JP7254098B2 - ガス監視システム - Google Patents
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Description
[0001] 本願は2018年6月13日に提出されガス監視システムと題された米国出願第62/684,352号の優先権を主張するものであり、同出願はその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
1.パルス光ビームを放出するように構成された光源であって、1つ以上のチャンバを備え、1つ以上のチャンバの各々はガス状利得媒質を保持するように構成されており、ガス状利得媒質は想定されるガス寿命と関連付けられている、光源と、
少なくとも1つの検出モジュールであって、
パルス光ビームに関係するデータを受信及び分析するように、及び
パルス光ビームに関係するデータに基づいてビーム品質メトリックを生成するように構成された少なくとも1つの検出モジュールと、
監視モジュールであって、
ビーム品質メトリックを分析するように、
ビーム品質メトリックの分析に基づいてガス状利得媒質の健康状態を判定するように、及び
判定された健康状態に基づいて、想定されるガス寿命を超えてガス状利得媒質の使用を延長するか又はガス状利得媒質の使用を終了するかを示す状態信号を生成するように構成された監視モジュールと、
を備える、システム。
2.ビーム品質メトリックを分析することはパルス光ビームが所定の仕様を満たすかどうかを判定することを備え、ビーム品質メトリックはパルス光ビームの光エネルギ、パルス光ビームのスペクトル帯域幅、及び/又はパルス光ビームの波長を備える、条項1のシステム。
3.少なくとも1つの検出モジュールは複数の検出モジュールを備え、複数の検出モジュールは、
1つ以上のチャンバのいずれかにおける放電事象の発生を検出するように及びある期間にわたる放電事象の回数を示す信号を生成するように構成された放電回数検出モジュールと、
パルス光ビームのスペクトル帯域幅を検出するように及びパルス光ビームのスペクトル帯域幅を示す信号を生成するように構成された帯域幅検出モジュールと、
パルス光ビームのエネルギを検出するように及びパルス光ビームのエネルギを示す信号を生成するように構成されたエネルギ検出モジュールと、
パルス光ビームの波長を検出するように及びパルス光ビームの波長を示す信号を生成するように構成された波長検出モジュールと、
1つ以上のチャンバ内に噴射されるガス混合物の量を検出するように及び噴射されるガス混合物の量を示す信号を生成するように構成されたガス検出モジュールと、を備え、
帯域幅検出モジュール、エネルギ検出モジュール、及び波長検出モジュールの各々は、帯域幅検出モジュールによって生成された信号、エネルギ検出モジュールによって生成された信号、及び波長検出モジュールによって生成された信号にそれぞれ基づいて、ビーム品質メトリックを生成し、
監視モジュールは、帯域幅検出モジュール、エネルギ検出モジュール、及び波長検出モジュールからのビーム品質メトリックを分析することによってビーム品質メトリックを分析し、
監視モジュールは、分析されたビーム品質メトリック、ガス検出モジュールによって生成された信号、及び放電検出モジュールによって生成された信号に基づいて健康状態を判定するように構成されている、条項2のシステム。
4.複数の検出モジュールは更に、フッ素を検出するように及びガス状利得媒質中のフッ素の濃度を示す信号を生成するように構成されたセンサを備え、監視モジュールは、センサによって生成された信号に基づいて健康状態を判定するように構成されている、条項3のシステム。
5.光源は2つのチャンバを備え、2つのチャンバのうち一方は主発振器を備え、2つのチャンバのうち他方はパワー増幅器を備え、システムは更に、主発振器及びパワー増幅器における放電事象を制御するように構成されたタイミングコントローラを備え、複数の検出モジュールは更に、主発振器における放電事象とパワー増幅器における放電事象との間の時間の差を監視するように構成されたタイミング検出モジュールを備える、条項3のシステム。
6.光源は複数のパラメータと関連付けられており、パラメータの各々は許容可能な値の範囲を有し、複数の検出モジュールからの生成された信号を分析するために、監視モジュールは、各信号のビーム品質メトリックがそのパラメータと関連付けられた許容可能な値の範囲内にあるかどうかを判定するように構成されている、条項5のシステム。
7.パルス光ビームを光源から受けるように構成された光リソグラフィシステムを更に備え、検出モジュールのうち少なくともいくつかが、パルス光ビームに関係するデータを光リソグラフィシステムから受信するように構成されている、条項1のシステム。
8.ビーム品質メトリックがとり得る値は2つのみである、条項1のシステム。
9.ビーム品質メトリックには複数のとり得る値があり、複数のとり得る値はパルス光ビームが予め定義された仕様を満たさないことを示す第1の値を備え、
ビーム品質メトリックを分析するように構成された監視モジュールは、ある期間又は有限数のパルスにわたって第1の値の発生を計数するように構成された監視モジュールを備え、
ガス状利得媒質の健康状態を判定するように構成された監視モジュールは、発生の回数を閾値と比較するように構成された監視モジュールを備え、
生成される状態信号は、発生の回数が閾値を超える場合、ガス状利得媒質の使用を終了することを示す、条項1のシステム。
10.リソグラフィシステムであって、光源を備え、光源はガス状利得媒質を保持するように構成された少なくとも1つのチャンバを備え、ガス状利得媒質は想定されるガス寿命と関連付けられている、リソグラフィシステムと、
監視システムであって、
リソグラフィシステムから情報を受信するように構成された監視データインターフェイスと、
1つ以上のルールとモジュールのライブラリとを記憶するように構成された電子記憶装置であって、1つ以上のルールの各々はガス状利得媒質の一態様をモジュールのライブラリ内の少なくとも1つのモジュールと関連付ける、電子記憶装置と、を備える監視システムと、
を備えるシステムであって、監視システムは、
少なくとも1つのルールにアクセスするように、
アクセスされたルールに基づいてモジュールのライブラリから1つのモジュールを特定するように、及び
特定されたモジュールとリソグラフィシステムからの情報とを用いて光源におけるガス状利得媒質の健康状態を判定するように構成されている、システム。
11.監視システムは更に、判定された健康状態に基づいて状態信号を生成するように構成されており、状態信号は、ガス状利得媒質の使用を想定されるガス寿命を超えて延長するかそれともガス状利得媒質の使用を終了するかを示す、条項10のシステム。
12.少なくとも1つのチャンバに流体結合されたガス補充システムを更に備え、状態信号がガス状利得媒質の使用を終了することを示すとき、監視システムは更に、コマンド信号をガス補充システムに提供するように構成されており、コマンド信号は、ガス補充システムにチャンバからガス状利得媒質を除去させると共にチャンバ内に新たなガス混合物を追加するのに十分である、条項11のシステム。
13.ガス状利得媒質の想定されるガス寿命は、ガス状利得媒質を保持するチャンバにおける放電事象の発生の最大数であってもよく、システムは更に、ガス状利得媒質を保持するチャンバにおける放電事象の発生を検出するように及び放電事象計数信号を生成するように構成された放電回数検出モジュールを備え、放電事象計数信号はある期間にわたる放電事象の回数を示す、条項11のシステム。
14.状態信号がガス状利得媒質の使用を終了することを示すとき、監視システムは更に、コマンド信号をガス補充システムに提供するように構成されており、コマンド信号は、ガス補充システムにチャンバからガス状利得媒質を除去させると共にチャンバ内に新たなガスを追加するのに十分である、条項13のシステム。
15.監視システムは更に、期間にわたる放電事象の回数を初期分析閾値と比較するように構成されており、初期分析閾値は想定されるガス寿命未満であり、監視システムは、ガス状利得媒質の健康状態を判定するように、及び期間にわたる放電事象の回数が初期分析閾値を上回る場合にのみ状態信号を生成するように構成されている、条項14のシステム。
16.特定されたモジュールは、光学系からの情報をデータ閾値と比較してガス状利得媒質の健康状態を判定するように構成されており、データ閾値はリソグラフィシステムの動作中に適応的に変化するように構成されている、条項10のシステム。
17.リソグラフィシステムは更にリソグラフィツールを備え、リソグラフィシステムから情報を受信するように構成された監視システムは、リソグラフィツール及び/又は光源から情報を受信するように構成された監視システムを備える、条項10のシステム。
18.リソグラフィシステムからの情報は複数のディテクタからのデータを備え、各ディテクタは、光源によって生成される光ビームの特定の一態様を監視するように、及び光ビームの態様に関係するデータを備える信号を生成するように構成されており、
電子記憶装置は複数のルールを記憶し、ルールは複数のディテクタの各々と関連付けられた少なくとも1つのルールを備え、
モジュールのライブラリは複数の決定モジュールを備え、各決定モジュールは、
複数のディテクタのうち1つからの光ビームの特定の一態様に関係するデータを、データを各基準と比較することによって分析するように、
光ビームの特定の一態様が仕様内であるかそれとも仕様外であるかを判定するように、及び
特定の態様の状態インジケータを出力するように構成されており、
監視システムは、決定モジュールによって出力された全ての状態インジケータを分析することによってガス状利得媒質の健康状態を判定するように構成されている、条項10のシステム。
19.ガス状利得媒質の想定されるガス寿命は、ガス状利得媒質を保持するチャンバにおける放電事象の発生の最大数であり、システムは更に、ガス状利得媒質を保持するチャンバにおける放電事象の発生を検出するように及び放電事象計数信号を生成するように構成された放電回数検出モジュールを備え、放電事象計数信号はある期間にわたる放電事象の回数を示し、
少なくとも1つのルールは、放電事象の回数をモジュールのライブラリ内の少なくとも第1のモジュール及び第2のモジュールと関連付けるガスベースラインルールを少なくとも備え、
第1のモジュールは、光源の動作に関係するパラメータをベースライン測定値として測定及び記憶するように、並びに健康状態をベースライン状態として判定するように構成されており、
第2のモジュールは、測定されたパラメータを記憶されたベースライン測定値と比較するように、及び少なくとも測定されたパラメータに基づいて健康状態を判定するように構成されており、
ガスベースラインルールは、放電事象の回数を閾値と比較し、回数が閾値未満である場合には第1のモジュールを特定し、又は、メトリックが閾値以上である場合には第2のモジュールを特定する、条項10のシステム。
20.複数のリソグラフィシステムと通信するように構成された監視データインターフェイスであって、複数のリソグラフィシステムの各々が想定されるガス寿命と関連付けられたガス状利得媒質を保持するように構成された光源を備える、監視データインターフェイスと、
1つ以上のルールとモジュールのライブラリとを記憶するように構成された電子記憶装置であって、1つ以上のルールの各々はガス状利得媒質の一態様をモジュールのライブラリ内の少なくとも1つのモジュールと関連付ける、電子記憶装置と、
を備える監視システムであって、監視システムは、
少なくとも1つのルールにアクセスするように、
アクセスされたルールに基づいてモジュールのライブラリから1つのモジュールを特定するように、
リソグラフィシステムの第1のグループが複数のリソグラフィシステムのうち少なくとも1つを備えるところ、リソグラフィシステムの第1のグループにおけるガス状利得媒質の健康状態を、特定されたモジュールとリソグラフィシステムの第1のグループからの情報とを用いて判定するように、及び
リソグラフィシステムの第2のグループが複数のリソグラフィシステムのうちリソグラフィシステムの第1のグループにはない1つ以上を備えるところ、判定された健康状態に基づいて、リソグラフィシステムの第2のグループにおけるガス状利得媒質の使用を想定されるガス寿命を超えて延長するかどうかを判定するように構成されている、監視システム。
21.特定されたモジュールは、リソグラフィシステムの第1のグループからの情報をデータ閾値と比較してガス状利得媒質の健康状態を判定するように構成されており、データ閾値はリソグラフィシステムの動作中に適応的に変化するように構成されている、条項20の監視システム。
22.同じデータ閾値が全てのリソグラフィシステムからの情報に適用され、全てのリソグラフィシステムのデータ閾値は、リソグラフィシステムの第1のグループからのデータに基づいて、リソグラフィシステムの動作中に適応的に変更される、条項21の監視システム。
23.リソグラフィシステムの第1のグループからの情報は、リソグラフィシステムの第1のグループの各リソグラフィシステムの光源からの情報を備える、条項20の監視システム。
24.リソグラフィシステムの各々は更に光リソグラフィ装置を備え、リソグラフィシステムの第1のグループからの情報は、リソグラフィシステムの第1のグループの各リソグラフィシステムの光源から及びリソグラフィシステムの第1のグループの各光リソグラフィ装置からの情報を備える、条項20の監視システム。
Claims (16)
- パルス光ビームを放出するように構成された光源であって、1つ以上のチャンバを備え、前記1つ以上のチャンバの各々はガス状利得媒質を保持するように構成されており、前記ガス状利得媒質は想定されるガス寿命と関連付けられている、光源と、
前記パルス光ビームに関係するデータを受信及び分析するように、及び、前記パルス光ビームに関係する前記データに基づいてビーム品質メトリックを生成するように、構成された少なくとも1つの検出モジュールと、
前記ビーム品質メトリックを分析するように、前記ビーム品質メトリックの前記分析に基づいて前記ガス状利得媒質の健康状態を判定するように、及び、前記判定された健康状態に基づいて、前記想定されるガス寿命を超えて前記ガス状利得媒質の使用を延長するか又は前記ガス状利得媒質の使用を終了するかを示す状態信号を生成するように、構成された監視モジュールと、を備え、
前記ビーム品質メトリックには、複数のとり得る値があり、
前記複数のとり得る値は、前記パルス光ビームが予め定義された仕様を満たさないことを示す第1の値を備え、
前記ビーム品質メトリックを分析するように構成された前記監視モジュールは、ある期間又は有限数のパルスにわたって前記第1の値の発生を計数するように構成され、
前記ガス状利得媒質の前記健康状態を判定するように構成された前記監視モジュールは、前記発生の回数を閾値と比較するように構成され、
前記生成される状態信号は、前記発生の回数が前記閾値を超える場合、前記ガス状利得媒質の使用を終了することを示す、システム。 - 前記ビーム品質メトリックを分析することは、前記パルス光ビームが所定の仕様を満たすかどうかを判定することを備え、
前記ビーム品質メトリックは、前記パルス光ビームの光エネルギ、前記パルス光ビームのスペクトル帯域幅、及び/又は、前記パルス光ビームの波長を備える、請求項1のシステム。 - 前記少なくとも1つの検出モジュールは、複数の検出モジュールを備え、
前記複数の検出モジュールは、
前記1つ以上のチャンバのいずれかにおける放電事象の発生を検出するように及びある期間にわたる放電事象の回数を示す信号を生成するように構成された放電回数検出モジュールと、
前記パルス光ビームのスペクトル帯域幅を検出するように及び前記パルス光ビームのスペクトル帯域幅を示す信号を生成するように構成された帯域幅検出モジュールと、
前記パルス光ビームのエネルギを検出するように及び前記パルス光ビームのエネルギを示す信号を生成するように構成されたエネルギ検出モジュールと、
前記パルス光ビームの波長を検出するように及び前記パルス光ビームの前記波長を示す信号を生成するように構成された波長検出モジュールと、
前記1つ以上のチャンバ内に噴射されるガス混合物の量を検出するように及び前記噴射されるガス混合物の前記量を示す信号を生成するように構成されたガス検出モジュールと、を備え、
前記帯域幅検出モジュール、前記エネルギ検出モジュール、及び前記波長検出モジュールの各々は、前記帯域幅検出モジュールによって生成された前記信号、前記エネルギ検出モジュールによって生成された前記信号、及び前記波長検出モジュールによって生成された前記信号にそれぞれ基づいて、ビーム品質メトリックを生成し、
前記監視モジュールは、前記帯域幅検出モジュール、前記エネルギ検出モジュール、及び前記波長検出モジュールからの前記ビーム品質メトリックを分析することによって前記ビーム品質メトリックを分析し、
前記監視モジュールは、前記分析されたビーム品質メトリック、前記ガス検出モジュールによって生成された前記信号、及び前記放電検出モジュールによって生成された前記信号に基づいて前記健康状態を判定するように構成されている、請求項2のシステム。 - 前記複数の検出モジュールは更に、フッ素を検出するように及び前記ガス状利得媒質中のフッ素の濃度を示す信号を生成するように構成されたセンサを備え、
前記監視モジュールは、前記センサによって生成された前記信号に基づいて前記健康状態を判定するように構成されている、請求項3のシステム。 - 前記光源は、2つのチャンバを備え、
前記2つのチャンバのうち一方は、主発振器を備え、
前記2つのチャンバのうち他方は、パワー増幅器を備え、
前記システムは更に、前記主発振器及び前記パワー増幅器における放電事象を制御するように構成されたタイミングコントローラを備え、
前記複数の検出モジュールは更に、前記主発振器における放電事象と前記パワー増幅器における放電事象との間の時間の差を監視するように構成されたタイミング検出モジュールを備える、請求項3のシステム。 - 前記パルス光ビームを前記光源から受けるように構成された光リソグラフィシステムを更に備え、
前記検出モジュールのうち少なくともいくつかが、前記パルス光ビームに関係するデータを前記光リソグラフィシステムから受信するように構成されている、請求項1のシステム。 - 光源を備え、前記光源は、ガス状利得媒質を保持するように構成された少なくとも1つのチャンバを備え、前記ガス状利得媒質は、想定されるガス寿命と関連付けられている、リソグラフィシステムと、
前記リソグラフィシステムから情報を受信するように構成された監視データインターフェイスと、1つ以上のルールとモジュールのライブラリとを記憶するように構成された電子記憶装置であって、前記1つ以上のルールの各々は前記ガス状利得媒質の一態様を前記モジュールのライブラリ内の少なくとも1つのモジュールと関連付ける、電子記憶装置と、を備える監視システムと、
を備えるシステムであって、
前記監視システムは、少なくとも1つのルールにアクセスするように、前記アクセスされたルールに基づいてモジュールのライブラリから1つのモジュールを特定するように、及び、前記特定されたモジュールと前記リソグラフィシステムからの情報とを用いて前記光源における前記ガス状利得媒質の健康状態を判定するように、構成されており、
前記モジュールは、コンピュータプログラム又はサブルーチンを形成する命令のセットであってコマンド信号を生成し、
前記ガス状利得媒質の前記想定されるガス寿命は、前記ガス状利得媒質を保持する前記チャンバにおける放電事象の発生の最大数に対応する時間であり、
前記システムは更に、前記ガス状利得媒質を保持する前記チャンバにおける放電事象の発生を検出するように及び放電事象計数信号を生成するように構成された放電回数検出モジュールを備え、
前記放電事象計数信号は、ある期間にわたる放電事象の回数を示す、システム。
- 前記監視システムは更に、前記判定された健康状態に基づいて状態信号を生成するように構成されており、
前記状態信号は、前記ガス状利得媒質の使用を前記想定されるガス寿命を超えて延長するかそれとも前記ガス状利得媒質の使用を終了するかを示す、請求項7のシステム。 - 前記状態信号が前記ガス状利得媒質の使用を終了することを示すとき、前記監視システムは更に、コマンド信号をガス補充システムに提供するように構成されており、
前記コマンド信号は、前記ガス補充システムに前記チャンバから前記ガス状利得媒質を除去させると共に前記チャンバ内に新たなガスを追加するものである、請求項8のシステム。 - 前記リソグラフィシステムは更に、リソグラフィツールを備え、
前記リソグラフィシステムから情報を受信するように構成された前記監視システムは、前記リソグラフィツール及び/又は前記光源から情報を受信するように構成された前記監視システムを備える、請求項7のシステム。 - 前記リソグラフィシステムからの前記情報は、複数のディテクタからのデータを備え、
各ディテクタは、前記光源によって生成される光ビームの特定の態様を監視するように、及び、前記光ビームの前記特定の態様に関係するデータを備える信号を生成するように、構成されており、
前記電子記憶装置は、複数のルールを記憶し、
前記ルールは、前記複数のディテクタの各々と関連付けられた少なくとも1つのルールを備え、
前記モジュールのライブラリは、複数の決定モジュールを備え、
各決定モジュールは、前記複数のディテクタのうち1つからの前記光ビームの前記特定の態様に関係する前記データを、前記データを各基準と比較することによって分析するように、前記光ビームの前記特定の態様が仕様内であるかそれとも仕様外であるかを判定するように、及び、前記特定の態様の状態インジケータを出力するように、構成されており、
前記監視システムは、前記決定モジュールによって出力された全ての前記状態インジケータを分析することによって前記ガス状利得媒質の前記健康状態を判定するように構成されている、請求項7のシステム。 - 前記少なくとも1つのルールは、前記放電事象の回数を前記モジュールのライブラリ内の少なくとも第1のモジュール及び第2のモジュールと関連付けるガスベースラインルールを少なくとも備え、
前記第1のモジュールは、前記光源の動作に関係するパラメータをベースライン測定値として測定及び記憶するように、並びに、前記健康状態をベースライン状態として判定するように、構成されており、
前記第2のモジュールは、測定されたパラメータを前記記憶されたベースライン測定値と比較するように、及び、少なくとも前記測定されたパラメータに基づいて前記健康状態を判定するように、構成されており、
前記ガスベースラインルールは、前記放電事象の回数を閾値と比較し、前記回数が前記閾値未満である場合には前記第1のモジュールを特定し、又は、前記メトリックが前記閾値以上である場合には前記第2のモジュールを特定する、請求項7のシステム。 - 複数のリソグラフィシステムと通信するように構成された監視データインターフェイスであって、前記複数のリソグラフィシステムの各々が想定されるガス寿命と関連付けられたガス状利得媒質を保持するように構成された光源を備える、監視データインターフェイスと、
1つ以上のルールとモジュールのライブラリとを記憶するように構成された電子記憶装置であって、前記1つ以上のルールの各々は前記ガス状利得媒質の一態様を前記モジュールのライブラリ内の少なくとも1つのモジュールと関連付ける、電子記憶装置と、
を備える監視システムであって、
前記監視システムは、少なくとも1つのルールにアクセスするように、前記アクセスされたルールに基づいてモジュールのライブラリから1つのモジュールを特定するように、リソグラフィシステムの第1のグループが複数のリソグラフィシステムのうち少なくとも1つを備えるところ、前記第1のグループにおける前記ガス状利得媒質の健康状態を、前記特定されたモジュールと前記第1のグループからの情報とを用いて判定するように、及び、リソグラフィシステムの第2のグループが複数のリソグラフィシステムのうち前記第1のグループとは異なるリソグラフィシステムの1つ以上を備えるところ、前記判定された健康状態に基づいて、前記第2のグループにおける前記ガス状利得媒質の前記使用を前記想定されるガス寿命を超えて延長するかどうかを判定するように、構成されており、
前記モジュールは、コンピュータプログラム又はサブルーチンを形成する命令のセットであってコマンド信号を生成し、
前記監視システムは、1つの光源について特定の不健康なシグネチャが検出された場合に、前記監視システムに連結された他の全ての光源について同じ不健康なシグネチャを探す、監視システム。 - 前記特定されたモジュールは、前記第1のグループからの前記情報をデータ閾値と比較して前記ガス状利得媒質の健康状態を判定するように構成されており、
前記データ閾値は、前記リソグラフィシステムの動作中に適応的に変化するように構成されている、請求項13の監視システム。 - 同じデータ閾値が、全ての前記リソグラフィシステムからの情報に適用され、
全ての前記リソグラフィシステムの前記データ閾値は、前記第1のグループからのデータに基づいて、前記リソグラフィシステムの動作中に適応的に変更される、請求項14の監視システム。 - 前記リソグラフィシステムの各々は更に、光リソグラフィ装置を備え、
前記第1のグループからの前記情報は、前記第1のグループの各リソグラフィシステムの前記光源から及び前記第1のグループの各光リソグラフィ装置からの情報を備える、請求項13の監視システム。
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000151002A (ja) | 1998-10-05 | 2000-05-30 | Lambda Physik G Zur Herstellung Von Lasern Mbh | ガス放電レ―ザの性能制御方法 |
JP2007149915A (ja) | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ガスレーザ装置とその運転方法、及び放電装置 |
Family Cites Families (26)
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---|---|---|---|---|
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US5440578B1 (en) | 1993-07-16 | 2000-10-24 | Cymer Inc | Gas replenishment method ad apparatus for excimer lasers |
JP2816813B2 (ja) | 1994-04-12 | 1998-10-27 | 株式会社小松製作所 | エキシマレーザ装置 |
US5673282A (en) * | 1995-07-28 | 1997-09-30 | Lucent Technologies Inc. | Method and apparatus for monitoring performance of a laser transmitter |
US6188710B1 (en) | 1997-10-10 | 2001-02-13 | Cymer, Inc. | Narrow band gas discharge laser with gas additive |
JPH11243242A (ja) | 1998-02-24 | 1999-09-07 | Komatsu Ltd | エキシマレーザ装置のレーザガス制御装置 |
US6212214B1 (en) | 1998-10-05 | 2001-04-03 | Lambda Physik Ag | Performance control system and method for gas discharge lasers |
US6965624B2 (en) * | 1999-03-17 | 2005-11-15 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
US6243405B1 (en) | 1999-03-17 | 2001-06-05 | Lambda Physik Ag | Very stable excimer or molecular fluorine laser |
US6721345B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-04-13 | Lambda Physik Ag | Electrostatic precipitator corona discharge ignition voltage probe for gas status detection and control system for gas discharge lasers |
US6912052B2 (en) | 2000-11-17 | 2005-06-28 | Cymer, Inc. | Gas discharge MOPA laser spectral analysis module |
EP1436870A2 (en) * | 2001-10-09 | 2004-07-14 | Infinera Corporation | TRANSMITTER PHOTONIC INTEGRATED CIRCUITS (TxPIC) AND OPTICAL TRANSPORT NETWORKS EMPLOYING TxPICs |
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