JP7242025B1 - 炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法、炭化水素分解反応装置の製造方法、炭化水素分解反応装置および反応炉 - Google Patents
炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法、炭化水素分解反応装置の製造方法、炭化水素分解反応装置および反応炉 Download PDFInfo
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Abstract
Description
なかでも熱放射は、太陽光線が熱伝導のない宇宙空間及び熱伝導率の悪い大気圏を飛び越えて我々の皮膚に当たり火照った感覚を与えることからも分かるように、熱伝導率の悪い空間によって隔てられた触媒の加熱に優れていることが知られている(特許文献1)。
水蒸気改質:CH4+2H2O→4H2+CO2 ΔH=-165kJ/mol-H2
直接分解:CH4→2H2+C ΔH=-76kJ/mol-H2
本明細書において「炭化水素分解用構造体触媒」は、炭化水素の水蒸気改質反応の全部もしくは一部の反応プロセス、または、炭化水素の直接分解反応の全部もしくは一部の反応プロセスの構造体触媒をいう。炭化水素としては、好ましくはメタン、エタン、プロパンまたはナフサである。
本明細書において「構造体触媒」は、板(平板のみならず、曲げ、折り曲げ、パンチング、切り欠き、エンボス加工等、平板に対して任意の加工を施したものを含む)、多孔体、ハニカム(モノリス型)、フェルト、メッシュ、ファブリックまたはエキスパンドメタルから選択される構造体それ自体が触媒として機能する触媒であるか、または、当該構造体をベースとする触媒である。構造体をベースとする触媒としては、触媒成分を含むスラリー中にハニカム等の形状を有する基材を含浸して得られるものを指すのが一般的であるが、構造体上に、溶射、めっき等によって露出した非担持触媒層(めっき層、溶射層)を形成したものであってもよい。
本明細書において「原料ガスの流れる方向」は、反応チャンバ内で大掴みに見て原料ガスが流れる直線的または曲線的な流通の方向を意味する。したがって、攪拌接触促進のため、触媒に突起等の加飾加工を施したり流路上に邪魔板を置いたりしたことによって原料ガスの流れに局所的・微視的な経路変化が生じる場合であっても、その局所的・微視的な流れの変化は、大掴みに見て原料ガスが流れる方向とは必ずしも一致しないことに留意すべきである。
本明細書において「境界壁面」は、線状熱放射体および/または法線ベクトルを定義するための巨視的で幾何学的な境界壁面を意味する。したがって、壁面の微細な表面状態を考慮しない。また「境界壁面」は、発熱源の表面そのものであってもよいし、発熱源と反応チャンバ内の空間とを隔てる円筒形隔壁や断面長方形の中空隔壁の壁面であってもよい。
本明細書において「境界辺」は、熱源や隔壁が原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で長方形または正方形である場合の各辺を意味する。
本明細書において「仮想円筒側面」は、境界辺を含む仮想的な円筒を観念したときの当該仮想的な円筒の側面を意味する。
本明細書において「境界壁面に対する法線または境界辺を含む仮想円筒側面に対する法線」は、全ての法線ではなく、選択した特定の法線を意味する。
(第1の実施形態-触媒を法線に関して左右対称に配置した装置)
図1に示す典型的な炭化水素分解反応装置1は、生成物排出容器2の中に炭化水素分解反応が起きる区画3を規定する下端開口円筒4を挿入した構造を備えており、さらに、下端開口円筒4の上端にある蓋5を貫通して原料ガスを下端開口円筒4の上部に供給する供給管6と、生成物排出容器2の上端にある蓋7を貫通して生成ガスを含むガスを排出する排出管8と、下端開口円筒4内に配置したとき原料ガスが上端から下端に向かって流通可能な構造を有する炭化水素分解用構造体触媒9と、下端開口円筒4の上蓋5の略中央を貫通し、内部を鉛直方向下方に向かって延びる有底筒11と、当該有底筒11に収容されている熱源10とを備える。
図3(a)に示す第2の実施形態は、有底筒11を包囲する円筒形状の炭化水素分解用構造体触媒19を、原料ガスの流れる鉛直方向に対して垂直な断面視で、図3(b)に示すように波形加工(コルゲート加工)させている点で第1の実施形態と異なる。かかる配置においても、触媒19の形状は、原料ガスの流れる鉛直方向に対して垂直な断面視で、境界壁面12に対する法線15上の1点16を起点にして当該法線15に関して対称な形状となっている。
図4に示す第3の実施形態は、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で、L字型に折り曲げた触媒板29を有底筒11周りに15枚、隣接する触媒板29a,29b間に隙間が生じないように配置することで境界壁面12を包囲している点で第1の実施形態と異なる。かかる配置では、境界壁面12に対する法線17a,17bに対して触媒29が「はすかい」に横断しており、境界壁面12に対する法線17a,17b上の1点18a,18bを起点にして当該法線に関して非対称な形状となっている。
図5に示す第4の実施形態では、熱源20が、側面視で概ねW字形のラジアントチューブ22と、該ラジアントチューブ22の両端部に配設された一対のガスバーナ24と、上記ラジアントチューブ22の両端部に設けられた一対の蓄熱器26とを備えたリジェネラジアントチューブバーナ27となっている。バーナ27は、そのチューブ22全体が直方体のヒータ収納部25内に収容されている。原料ガスの流れる方向は、図5(a)の紙面奥に向かう方向、図5(b)および図5(c)の紙面上から下に向かう方向であり、ヒータ収納部25の4つの側壁面および4つの側辺の周囲には、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で、それぞれU字形および馬蹄形の炭化水素分解用構造体触媒39を、その開口部を向けた状態で隣接する触媒板39a,39b,39c間に隙間が生じないように密着配置している。かかる配置において、触媒39a,39b,39cの形状は、図5(a)に示す原料ガスの流れる鉛直方向に対して垂直な断面視で、境界壁面32に対する法線37a上の1点38aを起点にして当該法線37aに関して対称な形状のものと、境界辺33を含む仮想円筒側面34に対する法線37b上の1点38bを起点にして当該法線37bに関して非対称な形状のものとを含んでいる。
図6に示す第5実施形態の反応炉62は、標準化した触媒モジュールとしての炭化水素分解反応装置61aと、触媒モジュール61bと、粗分離装置65とを備えている。
第2の構造体触媒69としては、第1の構造体触媒19と同一または異なる材料を使用することができる。第2の構造体触媒の構造としては、構造体の中心に熱源を備えていなくてもよいことから、板(平板のみならず、曲げ、折り曲げ、パンチング、切り欠き、エンボス加工等、平板に対して任意の加工を施したものを含む)、多孔体、ハニカム(モノリス型)、フェルト、メッシュ、ファブリックまたはエキスパンドメタルのなかから、第1の構造体触媒19の構造と異なるものを使用することも許容される。
第2の構造体触媒69の加熱方法としては、ガス透過型触媒に面する場所に設置してガス透過型触媒が発生する輻射熱を利用することもできるし、炉内の高温ガスの対流による触媒表面の加熱を利用することもできる。
典型的な排出回収装置は、特許文献4に示すものであり、反応炉の反応炉下部開口にベント孔を介して連絡する減圧チャンバと、ベント孔を開閉可能な第1開閉弁と、減圧チャンバにチャネルを介して連絡する回収箱と、チャネルを開閉可能な第2開閉弁と、回収箱に連絡する減圧ポンプとを備えている。
炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法(以下、本方法)もまた本発明の他の側面である。以下、各ステップについて説明する。
(実験例1-加飾加工した触媒板を用いた内部加熱式反応炉による反応試験)
円筒形のSUS304製透過型小型反応炉の鉛直方向中心軸に沿って2kWヒータ(三洋熱工社製)を収容したヒータ収容筒11を挿入し、厚さ0.6mm*幅37mm*長さ200mmの触媒板49(ニッケル系金属触媒)を46枚、メタンの流れる方向に対して垂直な断面視で、図7に示すように同じ向きに同じ湾曲度で湾曲するようにヒータ収納筒11周りに配置固定し、かつ触媒板49に攪拌接触促進のための突起46を設けた。触媒の幾何学的総面積は表裏で0.68m2になった。
反応炉温度が600℃近くに上昇後、炉の上蓋を貫通するメタン供給パイプから触媒と平行な流れになるように、圧力0.3MPaで、流量を1000mL/分でメタンを導入しながら、ヒータ温度950~1000℃で約2時間25分の間、炭素直接分解反応実験を実施した。
水素濃度は、炉の周壁下端に設けた大気放出する生成ガス排出パイプ8に気体熱伝導式ガスアナライザ(ゼロガス:都市ガス13A、スパンガス:水素100%、ガス流量:1.0L/min、チノー社製)を取付けて計測した。結果を図8に示す。しかし、ヒータ温度は950℃近くになっているが、反応炉温度が650℃と低いため、触媒板49の境膜部が十分加熱されないために、水素製造効率は低かった。
触媒の水素製造効率は、途中ヒータ温度を950℃から1000℃に上げてもたかだか10%であったので実験を中止した。
実験例1と同じ大きさの触媒板2枚を一組として互いに向かい合うように湾曲させてヒータ収納筒周りに23組配置し、隣接する板の端辺同士を突合せ溶接固定することで、メタンの流れる方向に対して垂直な断面視で菊花様の輪郭形状(図2)となるように構成した。
大気開放した状態でヒータ収容筒に入れたヒータを駆動し、サーモグラフィを通じて触媒を観察したところ、ヒータの熱は花弁の付け根付近から先端付近まで熱放射(輻射熱)を受ける面全体に一様に広がっており、炭化水素分解用構造体触媒が、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で境界壁面に対する法線上の1点を起点にして左右対称の形状を有することで、触媒板表面で反射した熱放射も触媒板が受け止めやすい形状であることがわかった。一方、触媒板における熱放射を受ける面と反対側の面は低い温度となっており、触媒板表面の局所的な加熱が起きていることがわかった。
実験例2のように配置した幾何学的総面積が表裏で0.68m2の触媒とヒータを、円筒形の透過型小型反応炉の鉛直方向中心軸に沿って収容し、メタン流路を通じて、メタン供給圧力0.3MPa、メタン流量1L/minでメタンを導入し、炭素直接分解反応実験を実施した。その結果、図9に示すように実験例1の内部加熱式反応炉と比べて、触媒の幾何学的総面積は同じであり、かつ、ヒータ容量は同じであったにもかかわらず、水素発生量は良好で、ヒータ温度1000℃、反応炉温度650℃、水素濃度は55%であった。輻射熱を受けやすく触媒板表面の局所的な加熱が起きるように触媒の配置を工夫することが重要であると示唆された。
61b 触媒モジュール
62 反応炉
2 生成物排出容器
3 区画
4 下端開口円筒
5、7 蓋
6,66a 原料ガス供給管
8 排出管
9,19,29,39a,39b,39c,49,59,69 炭化水素分解用構造体触媒
10、20 熱源
11 有底筒(ヒータ収納部)
12 境界壁面
13、15、17a,17b,37a,37b 法線
14、16、18a,18b,38a,38b 触媒と法線との交点
22 ラジアントチューブ
24 ガスバーナ
25 ヒータ収納部
26 蓄熱器
27,67 バーナ
33 境界辺
34 仮想円筒側面
46 突起
63 脱硫器
64a 案内筒
64b 保持筒
65 粗精製装置
66b 燃焼ガス導入管
68 ブロワ
71 原料ガス供給源
72 生成炭素排出回収装置
73 ポンプ
74 タンク
75 PSA
Claims (10)
- 反応チャンバ内で適切に配置したとき原料ガスが一端から他端に向かって流通可能な構造を有する炭化水素分解用構造体触媒と、
前記反応チャンバの内部に気密性を保った状態で配置された熱源であって、前記炭化水素分解用構造体触媒を加熱可能な熱源とを備えた炭化水素分解反応装置であって、
前記炭化水素分解用構造体触媒は、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で、前記炭化水素分解用構造体触媒と前記熱源とを隔てる境界壁面または境界辺を隙間なく包囲する形状を有する炭化水素分解反応装置。 - 反応チャンバ内で適切に配置したとき原料ガスが一端から他端に向かって流通可能な構造を有する炭化水素分解用構造体触媒と、
前記反応チャンバの内部に気密性を保った状態で配置された熱源であって、前記炭化水素分解用構造体触媒を加熱可能な熱源とを備えた炭化水素分解反応装置であって、
前記炭化水素分解用構造体触媒は、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で、前記炭化水素分解用構造体触媒と前記熱源とを隔てる境界壁面に対する法線上または境界辺を含む仮想円筒側面に対する法線上の1点を起点にして当該法線に関して対称な形状を有する炭化水素分解反応装置。 - 前記形状が、境界壁面に対する法線上または境界辺を含む仮想円筒側面に対する法線上の1点を起点にして当該法線に関して対称な形状である請求項1に記載の炭化水素分解反応装置。
- 前記熱源が、前記反応チャンバの内部において、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で略中央を占有するヒータ収納部内に収容されている、請求項1または請求項2に記載の炭化水素分解反応装置。
- 前記熱源が、リジェネラジアントチューブバーナであり、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で略中央を占有する方形のヒータ収納部内に収容されている、請求項4に記載の炭化水素分解反応装置。
- 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の炭化水素分解反応装置を備えた炭化水素直接分解用反応炉。
- 前記他端から出てきた未反応の原料ガスが対流によって接触可能な第2の構造体触媒を備えた請求項6に記載の炭化水素直接分解用反応炉。
- さらに反応炉内の水素を選択的に排出させることにより、反応炉内の水素分圧を下げ、炭化水素の分解反応を促進する為の水素精製モジュールを備えた請求項6に記載の炭化水素直接分解用反応炉。
- 反応チャンバの形状ならびに該反応チャンバの内部または外部における熱源の形状および配置を決定することと、
第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒を第1の座標系の第1の位置に配置することと、
第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒が単位時間あたりに受ける輻射熱(E1)を計算または実測することと、
第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒を変形すること、および/または、座標系を動かすことと、
反応チャンバ内に変形後および/または座標移動後の炭化水素分解用構造体触媒を配置したとき原料ガスが一端から他端に向かって流通可能であることを確認することと、
前記反応チャンバ内にある変形後および/または座標移動後の炭化水素分解用構造体触媒が単位時間あたりに受ける輻射熱(E2)が、
前記第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒が単位時間あたりに受ける輻射熱(E1)に比べて大きくなることを確認することを含む、炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法。 - 請求項9に記載の炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法を含む炭化水素分解反応装置の製造方法。
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