用いることが好ましい。より好ましくは、２０μｍ以下である。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素の染色前、染色と同時、又は染色の後に行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、架橋処理の前又は架橋処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行ってもよい。

一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤や水を用いてポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は通常、３～８倍である。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色する方法としては、例えば、該フィルムを二色性色素が含有された水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素としては、ヨウ素や二色性有機染料が用いられる。なお、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理の前に水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。

二色性色素による染色後の架橋処理としては通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸含有水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素としてヨウ素を用いる場合、このホウ酸含有水溶液は、ヨウ化カリウムを含有することが好ましい。

偏光フィルムの厚さは、通常３０μｍ以下であり、好ましくは１５μｍ以下であり、より好ましくは１３μｍ以下であり、さらに好ましくは１０μｍ以下であり、特に好ましくは８μｍ以下である。偏光フィルムの厚さは、通常２μｍ以上であり、３μｍ以上であることが好ましい。

偏光フィルムとしては、例えば特開２０１６－１７０３６８号公報に記載されるように、液晶化合物が重合した硬化膜中に、二色性色素が配向したものを使用してもよい。二色性色素としては、波長３８０～８００ｎｍの範囲内に吸収を有するものを用いることができ、有機染料を用いることが好ましい。二色性色素として、例えば、アゾ化合物が挙げられる。液晶化合物は、配向したまま重合することができる液晶化合物であり、分子内に重合性基を有することができる。また、ＷＯ２０１１／０２４８９１に記載されるように、液晶性を有する二色性色素から偏光フィルムを形成してもよい。

偏光フィルムの視感度補正偏光度は、９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましい。上限値は、特に限定されないが、９９.９９９９％以下である。また、偏光フィルムの視感度補正単体透過率は、３５％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましい。上限値は、特に限定されないが、４９．９％以下である。積層体が、このような性能の偏光フィルムを備えることで、反射光が漏れにくくなり、色付きを目立たなくすることができる。

（２）保護フィルム
偏光フィルムの片面又は両面に積層される保護フィルムは、透光性を有する（好ましくは光学的に透明な）熱可塑性樹脂であることができる。保護フィルムは、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂（ポリプロピレン系樹脂等）、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂等）のようなポリオレフィン系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースのようなセルロース系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートのようなポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；メタクリル酸メチル系樹脂のような（メタ）アクリル系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリ塩化ビニル系樹脂；アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン系樹脂；アクリロニトリル・スチレン系樹脂；ポリ酢酸ビニル系樹脂；ポリ塩化ビニリデン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリアセタール系樹脂；変性ポリフェニレンエーテル系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリアミドイミド系樹脂；ポリイミド系樹脂等からなるフィルムであることができる。

保護フィルムの厚さは通常１～１００μｍであるが、強度や取扱性等の観点から５～６０μｍであることが好ましく、１０～５５μｍであることがより好ましく、１５～４０μｍであることがさらに好ましい。

上述のように、保護フィルムの少なくともいずれか一方は、その外面（偏光フィルムとは反対側の面）に、ハードコート層、防眩層、光拡散層、反射防止層、低屈折率層、帯電防止層、防汚層のような表面処理層（コーティング層）を備えるものであってもよい。なお、保護フィルムの厚さは、表面処理層の厚さを含んだものである。

保護フィルムは、例えば接着剤層又は粘着剤層を介して偏光フィルムに貼合することができる。接着剤層を形成する接着剤としては、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤又は熱硬化性接着剤を用いることができ、好ましくは水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤である。粘着剤層としては後述のものが使用できる。

水系接着剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる接着剤、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等が挙げられる。中でもポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる水系接着剤が好適に用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルをケン化処理して得られるビニルアルコールホモポリマーのほか、酢酸ビニルとこれに共重合可能な他の単量体との共重合体をケン化処理して得られるポリビニルアルコール系共重合体、又はそれらの水酸基を部分的に変性した変性ポリビニルアルコール系重合体等を用いることができる。水系接着剤は、アルデヒド化合物（グリオキザール等）、エポキシ化合物、メラミン系化合物、メチロール化合物、イソシアネート化合物、アミン化合物、多価金属塩等の架橋剤を含むことができる。

水系接着剤を使用する場合は、偏光フィルムと保護フィルムとを貼合した後、水系接着剤中に含まれる水を除去するための乾燥工程を実施することが好ましい。乾燥工程後、例えば２０～４５℃の温度で養生する養生工程を設けてもよい。

上記活性エネルギー線硬化性接着剤とは、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線のような活性エネルギー線の照射によって硬化する硬化性化合物を含有する接着剤であり、好ましくは紫外線硬化性接着剤である。

上記硬化性化合物は、カチオン重合性の硬化性化合物やラジカル重合性の硬化性化合物であることができる。カチオン重合性の硬化性化合物としては、例えば、エポキシ系化合物（分子内に１個又は２個以上のエポキシ基を有する化合物）や、オキセタン系化合物（分子内に１個又は２個以上のオキセタン環を有する化合物）、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。ラジカル重合性の硬化性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル系化合物（分子内に１個又は２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物）や、ラジカル重合性の二重結合を有するその他のビニル系化合物、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。カチオン重合性の硬化性化合物とラジカル重合性の硬化性化合物とを併用してもよい。活性エネルギー線硬化性接着剤は通常、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるためのカチオン重合開始剤及び／又はラジカル重合開始剤をさらに含む。

偏光フィルムと保護フィルムとを貼合するにあたっては、接着性を高めるために、これらの少なくともいずれか一方の貼合面に表面活性化処理を施してもよい。表面活性化処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、放電処理（グロー放電処理等）、火炎処理、オゾン処理、ＵＶオゾン処理、電離活性線処理（紫外線処理、電子線処理等）のような乾式処理；水やアセトン等の溶媒を用いた超音波処理、ケン化処理、アンカーコート処理のような湿式処理を挙げることができる。これらの表面活性化処理は、単独で行ってもよいし、２つ以上を組み合わせてもよい。

偏光フィルムの両面に保護フィルムが貼合される場合においてこれらの保護フィルムを貼合するための接着剤は、同種の接着剤であってもよいし異種の接着剤であってもよい。

＜位相差フィルム＞
位相差フィルムは、Ａプレート及びＣプレートを含んで構成される。その他、位相差フィルムは、後述する基材や配向膜を含んでいてもよく、Ａプレート及びＣプレート以外の位相差層を含んでいてもよい。

（１）Ａプレート
Ａプレートは、下記式（１）～式（３）で表される特性を有するものであることが好ましい。Ａプレートは、ポジティブＡプレートであることができ、λ／４板であることができる。また、Ａプレートは、逆波長分散性を示すことが好ましい。このようなＡプレートを備えることで、反射光の色付きを抑制することができる。Ａプレートは、その遅相軸が、偏光フィルムの吸収軸に対して略４５°となるように配置される。略４５°とは、４５±５°を意味する。

ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ …（１）
０．８０＜Ｒ_０Ａ（４５０）／Ｒ_０Ａ（５５０）＜０．９３ …（２）
１３５ｎｍ＜Ｒ_０Ａ（５５０）＜１５０ｎｍ …（３）
式（１）～式（３）において、ｎｘは、フィルム面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、フィルム面内であって遅相軸に直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、フィルムの厚さ方向の屈折率を表す。Ｒ_０Ａ（λ）は、Ａプレートの波長λｎｍにおける面内位相差値を表す。

ｎｙ≒ｎｚは、ｎｙとｎｚとが完全に等しい場合に加え、ｎｙとｎｚとが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、ｎｙとｎｚとの差の大きさが０．０１以内であれば、ｎｙとｎｚとが実質的に等しいと言うことができる。

Ｒ_０Ａ（λ）は、波長λｎｍにおける屈折率ｎ（λ）と、厚さｄから、以下の式に基づいて算出することができる。
Ｒ_０Ａ（λ）＝〔ｎｘ（λ）－ｎｙ（λ）〕×ｄ
ここでＲ_０Ａ（４５０）／Ｒ_０Ａ（５５０）は、Ａプレートの波長分散性を表し、好ましくは０．９２以下である。

また、波長λｎｍにおけるＡプレートの面内位相差値Ｒ_０Ａ（λ）について、Ｒ_０Ａ（４５０）は１００ｎｍ以上１３５ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒ_０Ａ（５５０）は１３７ｎｍ以上１４５ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒ_０Ａ（６５０）は１３７以上１６５以下であることが好ましい。

（２）Ｃプレート
Ｃプレートは、第１のＣプレートと第２のＣプレートのいずれも、下記式（４）で表される特性を有するものであることが好ましい。Ｃプレートは、ポジティブＣプレートであることができる。このような位相差フィルムを備えることで、反射光の色付きを抑制することができる。
ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ …（４）
式（４）において、ｎｘは、フィルム面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、フィルム面内であって遅相軸に直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、フィルムの厚さ方向の屈折率を表す。

ｎｘ≒ｎｙは、ｎｘとｎｙとが完全に等しい場合に加え、ｎｘとｎｙとが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、ｎｘとｎｙとの差の大きさが０．０１以内であれば、ｎｘとｎｙとが実質的に等しいと言うことができる。

後述する光反射層の反射特性に依存するが、具体的に、Ｃプレートの厚さ方向の位相差値は、波長５５０ｎｍにおいて、－１００ｎｍ以上０ｎｍ以下であることが好ましく、－９０ｎｍ以上－２０ｎｍ以下であることがより好ましい。

（３）その他の位相差層
位相差フィルムは、Ａプレート及びＣプレート以外に、位相差を有する他の層（以下、「その他の位相差層」ということがある。）を１つ以上備えていてもよい。その他の位相差層としては、表示素子が備えるタッチセンサー、発光素子の封止層、発光素子のベースフィルム等が挙げられる。また、その他の位相差層は、偏光フィルムに貼合されている保護フィルムであってもよい。その他の位相差層は、偏光フィルムと光反射層との間に配置され、好ましくは、光反射層と、当該光反射層に最も近い位置にあるＡプレート又はＣプレートとの間に配置される。

その他の位相差層は、Ａプレートであってもよいが、通常はＣプレートであることができる。その他の位相差層は、下記式（９）で表される特性を有していてもよい。すなわち、その他の位相差層は、ネガティブＣプレートであることができる。
ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ …（９）
式（９）において、ｎｘは、フィルム面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、フィルム面内であって遅相軸に直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、フィルムの厚さ方向の屈折率を表す。

ｎｘ≒ｎｙは、ｎｘとｎｙとが完全に等しい場合に加え、ｎｘとｎｙとが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、ｎｘとｎｙとの差の大きさが０．０１以内であれば、ｎｘとｎｙとが実質的に等しいと言うことができる。

（４）光反射層との関係
少なくともＡプレートとＣプレートを備える位相差フィルムは、光反射層の散乱半値角に応じて、以下の式（５）又は（６）を満たす。
Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）＜Ｒ_ｔｈＣ２（５５０） …（５）
Ｒ_ｔｈＣ２（５５０）＜Ｒ_ｔｈＣ１（５５０） …（６）
式（５）及び式（６）において、Ｒ_ｔｈＣ（λ）は、Ｃプレートの波長λｎｍにおける厚さ方向の位相差値を表す。Ｒ_ｔｈＣ１は第１のＣプレートの位相差値を表し、Ｒ_ｔｈＣ２は第２のＣプレートの位相差値を表す。

Ｒ_ｔｈＣ（λ）は、波長λｎｍにおける屈折率ｎ（λ）と、厚さｄから、以下の式に基づいて算出することができる。
Ｒ_ｔｈＣ（λ）＝｛〔ｎｘ（λ）＋ｎｙ（λ）〕／２－ｎｚ｝×ｄ

Ｒ_ｔｈＣ（４５０）／Ｒ_ｔｈＣ（５５０）は、Ｃプレートの波長分散性を表し、好ましくは１．５以下であり、より好ましくは１．１以下である。

上記式（５）及び式（６）は、発明者が鋭意検討した結果、実際の表示装置における最適な補償値は、光反射層の反射特性によって異なることが見いだされたことに基づくものである。

光反射層の散乱半値角が１０°以上である場合、第１のＣプレートと第２のＣプレートは、式（５）の関係を満たすことが好ましい。すなわち、第１のＣプレートの厚さ方向の位相差値Ｒ_ｔｈＣ１と第２のＣプレートの厚さ方向の位相差値Ｒ_ｔｈＣ２との大小関係は、従来、影響を与えないと考えられてきた反射光の特性に影響を与える。位相差値の範囲はＲ_０Ａ（５５０）とＲ_ｔｈＣ１（５５０）とＲ_ｔｈＣ２（５５０）との和が－５０ｎｍ～＋５０ｎｍであることが好ましく、－２０ｎｍ～＋２０ｎｍであることがより好ましく、－１０ｎｍ～＋１０ｎｍであることがさらに好ましい。また、位相差値の範囲はＲ_ｔｈＣ１（５５０）とＲ_ｔｈＣ２（５５０）との和が－１００ｎｍ～＋１００ｎｍであることが好ましく、－８０ｎｍ～＋８０ｎｍであることがよりに好ましく、－６０ｎｍ～＋６０ｎｍであることがさらに好ましい。位相差フィルムが、上記関係を満たすことで、斜め方向から見たときの反射光の変化を抑制することができる。

本発明において、光反射層の散乱半値角とは光反射層に対して仰角５０°から光を入射した際に正反射角５０°を中心として９０°の範囲で１°刻みで測定して得られた変角散乱強度プロファイルにおいて散乱強度が最大反射強度の半分の値となる二点の間の角度差である。詳細は、後述の実施例に記載された方法に従う。

なお、一実施形態として位相差フィルムが第２のＣプレートを備えない場合は、Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）は－１００ｎｍ～０ｎｍであることが好ましく、－８０ｎｍ～－２０ｎｍであることが好ましい。

一方、光反射層の散乱半値角が１０°未満である場合、第１のＣプレートと第２のＣプレートは、式（６）の関係を満たすことが好ましい。すなわち、第１のＣプレートの厚さ方向の位相差値Ｒ_ｔｈＣ１と第２のＣプレートの厚さ方向の位相差値Ｒ_ｔｈＣ２との大小関係は、従来、影響を与えないと考えられてきた反射光の特性に影響を与える。位相差値の範囲はＲ_ｔｈＡ（５５０）とＲ_ｔｈＣ１（５５０）とＲ_ｔｈＣ２（５５０）との和が－５０ｎｍ～＋５０ｎｍであることが好ましく、－２０ｎｍ～＋２０ｎｍであることがより好ましく、－１０ｎｍ～＋１０ｎｍであることがさらに好ましい。また、位相差値の範囲はＲ_ｔｈＣ１（５５０）とＲ_ｔｈＣ２（５５０）との和が－１００ｎｍ～＋１００ｎｍであることが好ましく、－８０ｎｍ～＋８０ｎｍであることがより好ましく、－６０ｎｍ～＋６０ｎｍであることがさらに好ましい。位相差フィルムが、上記関係を満たすことで、斜め方向から見たときの反射光の変化を抑制することができる。

（５）位相差フィルムの形成方法
位相差フィルムが備えるＡプレート、第１のＣプレート及び第２のＣプレートは、熱可塑性樹脂や後述する重合性液晶化合物を含む組成物から形成することができる。Ａプレート、第１のＣプレート及び第２のＣプレートは、重合性液晶化合物を含む組成物から形成されることが好ましい。重合性液晶化合物を含む組成物から形成される層としては、重合性液晶化合物が硬化した層が挙げられる。

Ａプレートが満たす式（１）～式（３）の関係、第１のＣプレートと第２のＣプレートが満たす式（４）の関係、及び、第１のＣプレートと第２のＣプレートが満たす式（５）又は式（６）の関係は、例えばＡプレート及びＣプレートを形成する熱可塑性樹脂や重合性液晶化合物の種類や配合比率を調整したり、Ａプレート及びＣプレートの厚さを調整したりすることによって制御される。

重合性液晶化合物が硬化した層は例えば、基材に設けられた配向膜上に形成される。この基材は、配向膜を支持する機能を有し、長尺に形成されている基材であってもよい。この基材は、離型性支持体として機能し、転写用の位相差フィルムを支持することができる。さらに、その表面が剥離可能な程度の接着力を有するものが好ましい。基材としては、上記保護フィルムの材料として例示をした樹脂フィルムが挙げられる。

基材の厚さとしては、特に限定されないが、例えば２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲とすることが好ましい。基材の厚さが２０μｍ以上であると、強度が付与される。一方で、厚さが２００μｍ以下であると、基材を裁断加工して枚葉の基材とするにあたり、加工屑の増加、裁断刃の磨耗を抑制できる。

なお、基材は、種々のブロッキング防止処理が施されていてもよい。ブロッキング防止処理としては、例えば、易接着処理、フィラー等を練り込ませる処理、エンボス加工（ナーリング処理）等が挙げられる。このようなブロッキング防止処理を基材に対して施すことによって、基材を巻き取る際の基材同士の張り付き、いわゆるブロッキングを効果的に防止することができ、生産性高く光学フィルムを製造することが可能となる。

重合性液晶化合物が硬化した層は、配向膜を介して基材上に形成される。すなわち、基材、配向膜の順で積層され、重合性液晶化合物が硬化した層は前記配向膜上に積層される。

なお、配向膜は、垂直配向膜に限らず、重合性液晶化合物の分子軸を水平配向させる配向膜であってもよく、重合性液晶化合物の分子軸を傾斜配向させる配向膜であってもよい。Ａプレートを作製する場合には、水平配向膜を使用することができ、Ｃプレートを作製する場合には、垂直配向膜を使用することができる。配向膜としては、後述する重合性液晶化合物を含む組成物の塗工等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜及び表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させるグルブ配向膜が挙げられる。配向膜の厚さは、通常１０ｎｍ～１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０ｎｍ～１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは５００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｎｍ～２００ｎｍの範囲である。

配向膜に用いる樹脂としては、公知の配向膜の材料として用いられる樹脂であれば特に限定されるものではなく、従来公知の単官能又は多官能の（メタ）アクリレート系モノマーを重合開始剤下で硬化させた硬化物等を用いることができる。具体的に、（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、２－エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジエチレングリコールモノ２－エチルヘキシルエーテルアクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアクリレート、テトラエチレングリコールモノフェニルエーテルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、２－フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、メタクリル酸、ウレタンアクリレート等を例示することができる。なお、樹脂としては、これらの１種類であってもよいし、２種類以上の混合物であってもよい。

光配向膜は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶媒とを含む組成物から形成される。光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基等が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及び、アゾキシベンゼン構造を有する基等が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ－ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。

中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基及びカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

本実施形態で使用される重合性液晶化合物の種類については、特に限定されないものの、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物）とに分類できる。さらに、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。なお、高分子とは、一般に重合度が１００以上のものを言う（高分子物理・相転移ダイナミクス、土井 正男著、２頁、岩波書店、１９９２）。

本実施形態では、何れの重合性液晶化合物を用いることもできる。さらに、２種以上の棒状液晶化合物や、２種以上の円盤状液晶化合物、又は棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。

なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１、又は、特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載のものを好適に用いることができる。円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落［００２０］～［００６７］、又は、特開２０１０－２４４０３８号公報の段落［００１３］～［０１０８］に記載のものを好適に用いることができる。

重合性液晶化合物は、２種類以上を併用してもよい。その場合、少なくとも１種類が分子内に２以上の重合性基を有している。すなわち、前記重合性液晶化合物が硬化した層は、重合性基を有する液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。

重合性液晶化合物は、重合反応をし得る重合性基を有する。重合性基としては、例えば、重合性エチレン性不飽和基や環重合性基等の付加重合反応が可能な官能基が好ましい。より具体的には、重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を挙げることができる。その中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基及びアクリロイル基の両者を包含する概念である。

重合性液晶化合物が硬化した層は、後述するように、重合性液晶化合物を含む組成物を、例えば配向膜上に塗工することによって形成することができる。前記組成物には、上述した重合性液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。例えば、前記組成物には、重合開始剤が含まれていることが好ましい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて、例えば、熱重合開始剤や光重合開始剤が選択される。例えば、光重合開始剤としては、α－カルボニル化合物、アシロインエーテル、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ等が挙げられる。重合開始剤の使用量は、前記塗工液中の全固形分に対して、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．５～５質量％であることがより好ましい。

また、前記組成物には、塗工膜の均一性及び膜の強度の点から、重合性モノマーが含まれていてもよい。重合性モノマーとしては、ラジカル重合性又はカチオン重合性の化合物が挙げられる。その中でも、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。

なお、重合性モノマーとしては、上述した重合性液晶化合物と共重合することができるものが好ましい。具体的な重合性モノマーとしては、例えば、特開２００２－２９６４２３号公報中の段落［００１８］～［００２０］に記載のものが挙げられる。重合性モノマーの使用量は、重合性液晶化合物の全質量に対して、１～５０質量％であることが好ましく、２～３０質量％であることがより好ましい。

また、前記組成物には、塗工膜の均一性及び膜の強度の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられる。その中でも特に、フッ素系化合物が好ましい。具体的な界面活性剤としては、例えば、特開２００１－３３０７２５号公報中の段落［００２８］～［００５６］に記載の化合物、特開２００５－６２６７３号公報中の段落［００６９］～［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。

また、前記組成物には、溶媒が含まれていてもよく、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒としては、例えば、アミド（例、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン）が挙げられる。その中でも、アルキルハライド、ケトンが好ましい。また、２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

また、前記組成物には、偏光フィルム界面側垂直配向剤、空気界面側垂直配向剤等の垂直配向促進剤、並びに、偏光フィルム界面側水平配向剤、空気界面側水平配向剤等の水平配向促進剤といった各種配向剤が含まれていてもよい。さらに、前記組成物には、上記成分以外にも、密着改良剤、可塑剤、ポリマー等が含まれていてもよい。

本実施形態において、Ａプレート、第１のＣプレート及び第２のＣプレートの厚さは、０．１μ以上５μｍ以下とすることができる。Ａプレート、第１のＣプレート及び第２のＣプレートの厚さがこの範囲内であると、十分な耐久性が得られ、積層体の薄層化に貢献し得る。当然のことながら、Ａプレート、第１のＣプレート及び第２のＣプレートの厚さは、λ／４の位相差を与える層、λ／２の位相差を与える層、ポジティブＡプレート、又はポジティブＣプレート等の所望の面内位相差値、及び厚さ方向の位相差値が得られるよう調整され得る。

位相差フィルムが、Ａプレート、第１のＣプレート及び第２のＣプレートとして重合性液晶化合物が硬化した層を２層以上含む場合、重合性液晶化合物が硬化した層を配向膜上にそれぞれ作製し、両者を接着剤層や粘着剤層を介して積層することにより、位相差フィルムが製造され得る。両者を積層した後、基材及び配向膜は剥離することができる。位相差フィルムの厚さは、３～３０μｍであることが好ましく、５～２５μｍであることがより好ましい。

＜光反射層＞
光反射層は、積層体に入射した光を反射する層であり、典型的には、有機ＥＬ表示素子が備える電極を含むことができる。有機ＥＬ表示素子は、互いに対向する一対の電極間に有機発光材料層が挟持された薄膜構造体を有する。この有機発光材料層に一方の電極から電子が注入されるとともに、他方の電極から正孔が注入されることにより有機発光材料層内で電子と正孔とが結合して自己発光を行う。バックライトを必要とする液晶表示素子等と比較して視認性がよく、より薄型化が可能であり、かつ、直流低電圧駆動が可能であるという利点を有する。

光反射層は、形成する材料に制限はない。光反射層は、金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロム、モリブデン、チタン、アルミニウム等の金属やそれらの合金等から形成されることができる。

視感度補正反射率は、上述した方法で測定される反射率であり、等色関数ｙ（λ）（ＪＩＳ Ｚ ８７０１）によって視感度補正された反射率である。視感度補正反射率は、分光測色計により測定されることができる。

上述のとおり、光反射層の散乱半値角が１０°以上であることを満たし、Ａプレート、第１のＣプレート及び第２のＣプレートが式（３）及び式（５）の関係を満たす場合と、光反射層の散乱半値角が１０°未満であることを満たし、Ａプレート、第１のＣプレート及び第２のＣプレートが式（３）及び式（６）の関係を満たす場合このような位相差フィルムと光反射層との組合せにより、斜め方向から見たときの反射光の強度変化を抑制することができる。

光反射層の散乱半値角が１０°以上である場合、散乱半値角は、１０°以上３０°以下であることができる。光反射層の散乱半値角が１０°未満である場合、散乱半値角は、３°以上１０°未満であることができる。光反射層の散乱半値角は、光反射層の材料や表面形状により調整することができる。

＜粘着剤層＞
粘着剤層は、積層体の各部材を互いに積層するために使用することができる。光反射層が有機ＥＬ表示素子の備える電極を含む場合、粘着剤層を介して有機ＥＬ表示素子と位相差フィルムとは積層されてもよい。粘着剤層は、（メタ）アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物で構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。粘着剤層の厚みは、通常３～３０μｍであり、好ましくは３～２５μｍである。

粘着剤組成物に用いられる（メタ）アクリル系樹脂（ベースポリマー）としては、例えば、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルのような（メタ）アクリル酸エステルの１種又は２種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。

粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、２価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの；ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの；ポリエポキシ化合物やポリオールであって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの；ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものが例示される。中でも、ポリイソシアネート化合物が好ましい。

＜前面板＞
偏光板の視認側には、前面板を配置してもよい。前面板は、接着層を介して偏光板に積層することができる。接着層としては、例えば前述の粘着剤層や接着剤層が挙げられる。

前面板としては、ガラス、樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなるもの等が挙げられる。ガラスとしては、例えば、高透過ガラスや、強化ガラスを用いることができる。特に薄い透明面材を使用する場合には、化学強化を施したガラスが好ましい。ガラスの厚みは、例えば１００μｍ～５ｍｍとすることができる。

樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなる前面板は、既存のガラスのように硬直ではなく、フレキシブルな特性を有することができる。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、５～１００μｍであってもよい。

樹脂フィルムとしては、ノルボルネン又は多環ノルボルネン系単量体のようなシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体、セルロース（ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、イソブチルエステルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース）エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリシクロオレフィン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアクリル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシ等の高分子で形成されたフィルムであってもよい。樹脂フィルムは、未延伸、１軸又は２軸延伸フィルムを使用することができる。これらの高分子はそれぞれ単独又は２種以上混合して使用することができる。樹脂フィルムとしては、透明性及び耐熱性に優れたポリアミドイミドフィルム又はポリイミドフィルム、１軸又は２軸延伸ポリエステルフィルム、透明性及び耐熱性に優れるとともに、フィルムの大型化に対応できるシクロオレフィン系誘導体フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム及び透明性と光学的に異方性のないトリアセチルセルロース及びイソブチルエステルセルロースフィルムが好ましい。樹脂フィルムの厚さは５～２００μｍ、好ましくは、２０～１００μｍであってもよい。

＜遮光パターン＞
遮光パターン（ベゼル）は、前面板における表示素子側に形成することができる。遮光パターンは、表示装置の各配線を隠し使用者に視認されないようにすることができる。遮光パターンの色及び／又は材質は特に制限されることはなく、黒色、白色、金色等の多様な色を有する樹脂物質で形成することができる。一実施形態において、遮光パターンの厚さは２μｍ～５０μｍであってもよく、好ましくは４μｍ～３０μｍであってもよく、より好ましくは６μｍ～１５μｍの範囲であってもよい。また、遮光パターンと表示部の間の段差による気泡混入及び境界部の視認を抑制するために、遮光パターンに形状を付与することができる。

＜光学積層体の製造方法＞
図１に示した積層体１００を例に、積層体の製造方法を説明する。積層体１００は、例えば偏光板１と位相差フィルム２とを粘着剤層１３，１４を介して積層させることにより製造される。

偏光板１は、偏光フィルム１０と保護フィルム１１とを、それぞれ接着剤層を介して積層して製造することができる。偏光板１は、長尺の部材を準備し、ロール・トゥ・ロールでそれぞれの部材を貼り合わせた後、所定形状に裁断して製造してもよいし、それぞれの部材を所定の形状に裁断した後、貼り合わせてもよい。次いで、偏光フィルム１０上に、剥離フィルム上に形成された粘着剤層１３を積層させる。

位相差フィルム２は、例えば次のように製造することができる。基材上に配向膜を形成し、配向膜上に重合性液晶化合物を含む塗工液を塗工する。重合性液晶化合物を配向させた状態で、活性エネルギー線を照射し、重合性液晶化合物を硬化させる。このようにして、第１のＣプレート２０を備えるフィルムを作製する。同様にして、Ａプレート２１、第２のＣプレート２２を備えるフィルムを作製する。

第１のＣプレート２０又はＡプレート２１上に接着層１５を形成し、第１のＣプレート２０を備えるフィルムとＡプレート２１を備えるフィルムとを貼り合わせる。次いで、Ａプレートの基材フィルム、又は、基材フィルム及び配向膜を剥離し、その上に接着層１６を形成しＡプレート２１と第１のＣプレート２０を備えるフィルムと、第２のＣプレート２２を備えるフィルムとを貼り合わせる。次いで、第２のＣプレートの基材フィルム、又は、基材フィルム及び配向膜を剥離し、位相差フィルム２を作製する。

位相差フィルム２は、長尺の部材を準備し、ロール・トゥ・ロールでそれぞれの部材を貼り合わせた後、所定形状に裁断して製造してもよいし、それぞれの部材を所定の形状に裁断した後、貼り合わせてもよい。第１のＣプレート及び第２のＣプレートは、Ａプレート上に、直接第１のＣプレート及び第２のＣプレートを形成することによって得てもよい。すなわち、接着層１５及び接着層１６は省略可能である。

粘着剤層１３上の剥離フィルムを剥離し、露出した粘着剤層１３を介して、得られた偏光板と位相差フィルム２とを貼り合わせる。こうして得られたフィルムは、円偏光板として機能することができ、光反射層１７に対して粘着剤層１４を介して貼合することができる。光反射層１７が有機ＥＬ表示素子の備える電極を含む場合、円偏光板を有機ＥＬ表示素子に積層させることで、本実施形態の積層体１００が製造される。円偏光板は、例えば粘着剤層１４を介して、光反射層１７を含む有機ＥＬ表示素子に積層される。

＜用途＞
本実施形態の積層体は、さまざまな表示装置に用いることができる。表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（以下、無機ＥＬともいう）表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤともいう）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤともいう））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶともいう）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤともいう）を有する表示装置）及び圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置等のいずれをも含む。本実施形態の積層体は、特に有機ＥＬ表示装置又は無機ＥＬ表示装置に特に有効に用いることができる。この場合、図１に示されている光反射層１７は、表示装置に含まれているタッチセンサーやパネルの構成部材として位置づけられる。

特に、発明の積層体を備える有機ＥＬ表示装置は、外光反射光の強度変化が抑制され、斜め方向から見たときにも正面方向と変わらない安定した黒表示能力を示すことができる。

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではない。

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の内容をより具体的に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。なお、例中の「％」及び「部」は、特記しない限り、質量％及び質量部を意味する。

＜測定方法＞
（１）フィルムの厚さの測定方法：
フィルムの厚さは、日本分光株式会社製のエリプソメータ Ｍ－２２０、及び接触式膜厚計（株式会社ニコン製のＭＨ－１５Ｍ、カウンタＴＣ１０１、ＭＳ－５Ｃ）を用いて測定した。

（２）位相差値の測定方法：
厚さ方向の位相差値や面内位相差値は、王子計測機器株式会社 ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲを使用して測定した。

（３）仰角５０°の方向から観察した視感度補正反射率：
Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ＳｙｓｔｅｍｓＧｍｂＨ製のディスプレイ評価システムＤＭＳ８０３で測定した。

＜光反射層の準備＞
以下の３種類の光反射層を用いた。いずれの光反射層も平坦な反射スペクトルを有し、白もしくは銀色の反射光を視認できた。
光反射層１：日本金属工業株式会社製のＳＵＳ板であるＮＴＫ ＳＵＳ ３０４Ｂ。
光反射層２：株式会社ＵＡＣＪ製のアルミホイルであるマイホイル厚形５０の非光沢面。
光反射層３：高反射率反射板としてＡｌａｎｏｄ社製のアルミ蒸着反射板であるＭＩＲＯ５ ５０１１ＧＰ。

各光反射層の反射特性は、表１に示すとおりであった。いずれの反射率も視感度補正されているＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ＳｙｓｔｅｍｓＧｍｂＨ製のディスプレイ評価システムＤＭＳ８０３で測定した。

光反射層の散乱半値角とは光反射層に対して仰角５０°から光を入射した際に正反射角５０°を中心として９０°の範囲で１°ｓｔｅｐで測定して得られた変角散乱強度プロファイルにおいて散乱強度が最大反射強度の半分の値となる二点の間の角度差である。以下の表に示す光反射層の変角散乱強度プロファイルはいずれも単峰性の分布を示した。後述する、視認性確認のために、光反射層１～３の表面に緑色の油性マーカー（ゼブラ製マッキー）で図形を描いた。

光反射層の測定条件は、以下のとおりとした。
光源：ハロゲンランプ（Ｐｈｉｌｉｐｓ社製、Ｃａｐｓｕｌｅｌｉｎｅ ＬＶ（２０Ｗ ３１０ｌｍ））
収束方法：放物面ミラー
収束スポット径：５ｍｍ
光源と光反射層との距離：１００ｍｍ

＜円偏光版の作製＞
［円偏光板１の作製］
〔水平配向膜形成用組成物の調製〕
下記構造の光配向性材料５部（重量平均分子量：３００００）とシクロペンタノン（溶媒）９５部とを混合した。得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、水平配向膜形成用組成物を得た。

〔垂直配向膜形成用組成物の調製〕
日産化学工業株式会社製、サンエバーＳＥ６１０を使用した。

〔水平配向液晶硬化膜形成用組成物の調製〕
水平配向液晶硬化膜（Ａプレート）を形成するために、下記の重合性液晶化合物Ａと重合性液晶化合物Ｂを用いた。重合性液晶化合物Ａは、特開２０１０－３１２２３号公報に記載された方法で製造した。また、重合性液晶化合物Ｂは、特開２００９－１７３８９３号公報に記載された方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。

［重合性液晶化合物Ａ］

［重合性液晶化合物Ｂ］

重合性液晶化合物Ａ、及び重合性液晶化合物Ｂを９０：１０の質量比で混合した。得られた混合物１００部に対して、レベリング剤（Ｆ－５５６；ＤＩＣ株式会社製）を１．０部、重合開始剤である２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（イルガキュア３６９、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を６部添加した。さらに、固形分濃度が１３％となるようにＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、水平配向液晶硬化膜形成用組成物を得た。

〔垂直配向液晶硬化膜形成用組成物の調整〕
垂直配向液晶硬化膜（第１のＣプレート及び第２のＣプレート）を形成するために、以下の手順で組成物を調製した。重合性液晶化合物であるＰａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社登録商標）１００部に対して、レベリング剤としてＦ－５５６を０．１部、及び重合開始剤としてイルガキュア３６９を３部添加した。固形分濃度が１３％となるようにシクロペンタノンを添加して、垂直配向液晶硬化膜形成用組成物を得た。

〔偏光板の作製〕
平均重合度約２，４００、ケン化度９９．９モル％以上、厚さ７５μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを準備した。ＰＶＡフィルムを３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０．０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬してヨウ素染色を行った（ヨウ素染色工程）。ヨウ素染色工程を経たＰＶＡフィルムを、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００の水溶液に、５６．５℃で浸漬してホウ酸処理を行った（ホウ酸処理工程）。ホウ酸処理工程を経たＰＶＡフィルムを８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光フィルムを得た。ＰＶＡフィルムの延伸は、ヨウ素染色工程とホウ酸処理工程において行った。ＰＶＡフィルムの総延伸倍率は５．３倍であった。得られた偏光フィルムの厚さは２７μｍであった。

偏光フィルムと、ケン化処理されたトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ株式会社製 ＫＣ４ＵＹＴＡＣ 厚さ４０μｍ）とを水系接着剤を介してニップロールで貼り合わせた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍに保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、片面に保護フィルムとしてＴＡＣフィルムを有する偏光板を得た。なお、水系接着剤は水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（株式会社クラレ製、「クラレポバール ＫＬ３１８」）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（田岡化学工業株式会社製、「スミレーズレジン６５０」、固形分濃度３０％の水溶液〕１．５部とを添加して調製した。

得られた偏光板について光学特性の測定を行った。測定は上記で得られた偏光板の偏光フィルム面を入射面として分光光度計（「Ｖ７１００」、日本分光株式会社製）にて実施した。偏光板の吸収軸はポリビニルアルコールの延伸方向と一致しており、得られた偏光板の視感度補正単体透過率は４２．３％、視感度補正偏光度は９９．９９６％、単体色相ａは－１．０、単体色相ｂは２．７であった。

〔位相差フィルム（Ａプレート）の作製〕
日本ゼオン株式会社製の環状オレフィン系樹脂（ＣＯＰ）フィルム（ＺＦ－１４－５０）上にコロナ処理を実施した。コロナ処理は、ウシオ電機株式会社製のＴＥＣ－４ＡＸを使用して行った。コロナ処理は、出力０．７８ｋＷ、処理速度１０ｍ／分の条件で１回行った。ＣＯＰフィルムに水平配向膜形成用組成物をバーコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥した。塗布膜に対して、偏光ＵＶ照射装置（「ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－９」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、波長３１３ｎｍにおける積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２となるように、軸角度４５°にて偏光ＵＶ露光を実施した。得られた水平配向膜の膜厚は１００ｎｍであった。

続いて、水平配向膜に、水平配向液晶硬化膜形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した。塗布膜に対して、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ－１５２０１ＢＹ－Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、水平配向液晶硬化膜を形成した。水平配向液晶硬化膜の膜厚は２．３μｍであった。

水平配向液晶硬化膜上に、粘着剤層を積層した。当該粘着剤層を介して、ＣＯＰフィルム、配向膜、水平配向液晶硬化膜からなるフィルムをガラスに貼合した。ＣＯＰフィルムを剥離して、位相差値を測定するためのサンプルを得た。
各波長における位相差値Ｒ_０Ａ（λ）を測定した結果、
Ｒ_０Ａ（４５０）＝１２１ｎｍ、
Ｒ_０Ａ（５５０）＝１４２ｎｍ、
Ｒ_０Ａ（６５０）＝１４６ｎｍ、
Ｒ_０Ａ（４５０）／Ｒ_０Ａ（５５０）＝０．８５、
Ｒ_０Ａ（６５０）／Ｒ_０Ａ（５５０）＝１．０３であり、
水平配向液晶硬化膜は、逆波長分散性を示した。
水平配向液晶硬化膜は、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚの関係を満たす、ポジティブＡプレートであった（以下、これを単に「Ａプレート」と呼ぶ場合がある）。
なお、各波長における位相差値Ｒ_ｔｈＡ（λ）を測定した結果、
Ｒ_ｔｈＡ（４５０）＝６１ｎｍ、
Ｒ_ｔｈＡ（５５０）＝７１ｎｍ、
Ｒ_ｔｈＡ（６５０）＝７３ｎｍであった。

〔垂直配向液晶硬化膜（Ｃプレート）の作製〕
ＣＯＰフィルムに対して、コロナ処理を実施した。コロナ処理の条件は上記と同じとした。ＣＯＰフィルム上に、垂直配向膜形成用組成物をバーコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥させて、垂直配向膜を得た。得られた垂直配向膜の膜厚は５０ｎｍであった。

垂直配向膜に、バーコーターを用いて垂直配向液晶硬化膜形成用組成物を塗布し、９０℃で１２０秒間乾燥した。塗布膜に対して、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ－１５２０１ＢＹ－Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、垂直配向液晶硬化膜を形成した。このようにしてＣＯＰフィルム、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜からなるフィルムを得た。垂直配向液晶硬化膜の膜厚は、０．７μｍであった。

垂直配向液晶硬化膜上に粘着剤層を積層した。当該粘着剤層を介して、ＣＯＰフィルム、配向膜、垂直配向液晶硬化膜からなるフィルムをガラスに貼合した。ＣＯＰフィルムを剥離して、位相差値を測定するためのサンプルを得た。波長５５０ｎｍにおける位相差値Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）を測定した結果、
Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）＝－５０ｎｍであった。
垂直配向液晶硬化膜は、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚの関係を満たすポジティブＣプレートであった（第１のＣプレート）。

垂直配向液晶硬化膜の膜厚が０．４μｍとなるように調整したこと以外は上記と同様の手順で、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜を形成し、垂直配向液晶硬化膜上に粘着剤層を積層した。当該粘着剤層を介して、ＣＯＰフィルム、配向膜、垂直配向液晶硬化膜からなるフィルムをガラスに貼合した。ＣＯＰフィルムを剥離して、位相差値を測定するためのサンプルを得た。波長５５０ｎｍにおける位相差値Ｒ_ｔｈＣ２（５５０）を測定した結果、Ｒ_ｔｈＣ２（５５０）＝－３０ｎｍであった。垂直配向液晶硬化膜は、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚの関係を満たすポジティブＣプレートであった（第２のＣプレート）。

ＣＯＰフィルム上に形成された垂直配向膜及び垂直配向液晶硬化膜（第１のＣプレート）の垂直配向液晶硬化膜面と、ＣＯＰフィルム上に形成された水平配向膜及び水平配向液晶硬化膜（Ａプレート）の水平配向液晶硬化膜面とを、粘着剤を介して接着し、その後、Ａプレート側のＣＯＰフィルムを剥離して、ＣＯＰフィルム、第１のＣプレート、Ａプレートがこの順に積層されたフィルムを得た。そして、このフィルムのＡプレート面と、ＣＯＰフィルム上に形成された垂直配向膜及び垂直配向液晶硬化膜（第２のＣプレート）の垂直配向液晶硬化膜面とを粘着剤を介して接着し、その後、第２のＣプレート側のＣＯＰフィルムを剥離して、ＣＯＰフィルム、第１のＣプレート、Ａプレート、第２のＣプレートがこの順に積層されたフィルムを得た。

このフィルムのうち、第１のＣプレートに積層されたＣＯＰフィルムを剥離し、垂直配向液晶硬化膜（第１のＣプレート）にコロナ処理を施した。コロナ処理の条件は上記と同じとした。偏光板における偏光フィルムと垂直配向液晶硬化膜（第１のＣプレート）とが互いに接するように、両者を粘着剤層を介して積層した。このとき、偏光フィルムの吸収軸と、水平配向液晶硬化膜の遅相軸とのなす角度は４５°であった。このようにして、位相差フィルムと偏光板とが粘着剤層を介して積層された円偏光板１を得た。この円偏光板１は、ＴＡＣフィルム、偏光フィルム、粘着剤層、垂直配向液晶硬化膜（第１のＣプレート）、粘着剤層、水平配向液晶硬化膜（Ａプレート）、粘着剤層、垂直配向液晶硬化膜（第２のＣプレート）の層構成を有していた。Ｒ_ｔｈＡ（５５０）＋Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）＋Ｒ_ｔｈＣ２（５５０）＝９ｎｍであった。

［円偏光板２の作製］
垂直配向液晶硬化膜の膜厚が１．１μｍ、Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）＝－８０ｎｍとなるようにし、且つ、第２のＣプレートを設けなかったこと以外は円偏光板１と同様にして、円偏光板２を作製した。

［円偏光板３の作製］
Ｒ_ｔｈＣ１（５５０）＝－３０ｎｍ、Ｒ_ｔｈＣ２（５５０）＝－５０ｎｍとなるようにしたこと以外は円偏光板１と同様にして、円偏光板３を作製した。

［円偏光板４の作製］
第１のＣプレートを設けず、且つ、Ｒ_ｔｈＣ２（５５０）＝―８０ｎｍとしたこと以外は円偏光板１と同様にして、円偏光板４を作製した。

＜実施例１＞
円偏光板における、ＣＯＰフィルムを剥離して露出した面に、粘着剤層を積層した。この粘着剤層を介して、円偏光板１と光反射層１とを積層し、積層体を得た。

得られた積層体について、視感度補正反射率の変化率を測定した。具体的には、積層体を仰角５０°の方向から面内角度を変えて、それぞれ視感度補正反射率を、ディスプレイ評価システムＤＭＳ８０３により測定した。測定した視感度補正反射率のうち、視感度補反射率値が極大になる面内角度における反射色相値と、当該面内角度に９０°加えた角度における視感度補正反射率値との変化率を算出した。

得られた積層体について、目視により光反射層表面に描かれた図形の視認性を評価した。図形は緑色の直径３ｍｍ、開口部０．５ｍｍのランドルト環とした。開口方向は無作為とした。観察は水平配向液晶硬化膜の光学軸と観測者の位置との関係を変化させて行った。具体的には、Ａプレートの進相軸に平行な面内角度で、仰角５０°付近から目視で観察した。この方向の反射光の色相は緑色となり、光反射層表面に描かれた図形の色と似通るので視認は相対的に難しくなる。一方、Ａプレートの遅相軸に平行な面内角度で、仰角５０°付近から目視で観察したときの反射光の色相は赤色となり、光反射層表面に描かれた図形の色と異なるので、図形の視認は相対的に易しくなる。以下の評価基準で遅相軸方向及び進相軸方向で図形の開口方向の視認性を下記の１～４の基準で明確に判断した。
「１」：鮮明に開口方向を認識できる。
「２」：開口方向を認識できる。
「３」：目を凝らすと、開口方向を認識できる。
「４」：開口方向を認識することができない。

その結果、実施例１で得られた積層体は、いずれの方向から見ても反射光の色が均一であり、広い視野角で良好な黒表示をできることがわかった。以上の結果を表２に示す。

［実施例２～６、比較例１～６］
円偏光板と光反射層との組合せを表２に示すように変更したこと以外は、実施例１と同様にして積層体を作製した。得られた積層体について、実施例１と同様に斜角色差を測定した。また、得られた積層体について、実施例１と同様に、目視により水平配向液晶硬化膜の光学軸と観測者の位置との関係を変化させたときの反射光の色目を観察した。以上の結果を表２に示す。

本発明の光学積層体は、例えば有機ＥＬ表示装置に適用することができる。

１…偏光板、２…位相差フィルム、１０…偏光フィルム、１１…保護フィルム、１３，１４…粘着剤層、１５，１６…接着層、１７…光反射層、２０…第１のＣプレート、２１…Ａプレート、２２…第２のＣプレート、３０…仰角、３２…面内角度、４０，４１，４２…方向、１００…光学積層体。

Claims (9)

1. 偏光フィルム、Ａプレート、及び第１のＣプレートを備え、
   前記偏光フィルムの吸収軸と、前記Ａプレートの遅相軸とのなす角度が略４５°であり、
   光反射層に貼合した際の視感度補正反射率の変化率が１５％未満であり、
   第２のＣプレートをさらに備え、
   前記偏光フィルム、前記第１のＣプレート、前記Ａプレート、及び、前記第２のＣプレートをこの順に備え、
   前記光反射層の散乱半値角が１０°以上であり、
   下記式（ｉｉｉ）、（ｉｖ）及び（ｖ）を満たす、光学積層体。
   １３５ｎｍ＜Ｒ _０ Ａ（５５０）＜１５０ｎｍ …（ｉｉｉ）
   －１００ｎｍ≦Ｒ _ｔｈ Ｃ１（５５０）＜Ｒ _ｔｈ Ｃ２（５５０）≦０ｎｍ …（ｉｖ）
   －１００ｎｍ≦Ｒ _ｔｈ Ｃ１（５５０）＋Ｒ _ｔｈ Ｃ２（５５０） …（ｖ）
   〔上記式中、Ｒ _０ Ａ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおけるＡプレートの面内位相差値を表し、Ｒ _ｔｈ Ｃ１（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第１のＣプレートの厚さ方向の位相差値を表し、Ｒ _ｔｈ Ｃ２（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第２のＣプレートの厚さ方向の位相差値を表す。〕
2. 偏光フィルム、Ａプレート、及び第１のＣプレートを備え、
   前記偏光フィルムの吸収軸と、前記Ａプレートの遅相軸とのなす角度が略４５°であり、
   光反射層に貼合した際の視感度補正反射率の変化率が１５％未満であり、
   第２のＣプレートをさらに備え、
   前記偏光フィルム、前記第１のＣプレート、前記Ａプレート、及び、前記第２のＣプレートをこの順に備え、
   前記光反射層の散乱半値角が１０°未満であり、
   下記式（ｉｉｉ）、（ｖｉ）及び（ｖｉｉ）を満たす、光学積層体。
   １３５ｎｍ＜Ｒ _０ Ａ（５５０）＜１５０ｎｍ …（ｉｉｉ）
   －１００ｎｍ≦Ｒ _ｔｈ Ｃ２（５５０）＜Ｒ _ｔｈ Ｃ１（５５０）≦０ｎｍ …（ｖｉ）
   －１００ｎｍ≦Ｒ _ｔｈ Ｃ１（５５０）＋Ｒ _ｔｈ Ｃ２（５５０） …（ｖｉｉ）
   〔上記式中、Ｒ _０ Ａ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおけるＡプレートの面内位相差値を表し、Ｒ _ｔｈ Ｃ１（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第１のＣプレートの厚さ方向の位相差値を表し、Ｒ _ｔｈ Ｃ２（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第２のＣプレートの厚さ方向の位相差値を表す。〕
3. 下記式（ｖｉｉｉ）を満たす、請求項１又は２記載の光学積層体。
   ０．８０＜Ｒ_０Ａ（４５０）／Ｒ_０Ａ（５５０）＜０．９３ …（ｖｉｉｉ）
   〔上記式中、Ｒ_０Ａ（４５０）は、波長４５０ｎｍにおけるＡプレートの面内位相差値を表し、Ｒ_０Ａ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおけるＡプレートの面内位相差値を表す。〕
4. 前面板、遮光パターン、又はタッチセンサーを更に備える、請求項１～３のいずれか一項記載の光学積層体。
5. 前記偏光フィルムの視認側に前面板が配置されている、請求項１～３のいずれか一項記載の光学積層体。
6. 前記偏光フィルムと前記前面板との間にタッチセンサーが配置されている、請求項５記載の光学積層体。
7. 光反射層と、
   請求項１～６のいずれか一項記載の光学積層体と、を備える有機ＥＬ表示装置。
8. 散乱半値角が１０°以上である光反射層と、
   請求項１記載の光学積層体と、を備える有機ＥＬ表示装置。
9. 散乱半値角が１０°未満である光反射層と、
   請求項２記載の光学積層体と、を備える有機ＥＬ表示装置。

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