JP7240365B2 - circular polarizer - Google Patents
circular polarizer Download PDFInfo
- Publication number
- JP7240365B2 JP7240365B2 JP2020150560A JP2020150560A JP7240365B2 JP 7240365 B2 JP7240365 B2 JP 7240365B2 JP 2020150560 A JP2020150560 A JP 2020150560A JP 2020150560 A JP2020150560 A JP 2020150560A JP 7240365 B2 JP7240365 B2 JP 7240365B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- retardation
- film
- minutes
- polarizing plate
- circularly polarizing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
Description
本発明は、位相差フィルムおよび円偏光板に関する。 The present invention relates to a retardation film and a circularly polarizing plate.
近年、薄型ディスプレイの普及と共に、有機ＥＬパネルを搭載したディスプレイが提案されている。有機ＥＬパネルは反射性の高い金属層を有しており、外光反射や背景の映り込み等の問題を生じやすい。そこで、λ／４板を有する円偏光板を視認側に設けることにより、これらの問題を防ぐことが知られている。 2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of thin displays, displays equipped with organic EL panels have been proposed. Since the organic EL panel has a highly reflective metal layer, problems such as reflection of external light and reflection of the background tend to occur. Therefore, it is known to prevent these problems by providing a circularly polarizing plate having a λ/4 plate on the viewing side.
ところで、上記円偏光板に用いられる位相差フィルムは、通常、波長によって位相差値が異なり、波長によっては十分な反射防止効果が得られず色抜けが問題となる。そこで、長波長ほど位相差値が大きい、いわゆる、逆分散性の位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献１）。 By the way, the retardation film used for the circularly polarizing plate usually has a different retardation value depending on the wavelength, and depending on the wavelength, a sufficient antireflection effect cannot be obtained, resulting in a problem of color loss. Therefore, a so-called reverse-dispersion retardation film has been proposed, in which the longer the wavelength, the larger the retardation value (for example, Patent Document 1).
しかしながら、上記のような従来の逆分散性の位相差フィルムは、高温環境下および／または高湿環境下で使用したときに位相差値が変化する場合があり、その結果、位相差ムラを生じる場合がある。 However, the conventional reverse dispersion retardation film as described above may change the retardation value when used in a high-temperature environment and / or a high-humidity environment, resulting in retardation unevenness. Sometimes.
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、高温高湿環境下での位相差値の変化が抑制された位相差フィルム、そのような位相差フィルムを有する円偏光板、および、そのような位相差フィルムの製造方法を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-described conventional problems, and its main purpose is to provide a retardation film in which the change in retardation value is suppressed in a high-temperature and high-humidity environment, and such a retardation film. and a method for producing such a retardation film.
本発明の位相差フィルムの製造方法は、面内位相差がＲｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たす位相差フィルムを得る製造方法であって、３０℃からＴｇ－２５℃まで昇温して再度３０℃に冷却することを３サイクル繰り返す加熱ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．４％以下であるか、または、２５℃／２５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨ、８５℃／８５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨの順に環境を変化させる加湿ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．７％以下である延伸フィルムを、１０５℃以上の温度で２分間以上加熱する加熱処理工程を含む。
１つの実施形態においては、上記加熱処理工程での加熱温度をＴ１（℃）とし、上記加熱処理工程での加熱時間をｔ１（分）とし、上記加熱処理工程前の上記延伸フィルムの上記加熱ＴＭＡ試験における上記収縮率をＡ１としたとき、１０×ｔ１／｛（Ｔｇ－Ｔ１）２×Ａ１
２｝＞２を満たす。
１つの実施形態においては、上記加熱処理工程での加熱温度をＴ１（℃）とし、上記加熱処理工程での加熱時間をｔ１（分）とし、上記加熱処理工程前の上記延伸フィルムの上記加湿ＴＭＡ試験における上記収縮率をＡ２としたとき、１０×ｔ１／｛（Ｔｇ－Ｔ１）２×Ａ２
２｝＞０．９を満たす。
本発明の位相差フィルムの製造方法は、面内位相差がＲｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たす位相差フィルムを得る製造方法であって、２５℃／２５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨ、８５℃／８５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨの順に環境を変化させる加湿ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．７％以下である延伸フィルムを、６０℃以上の温水に３分間以上浸漬する温水処理工程を含む。
１つの実施形態においては、上記温水処理工程での浸漬時間をｔ２（分）とし、上記温水処理工程前の上記延伸フィルムの上記加湿ＴＭＡ試験における上記収縮率をＡ３としたとき、ｔ２／Ａ３
２＞２０を満たす。
本発明の別の局面によれば、位相差フィルムが提供される。この位相差フィルムは、面内位相差がＲｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たし、３０℃からＴｇ－２５℃まで昇温して再度３０℃に冷却することを３サイクル繰り返す加熱ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．１％以下であり、かつ、２５℃／２５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨ、８５℃／８５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨの順に環境を変化させる加湿ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．２％以下である。
１つの実施形態においては、上記位相差フィルムは、ポリカーボネート樹脂およびポリエステルカーボネート系樹脂から選択される樹脂で形成されている。
１つの実施形態においては、上記位相差フィルムは、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８～０．９である。
１つの実施形態においては、上記位相差フィルムは、光弾性係数が１×１０－１２（ｍ２／Ｎ）～４０×１０－１２（ｍ２／Ｎ）である。
本発明の別の局面によれば、円偏光板が提供される。この円偏光板は、上記位相差フィルムで構成された位相差層と、偏光子と、を有し、上記位相差層の遅相軸と上記偏光子の吸収軸とのなす角度が３５°～５５°である。
１つの実施形態においては、上記円偏光板は枚葉状であり、上記位相差層の中心部の面内位相差値をＲＡ０とし、頂点部分の面内位相差値をＲＢ０とし、両面にガラスを貼り合せて８５℃で２４０時間保持した後の、上記位相差層の中心部の面内位相差値をＲＡ１とし、上記頂点部分の面内位相差値をＲＢ１とし、両面にガラスを貼り合せて６５℃／９０％ＲＨで２４０時間保持した後の、上記位相差層の上記中心部の面内位相差値をＲＡ２とし、上記頂点部分の面内位相差値をＲＢ２としたとき、（ＲＡ１－ＲＢ１）－（ＲＡ０－ＲＢ０）の絶対値が３ｎｍ以下であり、かつ（ＲＡ２－ＲＢ２）－（ＲＡ０－ＲＢ０）の絶対値が３ｎｍ以下である。
１つの実施形態においては、上記円偏光板は、保護フィルムと、上記位相差層と、上記偏光子と、屈折率楕円体がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を有する別の位相差層と、をこの順に有する。
The method for producing a retardation film of the present invention is a method for producing a retardation film in which the in-plane retardation satisfies the relationship Re (450) < Re (550), and the temperature is raised from 30 ° C. to Tg-25 ° C. The shrinkage rate in the slow axis direction is 0.4% or less in a heating TMA test in which three cycles of cooling to 30 ° C. are repeated, or 25 ° C./25% RH, 85 ° C./2% RH, A stretched film with a shrinkage rate of 0.7% or less in the slow axis direction in a humidified TMA test in which the environment is changed in the order of 85 ° C./85% RH and 85 ° C./2% RH at a temperature of 105 ° C. or higher for 2 minutes. A heat treatment step of heating as described above is included.
In one embodiment, the heating temperature in the heat treatment step is T 1 (° C.), the heating time in the heat treatment step is t 1 (minutes), and the stretched film before the heat treatment step is Assuming that the shrinkage rate in the heating TMA test is A 1 , 10×t 1 /{(Tg−T 1 ) 2 ×A 1 2 }>2 is satisfied.
In one embodiment, the heating temperature in the heat treatment step is T 1 (° C.), the heating time in the heat treatment step is t 1 (minutes), and the stretched film before the heat treatment step is Assuming that the shrinkage rate in the humidified TMA test is A 2 , 10×t 1 /{(Tg−T 1 ) 2 ×A 2 2 }>0.9 is satisfied.
The method for producing a retardation film of the present invention is a method for producing a retardation film having an in-plane retardation satisfying the relationship Re(450)<Re(550), A stretched film with a shrinkage rate in the slow axis direction of 0.7% or less in a humidified TMA test in which the environment is changed in the order of 2% RH, 85 ° C./85% RH, and 85 ° C./2% RH is heated at 60 ° C. or higher. It includes a hot water treatment step of immersing in hot water for 3 minutes or longer.
In one embodiment, when the immersion time in the hot water treatment step is t 2 (minutes) and the shrinkage rate in the humidified TMA test of the stretched film before the hot water treatment step is A 3 , t 2 /A 3 2 >20.
According to another aspect of the invention, a retardation film is provided. This retardation film satisfies the relationship of Re (450) < Re (550) in terms of in-plane retardation, and repeats three cycles of heating from 30 ° C. to Tg-25 ° C. and cooling again to 30 ° C. Heating TMA In the test, the shrinkage rate in the slow axis direction is 0.1% or less, and the environment is 25 ° C / 25% RH, 85 ° C / 2% RH, 85 ° C / 85% RH, 85 ° C / 2% RH in that order The shrinkage rate in the slow axis direction is 0.2% or less in a humidified TMA test that changes the
In one embodiment, the retardation film is made of a resin selected from polycarbonate resins and polyester carbonate-based resins.
In one embodiment, the retardation film has Re(450)/Re(550) of 0.8 to 0.9.
In one embodiment, the retardation film has a photoelastic coefficient of 1×10 −12 (m 2 /N) to 40×10 −12 (m 2 /N).
According to another aspect of the invention, a circularly polarizing plate is provided. This circularly polarizing plate has a retardation layer composed of the retardation film and a polarizer, and the angle formed by the slow axis of the retardation layer and the absorption axis of the polarizer is 35 ° to 55°.
In one embodiment, the circularly polarizing plate is sheet-shaped, the in-plane retardation value of the central portion of the retardation layer is R A0 , the in-plane retardation value of the vertex portion is R B0 , and After bonding the glass and holding at 85 ° C. for 240 hours, the in-plane retardation value of the central portion of the retardation layer is RA1 , the in-plane retardation value of the vertex portion is RB1 , and glass is applied to both surfaces. After bonding and holding at 65 ° C./90% RH for 240 hours, the in-plane retardation value of the central portion of the retardation layer is RA2 , and the in-plane retardation value of the vertex portion is RB2 . , the absolute value of (R A1 −R B1 )−(R A0 −R B0 ) is 3 nm or less, and the absolute value of (R A2 −R B2 )−(R A0 −R B0 ) is 3 nm or less. be.
In one embodiment, the circularly polarizing plate includes a protective film, the retardation layer, the polarizer, and another retardation layer having a refractive index ellipsoid having a relationship of nz>nx=ny. have in this order.
本発明の製造方法によれば、加熱ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．４％以下であるか、または、加湿ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．７％以下である延伸フィルムを、１０５℃以上の温度で２分間以上加熱する加熱処理工程を含むことにより、高温高湿環境下での位相差値の変化が抑制された位相差フィルムが得られ得る。 According to the production method of the present invention, the shrinkage rate in the slow axis direction is 0.4% or less in the heating TMA test, or the shrinkage rate in the slow axis direction is 0.7% or less in the humidification TMA test. By including a heat treatment step of heating a certain stretched film at a temperature of 105° C. or higher for 2 minutes or longer, a retardation film in which a change in retardation value in a high-temperature and high-humidity environment is suppressed can be obtained.
以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。 Embodiments of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these embodiments.
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
(Definition of terms and symbols)
Definitions of terms and symbols used herein are as follows.
(1) refractive index (nx, ny, nz)
"nx" is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (i.e., slow axis direction), and "ny" is the in-plane direction orthogonal to the slow axis (i.e., fast axis direction) and "nz" is the refractive index in the thickness direction.
(2) In-plane retardation (Re)
“Re(λ)” is an in-plane retardation measured at 23° C. with light having a wavelength of λ nm. For example, "Re(550)" is the in-plane retardation measured with light having a wavelength of 550 nm at 23°C. Re(λ) is determined by the formula: Re=(nx−ny)×d, where d (nm) is the thickness of the layer (film).
(3) Thickness direction retardation (Rth)
“Rth(λ)” is the retardation in the thickness direction measured at 23° C. with light having a wavelength of λ nm. For example, “Rth(550)” is the retardation in the thickness direction measured at 23° C. with light having a wavelength of 550 nm. Rth(λ) is determined by the formula: Rth=(nx−nz)×d, where d (nm) is the thickness of the layer (film).
(4) Nz Coefficient The Nz coefficient is obtained by Nz=Rth/Re.
Ａ．位相差フィルムの製造方法
本発明の製造方法は、面内位相差がＲｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たす、いわゆる逆分散の波長依存性を示す位相差フィルムの製造に用いられる製造方法である。本発明の１つの実施形態による位相差フィルムの製造方法は、延伸フィルムを１０５℃以上の温度で２分間以上加熱する加熱処理工程を含む。上記延伸フィルムは、３０℃からＴｇ－２５℃まで昇温して再度３０℃に冷却することを３サイクル繰り返す加熱ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．４％以下であるか、または、２５℃／２５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨ、８５℃／８５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨの順に環境を変化させる加湿ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．７％以下である。加熱処理工程での加熱温度をＴ１（℃）とし、加熱処理工程での加熱時間をｔ１（分）とし、加熱処理工程前の延伸フィルムの加熱ＴＭＡ試験における収縮率をＡ１としたとき、好ましくは、１０×ｔ１／｛（Ｔｇ－Ｔ１）２×Ａ１
２｝＞２を満たす。加熱処理工程前の延伸フィルムの加湿ＴＭＡ試験における収縮率をＡ２としたとき、好ましくは、１０×ｔ１／｛（Ｔｇ－Ｔ１）２×Ａ２
２｝＞０．９を満たす。
A. Retardation film manufacturing method The manufacturing method of the present invention satisfies the relationship Re (450) < Re (550) in the in-plane retardation, manufacturing used for manufacturing a retardation film exhibiting so-called reverse dispersion wavelength dependence The method. A method for producing a retardation film according to one embodiment of the present invention includes a heat treatment step of heating a stretched film at a temperature of 105° C. or higher for 2 minutes or longer. The stretched film has a shrinkage rate in the slow axis direction of 0.4% or less in a heating TMA test that repeats three cycles of heating from 30 ° C. to Tg-25 ° C. and cooling to 30 ° C. again, or , 25° C./25% RH, 85° C./2% RH, 85° C./85% RH, 85° C./2% RH. It is below. When the heating temperature in the heat treatment step is T 1 (° C.), the heating time in the heat treatment step is t 1 (minutes), and the shrinkage rate in the heat TMA test of the stretched film before the heat treatment step is A 1 , preferably 10×t 1 /{(Tg−T 1 ) 2 ×A 1 2 }>2. When the shrinkage ratio of the stretched film before the heat treatment step in the humidified TMA test is A 2 , it preferably satisfies 10×t 1 /{(Tg−T 1 ) 2 ×A 2 2 }>0.9.
本発明の別の実施形態による位相差フィルムの製造方法は、延伸フィルムを６０℃以上の温水に３分間以上浸漬する温水処理工程を含む。上記延伸フィルムは、２５℃／２５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨ、８５℃／８５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨの順に環境を変化させる加湿ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．７％以下である。温水処理工程での浸漬時間をｔ２（分）とし、温水処理工程前の延伸フィルムの加湿ＴＭＡ試験における収縮率をＡ３としたとき、好ましくは、ｔ２／Ａ３ ２＞２０を満たす。 A method for producing a retardation film according to another embodiment of the present invention includes a hot water treatment step of immersing a stretched film in warm water of 60° C. or higher for 3 minutes or longer. The stretched film has a slow axis direction shrinkage rate in a humidified TMA test in which the environment is changed in the order of 25° C./25% RH, 85° C./2% RH, 85° C./85% RH, and 85° C./2% RH. It is 0.7% or less. Preferably, t 2 /A 3 2 >20 is satisfied, where t 2 (minutes) is the immersion time in the hot water treatment step and A 3 is the shrinkage ratio in the humidified TMA test of the stretched film before the hot water treatment step.
従来の製造方法では、位相差フィルムを構成する材料によっては耐久性が不十分であり、その結果、高温高湿環境下で位相差値が変化する場合があった。これに対して、本発明の製造方法によれば、位相差フィルムを構成する材料に依らず、耐久性が高く、高温高湿環境下において寸法変化率（収縮率）が小さい位相差フィルムが得られ得る。このような位相差フィルムは、高温高湿環境下での位相差値の変化が抑制され得る。 In the conventional manufacturing method, durability is insufficient depending on the material constituting the retardation film, and as a result, the retardation value may change in a high-temperature and high-humidity environment. On the other hand, according to the production method of the present invention, a retardation film having high durability and a small dimensional change rate (shrinkage rate) in a high-temperature and high-humidity environment can be obtained regardless of the material constituting the retardation film. can be Such a retardation film can suppress a change in retardation value in a high-temperature and high-humidity environment.
Ａ－１．延伸フィルム
延伸フィルムは、上記のとおり、３０℃からＴｇ－２５℃まで昇温して再度３０℃に冷却することを３サイクル繰り返す加熱ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．４％以下であるか、または、２５℃／２５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨ、８５℃／８５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨの順に環境を変化させる加湿ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．７％以下である。
A-1. Stretched film As described above, the stretched film has a shrinkage rate of 0.4% or less in the slow axis direction in a heating TMA test in which the temperature is raised from 30 ° C. to Tg-25 ° C. and cooled again to 30 ° C., which is repeated three times. Or shrinkage in the slow axis direction in a humidified TMA test in which the environment is changed in the order of 25 ° C / 25% RH, 85 ° C / 2% RH, 85 ° C / 85% RH, 85 ° C / 2% RH is 0.7% or less.
延伸フィルムは、代表的には、樹脂フィルムを少なくとも一方向に延伸することにより作製される。 A stretched film is typically produced by stretching a resin film in at least one direction.
樹脂フィルムは、延伸処理を施すことにより、いわゆる逆分散の波長依存性を示す延伸フィルム（位相差フィルム）が得られる限り、任意の適切な樹脂で形成される。樹脂フィルムを形成する樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエステルカーボネート系樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いてもよく、所望の特性に応じて組み合わせて用いてもよい。 The resin film may be formed of any appropriate resin as long as a stretched film (retardation film) exhibiting so-called reverse wavelength dependence of dispersion can be obtained by performing a stretching treatment. Examples of resins that form the resin film include polycarbonate resins, polyvinyl acetal resins, cellulose ester resins, polyester resins, and polyester carbonate resins. These resins may be used alone or in combination depending on the desired properties.
上記ポリカーボネート系樹脂としては、任意の適切なポリカーボネート系樹脂が用いられる。例えば、ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含むポリカーボネート樹脂が好ましい。ジヒドロキシ化合物の具体例としては、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－エチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－ｎ－プロピルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－ｎ－ブチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－ｓｅｃ－ブチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－フェニルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－メチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－イソブチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－フェニルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３，５－ジメチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－（３－ヒドロキシ－２，２－ジメチルプロポキシ）フェニル）フルオレン等が挙げられる。ポリカーボネート樹脂は、上記ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位の他に、イソソルビド、イソマンニド、イソイデット、スピログリコール、ジオキサングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ビスフェノール類などのジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。 Any appropriate polycarbonate-based resin is used as the polycarbonate-based resin. For example, a polycarbonate resin containing a structural unit derived from a dihydroxy compound is preferred. Specific examples of dihydroxy compounds include 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-hydroxy-3- ethylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-hydroxy-3-n-propylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-hydroxy-3-isopropylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-hydroxy -3-n-butylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-hydroxy-3-sec-butylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-hydroxy-3-tert-butylphenyl)fluorene, 9, 9-bis(4-hydroxy-3-cyclohexylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-hydroxy-3-phenylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-(2-hydroxyethoxy)phenyl)fluorene, 9,9-bis(4-(2-hydroxyethoxy)-3-methylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-(2-hydroxyethoxy)-3-isopropylphenyl)fluorene, 9,9-bis( 4-(2-hydroxyethoxy)-3-isobutylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-(2-hydroxyethoxy)-3-tert-butylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-(2 -hydroxyethoxy)-3-cyclohexylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-(2-hydroxyethoxy)-3-phenylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-(2-hydroxyethoxy)-3 ,5-dimethylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-(2-hydroxyethoxy)-3-tert-butyl-6-methylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-(3-hydroxy-2 , 2-dimethylpropoxy)phenyl)fluorene and the like. Polycarbonate resins include structural units derived from dihydroxy compounds such as isosorbide, isomannide, isoidet, spiroglycol, dioxane glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, and bisphenols, in addition to the structural units derived from the dihydroxy compounds. You can stay.
上記のようなポリカーボネート樹脂の詳細は、例えば特開２０１２－６７３００号公報、特許第３３２５５６０号およびＷＯ２０１４／０６１６７７号に記載されている。当該特許文献の記載は、本明細書に参考として援用される。 Details of the polycarbonate resin as described above are described, for example, in JP-A-2012-67300, JP-A-3325560 and WO2014/061677. The description of the patent document is incorporated herein by reference.
ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、１１０℃以上２５０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１２０℃以上２３０℃以下である。ガラス転移温度が過度に低いと耐熱性が悪くなる傾向にあり、フィルム成形後に寸法変化を起こす可能性がある。ガラス転移温度が過度に高いと、フィルム成形時の成形安定性が悪くなる場合があり、また、フィルムの透明性を損なう場合がある。なお、ガラス転移温度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２１（１９８７）に準じて求められる。 The glass transition temperature (Tg) of the polycarbonate resin is preferably 110°C or higher and 250°C or lower, more preferably 120°C or higher and 230°C or lower. If the glass transition temperature is excessively low, the heat resistance tends to be poor, and there is a possibility that dimensional change will occur after film formation. If the glass transition temperature is excessively high, the molding stability during film molding may deteriorate, and the transparency of the film may be impaired. The glass transition temperature is obtained according to JIS K 7121 (1987).
上記樹脂フィルムの形成方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、溶融押出し法（例えば、Ｔダイ成形法）、キャスト塗工法（例えば、流延法）、カレンダー成形法、熱プレス法、共押出し法、共溶融法、多層押出し、インフレーション成形法等が挙げられる。好ましくは、Ｔダイ成形法、流延法およびインフレーション成形法が用いられる。 Any appropriate method can be adopted as a method for forming the resin film. For example, melt extrusion method (e.g., T die molding method), cast coating method (e.g., casting method), calendar molding method, heat press method, co-extrusion method, co-melt method, multilayer extrusion, inflation molding method, etc. be done. Preferably, the T-die molding method, the casting method and the inflation molding method are used.
樹脂フィルムの厚み（未延伸フィルム）の厚みは、所望の光学特性、後述の延伸条件などに応じて、任意の適切な値に設定され得る。好ましくは５０μｍ～３００μｍであり、より好ましくは８０μｍ～２５０μｍである。 The thickness of the resin film (unstretched film) can be set to any appropriate value depending on desired optical properties, stretching conditions described later, and the like. It is preferably 50 μm to 300 μm, more preferably 80 μm to 250 μm.
上記延伸は、上記の延伸フィルムが得られる限り、任意の適切な延伸方向、延伸条件（例えば、延伸温度、延伸倍率、延伸方向）が採用され得る。具体的には、自由端延伸、固定端延伸・自由端収縮、固定端収縮などの様々な延伸方法を、単独で用いることも、同時もしくは逐次で用いることもできる。延伸方向に関しても、水平方向、垂直方向、厚さ方向、対角方向等、様々な方向や次元に行なうことができる。延伸の温度は、好ましくは、樹脂フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）±２０℃の範囲である。 Any suitable stretching direction and stretching conditions (eg, stretching temperature, stretching ratio, stretching direction) may be adopted as long as the above stretching film can be obtained. Specifically, various stretching methods such as free-end stretching, fixed-end stretching/free-end shrinking, and fixed-end shrinking can be used singly, simultaneously, or sequentially. As for the stretching direction, it can be carried out in various directions and dimensions such as horizontal direction, vertical direction, thickness direction and diagonal direction. The stretching temperature is preferably in the range of the glass transition temperature (Tg) of the resin film ±20°C.
上記延伸方法、延伸条件を適宜選択することにより、最終的に所望の光学特性（例えば、屈折率楕円体、面内位相差、Ｎｚ係数）を有する位相差フィルムを得ることができる。 By appropriately selecting the stretching method and stretching conditions, it is possible to finally obtain a retardation film having desired optical properties (eg, refractive index ellipsoid, in-plane retardation, Nz coefficient).
１つの実施形態においては、延伸フィルムは、樹脂フィルムを一軸延伸もしくは固定端一軸延伸することにより作製される。一軸延伸の具体例としては、樹脂フィルムを長尺方向に走行させながら、長手方向（縦方向）に延伸する方法が挙げられる。延伸倍率は、好ましくは１０％～５００％である。 In one embodiment, the stretched film is produced by uniaxially stretching or fixed-end uniaxially stretching a resin film. As a specific example of uniaxial stretching, there is a method of stretching in the longitudinal direction (longitudinal direction) while running the resin film in the longitudinal direction. The draw ratio is preferably 10% to 500%.
別の実施形態においては、延伸フィルムは、長尺状の樹脂フィルムを長尺方向に対して角度θの方向に連続的に斜め延伸することにより作製される。斜め延伸を採用することにより、フィルムの長尺方向に対して角度θの配向角を有する長尺状の延伸フィルムが得られ、例えば、偏光子との積層に際してロールツーロールが可能となり、製造工程を簡略化することができる。 In another embodiment, the stretched film is produced by continuously obliquely stretching a long resin film in a direction at an angle θ with respect to the longitudinal direction. By adopting oblique stretching, a long stretched film having an orientation angle of θ with respect to the longitudinal direction of the film can be obtained. can be simplified.
斜め延伸に用いる延伸機としては、例えば、横および／または縦方向に、左右異なる速度の送り力もしくは引張り力または引き取り力を付加し得るテンター式延伸機が挙げられる。テンター式延伸機には、横一軸延伸機、同時二軸延伸機等があるが、長尺状の樹脂フィルムを連続的に斜め延伸し得る限り、任意の適切な延伸機が用いられ得る。 A stretching machine used for diagonal stretching includes, for example, a tenter-type stretching machine capable of applying a feeding force, a pulling force, or a taking-up force at different speeds in the horizontal and/or vertical direction. The tenter-type stretching machine includes a horizontal uniaxial stretching machine, a simultaneous biaxial stretching machine, and the like, but any suitable stretching machine can be used as long as it can continuously obliquely stretch a long resin film.
斜め延伸の方法としては、例えば、特開昭５０－８３４８２号公報、特開平２－１１３９２０号公報、特開平３－１８２７０１号公報、特開２０００－９９１２号公報、特開２００２－８６５５４号公報、特開２００２－２２９４４号公報等に記載の方法が挙げられる。 As a method of diagonal stretching, for example, JP-A-50-83482, JP-A-2-113920, JP-A-3-182701, JP-A-2000-9912, JP-A-2002-86554, A method described in JP-A-2002-22944 and the like can be mentioned.
延伸フィルムの厚みは、好ましくは２０μｍ～１００μｍ、より好ましくは３０μｍ～８０μｍである。 The thickness of the stretched film is preferably 20 μm to 100 μm, more preferably 30 μm to 80 μm.
延伸フィルムとしては、市販のフィルムをそのまま用いてもよく、市販のフィルムを目的に応じて２次加工（例えば、延伸処理、表面処理）して用いてもよい。市販のフィルムの具体例としては、帝人社製の商品名「ピュアエースＲＭ」が挙げられる。 As the stretched film, a commercially available film may be used as it is, or a commercially available film may be used after undergoing secondary processing (eg, stretching treatment, surface treatment) depending on the purpose. A specific example of the commercially available film is the product name "Pure Ace RM" manufactured by Teijin Limited.
１つの実施形態においては、上記延伸フィルムに緩和処理を施す。これにより、延伸により生じる応力を緩和することができ、上記加熱ＴＭＡ試験における遅相軸方向の収縮率を０．４％以下、または、上記加湿ＴＭＡ試験における遅相軸方向の収縮率が０．７％以下とし得る。緩和処理条件としては、任意の適切な条件を採用し得る。例えば、延伸フィルムを、延伸方向に沿って所定の緩和温度および所定の緩和率（収縮率）で収縮させる。緩和温度は、好ましくは６０℃～１５０℃である。緩和率は、好ましくは３％～６％である。 In one embodiment, the stretched film is subjected to a relaxation treatment. As a result, the stress generated by stretching can be relaxed, and the shrinkage rate in the slow axis direction in the heating TMA test is 0.4% or less, or the shrinkage rate in the slow axis direction in the humidified TMA test is 0.4% or less. 7% or less. Any appropriate conditions can be adopted as the conditions for the relaxation treatment. For example, a stretched film is shrunk along the stretching direction at a given relaxation temperature and a given relaxation rate (shrinkage rate). The relaxation temperature is preferably between 60°C and 150°C. The relaxation rate is preferably between 3% and 6%.
Ａ－２．加熱処理工程
加熱処理工程では、上記のとおり、延伸フィルムを１０５℃以上の温度で２分間以上加熱する。
A-2. Heat Treatment Step In the heat treatment step, as described above, the stretched film is heated at a temperature of 105° C. or higher for 2 minutes or longer.
１つの実施形態においては、加熱処理工程での加熱温度をＴ１（℃）とし、加熱処理工程での加熱時間をｔ１（分）とし、加熱処理工程前の延伸フィルムの加熱ＴＭＡ試験における収縮率をＡ１としたとき、好ましくは、１０×ｔ１／｛（Ｔｇ－Ｔ１）２×Ａ１ ２｝で表わされる値が２より大きい。上記値は、好ましくは２より大きく１５０未満であり、より好ましくは３～５０であり、特に好ましくは３～１０である。なお、（Ｔｇ－Ｔ１）は、好ましくは５以上である。 In one embodiment, the heating temperature in the heat treatment step is T 1 (° C.), the heating time in the heat treatment step is t 1 (minutes), and the shrinkage in the heat TMA test of the stretched film before the heat treatment step The value expressed by 10×t 1 /{(Tg−T 1 ) 2 ×A 1 2 } is preferably greater than 2, where A 1 is the ratio. The above value is preferably greater than 2 and less than 150, more preferably 3-50, particularly preferably 3-10. (Tg-T 1 ) is preferably 5 or more.
別の実施形態においては、加熱処理工程前の延伸フィルムの加湿ＴＭＡ試験における収縮率をＡ２としたとき、好ましくは、１０×ｔ１／｛（Ｔｇ－Ｔ１）２×Ａ２ ２｝で表わされる値が０．９より大きい。上記値は、好ましくは１～６０であり、より好ましくは１～２０であり、特に好ましくは１～１０である。 In another embodiment , preferably 10×t 1 / {(Tg−T 1 ) 2 ×A 2 }, where A 2 is the shrinkage ratio in the humidified TMA test of the stretched film before the heat treatment step. The value represented is greater than 0.9. The above value is preferably 1-60, more preferably 1-20, and particularly preferably 1-10.
加熱温度は、好ましくは１０５℃～１４０℃であり、より好ましくは１１０℃～１３０℃であり、特に好ましくは１１５℃～１２５℃である。加熱時間は、好ましくは２分間～１５０分間であり、より好ましくは３分間～１２０分間であり、特に好ましくは５分間～６０分間である。 The heating temperature is preferably 105°C to 140°C, more preferably 110°C to 130°C, and particularly preferably 115°C to 125°C. The heating time is preferably 2 minutes to 150 minutes, more preferably 3 minutes to 120 minutes, and particularly preferably 5 minutes to 60 minutes.
加熱処理工程では、延伸フィルムを上記の加熱条件で加熱し得る限り、任意の適切な加熱手段を用いることができる。上記加熱手段は、代表的にはオーブンである。長尺状の樹脂フィルムを長尺方向に走行させながら延伸することにより延伸フィルムを得る場合、得られた延伸フィルムをそのまま走行させながら加熱処理を施してもよい。 Any appropriate heating means can be used in the heat treatment step as long as the stretched film can be heated under the above heating conditions. The heating means is typically an oven. When a stretched film is obtained by stretching a long resin film while running in the longitudinal direction, the stretched film obtained may be heat-treated while running as it is.
Ａ－３．温水処理工程
温水処理工程では、上記のとおり、延伸フィルムを６０℃以上の温水に３分間以上浸漬する。
A-3. Hot water treatment step In the hot water treatment step, as described above, the stretched film is immersed in hot water of 60°C or higher for 3 minutes or more.
温水処理工程での浸漬時間をｔ２（分）とし、温水処理工程前の延伸フィルムの加湿ＴＭＡ試験における収縮率をＡ３としたとき、好ましくは、ｔ２／Ａ３ ２で表わされる値が２０より大きい。上記値は、好ましくは２０より大きく１０００以下であり、より好ましくは２５～５００であり、特に好ましくは３０～１５０である。 When the immersion time in the hot water treatment step is t 2 (minutes) and the shrinkage ratio in the humidified TMA test of the stretched film before the hot water treatment step is A 3 , the value represented by t 2 /A 3 2 is preferably Greater than 20. The above value is preferably greater than 20 and 1000 or less, more preferably 25-500, particularly preferably 30-150.
温水の温度は、好ましくは６０℃～９０℃であり、より好ましくは６５℃～８５℃であり、特に好ましくは６８℃～８２℃である。浸漬時間は、好ましくは３分間～６０分間であり、より好ましくは３分間～３０分間であり、特に好ましくは５分間～２０分間である。 The temperature of the warm water is preferably 60°C to 90°C, more preferably 65°C to 85°C, and particularly preferably 68°C to 82°C. The immersion time is preferably 3 to 60 minutes, more preferably 3 to 30 minutes, particularly preferably 5 to 20 minutes.
温水処理工程では、延伸フィルムを上記の加熱条件で加熱し得る限り、任意の適切な温水処理手段を用いることができる。上記温水処理手段は、代表的には、適切な温度に調整された温水浴である。長尺状の樹脂フィルムを長尺方向に走行させながら延伸することにより延伸フィルムを得る場合、得られた延伸フィルムをそのまま走行させながら温水処理を施してもよい。 Any appropriate hot water treatment means can be used in the hot water treatment step as long as the stretched film can be heated under the above heating conditions. The hot water treatment means is typically a hot water bath adjusted to an appropriate temperature. When a stretched film is obtained by stretching a long resin film while running in the lengthwise direction, the stretched film obtained may be treated with warm water while running as it is.
Ｂ．位相差フィルム
本発明の位相差フィルムは、面内位相差がＲｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たす、いわゆる逆分散の波長依存性を示す位相差フィルムである。上記位相差フィルムは、３０℃からＴｇ－２５℃まで昇温して再度３０℃に冷却することを３サイクル繰り返す加熱ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．１％以下であり、かつ、２５℃／２５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨ、８５℃／８５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨの順に環境を変化させる加湿ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．２％以下である。上記加熱ＴＭＡ試験における遅相軸方向の収縮率は、好ましくは０％～０．０８％であり、より好ましくは０％～０．０５％である。上記加湿ＴＭＡ試験における遅相軸方向の収縮率は、好ましくは０％～０．１５％であり、より好ましくは０％～０．１０％である。上記のような位相差フィルムは、高温高湿環境下での位相差値の変化が抑制され得る。
B. Retardation Film The retardation film of the present invention is a retardation film exhibiting so-called reverse wavelength dependence of dispersion, in which the in-plane retardation satisfies the relationship Re(450)<Re(550). The retardation film has a shrinkage rate in the slow axis direction of 0.1% or less in a heating TMA test that repeats three cycles of heating from 30 ° C. to Tg-25 ° C. and cooling to 30 ° C. again, and , 25° C./25% RH, 85° C./2% RH, 85° C./85% RH, 85° C./2% RH. It is below. The shrinkage in the slow axis direction in the heating TMA test is preferably 0% to 0.08%, more preferably 0% to 0.05%. The shrinkage rate in the slow axis direction in the humidified TMA test is preferably 0% to 0.15%, more preferably 0% to 0.10%. The retardation film as described above can suppress a change in retardation value in a high-temperature and high-humidity environment.
位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の値は、好ましくは０．８～０．９であり、より好ましくは０．８３～０．８７である。 The Re(450)/Re(550) value of the retardation film is preferably 0.8 to 0.9, more preferably 0.83 to 0.87.
位相差フィルムの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ～１８０ｎｍ、より好ましくは１３５ｎｍ～１５５ｎｍである。 The in-plane retardation Re(550) of the retardation film is preferably 100 nm to 180 nm, more preferably 135 nm to 155 nm.
位相差フィルムの光弾性係数は、好ましくは１×１０－１２（ｍ２／Ｎ）～４０×１０－１２（ｍ２／Ｎ）であり、より好ましくは１×１０－１２（ｍ２／Ｎ）～３０×１０－１２（ｍ２／Ｎ）であり、特に好ましくは１×１０－１２（ｍ２／Ｎ）～２０×１０－１２（ｍ２／Ｎ）である。 The photoelastic coefficient of the retardation film is preferably 1×10 −12 (m 2 /N) to 40×10 −12 (m 2 /N), more preferably 1×10 −12 (m 2 /N ) to 30×10 −12 (m 2 /N), particularly preferably 1×10 −12 (m 2 /N) to 20×10 −12 (m 2 /N).
上記のような位相差フィルムは、例えば、Ａ項で説明した製造方法により得られ得る。位相差フィルムは、円偏光板に用いられ得る。 The retardation film as described above can be obtained, for example, by the manufacturing method described in Section A. Retardation films can be used in circular polarizers.
Ｃ．円偏光板
本発明の円偏光板は、上記位相差フィルムで構成された位相差層と、偏光子と、を有する。位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、３５°～５５°であり、好ましくは４０°～５０°であり、特に好ましくは４３～４７°であり、最も好ましくは約４５°である。
C. Circularly Polarizing Plate The circularly polarizing plate of the present invention has a retardation layer composed of the retardation film and a polarizer. The angle formed by the slow axis of the retardation layer and the absorption axis of the polarizer is 35° to 55°, preferably 40° to 50°, particularly preferably 43 to 47°, most preferably It is approximately 45°.
図１は、本発明の１つの実施形態による円偏光板の概略断面図である。円偏光板１００は、保護層１０と、偏光子２０と、位相差層３０と、屈折率楕円体がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を有する別の位相差層４０（第２の位相差層と称する場合がある）とをこの順に備える。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a circular polarizer according to one embodiment of the invention. The circularly
１つの実施形態においては、円偏光板１００は枚葉状である。円偏光板１００を加熱したときの位相差層３０の位相差ムラ（加熱位相差ムラ）は、３ｎｍ以下である。さらに、円偏光板１００を加湿したときの位相差層３０の位相差ムラ（加湿位相差ムラ）は、３ｎｍ以下である。加熱位相差ムラおよび加湿位相差ムラは、好ましくは０ｎｍ～２ｎｍであり、より好ましくは０ｎｍ～１ｎｍである。
In one embodiment,
上記加熱位相差ムラは、例えば、円偏光板１００の両面にガラスを貼り合せて加熱（８５℃で２４０時間保持）したときに、以下の式から算出される値の絶対値として定めることができる。
（ＲＡ１－ＲＢ１）－（ＲＡ０－ＲＢ０）
ここで、ＲＡ０は位相差層３０の中心部の面内位相差値であり、ＲＢ０は位相差層３０の頂点部分の面内位相差値であり、ＲＡ１は上記加熱後の位相差層３０の中心部の面内位相差値であり、ＲＢ１は上記加熱後の上記頂点部分の面内位相差値である。
The heating retardation unevenness can be determined as an absolute value calculated from the following formula when, for example, glass is laminated on both sides of the circularly
(R A1 -R B1 )-(R A0 -R B0 )
Here, R A0 is the in-plane retardation value of the central portion of the
上記加湿位相差ムラは、例えば、円偏光板１００の両面にガラスを貼り合せて加湿（６５℃／９０％ＲＨで２４０時間保持）したときに、以下の式から算出される値の絶対値として定めることができる。
（ＲＡ２－ＲＢ２）－（ＲＡ０－ＲＢ０）
ここで、ＲＡ２は上記加湿後の位相差層３０の中心部の面内位相差値であり、ＲＢ２は上記加湿後の上記頂点部分の面内位相差値である。
The humidified retardation unevenness is, for example, when glass is bonded to both sides of the circularly
(R A2 -R B2 )-(R A0 -R B0 )
Here, RA2 is the in-plane retardation value of the central portion of the
従来の円偏光板は、両面にガラス等を貼り合せて画像表示装置等に用いた場合、位相差層の中心部は高温高湿環境の影響を受け難い一方で、位相差層の端部は高温高湿環境の影響を受ける。その結果、位相差層の中心部は面内位相差値の変化が小さく、位相差層の端部は面内位相差値の変化が大きくなり、位相差ムラが生じ得る。これに対して、本発明の円偏光板は、位相差層が上記位相差フィルムで構成されていることにより、位相差層の端部の面内位相差の変化が抑制され得、位相差ムラが抑制され得る。 When a conventional circular polarizing plate is used in an image display device or the like by laminating glass or the like on both sides, the central part of the retardation layer is not easily affected by a high-temperature and high-humidity environment, while the end part of the retardation layer is Affected by high temperature and high humidity environment. As a result, the change in the in-plane retardation value is small at the central portion of the retardation layer, and the change in the in-plane retardation value is large at the end portions of the retardation layer, which may cause retardation unevenness. On the other hand, in the circularly polarizing plate of the present invention, the retardation layer is composed of the retardation film, so that the change in the in-plane retardation at the end of the retardation layer can be suppressed, and the retardation unevenness can be suppressed.
Ｃ－１．偏光子
偏光子としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
C-1. Polarizer Any appropriate polarizer can be employed as the polarizer. For example, the resin film forming the polarizer may be a single-layer resin film or a laminate of two or more layers.
単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。 Specific examples of the polarizer composed of a single-layer resin film include hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol (PVA) films, partially formalized PVA films, and partially saponified ethylene/vinyl acetate copolymer films. In addition, oriented polyene films such as those dyed with dichroic substances such as iodine and dichroic dyes and stretched, and dehydrated PVA and dehydrochlorinated polyvinyl chloride films. A polarizer obtained by dyeing a PVA-based film with iodine and uniaxially stretching the film is preferably used because of its excellent optical properties.
上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３～７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にＰＶＡ系フィルムを水に浸漬して水洗することで、ＰＶＡ系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ＰＶＡ系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。 The dyeing with iodine is performed by, for example, immersing the PVA-based film in an aqueous iodine solution. The draw ratio of the uniaxial drawing is preferably 3 to 7 times. Stretching may be performed after the dyeing treatment, or may be performed while dyeing. Moreover, you may dye after extending|stretching. If necessary, the PVA-based film is subjected to swelling treatment, cross-linking treatment, washing treatment, drying treatment, and the like. For example, by immersing the PVA-based film in water and washing it with water before dyeing, not only can dirt and anti-blocking agents on the surface of the PVA-based film be washed away, but also the PVA-based film can be swollen to remove uneven dyeing. can be prevented.
積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２－７３５８０号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。 Specific examples of the polarizer obtained using a laminate include a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin substrate, or a resin substrate and the resin A polarizer obtained by using a laminate with a PVA-based resin layer formed by coating on a substrate can be mentioned. A polarizer obtained by using a laminate of a resin base material and a PVA-based resin layer formed by coating on the resin base material is obtained, for example, by applying a PVA-based resin solution to the resin base material and drying the resin base material. forming a PVA-based resin layer thereon to obtain a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer; stretching and dyeing the laminate to use the PVA-based resin layer as a polarizer; obtain. In this embodiment, stretching typically includes immersing the laminate in an aqueous boric acid solution and stretching. Furthermore, stretching may further include stretching the laminate in air at a high temperature (eg, 95° C. or higher) before stretching in an aqueous boric acid solution, if necessary. The obtained resin substrate/polarizer laminate may be used as it is (that is, the resin substrate may be used as a protective layer for the polarizer), or the resin substrate may be peeled off from the resin substrate/polarizer laminate. Then, any appropriate protective layer may be laminated on the release surface according to the purpose. Details of a method for manufacturing such a polarizer are described, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580. The publication is incorporated herein by reference in its entirety.
偏光子の厚みは、例えば１μｍ～８０μｍである。１つの実施形態においては、偏光子の厚みは、好ましくは１μｍ～１５μｍであり、さらに好ましくは３μｍ～１０μｍであり、特に好ましくは３μｍ～８μｍである。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、および、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。 The thickness of the polarizer is, for example, 1 μm to 80 μm. In one embodiment, the thickness of the polarizer is preferably 1 μm to 15 μm, more preferably 3 μm to 10 μm, particularly preferably 3 μm to 8 μm. If the thickness of the polarizer is within such a range, it is possible to satisfactorily suppress curling during heating, and obtain excellent durability in appearance during heating.
Ｃ－２．第２の位相差層
第２の位相差層は、上記のとおり、屈折率楕円体がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を有し、いわゆるポジティブＣプレートとして機能し得る。このような第２の位相差層を有する円偏光板は、有機ＥＬパネルに用いた場合における反射率および反射色相の変化を抑制し得る。
C-2. Second Retardation Layer As described above, the second retardation layer has a refractive index ellipsoid that satisfies nz>nx=ny and can function as a so-called positive C plate. A circularly polarizing plate having such a second retardation layer can suppress changes in reflectance and reflection hue when used in an organic EL panel.
第２の位相差層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－５０ｎｍ～－３００ｎｍ、より好ましくは－７０ｎｍ～－２５０ｎｍ、さらに好ましくは－９０ｎｍ～－２００ｎｍ、特に好ましくは－１００ｎｍ～－１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。すなわち、第２の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は１０ｎｍ未満であり得る。 The thickness direction retardation Rth (550) of the second retardation layer is preferably −50 nm to −300 nm, more preferably −70 nm to −250 nm, still more preferably −90 nm to −200 nm, particularly preferably −100 nm to −180 nm. Here, "nx=ny" includes not only the case where nx and ny are strictly equal but also the case where nx and ny are substantially equal. That is, the in-plane retardation Re(550) of the second retardation layer can be less than 10 nm.
ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を有する第２の位相差層は、任意の適切な材料で形成され得る。第２の位相差層は、好ましくは、ホメオトロピック配向に固定された液晶材料を含み得る。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであっても液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物および当該第２の位相差層の形成方法の具体例としては、特開２００２－３３３６４２号公報の［００２０］～［００２８］に記載の液晶化合物および位相差フィルムの形成方法が挙げられる。この場合、第２の位相差層の厚みは、好ましくは０．５μｍ～１０μｍであり、より好ましくは０．５μｍ～８μｍであり、さらに好ましくは０．５μｍ～５μｍである。 The second retardation layer having refractive index characteristics of nz>nx=ny can be made of any suitable material. The second retardation layer may preferably comprise a liquid crystal material fixed in homeotropic alignment. A liquid crystal material (liquid crystal compound) that can be homeotropically aligned may be a liquid crystal monomer or a liquid crystal polymer. Specific examples of the method for forming the liquid crystal compound and the second retardation layer include the method for forming the liquid crystal compound and the retardation film described in [0020] to [0028] of JP-A-2002-333642. . In this case, the thickness of the second retardation layer is preferably 0.5 μm to 10 μm, more preferably 0.5 μm to 8 μm, still more preferably 0.5 μm to 5 μm.
別の好ましい具体例として、第２の位相差層は、特開２０１２－３２７８４号公報に記載のフマル酸ジエステル系樹脂で形成された位相差フィルムで構成されてもよい。この場合、厚みは、好ましくは５μｍ～８０μｍであり、より好ましくは１０μｍ～５０μｍである。 As another preferred specific example, the second retardation layer may be composed of a retardation film formed of a fumarate diester resin described in JP-A-2012-32784. In this case, the thickness is preferably 5 μm to 80 μm, more preferably 10 μm to 50 μm.
Ｃ－３．保護層
保護層は、偏光子を保護するフィルムとして使用できる任意の適切な保護フィルムで形成される。当該保護フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１－３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ－メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。
C-3. Protective Layer The protective layer is formed of any appropriate protective film that can be used as a film to protect the polarizer. Specific examples of materials that are the main component of the protective film include cellulose resins such as triacetyl cellulose (TAC), polyesters, polyvinyl alcohols, polycarbonates, polyamides, polyimides, polyethersulfones, and polysulfones. transparent resins such as polystyrene, polynorbornene, polyolefin, (meth)acrylic, and acetate. Thermosetting resins such as (meth)acrylic, urethane, (meth)acrylic urethane, epoxy, and silicone, or ultraviolet curable resins may also be used. In addition, for example, a glassy polymer such as a siloxane-based polymer can also be used. Further, polymer films described in JP-A-2001-343529 (WO01/37007) can also be used. Materials for this film include, for example, a resin composition containing a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted imide group in a side chain and a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted phenyl group and nitrile group in a side chain. can be used, for example, a resin composition comprising an alternating copolymer of isobutene and N-methylmaleimide and an acrylonitrile-styrene copolymer. The polymer film can be, for example, an extrudate of the resin composition.
保護フィルムの厚みは、好ましくは１０μｍ～１００μｍである。保護フィルムは、接着層（具体的には、接着剤層、粘着剤層）を介して偏光子に積層されていてもよく、偏光子に密着（接着層を介さずに）積層されていてもよい。接着剤層は、任意の適切な接着剤で形成される。接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする水溶性接着剤が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする水溶性接着剤は、好ましくは、金属化合物コロイドをさらに含有し得る。金属化合物コロイドは、金属化合物微粒子が分散媒中に分散しているものであり得、微粒子の同種電荷の相互反発に起因して静電的安定化し、永続的に安定性を有するものであり得る。金属化合物コロイドを形成する微粒子の平均粒子径は、偏光特性等の光学特性に悪影響を及ぼさない限り、任意の適切な値であり得る。好ましくは１ｎｍ～１００ｎｍ、さらに好ましくは１ｎｍ～５０ｎｍである。微粒子を接着剤層中に均一に分散させ得、接着性を確保し、かつクニックを抑え得るからである。なお、「クニック」とは、偏光子と保護フィルムの界面で生じる局所的な凹凸欠陥のことをいう。粘着剤層は、任意の適切な粘着剤で構成される。 The thickness of the protective film is preferably 10 μm to 100 μm. The protective film may be laminated on the polarizer via an adhesive layer (specifically, an adhesive layer, a pressure-sensitive adhesive layer), or may be laminated on the polarizer in close contact (without an adhesive layer). good. The adhesive layer is formed with any suitable adhesive. Examples of adhesives include water-soluble adhesives containing polyvinyl alcohol-based resin as a main component. A water-soluble adhesive containing a polyvinyl alcohol-based resin as a main component may preferably further contain a metal compound colloid. The metal compound colloid may be one in which metal compound fine particles are dispersed in a dispersion medium, and may be electrostatically stabilized due to mutual repulsion of similar charges of the fine particles and have permanent stability. . The average particle size of the fine particles forming the metal compound colloid may be any appropriate value as long as it does not adversely affect optical properties such as polarization properties. It is preferably 1 nm to 100 nm, more preferably 1 nm to 50 nm. This is because the fine particles can be uniformly dispersed in the adhesive layer, the adhesive property can be secured, and knicks can be suppressed. The term "knick" refers to a local irregularity defect that occurs at the interface between the polarizer and the protective film. The adhesive layer is composed of any suitable adhesive.
保護フィルムの偏光子と反対側の表面には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。保護フィルムの厚みは、代表的には５ｍｍ以下であり、好ましくは１ｍｍ以下、より好ましくは１μｍ～５００μｍ、さらに好ましくは５μｍ～１５０μｍである。 The surface of the protective film opposite to the polarizer may be subjected to surface treatment such as hard coat treatment, anti-reflection treatment, anti-sticking treatment, anti-glare treatment, etc., if necessary. The thickness of the protective film is typically 5 mm or less, preferably 1 mm or less, more preferably 1 μm to 500 μm, still more preferably 5 μm to 150 μm.
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例および比較例における「部」および「％」は重量基準である。
（１）厚み
ダイヤルゲージ（ＰＥＡＣＯＣＫ社製、製品名「ＤＧ－２０５ ｔｙｐｅ ｐｄｓ－２」）を用いて測定した。
（２）位相差値
Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製のＡｘｏｓｃａｎを用いて測定した。
（３）加熱による寸法変化率（加熱ＴＭＡ試験）
実施例および比較例で得られた延伸フィルムまたは位相差フィルムを、２０ｍｍ（遅相軸方向）×４ｍｍ（進相軸方向）にカットして測定サンプルとした。熱機械分析装置（日立ハイテクサイエンス社製、型番「ＴＭＡ７１００」）を用いて、測定サンプルを３０℃からＴｇ－２５℃まで昇温して再度３０℃に冷却することを３サイクル繰り返した後、測定サンプルの長さ方向（遅相軸方向）における寸法変化率（収縮率）を測定した。なお、昇温速度は５℃／ｍｉｎとし、各温度での保持時間は１０分とした。
（４）加湿による寸法変化率（加湿ＴＭＡ試験）
実施例および比較例で得られた延伸フィルムまたは位相差フィルムを、２０ｍｍ（遅相軸方向）×５ｍｍ（進相軸方向）にカットして測定サンプルとした。熱機械分析装置を用いて、２５℃／２５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨ、８５℃／８５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨの順に環境を変化させた後、測定サンプルの長さ方向（遅相軸方向）における寸法変化率（収縮率）を測定した。なお、２５℃／２５％ＲＨでの保持時間は６０分とし、８５℃／２％ＲＨでの保持時間は６０分とし、８５℃／８５％ＲＨでの保持時間は３００分とした。
（５）加熱位相差ムラ
実施例および比較例で得られた円偏光板を、偏光子の吸収軸が短辺方向となるように７５ｍｍ×１５０ｍｍに切り出し、円偏光板の両側に粘着剤を介してガラス基板を貼り合せて測定サンプルとした。
測定サンプルについて、中央部の面内位相差値ＲＡ０と、中心部から遅相軸方向に位置する頂点部分の面内位相差値ＲＢ０１と、中心部から進相軸方向に位置する頂点部分の面内位相差値ＲＢ０２と、を測定した。
次いで、測定サンプルを８５℃のオーブンで２４０時間加熱し、加熱後の測定サンプルについて、中央部の面内位相差値ＲＡ１と、中心部から遅相軸方向に位置する頂点部分の面内位相差値ＲＢ１１と、中心部から進相軸方向に位置する頂点部分の面内位相差値ＲＢ１２と、を測定した。
以下の式から得られる値ＡおよびＢの絶対値のうち大きい方の値を、加熱位相差ムラとした。
Ａ＝（ＲＡ１－ＲＢ１１）－（ＲＡ０－ＲＢ０１）
Ｂ＝（ＲＡ１－ＲＢ１２）－（ＲＡ０－ＲＢ０２）
（６）加湿位相差ムラ
上記（５）と同様にして円偏光板の測定サンプルを作製し、中央部の面内位相差値ＲＡ０と、中心部から遅相軸方向に位置する頂点部分の面内位相差値ＲＢ０１と、中心部から進相軸方向に位置する頂点部分の面内位相差値ＲＢ０２と、を測定した。
次いで、測定サンプルを６５℃／９０％のオーブンで２４０時間加湿し、加湿後の測定サンプルについて、中央部の面内位相差値ＲＡ２と、中心部から遅相軸方向に位置する頂点部分の面内位相差値ＲＢ２１と、中心部から進相軸方向に位置する頂点部分の面内位相差値ＲＢ２２と、を測定した。
以下の式から得られる値ＣおよびＤの絶対値のうち大きい方の値を、加湿位相差ムラとした。
Ｃ＝（ＲＡ２－ＲＢ２１）－（ＲＡ０－ＲＢ０１）
Ｄ＝（ＲＡ２－ＲＢ２２）－（ＲＡ０－ＲＢ０２）
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The measurement method of each characteristic is as follows. "Parts" and "%" in Examples and Comparative Examples are by weight unless otherwise specified.
(1) Thickness Measured using a dial gauge (manufactured by PEACOCK, product name “DG-205 type pds-2”).
(2) Retardation value Measured using Axoscan manufactured by Axometrics.
(3) Dimensional change rate due to heating (heating TMA test)
The stretched films or retardation films obtained in Examples and Comparative Examples were cut into 20 mm (slow axis direction)×4 mm (fast axis direction) to obtain measurement samples. Using a thermomechanical analyzer (manufactured by Hitachi High-Tech Science, model number "TMA7100"), the measurement sample is heated from 30 ° C. to Tg-25 ° C. and cooled again to 30 ° C. After repeating 3 cycles, measurement The dimensional change rate (shrinkage rate) in the length direction (slow axis direction) of the sample was measured. The heating rate was 5° C./min, and the holding time at each temperature was 10 minutes.
(4) Dimensional change rate due to humidification (humidified TMA test)
The stretched films or retardation films obtained in Examples and Comparative Examples were cut into 20 mm (slow axis direction)×5 mm (fast axis direction) to obtain measurement samples. Using a thermomechanical analyzer, after changing the environment in the order of 25°C/25% RH, 85°C/2% RH, 85°C/85% RH, and 85°C/2% RH, the length direction of the measurement sample The dimensional change rate (shrinkage rate) in (slow axis direction) was measured. The holding time at 25° C./25% RH was 60 minutes, the holding time at 85° C./2% RH was 60 minutes, and the holding time at 85° C./85% RH was 300 minutes.
(5) Heating retardation unevenness The circularly polarizing plates obtained in Examples and Comparative Examples were cut into 75 mm × 150 mm so that the absorption axis of the polarizer is in the short side direction, and an adhesive is placed on both sides of the circularly polarizing plate. A measurement sample was obtained by laminating a glass substrate.
For the measurement sample, the in-plane retardation value R A0 at the center, the in-plane retardation value R B01 at the vertex portion located in the slow axis direction from the center, and the vertex portion located in the fast axis direction from the center were measured .
Next, the measurement sample is heated in an oven at 85 ° C. for 240 hours, and the in-plane retardation value R A1 of the central portion and the in-plane position of the vertex portion located in the slow axis direction from the central portion of the measured sample after heating A retardation value RB11 and an in-plane retardation value RB12 at a vertex portion located in the fast axis direction from the central portion were measured.
The larger absolute value of the values A and B obtained from the following formula was taken as the heating retardation unevenness.
A = (R A1 -R B11 )-(R A0 -R B01 )
B=(R A1 -R B12 )-(R A0 -R B02 )
(6) Humidification retardation unevenness A measurement sample of a circularly polarizing plate is prepared in the same manner as in (5) above, and the in-plane retardation value R A0 at the center and the vertex portion located in the slow axis direction from the center An in-plane phase difference value R B01 and an in-plane phase difference value R B02 at the vertex portion located in the fast axis direction from the center portion were measured.
Next, the measurement sample is humidified in an oven at 65 ° C./90% for 240 hours, and the in-plane retardation value RA2 of the central portion and the vertex portion located in the slow axis direction from the central portion of the measured sample after humidification An in-plane phase difference value RB21 and an in-plane phase difference value RB22 at the vertex portion located in the fast axis direction from the center portion were measured.
The larger of the absolute values C and D obtained from the following formula was taken as the humidification retardation unevenness.
C=(R A2 −R B21 )−(R A0 −R B01 )
D=(R A2 −R B22 )−(R A0 −R B02 )
＜実施例１＞
１．位相差フィルムの作製
（ポリカーボネート樹脂）
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。ビス［９－（２－フェノキシカルボニルエチル）フルオレン－９－イル］メタン２９．６０質量部（０．０４６ｍｏｌ）、ＩＳＢ ２９．２１質量部（０．２００ｍｏｌ）、ＳＰＧ ４２．２８質量部（０．１３９ｍｏｌ）、ＤＰＣ ６３．７７質量部（０．２９８ｍｏｌ）及び触媒として酢酸カルシウム１水和物１．１９×１０－２質量部（６．７８×１０－５ｍｏｌ）を仕込んだ。反応器内を減圧窒素置換した後、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、生成したポリエステルカーボネートを水中に押し出し、ストランドをカッティングしてペレットを得た。
（樹脂フィルム）
得られたポリカーボネート樹脂を８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（東芝機械社製、シリンダー設定温度：２５０℃）、Ｔダイ（幅２００ｍｍ、設定温度：２５０℃）、チルロール（設定温度：１２０～１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１３５μｍの樹脂フィルムを作製した。
（位相差フィルム）
得られた長尺状の樹脂フィルムを、幅方向に、延伸温度１３４℃、延伸倍率２．８倍で延伸し、続いて、延伸後のフィルムの幅方向に緩和処理を施すことにより、延伸フィルムを作製した。緩和処理の条件は、緩和温度１３０℃、緩和率４．５％とした。この延伸フィルムを上記（４）の加湿ＴＭＡ試験に供したところ、寸法変化率は０．３０％であった。また、この延伸フィルムを上記（３）の加熱ＴＭＡ試験に供したところ、寸法変化率は０．０５％であった。
次いで、上記延伸フィルムを１２５℃で２分間加熱（加熱処理）することにより、厚み４８μｍの位相差フィルムを得た。
<Example 1>
1. Production of retardation film (polycarbonate resin)
Polymerization was carried out using a batch polymerization apparatus consisting of two vertical reactors equipped with stirring blades and reflux condensers controlled at 100°C. Bis[9-(2-phenoxycarbonylethyl)fluoren-9-yl]methane 29.60 parts by mass (0.046 mol), ISB 29.21 parts by mass (0.200 mol), SPG 42.28 parts by mass (0.046 mol) 139 mol), 63.77 parts by mass (0.298 mol) of DPC, and 1.19×10 −2 parts by mass (6.78×10 −5 mol) of calcium acetate monohydrate as a catalyst were charged. After the interior of the reactor was replaced with nitrogen under reduced pressure, heating was performed with a heating medium, and stirring was started when the internal temperature reached 100°C. After 40 minutes from the start of heating, the internal temperature was allowed to reach 220°C, and the pressure was reduced at the same time as controlling to maintain this temperature. Phenol vapor produced as a by-product of the polymerization reaction was led to a reflux condenser at 100°C, a small amount of monomer components contained in the phenol vapor was returned to the reactor, and uncondensed phenol vapor was led to a condenser at 45°C and recovered. After nitrogen was introduced into the first reactor and the pressure was once restored to atmospheric pressure, the oligomerized reaction liquid in the first reactor was transferred to the second reactor. Next, the temperature rise and pressure reduction in the second reactor were started, and the internal temperature was brought to 240° C. and the pressure to 0.2 kPa in 50 minutes. After that, polymerization was allowed to proceed until a predetermined stirring power was obtained. When a predetermined power was reached, nitrogen was introduced into the reactor to restore the pressure, the polyester carbonate produced was extruded into water, and strands were cut to obtain pellets.
(resin film)
After vacuum drying the obtained polycarbonate resin at 80 ° C. for 5 hours, a single screw extruder (manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd., cylinder set temperature: 250 ° C.), T die (width 200 mm, set temperature: 250 ° C.), chill roll ( A resin film having a thickness of 135 μm was produced using a film forming apparatus equipped with a set temperature of 120 to 130° C. and a winder.
(retardation film)
The obtained long resin film is stretched in the width direction at a stretching temperature of 134° C. and a stretching ratio of 2.8 times, and then the stretched film is subjected to a relaxation treatment in the width direction to obtain a stretched film. was made. The conditions for the relaxation treatment were a relaxation temperature of 130° C. and a relaxation rate of 4.5%. When this stretched film was subjected to the humidified TMA test of (4) above, the dimensional change rate was 0.30%. When this stretched film was subjected to the heating TMA test of (3) above, the dimensional change rate was 0.05%.
Then, the stretched film was heated (heated) at 125° C. for 2 minutes to obtain a retardation film having a thickness of 48 μm.
２．円偏光板の作製
（偏光子）
長尺状の非晶質ポリエチレンテレフタレート（Ａ－ＰＥＴ）フィルム（三菱樹脂社製、商品名「ノバクリア」、厚み：１００μｍ）を基材として用意し、基材の片面に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）樹脂（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセノール（登録商標）ＮＨ－２６」）の水溶液を６０℃で塗布および乾燥して、厚み７μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成した。このようにして得られた積層体を、液温３０℃の不溶化浴に３０秒間浸漬させた（不溶化工程）。次いで、液温３０℃の染色浴に６０秒間浸漬させた（染色工程）。次いで、液温３０℃の架橋浴に３０秒間浸漬させた（架橋工程）。その後、積層体を、液温６０℃のホウ酸水溶液に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長尺方向）に一軸延伸を行った。ホウ酸水溶液への浸漬時間は１２０秒であり、積層体が破断する直前まで延伸した。その後、積層体を洗浄浴に浸漬させた後、６０℃の温風で乾燥させた（洗浄・乾燥工程）。このようにして、基材上に厚み５μｍの偏光子が形成された長尺状の積層体（偏光子積層体）を得た。
（偏光板）
上記積層体の偏光子側の面に、粘着剤を介して、保護フィルムとしてのシクロオレフィン系樹脂フィルム（日本ゼオン株式会社製、商品名「ゼオノアフィルム」、厚み２５μｍ）を貼り合せ、偏光子から上記基材を剥離することにより、偏光板を得た。
（第２の位相差層）
下記化学式（Ｉ）で示される側鎖型液晶ポリマー２０重量部、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）８０重量部および光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製：商品名イルガキュア９０７）５重量部をシクロペンタノン４００重量部に溶解して液晶塗工液を調製した。そして、基材フィルム（ノルボルネン系樹脂フィルム：日本ゼオン（株）製、商品名「ゼオノア」）に当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、７０℃で４分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。この液晶層に紫外線を照射し、液晶層を硬化させることにより、基材上に位相差フィルムとなる液晶固化層（厚み：１μｍ）を形成した。この層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は－７１ｎｍであり（ｎｘ：１．５３２６、ｎｙ：１．５３２６、ｎｚ：１．６５５０）、を示した。
上記偏光板の偏光子側に上記位相差フィルムを、偏光子の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸とのなす角度が４５°となるようにして、粘着剤を介して貼り合せた。次いで、位相差フィルムの偏光子とは反対側の面に、上記液晶固化層を転写することにより、保護層／偏光子／位相差層／第２の位相差層の構成を有する円偏光板を作製した。
2. Fabrication of circularly polarizing plate (polarizer)
A long amorphous polyethylene terephthalate (A-PET) film (manufactured by Mitsubishi Plastics Co., Ltd., trade name “Novaclear”, thickness: 100 μm) was prepared as a substrate, and polyvinyl alcohol (PVA) resin was coated on one side of the substrate. (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name “Gosenol (registered trademark) NH-26”) was applied at 60° C. and dried to form a PVA-based resin layer having a thickness of 7 μm. The laminate thus obtained was immersed in an insolubilizing bath having a liquid temperature of 30° C. for 30 seconds (insolubilizing step). Then, it was immersed in a dyeing bath at a liquid temperature of 30°C for 60 seconds (dyeing step). Then, it was immersed in a cross-linking bath at a liquid temperature of 30° C. for 30 seconds (cross-linking step). Thereafter, the laminate was uniaxially stretched in the longitudinal direction (longitudinal direction) between rolls having different circumferential speeds while being immersed in an aqueous solution of boric acid at a liquid temperature of 60°C. The immersion time in the boric acid aqueous solution was 120 seconds, and the laminate was stretched until just before it broke. After that, the laminate was immersed in a cleaning bath and then dried with hot air at 60° C. (cleaning/drying step). Thus, a long laminate (polarizer laminate) in which a polarizer having a thickness of 5 μm was formed on the substrate was obtained.
(Polarizer)
A cycloolefin resin film (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name “Zeonor film”, thickness 25 μm) is pasted as a protective film on the surface of the polarizer side of the laminate via an adhesive, and the polarizer A polarizing plate was obtained by peeling the substrate.
(Second retardation layer)
20 parts by weight of a side chain type liquid crystal polymer represented by the following chemical formula (I), 80 parts by weight of a polymerizable liquid crystal exhibiting a nematic liquid crystal phase (manufactured by BASF: trade name Paliocolor LC242) and a photopolymerization initiator (manufactured by BASF: trade name Irgacure) 907) was dissolved in 400 parts by weight of cyclopentanone to prepare a liquid crystal coating solution. Then, after applying the coating solution to a substrate film (norbornene-based resin film: Nippon Zeon Co., Ltd., trade name “Zeonor”) with a bar coater, the liquid crystal is formed by heating and drying at 70 ° C. for 4 minutes. Oriented. By irradiating this liquid crystal layer with ultraviolet rays and curing the liquid crystal layer, a liquid crystal solidified layer (thickness: 1 μm) serving as a retardation film was formed on the substrate. This layer had Re(550) of 0 nm and Rth(550) of -71 nm (nx: 1.5326, ny: 1.5326, nz: 1.6550).
The retardation film was attached to the polarizer side of the polarizing plate via an adhesive so that the angle between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the retardation film was 45°. Next, a circularly polarizing plate having a configuration of protective layer/polarizer/retardation layer/second retardation layer is obtained by transferring the liquid crystal solidified layer to the surface of the retardation film opposite to the polarizer. made.
＜実施例２＞
延伸フィルムを１２５℃で１０分間加熱したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 2>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was heated at 125° C. for 10 minutes.
＜実施例３＞
延伸フィルムを１２５℃で３０分間加熱したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 3>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was heated at 125° C. for 30 minutes.
＜実施例４＞
延伸フィルムを１２５℃で６０分間加熱したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 4>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was heated at 125° C. for 60 minutes.
＜実施例５＞
延伸フィルムを１２５℃で１２０分間加熱したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 5>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was heated at 125° C. for 120 minutes.
＜実施例６＞
緩和温度を１１０℃としたこと以外は実施例１と同様にして延伸フィルムを作製した。この延伸フィルムを上記（４）の加湿ＴＭＡ試験に供したところ、寸法変化率は０．５０％であった。また、この延伸フィルムを上記（３）の加熱ＴＭＡ試験に供したところ、寸法変化率は０．０８％であった。
上記延伸フィルムを用いたこと以外は実施例２と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 6>
A stretched film was produced in the same manner as in Example 1, except that the relaxation temperature was 110°C. When this stretched film was subjected to the humidified TMA test of (4) above, the dimensional change rate was 0.50%. When this stretched film was subjected to the heating TMA test of (3) above, the dimensional change rate was 0.08%.
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 2 except that the stretched film was used.
＜実施例７＞
緩和温度を８０℃としたこと以外は実施例１と同様にして延伸フィルムを作製した。この延伸フィルムを上記（４）の加湿ＴＭＡ試験に供したところ、寸法変化率は０．７０％であった。また、この延伸フィルムを上記（３）の加熱ＴＭＡ試験に供したところ、寸法変化率は０．１３％であった。
上記延伸フィルムを用いたこと以外は実施例２と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 7>
A stretched film was produced in the same manner as in Example 1, except that the relaxation temperature was 80°C. When this stretched film was subjected to the humidified TMA test of (4) above, the dimensional change rate was 0.70%. When this stretched film was subjected to the heating TMA test of (3) above, the dimensional change rate was 0.13%.
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 2 except that the stretched film was used.
＜実施例８＞
延伸フィルムを１０５℃で１０分間加熱したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 8>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was heated at 105° C. for 10 minutes.
＜実施例９＞
延伸フィルムを１１０℃で１０分間加熱したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 9>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was heated at 110° C. for 10 minutes.
＜実施例１０＞
延伸フィルムを１１５℃で１０分間加熱したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 10>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was heated at 115° C. for 10 minutes.
＜実施例１１＞
延伸フィルムを１２０℃で１０分間加熱したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 11>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was heated at 120° C. for 10 minutes.
＜実施例１２＞
延伸フィルムを１３０℃で１０分間加熱したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 12>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was heated at 130° C. for 10 minutes.
＜実施例１３＞
延伸フィルムを、上記加熱処理に代えて６０℃の温水に３分間浸漬（温水処理）したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 13>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was immersed in hot water at 60° C. for 3 minutes (hot water treatment) instead of the heat treatment.
＜実施例１４＞
延伸フィルムを、上記加熱処理に代えて６０℃の温水に１０分間浸漬したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 14>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was immersed in hot water at 60° C. for 10 minutes instead of the heat treatment.
＜実施例１５＞
延伸フィルムを、上記加熱処理に代えて６０℃の温水に３０分間浸漬したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 15>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was immersed in hot water at 60° C. for 30 minutes instead of the heat treatment.
＜実施例１６＞
延伸フィルムを、上記加熱処理に代えて６０℃の温水に６０分間浸漬したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 16>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was immersed in hot water at 60° C. for 60 minutes instead of the heat treatment.
＜実施例１７＞
延伸フィルムを、上記加熱処理に代えて６０℃の温水に１０分間浸漬したこと以外は実施例６と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 17>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 6, except that the stretched film was immersed in hot water at 60° C. for 10 minutes instead of the heat treatment.
＜実施例１８＞
延伸フィルムを、上記加熱処理に代えて６０℃の温水に１０分間浸漬したこと以外は実施例７と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 18>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 7, except that the stretched film was immersed in hot water at 60° C. for 10 minutes instead of the heat treatment.
＜実施例１９＞
延伸フィルムとして市販のポリカーボネート樹脂フィルム（帝人株式会社製、製品名「ピュアエースＲＭ」、厚み５０μｍ）を用いた。この延伸フィルムを上記（３）の加熱ＴＭＡ試験に供したところ、寸法変化率は０．２２％であった。また、この延伸フィルムを上記（４）の加湿ＴＭＡ試験に供したところ、寸法変化率は０．１０％であった。
次いで、上記延伸フィルムを１２５℃で２分間加熱（加熱処理）することにより、位相差フィルムを得た。さらに、上記位相差フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして円偏光板を作製した。
<Example 19>
A commercially available polycarbonate resin film (manufactured by Teijin Limited, product name “Pure Ace RM”, thickness 50 μm) was used as the stretched film. When this stretched film was subjected to the heating TMA test of (3) above, the dimensional change rate was 0.22%. When this stretched film was subjected to the humidified TMA test of (4) above, the dimensional change rate was 0.10%.
Then, the stretched film was heated (heated) at 125° C. for 2 minutes to obtain a retardation film. Furthermore, a circularly polarizing plate was produced in the same manner as in Example 1, except that the above retardation film was used.
＜実施例２０＞
延伸フィルムを１２５℃で１０分間加熱したこと以外は実施例１９と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 20>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 19, except that the stretched film was heated at 125° C. for 10 minutes.
＜実施例２１＞
延伸フィルムを１２５℃で３０分間加熱したこと以外は実施例１９と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 21>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 19, except that the stretched film was heated at 125° C. for 30 minutes.
＜実施例２２＞
延伸フィルムを１２５℃で６０分間加熱したこと以外は実施例１９と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 22>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 19, except that the stretched film was heated at 125° C. for 60 minutes.
＜実施例２３＞
延伸フィルムを１２５℃で１２０分間加熱したこと以外は実施例１９と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 23>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 19, except that the stretched film was heated at 125° C. for 120 minutes.
＜実施例２４＞
延伸フィルムを１０５℃で１０分間加熱したこと以外は実施例１９と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 24>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 19, except that the stretched film was heated at 105°C for 10 minutes.
＜実施例２５＞
延伸フィルムを１１０℃で１０分間加熱したこと以外は実施例１９と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 25>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 19, except that the stretched film was heated at 110° C. for 10 minutes.
＜実施例２６＞
延伸フィルムを１１５℃で１０分間加熱したこと以外は実施例１９と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 26>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 19, except that the stretched film was heated at 115°C for 10 minutes.
＜実施例２７＞
延伸フィルムを１２０℃で１０分間加熱したこと以外は実施例１９と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Example 27>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 19, except that the stretched film was heated at 120°C for 10 minutes.
＜比較例１＞
延伸フィルムを１２５℃で１分間加熱したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Comparative Example 1>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was heated at 125° C. for 1 minute.
＜比較例２＞
延伸フィルムを１００℃で１０分間加熱したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Comparative Example 2>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was heated at 100° C. for 10 minutes.
＜比較例３＞
緩和温度を８０℃とし、緩和率を０％としたこと以外は実施例１と同様にして延伸フィルムを作製した。この延伸フィルムを上記（４）の加湿ＴＭＡ試験に供したところ、寸法変化率は０．９０％であった。また、この延伸フィルムを上記（３）の加熱ＴＭＡ試験に供したところ、寸法変化率は０．１８％であった。
上記延伸フィルムを用いたこと以外は実施例２と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
＜比較例４＞
延伸フィルムを、上記加熱処理に代えて６０℃の温水に１分間浸漬したこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Comparative Example 3>
A stretched film was produced in the same manner as in Example 1, except that the relaxation temperature was 80° C. and the relaxation rate was 0%. When this stretched film was subjected to the humidified TMA test of (4) above, the dimensional change rate was 0.90%. When this stretched film was subjected to the heating TMA test of (3) above, the dimensional change rate was 0.18%.
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 2 except that the stretched film was used.
<Comparative Example 4>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the stretched film was immersed in hot water at 60° C. for 1 minute instead of the heat treatment.
＜比較例５＞
延伸フィルムを、上記加熱処理に代えて６０℃の温水に１０分間浸漬したこと以外は比較例３と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Comparative Example 5>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Comparative Example 3, except that the stretched film was immersed in hot water at 60° C. for 10 minutes instead of the heat treatment.
＜比較例６＞
加熱処理を施さなかったこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Comparative Example 6>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1, except that the heat treatment was not performed.
＜比較例７＞
延伸フィルムを１００℃で１０分間加熱したこと以外は実施例１９と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Comparative Example 7>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 19, except that the stretched film was heated at 100° C. for 10 minutes.
＜比較例８＞
延伸フィルムを１２５℃で１分間加熱したこと以外は実施例１９と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Comparative Example 8>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 19, except that the stretched film was heated at 125°C for 1 minute.
＜比較例９＞
加熱処理を施さなかったこと以外は実施例１９と同様にして位相差フィルムおよび円偏光板を作製した。
<Comparative Example 9>
A retardation film and a circularly polarizing plate were produced in the same manner as in Example 19, except that the heat treatment was not performed.
＜評価＞
実施例１～１２、実施例１９～２７、比較例１～３、および比較例７～８について、加熱処理条件の指標として、
１０×ｔ１／｛（Ｔｇ－Ｔ１）２×Ａ１
２｝
および、
１０×ｔ１／｛（Ｔｇ－Ｔ１）２×Ａ２
２｝
を算出した。ここで、Ｔ１は加熱処理工程での加熱温度（℃）、ｔ１は加熱処理工程での加熱時間（分）、Ａ１は加熱処理工程前の延伸フィルムの加熱ＴＭＡ試験における収縮率（％）、Ａ２は加熱処理工程前の延伸フィルムの加湿ＴＭＡ試験における収縮率（％）とする。
実施例１３～１８および比較例４～５について、温水処理条件の指標として、
ｔ２／Ａ３
２
を算出した。ここで、ｔ２は温水処理工程での浸漬時間（分）、Ａ３は温水処理工程前の延伸フィルムの加湿ＴＭＡ試験における収縮率（％）とする。
実施例１～２７および比較例１～９の位相差フィルムを加湿ＴＭＡ試験および加熱ＴＭＡ試験に供し、それぞれの試験による寸法変化率を測定した。
さらに、実施例１～２７および比較例１～９について、加湿位相差ムラおよび加熱位相差ムラを測定した。
それぞれの結果を表１に示す。
For Examples 1 to 12, Examples 19 to 27, Comparative Examples 1 to 3, and Comparative Examples 7 to 8, as an index of heat treatment conditions,
10 × t 1 / {(Tg-T 1 ) 2 × A 1 2 }
and,
10 × t 1 / {(Tg−T 1 ) 2 × A 2 2 }
was calculated. Here, T 1 is the heating temperature (°C) in the heat treatment process, t 1 is the heating time (minutes) in the heat treatment process, and A 1 is the shrinkage rate (% ), and A2 is the shrinkage rate (%) in the humidified TMA test of the stretched film before the heat treatment step.
For Examples 13 to 18 and Comparative Examples 4 to 5, as an index of hot water treatment conditions,
t 2 /A 3 2
was calculated. Here, t2 is the immersion time (minutes) in the hot water treatment process, and A3 is the shrinkage rate (%) in the humidified TMA test of the stretched film before the hot water treatment process.
The retardation films of Examples 1 to 27 and Comparative Examples 1 to 9 were subjected to a humidified TMA test and a heated TMA test, and the dimensional change rate was measured by each test.
Furthermore, for Examples 1 to 27 and Comparative Examples 1 to 9, humidification retardation unevenness and heating retardation unevenness were measured.
Each result is shown in Table 1.
表１から明らかなように、実施例の位相差フィルムは、比較例の位相差フィルムに比べて、加熱処理または温水処理後のＴＭＡ試験での寸法変化率が小さく、円偏光板に用いた場合の位相差ムラも小さかった。 As is clear from Table 1, the retardation films of Examples have a smaller dimensional change rate in the TMA test after heat treatment or hot water treatment than the retardation films of Comparative Examples, and when used in a circularly polarizing plate The retardation unevenness was also small.
本発明の位相差フィルムは円偏光板に好適に用いられ、本発明の円偏光板は有機ＥＬパネルに好適に用いられる。 The retardation film of the present invention is suitably used for circularly polarizing plates, and the circularly polarizing plate of the present invention is suitably used for organic EL panels.
１０ 保護層
２０ 偏光子
３０ 位相差層
４０ 第２の位相差層
１００ 円偏光板
REFERENCE SIGNS
Claims (4)
該位相差層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が３５°～５５°であり、
該別の位相差層が、ホメオトロピック配向に固定された液晶材料を含み、
該位相差フィルムが、面内位相差がＲｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たし、
３０℃からＴｇ－２５℃まで昇温して再度３０℃に冷却することを３サイクル繰り返す加熱ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．１％以下であり、かつ、
２５℃／２５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨ、８５℃／８５％ＲＨ、８５℃／２％ＲＨの順に環境を変化させる加湿ＴＭＡ試験において遅相軸方向の収縮率が０．２％以下であり、
ポリカーボネート樹脂およびポリエステルカーボネート系樹脂から選択される樹脂で形成されている、
円偏光板：
ここで、Ｒｅ（４５０）およびＲｅ（５５０）は、それぞれ、２３℃における波長４５０ｎｍおよび５５０ｎｍの光で測定した面内位相差を表し、
該加熱ＴＭＡ試験の昇温温度は５℃／ｍｉｎであり、各温度での保持時間は１０分であり、該加湿ＴＭＡ試験の２５℃／２５％ＲＨでの保持時間は６０分であり、８５℃／２％ＲＨでの保持時間は６０分であり、８５℃／８５％ＲＨでの保持時間は３００分である。 A protective film, a polarizer, a retardation layer made of a retardation film , and another retardation layer having a refractive index ellipsoid having a relationship of nz>nx=ny in this order,
The angle formed by the slow axis of the retardation layer and the absorption axis of the polarizer is 35° to 55°,
the other retardation layer comprises a liquid crystal material fixed in homeotropic alignment;
The retardation film has an in-plane retardation satisfying the relationship Re (450) < Re (550),
The shrinkage rate in the slow axis direction is 0.1% or less in a heating TMA test in which the temperature is raised from 30 ° C. to Tg-25 ° C. and cooled again to 30 ° C. is repeated for 3 cycles, and
Shrinkage in the slow axis direction is 0.2% or less in a humidified TMA test in which the environment is changed in the order of 25°C/25%RH, 85°C/2%RH, 85°C/85%RH, and 85°C/2%RH. and
made of a resin selected from polycarbonate resins and polyester carbonate-based resins,
Circular polarizer:
Here, Re (450) and Re (550) represent in-plane retardation measured with light of wavelengths 450 nm and 550 nm, respectively, at 23°C,
The heating TMA test had a temperature rise of 5°C/min, the holding time at each temperature was 10 minutes, and the humidifying TMA test had a holding time of 60 minutes at 25°C/25% RH. The hold time at °C/2%RH is 60 minutes and the hold time at 85°C/85%RH is 300 minutes.
前記位相差層の中心部の面内位相差値をＲＡ０とし、頂点部分の面内位相差値をＲＢ０とし、
両面にガラスを貼り合せて８５℃で２４０時間保持した後の、前記位相差層の中心部の面内位相差値をＲＡ１とし、前記頂点部分の面内位相差値をＲＢ１とし、
両面にガラスを貼り合せて６５℃／９０％ＲＨで２４０時間保持した後の、前記位相差層の前記中心部の面内位相差値をＲＡ２とし、前記頂点部分の面内位相差値をＲＢ２としたとき、
（ＲＡ１－ＲＢ１）－（ＲＡ０－ＲＢ０）の絶対値が３ｎｍ以下であり、かつ
（ＲＡ２－ＲＢ２）－（ＲＡ０－ＲＢ０）の絶対値が３ｎｍ以下である、請求項１～３のいずれかに記載の円偏光板。
It is leaf-shaped,
The in-plane retardation value of the central portion of the retardation layer is R A0 , the in-plane retardation value of the vertex portion is R B0 ,
The in-plane retardation value of the central portion of the retardation layer after bonding the glass to both surfaces and holding at 85 ° C. for 240 hours is RA1 , and the in-plane retardation value of the vertex portion is RB1 ,
The in-plane retardation value of the central portion of the retardation layer after bonding the glass to both sides and holding at 65 ° C./90% RH for 240 hours is RA2 , and the in-plane retardation value of the vertex portion is When R B2 is
The absolute value of (R A1 -R B1 )-(R A0 -R B0 ) is 3 nm or less, and the absolute value of (R A2 -R B2 )-(R A0 -R B0 ) is 3 nm or less. Item 4. The circularly polarizing plate according to any one of Items 1 to 3.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020150560A JP7240365B2 (en) | 2020-09-08 | 2020-09-08 | circular polarizer |
| JP2022018777A JP2022051908A (en) | 2020-09-08 | 2022-02-09 | Retardation film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020150560A JP7240365B2 (en) | 2020-09-08 | 2020-09-08 | circular polarizer |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017126608A Division JP6781111B2 (en) | 2017-06-28 | 2017-06-28 | Method for manufacturing retardation film, circular polarizing plate, and retardation film |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022018777A Division JP2022051908A (en) | 2020-09-08 | 2022-02-09 | Retardation film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020197753A JP2020197753A (en) | 2020-12-10 |
| JP7240365B2 true JP7240365B2 (en) | 2023-03-15 |
Family
ID=73649141
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020150560A Active JP7240365B2 (en) | 2020-09-08 | 2020-09-08 | circular polarizer |
| JP2022018777A Pending JP2022051908A (en) | 2020-09-08 | 2022-02-09 | Retardation film |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022018777A Pending JP2022051908A (en) | 2020-09-08 | 2022-02-09 | Retardation film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP7240365B2 (en) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010250298A (en) | 2009-03-23 | 2010-11-04 | Fujifilm Corp | Cellulose acylate film and method for producing the same, retardation film, polarizer and liquid crystal display device |
| JP2012181536A (en) | 2005-06-10 | 2012-09-20 | Fujifilm Corp | Cellulose acylate film, polarizing plate, phase difference film, optical compensation film, antireflection film, and liquid crystal display device |
| JP2015127830A (en) | 2015-03-20 | 2015-07-09 | 日東電工株式会社 | Retardation film |
| WO2016060144A1 (en) | 2014-10-17 | 2016-04-21 | コニカミノルタ株式会社 | Polymer composition, optical film, circularly polarizing plate, and display device |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003262854A (en) * | 2002-03-11 | 2003-09-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Plastic substrate and liquid crystal display device |
| JP5528606B2 (en) * | 2012-06-21 | 2014-06-25 | 日東電工株式会社 | Polarizing plate and organic EL panel |
-
2020
- 2020-09-08 JP JP2020150560A patent/JP7240365B2/en active Active
-
2022
- 2022-02-09 JP JP2022018777A patent/JP2022051908A/en active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012181536A (en) | 2005-06-10 | 2012-09-20 | Fujifilm Corp | Cellulose acylate film, polarizing plate, phase difference film, optical compensation film, antireflection film, and liquid crystal display device |
| JP2010250298A (en) | 2009-03-23 | 2010-11-04 | Fujifilm Corp | Cellulose acylate film and method for producing the same, retardation film, polarizer and liquid crystal display device |
| WO2016060144A1 (en) | 2014-10-17 | 2016-04-21 | コニカミノルタ株式会社 | Polymer composition, optical film, circularly polarizing plate, and display device |
| JP2015127830A (en) | 2015-03-20 | 2015-07-09 | 日東電工株式会社 | Retardation film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2020197753A (en) | 2020-12-10 |
| JP2022051908A (en) | 2022-04-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2013191152A1 (en) | Polarizing plate and organic el panel | |
| JP7355583B2 (en) | Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same | |
| JP2019061291A (en) | Polarizing plate | |
| TWI757471B (en) | Retardation film, circular polarizing plate and method for producing retardation film | |
| JP2020064278A (en) | Polarizing plate with phase difference layer and image display device using the same | |
| JP7355582B2 (en) | Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same | |
| JP2020064277A (en) | Polarizing plate with phase difference layer and image display device using the same | |
| JP7370177B2 (en) | Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same | |
| JP2020064279A (en) | Polarizing plate with phase difference layer and image display device using the same | |
| JP2020064274A (en) | Polarizing plate with phase difference layer and image display device using the same | |
| JP7240365B2 (en) | circular polarizer | |
| JP7348799B2 (en) | Manufacturing method of polarizing plate with retardation layer | |
| WO2020080184A1 (en) | Polarizing plate having phase difference layer and image display device using same | |
| JP2020064276A (en) | Polarizing plate with phase difference layer and image display device using the same | |
| JP7355584B2 (en) | Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same | |
| WO2023218822A1 (en) | Method for producing polarizing film | |
| WO2022244301A1 (en) | Circular polarizing plate and image display device using same | |
| WO2023218821A1 (en) | Method for producing polarizing film | |
| JP7355587B2 (en) | Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same | |
| JP7355585B2 (en) | Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same | |
| JP7355586B2 (en) | Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same | |
| WO2023176367A1 (en) | Lens part, laminated body, display body, display body production method, and display method | |
| WO2023218820A1 (en) | Method for producing polarizing film | |
| WO2020080188A1 (en) | Polarizing plate with retardation layer and image display device using same | |
| WO2020080187A1 (en) | Polarizing plate with retardation layer and image display device using same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200908 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210803 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210924 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20211130 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220209 |
|
| C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20220209 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20220218 |
|
| C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20220222 |
|
| A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20220422 |
|
| C211 | Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C211 Effective date: 20220426 |
|
| C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20220920 |
|
| C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20221011 |
|
| C13 | Notice of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13 Effective date: 20221101 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221219 |
|
| C23 | Notice of termination of proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23 Effective date: 20230131 |
|
| C03 | Trial/appeal decision taken |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03 Effective date: 20230228 |
|
| C30A | Notification sent |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012 Effective date: 20230228 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230303 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7240365 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |