JP7242025B1 - 炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法、炭化水素分解反応装置の製造方法、炭化水素分解反応装置および反応炉 - Google Patents

炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法、炭化水素分解反応装置の製造方法、炭化水素分解反応装置および反応炉 Download PDF

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Abstract

従来比で効率の良い熱利用を実現するための炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法および炭化水素分解反応装置および反応炉とその製造方法を提供する。反応チャンバ内で適切に配置したとき原料ガスが一端から他端に向かって流通可能な構造を有する炭化水素分解用構造体触媒19と、前記反応チャンバの内部または外部に配置され、前記炭化水素分解用構造体触媒19を加熱可能な熱源67とを備えた炭化水素分解反応装置61aであって、前記炭化水素分解用構造体触媒19は、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で、前記炭化水素分解用構造体触媒19と前記熱源67とを隔てる境界壁面または境界辺を包囲する形状を有する炭化水素分解反応装置61a、ならびに、当該反応装置61aを触媒モジュール61bとともに組み込んだ反応炉62である。【選択図】 図6

Description

本発明は、炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法、炭化水素分解反応装置の製造方法、炭化水素分解反応装置および反応炉に関するものである。
従来、触媒に熱を伝える方法としては、通電等による直接加熱、熱伝導、対流、熱放射の4種類が知られている。
なかでも熱放射は、太陽光線が熱伝導のない宇宙空間及び熱伝導率の悪い大気圏を飛び越えて我々の皮膚に当たり火照った感覚を与えることからも分かるように、熱伝導率の悪い空間によって隔てられた触媒の加熱に優れていることが知られている(特許文献1)。
天然ガスやナフサから水素を生成する熱分解反応は吸熱反応であり、とりわけ水蒸気改質反応は大きな吸熱反応であることから、効率の良い触媒加熱の要請が高く、熱の有効利用に主眼を置いた多くの反応炉構造の検討・提案がなされている(特許文献2及び特許文献3)。
水蒸気改質:CH4+2H2O→4H2+CO2 ΔH=-165kJ/mol-H2
直接分解:CH4→2H2+C ΔH=-76kJ/mol-H2
水蒸気改質触媒が粒状触媒である場合は、通常隔壁で仕切られて原料ガスが流通する一定の空間内に充填されており、バーナからの熱は当該隔壁に伝わり、隔壁から原料ガスの対流伝熱を介して1つの粒状触媒に伝わり、当該1つの粒状触媒からの熱放射や原料ガスの対流を介した伝熱等によって、充填された他の粒状触媒が加熱されることになる(非特許文献1)。このような触媒充填型反応炉システムでは、触媒層内での伝熱形態が主に流体を介した対流伝熱であるため熱効率が悪く、原料ガス(炭化水素と水蒸気)を500℃近くに予熱する必要がある(例えば、特許文献5、特許文献6等)。また触媒層内の圧力損失も大きく、負荷変動時やスタートアップ時の応答性、反応場の昇温、温度変動への追従性が鈍いという問題、また反応管内の触媒への熱供給のために、反応管を長くせざるを得ず装置が大型化しやすい問題もある。
特開平6-229530号公報 特開2001-031403号公報 特開2000-178004号公報 国際公開第2020/090245号パンフレット、図7b 特開2004-83332号公報 特表2019-529318号公報
福原、「炭化水素改質用のメタルハニカム型構造体触媒の開発と次世代型コンパクト水素製造器への適用」、ENEOS Technical Review、第53巻 第3号、94-100頁
水蒸気改質用の板状触媒を加熱する際は、反応炉の周囲または鉛直軸中心に沿って配置されたヒータによってまず原料ガスを加熱し、高温になった原料ガスを介して触媒59全体を加熱する手法(特許文献2、特許文献4、図10)、ヒータ隔壁と直に接するように構造体触媒を配置し、伝導伝熱によって触媒を加熱する手法(非特許文献1)がある。しかしながら、触媒反応が構造体触媒表面近傍の境膜付近のみで生じており、境膜付近外の加熱された原料ガスは反応に寄与しないとみなせることに鑑みれば、前者の手法はエネルギーロスが大きく、より効率的な加熱手法が望まれる。また後者の手法は、ヒータ隔壁と触媒成分との相性の問題、触媒劣化によりヒータ隔壁ごと交換が必要になる問題、触媒面積の制約等があり、実用性という観点ではハードルが高い。
上記現状に鑑み、本発明は、従来比で効率の良い熱利用を実現するための炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法、炭化水素分解反応装置および反応炉とその製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するためになされた本発明の1つの側面は、反応チャンバ内で適切に配置したとき原料ガスが一端から他端に向かって流通可能な構造を有する炭化水素分解用構造体触媒と、上記反応チャンバの内部または外部に配置され、上記炭化水素分解用構造体触媒を加熱可能な熱源とを備えた炭化水素分解反応装置であって、上記炭化水素分解用構造体触媒は、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で、上記炭化水素分解用構造体触媒と上記熱源とを隔てる境界壁面または境界辺を包囲する形状を有する炭化水素分解反応装置である。斯かる構成によれば、法線方向に放射された輻射熱のみならず、法線方向以外に放射された輻射熱の一部まで同一の触媒表面や隣接した触媒表面で漏れなく受け止めることが可能な構造となり、境膜付近の原料ガスのみが輻射熱により加熱された触媒板で加熱され、効率の良い熱利用を実現できる。
上記炭化水素分解反応装置は、上記形状が、境界壁面に対する法線または境界辺を含む仮想円筒側面に対する法線上の1点を起点にして当該法線に関して対称な形状であることが好ましい。斯かる構成によれば、任意の触媒表面が一旦吸収して再放射し、または反射した輻射熱を同一の触媒表面もしくは法線に関して対称関係にある別の触媒表面で受け止める確率が高い構造となり、輻射熱を一層有効活用した効率の良い熱利用が可能になる。
上記炭化水素分解反応装置は、上記熱源が、上記反応チャンバの内部において、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で略中央を占有するヒータ収納部内に収容されていることが好ましい。斯かる構成によれば、反応チャンバの外側を加熱する場合と比べて、表面積が小さいうえ、低温の外気から離れているため、放熱損失が小さく輻射熱を利用する場合は有利になる。
上記炭化水素分解反応装置は、熱源が、リジェネラジアントチューブバーナであり、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で略中央を占有する方形のヒータ収納部内に収容されていることが好ましい。斯かる構成によれば、熱効率が高いリジェネラジアントチューブバーナの特性を生かしながら、反応に寄与する触媒表面のみを効率的に加熱することができる。
本発明の他の側面は、上記炭化水素分解反応装置を備えた炭化水素直接分解用反応炉である。上記構成であると、水蒸気改質に必要な水蒸気加熱器、原料ガス予熱器、CO変成装置、CCS装置が不要となり、従来の水素発生装置に比べて圧倒的に小型化できる。またヒートバランス等においても、原料ガス等の予熱等や高圧化が不要なだけ有利と考えられる。
さらに前記他端から出てきた未反応の原料ガスが対流によって接触可能な第2の構造体触媒を備えた炭化水素直接分解用反応炉である。原料ガスが一端から他端に向かって流通するいわゆる透過型の構造体触媒のみならず、原料ガスと対流によって接触可能な第2の構造体触媒を併用することで、一定の生産速度を維持しながら、未反応の原料ガス割合を減らし、転化率を向上させることができる。
さらに反応炉内の水素を選択的に排出させることにより、反応炉内の水素分圧を下げ、炭化水素の分解反応を促進する為の水素精製モジュールを備えた炭化水素直接分解用反応炉である。上記構成によれば、炉内の水素濃度を下げることで、炭化水素直接分解反応を水素生成側に促進できる。
本発明の他の側面は、反応チャンバの形状ならびに該反応チャンバの内部または外部における熱源の形状および配置を決定することと、第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒を第1の座標系の第1の位置に配置することと、第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒が単位時間あたりに受ける輻射熱(E1)を計算または実測することと、第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒を変形すること、および/または、座標系を動かすことと、反応チャンバ内に変形後および/または座標移動後の炭化水素分解用構造体触媒を配置したとき原料ガスが一端から他端に向かって流通可能であることを確認することと、前記反応チャンバ内にある変形後および/または座標移動後の炭化水素分解用構造体触媒が単位時間あたりに受ける輻射熱(E2)が、前記第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒が単位時間あたりに受ける輻射熱(E1)に比べて大きくなることを確認することを含む、炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法である。斯かる設計・配置方法によれば、同じ触媒面積でも輻射熱によって局所的に触媒表面のみを高温にする設計配置が可能になり、原料ガスからの熱伝導、対流等の他の加熱要因を考慮しないでも効率の良い熱利用を実現できる。またE2-E1が正値であることを条件として、炭化水素分解用構造体触媒の形状の変形と輻射熱値の確認とを繰り返すことで、炭化水素分解用構造体触媒の形状および配置の最適化ができる。
本発明の他の側面は、上記炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法を含む炭化水素分解反応装置の製造方法である。斯かる製造方法によれば、同じ触媒面積でも輻射熱によって局所的に触媒表面のみを高温にする設計・配置が可能になり、原料ガスからの熱伝導、対流等の他の加熱要因を考慮しないでも効率の良い熱利用を実現できる。
本発明によれば、触媒の表面に直接熱を与え、実際の化学反応が起こる触媒の境膜付近のみを反応温度まで上昇させることによって、炭化水素分解用構造体触媒の加熱効率を上げられ、反応炉温度を下げられ、場合によっては反応炉素材として耐熱温度の低い安価な構造材料を使用することが可能になる。
本発明の炭化水素分解反応装置の第1の実施形態のB-B断面図。 図1の下端開口円筒内のA-A拡大断面図。 第2の実施形態の触媒配置の(a)側面写真と(b)A-A端面図。 第3の実施形態の触媒配置を原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面から視た断面図。 第4の実施形態の触媒配置の(a)C-C端面図、(b)A-A断面図、および、(c)B-B断面図。 第5の実施形態の反応炉の模式図。 実験例1の加飾加工した触媒板の配置を示す断面図。 実験例1の結果グラフ。 実験例3の結果グラフ。 従来の触媒構成例を示す断面図。
以下では、本明細書で使用する「用語」について定義する。
本明細書において「炭化水素分解用構造体触媒」は、炭化水素の水蒸気改質反応の全部もしくは一部の反応プロセス、または、炭化水素の直接分解反応の全部もしくは一部の反応プロセスの構造体触媒をいう。炭化水素としては、好ましくはメタン、エタン、プロパンまたはナフサである。
本明細書において「構造体触媒」は、板(平板のみならず、曲げ、折り曲げ、パンチング、切り欠き、エンボス加工等、平板に対して任意の加工を施したものを含む)、多孔体、ハニカム(モノリス型)、フェルト、メッシュ、ファブリックまたはエキスパンドメタルから選択される構造体それ自体が触媒として機能する触媒であるか、または、当該構造体をベースとする触媒である。構造体をベースとする触媒としては、触媒成分を含むスラリー中にハニカム等の形状を有する基材を含浸して得られるものを指すのが一般的であるが、構造体上に、溶射、めっき等によって露出した非担持触媒層(めっき層、溶射層)を形成したものであってもよい。
本明細書において「原料ガスの流れる方向」は、反応チャンバ内で大掴みに見て原料ガスが流れる直線的または曲線的な流通の方向を意味する。したがって、攪拌接触促進のため、触媒に突起等の加飾加工を施したり流路上に邪魔板を置いたりしたことによって原料ガスの流れに局所的・微視的な経路変化が生じる場合であっても、その局所的・微視的な流れの変化は、大掴みに見て原料ガスが流れる方向とは必ずしも一致しないことに留意すべきである。
本明細書において「境界壁面」は、線状熱放射体および/または法線ベクトルを定義するための巨視的で幾何学的な境界壁面を意味する。したがって、壁面の微細な表面状態を考慮しない。また「境界壁面」は、発熱源の表面そのものであってもよいし、発熱源と反応チャンバ内の空間とを隔てる円筒形隔壁や断面長方形の中空隔壁の壁面であってもよい。
本明細書において「境界辺」は、熱源や隔壁が原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で長方形または正方形である場合の各辺を意味する。
本明細書において「仮想円筒側面」は、境界辺を含む仮想的な円筒を観念したときの当該仮想的な円筒の側面を意味する。
本明細書において「境界壁面に対する法線または境界辺を含む仮想円筒側面に対する法線」は、全ての法線ではなく、選択した特定の法線を意味する。
以下に本発明を実施するための形態について適宜図面を参照して説明する。
(第1の実施形態-触媒を法線に関して左右対称に配置した装置)
図1に示す典型的な炭化水素分解反応装置1は、生成物排出容器2の中に炭化水素分解反応が起きる区画3を規定する下端開口円筒4を挿入した構造を備えており、さらに、下端開口円筒4の上端にある蓋5を貫通して原料ガスを下端開口円筒4の上部に供給する供給管6と、生成物排出容器2の上端にある蓋7を貫通して生成ガスを含むガスを排出する排出管8と、下端開口円筒4内に配置したとき原料ガスが上端から下端に向かって流通可能な構造を有する炭化水素分解用構造体触媒9と、下端開口円筒4の上蓋5の略中央を貫通し、内部を鉛直方向下方に向かって延びる有底筒11と、当該有底筒11に収容されている熱源10とを備える。
本実施形態における炭化水素分解用構造体触媒9は、図2に示すように原料ガスの流れる鉛直方向に対して垂直な断面視で、菊花様の輪郭形状をなし、有底筒11の外壁面(境界壁面)を包囲している。菊花は、2枚の湾曲した触媒を向かい合わせにして得られた1枚の花弁を23枚、隣接する花弁同士が内側端から中央部にかけて一体化するように組み合わせて構成されている。花弁は、境界壁面12に対する法線13上に先端14が位置しており、そこを起点にして法線13に関して対称な形状となっている。側面から見ると、2枚の湾曲した触媒の一辺が花弁の先端に相当する部分で突き合わされている。
(第2実施形態-触媒を法線に関して左右対称に配置した装置)
図3(a)に示す第2の実施形態は、有底筒11を包囲する円筒形状の炭化水素分解用構造体触媒19を、原料ガスの流れる鉛直方向に対して垂直な断面視で、図3(b)に示すように波形加工(コルゲート加工)させている点で第1の実施形態と異なる。かかる配置においても、触媒19の形状は、原料ガスの流れる鉛直方向に対して垂直な断面視で、境界壁面12に対する法線15上の1点16を起点にして当該法線15に関して対称な形状となっている。
(第3実施形態-触媒を法線に関して左右非対称に配置した装置)
図4に示す第3の実施形態は、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で、L字型に折り曲げた触媒板29を有底筒11周りに15枚、隣接する触媒板29a,29b間に隙間が生じないように配置することで境界壁面12を包囲している点で第1の実施形態と異なる。かかる配置では、境界壁面12に対する法線17a,17bに対して触媒29が「はすかい」に横断しており、境界壁面12に対する法線17a,17b上の1点18a,18bを起点にして当該法線に関して非対称な形状となっている。
(第4実施形態-リジェネラジアントチューブバーナ周りに触媒を備えた装置)
図5に示す第4の実施形態では、熱源20が、側面視で概ねW字形のラジアントチューブ22と、該ラジアントチューブ22の両端部に配設された一対のガスバーナ24と、上記ラジアントチューブ22の両端部に設けられた一対の蓄熱器26とを備えたリジェネラジアントチューブバーナ27となっている。バーナ27は、そのチューブ22全体が直方体のヒータ収納部25内に収容されている。原料ガスの流れる方向は、図5(a)の紙面奥に向かう方向、図5(b)および図5(c)の紙面上から下に向かう方向であり、ヒータ収納部25の4つの側壁面および4つの側辺の周囲には、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で、それぞれU字形および馬蹄形の炭化水素分解用構造体触媒39を、その開口部を向けた状態で隣接する触媒板39a,39b,39c間に隙間が生じないように密着配置している。かかる配置において、触媒39a,39b,39cの形状は、図5(a)に示す原料ガスの流れる鉛直方向に対して垂直な断面視で、境界壁面32に対する法線37a上の1点38aを起点にして当該法線37aに関して対称な形状のものと、境界辺33を含む仮想円筒側面34に対する法線37b上の1点38bを起点にして当該法線37bに関して非対称な形状のものとを含んでいる。
(第5実施形態-標準化した触媒モジュールを複数本収容する反応炉)
図6に示す第5実施形態の反応炉62は、標準化した触媒モジュールとしての炭化水素分解反応装置61aと、触媒モジュール61bと、粗分離装置65とを備えている。
炭化水素分解反応装置61aは、熱源としてのシングルエンドラジアントチューブバーナ67と、バーナ67の周囲を取り巻くように配置した図3に示す波形触媒19(第1の構造体触媒)と、波形触媒19の上端部を収容し原料ガスを導入する案内筒64aとからなる。原料ガスは波形触媒19の内側を上端から下端に向かって通るためガス透過型触媒の1種であるが、図1の下端開口円筒4とは異なり、案内筒64aが触媒の上部だけを覆うスリーブ状になっていることで、波形触媒19の下端から漏れた原料ガスは、波形触媒19の外側にも接触し、反応炉62全体に広がるようになっている。
触媒モジュール61bは、炭化水素分解反応装置61aの下端から出てきた未反応の原料ガスが対流によって接触可能な第2の構造体触媒69と、第2の構造体触媒69を上から保持する保持筒64bとからなり、第2の構造体触媒69がバーナ67を取り囲んでいない点で炭化水素分解反応装置61aと異なる。
第2の構造体触媒69としては、第1の構造体触媒19と同一または異なる材料を使用することができる。第2の構造体触媒の構造としては、構造体の中心に熱源を備えていなくてもよいことから、板(平板のみならず、曲げ、折り曲げ、パンチング、切り欠き、エンボス加工等、平板に対して任意の加工を施したものを含む)、多孔体、ハニカム(モノリス型)、フェルト、メッシュ、ファブリックまたはエキスパンドメタルのなかから、第1の構造体触媒19の構造と異なるものを使用することも許容される。
第2の構造体触媒69の加熱方法としては、ガス透過型触媒に面する場所に設置してガス透過型触媒が発生する輻射熱を利用することもできるし、炉内の高温ガスの対流による触媒表面の加熱を利用することもできる。
反応炉62の上端面には、上記炭化水素分解反応装置61aに原料ガスを供給する原料ガス供給管66aが接続している。また、炭化水素分解反応装置61aには、バーナ67に燃焼用ガスを供給する燃焼ガス導入管66bと空気を供給するブロワ68が設けられている。
供給管66aと原料ガス供給源71との間には、脱硫器63を設けている。脱硫器63を設けることにより、都市ガスやLPGに付臭剤として添加された硫黄化合物を除去し、構造体触媒の被毒や性能劣化を予防できる。
反応炉62の下端面には、上記炭化水素分解反応装置61aおよび触媒モジュール61bで生成した生成炭素の排出回収装置72が連結している。
典型的な排出回収装置は、特許文献4に示すものであり、反応炉の反応炉下部開口にベント孔を介して連絡する減圧チャンバと、ベント孔を開閉可能な第1開閉弁と、減圧チャンバにチャネルを介して連絡する回収箱と、チャネルを開閉可能な第2開閉弁と、回収箱に連絡する減圧ポンプとを備えている。
粗精製装置65は、反応炉62の内部の水素濃度を下げると共に、反応炉62の外に放出される水素濃度を炉内に比べ高める装置であり、その材料としては、特開2020-142160号公報、特開2006-007134号公報等に記載されている、α-アルミナ、γ-アルミナ、シリカ、ジルコニア、窒化ケイ素、炭化ケイ素、チタニア、ゼオライトなどのセラミックス材料、または、ニッケル、銅、鉄、亜鉛及びこれらの合金などの金属材料からなる多孔質基材に担持もしくは支持された、細孔制御されたシリカ膜、パラジウム(Pd)膜、パラジウム合金(PdAg、PdCu等)膜、バナジウム膜、ジルコニウム/ニッケル合金膜、ゼオライト膜等が挙げられる。
粗精製装置65を経た水素濃度の高い生成ガスは、ポンプ73を使ってタンク74に一時貯留され、圧力スイング吸着器(PSA)75によって精密精製がされた後、製品水素となる。圧力スイング吸着器(PSA)としては、市販のものを使用することができる。
PSA75によって分離されたメタンは、図示しない返戻配管によって原料ガス導入管66に合流させ、原料ガスとして再利用してもよい。
(炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法)
炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法(以下、本方法)もまた本発明の他の側面である。以下、各ステップについて説明する。
本方法は、反応チャンバの形状ならびに該反応チャンバの内部または外部における熱源の形状および配置を決定するステップ(S1)を含む。反応チャンバの形状としては、管型反応炉、固定層型反応装置又は充填層触媒反応装置の典型的な反応チャンバの形状を採用することができる。熱源の形状および配置は、例えば、反応チャンバの内部において、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で略中央を占有するように配置した有底円筒形状とする。
本方法は、第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒を第1の座標系の第1の位置に配置するステップ(S2)を含む。本ステップにおける初期設定としては、図10のごとく、第1の形状を板状触媒とし、第1の座標系の第1の位置として原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で放射状、すなわち熱源と反応チャンバとを隔てる境界壁面に対する法線を含む面上とすることができる。代替的に、第1の形状を両端が開口した円筒形状とすることも可能である。
本方法は、第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒が単位時間あたりに受ける輻射熱(E1)を計算または実測するステップ(S3)を含む。本ステップにおいて輻射熱を計算する場合、物体の放射率を既知のデータに基づき定め、ステファンボルツマンの法則にしたがってシミュレーション計算することができる。実測する場合は、サーモグラフィ、熱電対等を用いて触媒表面各所の温度分布や温度上昇速度等を見ることによる。なお、実測する場合、原料ガスからの熱伝導、対流等の他の加熱要因を考慮しないでよいように、反応チャンバ内を真空にして輻射加熱することが好ましいが、実際の条件に近づけるため、原料ガスを充満または流通させて輻射加熱してもよい。
本方法は、第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒を変形すること、および/または、座標系を動かすステップ(S4)を含む。本ステップは、実測の場合、変形は実際に変形することになり、座標系を動かすことは、例えばラック上での位置変更、傾きの変更によって行う。位置の変更および傾きの変更は、例えば、ラックの上端と下端に大径リングと小径リングとを設け、大径リングと小径リングとを連結するブリッジを径方向に沿って放射状に設け、各ブリッジ上に、上端のブリッジと下端のブリッジで対向するように一定間隔で歯を形成し、触媒の上下端部を挟み込む歯間位置を上下で独立して変えることによる。計算する場合、コンピュータ上で変形し、座標系を動かすことによる。
本方法は、反応チャンバ内に変形後および/または座標移動後の炭化水素分解用構造体触媒を配置したとき原料ガスが一端から他端に向かって流通可能であることを確認するステップ(S5)を含む。流通確認は、例えば、コンピュータ上で仮想的な反応チャンバの所定位置に仮想的な原料ガスの導入口と仮想的な触媒を設け、触媒の一端から他端に向かって流体が移動するかどうかのシミュレーションをしてもよいし、現実の反応チャンバの所定位置に原料ガスの導入口を設け、原料ガスが触媒の一端から他端に向かって流通するかどうかを確認してもよい。なお、シミュレーションをする場合、原料ガスが一端から他端に向かって流通可能であることを保証するため、設計上許容される限りにおいて、炭化水素分解用構造体触媒の座標系を動かす際に、反応チャンバにおける原料ガスの導入口を動かしてもよい。
本方法は、反応チャンバ内にある変形後および/または座標移動後の炭化水素分解用構造体触媒が単位時間あたりに受ける輻射熱(E2)が、前記第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒が単位時間あたりに受ける輻射熱(E1)に比べて大きくなることを確認するステップ(S6)を含む。輻射熱が大きくなるかどうかの確認は、実測する場合は、サーモグラフィ、熱電対等を用いて触媒表面でE1を測定したのと同一箇所の温度分布や温度上昇速度等を比較することにより、計算する場合、物体の放射率を既知のデータに基づき定め、ステファンボルツマンの法則にしたがってシミュレーション計算することによる。
以下、上述した構造体触媒を使用した装置の実施例について詳述する。
(実験例1-加飾加工した触媒板を用いた内部加熱式反応炉による反応試験)
円筒形のSUS304製透過型小型反応炉の鉛直方向中心軸に沿って2kWヒータ(三洋熱工社製)を収容したヒータ収容筒11を挿入し、厚さ0.6mm*幅37mm*長さ200mmの触媒板49(ニッケル系金属触媒)を46枚、メタンの流れる方向に対して垂直な断面視で、図7に示すように同じ向きに同じ湾曲度で湾曲するようにヒータ収納筒11周りに配置固定し、かつ触媒板49に攪拌接触促進のための突起46を設けた。触媒の幾何学的総面積は表裏で0.68mになった。
反応炉温度が600℃近くに上昇後、炉の上蓋を貫通するメタン供給パイプから触媒と平行な流れになるように、圧力0.3MPaで、流量を1000mL/分でメタンを導入しながら、ヒータ温度950~1000℃で約2時間25分の間、炭素直接分解反応実験を実施した。
水素濃度は、炉の周壁下端に設けた大気放出する生成ガス排出パイプ8に気体熱伝導式ガスアナライザ(ゼロガス:都市ガス13A、スパンガス:水素100%、ガス流量:1.0L/min、チノー社製)を取付けて計測した。結果を図8に示す。しかし、ヒータ温度は950℃近くになっているが、反応炉温度が650℃と低いため、触媒板49の境膜部が十分加熱されないために、水素製造効率は低かった。
触媒の水素製造効率は、途中ヒータ温度を950℃から1000℃に上げてもたかだか10%であったので実験を中止した。
(実験例2-触媒を断面視で菊花様に配置した輻射加熱試験)
実験例1と同じ大きさの触媒板2枚を一組として互いに向かい合うように湾曲させてヒータ収納筒周りに23組配置し、隣接する板の端辺同士を突合せ溶接固定することで、メタンの流れる方向に対して垂直な断面視で菊花様の輪郭形状(図2)となるように構成した。
大気開放した状態でヒータ収容筒に入れたヒータを駆動し、サーモグラフィを通じて触媒を観察したところ、ヒータの熱は花弁の付け根付近から先端付近まで熱放射(輻射熱)を受ける面全体に一様に広がっており、炭化水素分解用構造体触媒が、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で境界壁面に対する法線上の1点を起点にして左右対称の形状を有することで、触媒板表面で反射した熱放射も触媒板が受け止めやすい形状であることがわかった。一方、触媒板における熱放射を受ける面と反対側の面は低い温度となっており、触媒板表面の局所的な加熱が起きていることがわかった。
(実験例3-図2のように触媒を配置した内部加熱式反応炉による反応試験)
実験例2のように配置した幾何学的総面積が表裏で0.68mの触媒とヒータを、円筒形の透過型小型反応炉の鉛直方向中心軸に沿って収容し、メタン流路を通じて、メタン供給圧力0.3MPa、メタン流量1L/minでメタンを導入し、炭素直接分解反応実験を実施した。その結果、図9に示すように実験例1の内部加熱式反応炉と比べて、触媒の幾何学的総面積は同じであり、かつ、ヒータ容量は同じであったにもかかわらず、水素発生量は良好で、ヒータ温度1000℃、反応炉温度650℃、水素濃度は55%であった。輻射熱を受けやすく触媒板表面の局所的な加熱が起きるように触媒の配置を工夫することが重要であると示唆された。
なお、本発明の実施の形態は上記実施形態に何ら限定されるものではなく、また、上記実施形態に説明される構成のすべてが本発明の必須要件であるとは限らない。本発明は、その技術的思想を逸脱しない範囲において、当該技術的範囲に属する限り種々の改変等の形態を採り得る。例えば、第4の実施形態において、ヒータ収納部25は必ずしも必要ではなく、ない方が熱効率は良い。真空熱処理炉にリジェネラジアントチューブがそのまま配置されているように、バーナの気密性が高ければ必要ない。また、第2の構造体触媒69がその上部のみ保持筒64bに収容されているものとしたが、反応炉62に露出していてもよい。
本発明の炭化水素分解反応装置は、生成ガス中に含まれる水素純度を上げる装置を後段に付けることにより、固体高分子形燃料電池[PEFC]を搭載した燃料電池車へのオンサイトステーション等を通じた水素供給に好適に適用可能である。
また近年、水素に加えて、都市ガスインフラを活用してメタンを直接利用できる固体酸化物形燃料電池(Solid Oxide Fuel Cell : SOFC)が注目を集めている。SOFCでは、従来メタンの熱分解反応による金属ニッケル表面への炭素析出や、生成COの金属ニッケル表面への吸着による電極反応阻害作用による性能低下の問題が認識されているが(佐藤ら著、「燃料電池・メタン利用技術との観点から」、J.Plasma Fusion Res. Vol.87,No.1(2011)36-41頁)、この前段に配する燃料改質器として本発明の炭化水素分解反応装置を利用すれば、SOFCにおける析出炭素の低減や長寿命化につながることが期待される。
1,61a 炭化水素分解反応装置
61b 触媒モジュール
62 反応炉
2 生成物排出容器
3 区画
4 下端開口円筒
5、7 蓋
6,66a 原料ガス供給管
8 排出管
9,19,29,39a,39b,39c,49,59,69 炭化水素分解用構造体触媒
10、20 熱源
11 有底筒(ヒータ収納部)
12 境界壁面
13、15、17a,17b,37a,37b 法線
14、16、18a,18b,38a,38b 触媒と法線との交点
22 ラジアントチューブ
24 ガスバーナ
25 ヒータ収納部
26 蓄熱器
27,67 バーナ
33 境界辺
34 仮想円筒側面
46 突起
63 脱硫器
64a 案内筒
64b 保持筒
65 粗精製装置
66b 燃焼ガス導入管
68 ブロワ
71 原料ガス供給源
72 生成炭素排出回収装置
73 ポンプ
74 タンク
75 PSA

Claims (10)

  1. 反応チャンバ内で適切に配置したとき原料ガスが一端から他端に向かって流通可能な構造を有する炭化水素分解用構造体触媒と、
    前記反応チャンバの内部に気密性を保った状態で配置された熱源であって、前記炭化水素分解用構造体触媒を加熱可能な熱源とを備えた炭化水素分解反応装置であって、
    前記炭化水素分解用構造体触媒は、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で、前記炭化水素分解用構造体触媒と前記熱源とを隔てる境界壁面または境界辺を隙間なく包囲する形状を有する炭化水素分解反応装置。
  2. 反応チャンバ内で適切に配置したとき原料ガスが一端から他端に向かって流通可能な構造を有する炭化水素分解用構造体触媒と、
    前記反応チャンバの内部に気密性を保った状態で配置された熱源であって、前記炭化水素分解用構造体触媒を加熱可能な熱源とを備えた炭化水素分解反応装置であって、
    前記炭化水素分解用構造体触媒は、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で、前記炭化水素分解用構造体触媒と前記熱源とを隔てる境界壁面に対する法線上または境界辺を含む仮想円筒側面に対する法線上の1点を起点にして当該法線に関して対称な形状を有する炭化水素分解反応装置。
  3. 前記形状が、境界壁面に対する法線上または境界辺を含む仮想円筒側面に対する法線上の1点を起点にして当該法線に関して対称な形状である請求項1に記載の炭化水素分解反応装置。
  4. 前記熱源が、前記反応チャンバの内部において、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で略中央を占有するヒータ収納部内に収容されている、請求項1または請求項2に記載の炭化水素分解反応装置。
  5. 前記熱源が、リジェネラジアントチューブバーナであり、原料ガスの流れる方向に対して垂直な断面視で略中央を占有する方形のヒータ収納部内に収容されている、請求項4に記載の炭化水素分解反応装置。
  6. 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の炭化水素分解反応装置を備えた炭化水素直接分解用反応炉。
  7. 前記他端から出てきた未反応の原料ガスが対流によって接触可能な第2の構造体触媒を備えた請求項6に記載の炭化水素直接分解用反応炉。
  8. さらに反応炉内の水素を選択的に排出させることにより、反応炉内の水素分圧を下げ、炭化水素の分解反応を促進する為の水素精製モジュールを備えた請求項6に記載の炭化水素直接分解用反応炉。
  9. 反応チャンバの形状ならびに該反応チャンバの内部または外部における熱源の形状および配置を決定することと、
    第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒を第1の座標系の第1の位置に配置することと、
    第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒が単位時間あたりに受ける輻射熱(E1)を計算または実測することと、
    第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒を変形すること、および/または、座標系を動かすことと、
    反応チャンバ内に変形後および/または座標移動後の炭化水素分解用構造体触媒を配置したとき原料ガスが一端から他端に向かって流通可能であることを確認することと、
    前記反応チャンバ内にある変形後および/または座標移動後の炭化水素分解用構造体触媒が単位時間あたりに受ける輻射熱(E2)が、
    前記第1の形状の炭化水素分解用構造体触媒が単位時間あたりに受ける輻射熱(E1)に比べて大きくなることを確認することを含む、炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法。
  10. 請求項9に記載の炭化水素分解用構造体触媒の設計・配置方法を含む炭化水素分解反応装置の製造方法。

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