JP7237616B2 - インクジェット装置、およびそれを用いた機能素子の製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 25
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 100
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 80
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 60
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 38
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 27
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 20
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 11
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 11
- 239000003595 mist Substances 0.000 claims description 5
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 105
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 40
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 16
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- -1 polyphenylenevinylene Polymers 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 4
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 2
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Chemical class 0.000 description 1
- 239000002184 metal Chemical class 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J25/00—Actions or mechanisms not otherwise provided for
- B41J25/001—Mechanisms for bodily moving print heads or carriages parallel to the paper surface
- B41J25/006—Mechanisms for bodily moving print heads or carriages parallel to the paper surface for oscillating, e.g. page-width print heads provided with counter-balancing means or shock absorbers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/165—Prevention or detection of nozzle clogging, e.g. cleaning, capping or moistening for nozzles
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
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- B41J2/16517—Cleaning of print head nozzles
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
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Description
そこで、吐出特性の変化を防止するために、ノズルの乾燥を防止する方法が提案されている。
インクジェットヘッドに配されたノズルは、塗布領域内では機能素子の配列に従った吐出パターンで繰返しインクを吐出してゆくが、走査切替えタイミングすなわち領域107を移動中は、インクの吐出を停止しているためノズルが乾燥しやすい。領域107を移動中にノズルが乾燥すると、例えば次の列の最初のうちはインクの吐出特性が不安定になり、機能素子の特性に影響が生じやすい。そのため、基体100の縁に近い位置に配置された機能素子が、所定の特性を達成しない場合が生じ得る。
以下、図面を参照して、本発明の第一実施形態のインクジェット装置、およびそれを用いた機能素子の製造方法について説明する。
図1は、第一実施形態のインクジェット装置1を側面視で見た模式的な側面図であり、図中、11は底板、12は天板、13は4周を囲む側板であり、底板11、天板12、側板13は、インクジェット装置1の外装カバーを構成している。尚、図1においては、紙面手前側の側板13は、装置内部を見やすくするために除外して示している。
図2は、本実施形態のインクジェット装置1を上方向から平面視した模式的な平面図である。図2においては、装置内部を見やすくするために、天板12を除外して示している。
6はインクジェットヘッドで、インクジェットヘッド6には基体表面5と対向する向きにノズル7が配置されている。図示の便宜上、ノズル7は2×2の4ヘッドのみ示しているが、ノズル7の数や配置はこれに限られるものではない。
溶媒蒸気供給部16は、インクジェットヘッド6のノズル7から吐出されるインクの溶媒に含まれる成分と同一材料の蒸気を、周辺の雰囲気に供給する。ここで、インクの溶媒に含まれる成分と同一材料の蒸気とは、例えばインクが複数種類の溶媒を含んでいるときに、そのうちの全部または一部の種類の材料の蒸気のことをいう。
本実施形態の装置では、インクの溶媒に含まれる成分と同一材料の液体を、例えばスポンジのような多孔質体や繊維の集合体のように表面積の大きな部材に浸み込ませて配置することにより、周辺の空間の蒸気濃度を高めることができる。塗布領域の外側、すなわち図11の領域107においてインクジェットヘッドが走査を切替える際に通過する空間に、溶媒蒸気供給部16を用いてインクの溶媒に含まれる成分の蒸気をあらかじめ供給しておくことが可能である。
H1<H2<H3
制御部14は、インクジェット装置1の動作を制御するためのコンピュータで、内部には、CPU、ROM、RAM、I/Oポート等を備えている。
次に、基板41上に図4(b)に断面構造を示す構造体を形成する。すなわち、基板41上に接続電極46とTFT47を設け、その上に絶縁層42を形成する。そして、絶縁層42の中央部にスルーホールをあけて金属材料を充填し、プラグ43を形成する。さらに、CMP等の平坦化処理を行い、絶縁層42およびプラグ43の上面を平坦化させる。
次に、図4(d)に示すように開口部を有するマスク45を例えばフォトリソグラフィーを用いて絶縁層44の上に配置する。そして、例えばリアクティブイオンエッチング48により、絶縁層44をエッチングしてプラグ43が露出した開口部を形成する。
以上により、基体4が準備できたら、基体4をインクジェット装置1の基台3上の所定位置にセットする。
必要に応じた数の液滴を付与した後、乾燥させ、一旦インクジェット装置1から基体4を取り外して100℃~200℃の適宜の温度で焼成し、図5(b)に示すように下部電極52を形成する。
以上により、特性のばらつきが少ない多数の有機EL素子が配列された有機EL装置を、簡易に製造することができる。
図6を参照しながら、第二実施形態のインクジェット装置61について説明する。図6は、第二実施形態のインクジェット装置61を側面方向から見た模式的な側面図であり、図中、11は底板、12は天板、13は4周を囲む側板であり、底板11、天板12、側板13は、インクジェット装置61の外装カバーを構成している。尚、図6においては、紙面手前側の側板13は、装置内部を見やすくするために除外して示している。
図中の底板11、天板12、側板13、インクジェットヘッド6、ノズル7、雰囲気センサ8、主走査ガイドレール9、制御部14、溶媒蒸気供給部16、タンク20、液体流路21、バルブ22等の機能は、第一実施形態と同様なので、説明を省略する。また、図6では図面を見やすくするため、副走査器24および副走査ガイドレール10の図示を省略している。
H4<H5<H6
また、不図示ではあるが、本実施形態においても第一実施形態と同様に、副走査方向(Y方向)に沿って基体4を挟むように、両側に溶媒プールを設けている。
図7及び図8を参照しながら、第三実施形態のインクジェット装置71について説明する。図7は、第三実施形態のインクジェット装置71を側面方向から見た模式的な側面図であり、図中、11は底板、12は天板、13は4周を囲む側板であり、底板11、天板12、側板13は、インクジェット装置1の外装カバーを構成している。尚、図7においては、紙面手前側の側板13は、装置内部を見やすくするために除外して示している。
図8は、本実施形態のインクジェット装置71を上面方向から見た模式的な平面図である。図8においては、装置内部を見やすくするために、天板12や上壁72A等を除外して示している。
尚、図中の底板11、天板12、側板13、インクジェットヘッド6、雰囲気センサ8、主走査ガイドレール9、制御部14、溶媒蒸気供給部16、溶媒プール17、タンク20、液体流路21等の機能は、第一実施形態と同様なので、説明を省略する。尚、図7では図面を見やすくするため、図7では副走査器24および副走査ガイドレール10の図示を省略し、図8では主走査および副走査の走査機構を省略している。
図12、図13を参照しながら、第四実施形態のインクジェット装置81について説明する。図12は、第四実施形態のインクジェット装置81を側面方向から見た模式的な側面図であり、図中、11は底板、12は天板、13は4周を囲む側板であり、底板11、天板12、側板13は、インクジェット装置81の外装カバーを構成している。尚、図12においては、紙面手前側の側板13は、装置内部を見やすくするために除外して示している。
図中のインクジェットヘッド6、ノズル7、雰囲気センサ8、主走査ガイドレール9、制御部14、溶媒蒸気供給部16、タンク20、液体流路21、バルブ22等の機能は、第一実施形態と同様なので、説明を省略する。また、図12では図面を見やすくするため、副走査器24および副走査ガイドレール10の図示を省略している。
また、図13は、本実施形態のインクジェット装置81を上方向から平面視した模式的な平面図である。図13においては、装置内部を見やすくするために、天板12を除外して示している。
ただし、予め使用するインクの溶媒蒸気の密度が決まっている場合には、溶媒蒸気を滞留させるのに必要な高さ範囲だけを包囲するように包囲部としての外装カバーを設けてもよい。
溶媒蒸気供給部16から供給される蒸気を滞留させるのに外装カバーを用いる本実施形態では、包囲する体積が他の実施形態に比較して大きくなるため、溶媒蒸気供給部16の蒸気供給力を十分に大きく設定しておく。
本発明の実施形態は、上述した第一実施形態~第四実施形態に限られるものではなく、適宜変更したり、組み合わせたりすることが可能である。
例えば、上記実施形態では基体を基台に固定し、インクジェットヘッドをXY両方向に移動させて走査したが、走査機構はこれに限らない。要は、基体とインクジェットヘッドの相対位置を制御して相対的に走査が可能ならばよいので、例えば主走査方向はインクジェットヘッドを移動させ、副走査方向は基体を移動させて走査する機構であってもよい。また、走査方法は図11に示した方法には限らず、例えば往路と復路で隣接した列を走査するのではなく、いわゆるインターレースのように隣接列を飛び越して走査してもよい。
図1乃至図3に示したインクジェット装置1を用いて、図5(c)のプロセスすなわちバンクで囲まれた領域に有機EL素子の発光材料を含むインクを付与する工程を実施した。予め、図4(e)に示す構造体をガラスを材料とする基板41の上に作成し、基体4としてインクジェット装置1にセットした。インクジェットヘッドは、PZT素子の変位によってインクを押し出す圧電式のヘッドを用い、ノズル数は80とした。
この間に回復も雰囲気制御も行わない場合には、インクミストやゴミのノズル面への付着、ノズル開口部におけるインク成分の固化、あるいは経時変化によって吐出状態が不安定化し、着弾位置がずれていく。
X方向は吐出のタイミング補正によって位置を制御可能である。これに対しY方向はタイミング補正によって着弾位置を調整することができない。このため着弾バジェットをY方向±10μmに対しX方向は±5μmに設定した。
事前に計測した着弾画像から、上記の手法で各ノズルの着弾位置を調整し、発光部の描画を行った。
本実施例における着弾の結果を表1に示す。
これに対し、雰囲気中のキシレン濃度を5000ppm±10%に調整して描画を行った場合、回復を行わなくても、全体のXとYの二乗平均は11.0となり、規定値に収まった。これらの素子による発光強度ばらつきは0.7%にとどまり、雰囲気のキシレン濃度を制御することで吐出及び着弾位置が安定化することが確認された。
クリーニング部18には、ワイピング部材として発泡ポリエチレンのスポンジを円筒状に加工したものを用いた。ワイピング部材にはキシレンを含有させておき、湿潤な状態でヘッドのノズル面に当接させるようにワイピング部材を移動させた。ワイピングはヘッドのスキャン動作を利用して行った。
実施例2の結果を表2に示す。
Claims (19)
- 機能素子の材料を含むインクを基体表面に塗布するインクジェット装置であって、
前記インクを吐出するノズルを有するインクジェットヘッドと、
前記インクジェットヘッドと前記基体表面の相対位置を制御する走査機構と、
前記基体表面を平面視する方向で視たとき、前記インクジェットヘッドが前記走査機構により移動する範囲を囲み、前記基体表面を側面視する方向で視たとき、前記ノズルが配置された高さを含む所定の範囲を囲む包囲部と、
前記基体表面を平面視する方向で視たとき、前記包囲部に囲まれた範囲へ液体を供給する液体供給系と、
前記基体表面を平面視する方向で視たとき、前記包囲部に囲まれた範囲に設けられ、前記液体供給系から供給された液体の蒸気を前記包囲部が囲む範囲に供給する蒸気供給部と、を有する、
ことを特徴とするインクジェット装置。 - 前記包囲部は、前記基体表面を平面視する方向で視たとき、前記インクジェットヘッドが前記走査機構により移動する範囲と、前記インクジェット装置の外装カバーとの間に設けられている、
ことを特徴とする請求項1に記載のインクジェット装置。 - 前記液体供給系は前記液体を貯留するタンクを含み、前記インクジェット装置の外装カバーと前記インクジェットヘッドとの間に前記タンクが設けられている、
ことを特徴とする請求項1または2に記載のインクジェット装置。 - 前記蒸気の密度は空気の密度よりも大きく、かつ、前記包囲部は、前記基体表面を側面視する方向で視たとき、前記インクジェットヘッドのノズル面が配置された高さよりも低い範囲を囲んでいる、
または、
前記蒸気の密度は空気の密度よりも小さく、かつ、前記包囲部は、前記基体表面を側面視する方向で視たとき、前記インクジェットヘッドのノズル面が配置された高さよりも高い範囲を囲んでいる、
ことを特徴とする請求項1乃至3の中のいずれか1項に記載のインクジェット装置。 - 前記蒸気の密度が空気の密度よりも大きく、前記基体表面を前記インクジェットヘッドよりも鉛直方向の下側に配置し、前記インクジェットヘッドは鉛直方向下側に向けてインクを吐出する、
ことを特徴とする請求項1乃至3の中のいずれか1項に記載のインクジェット装置。 - 前記蒸気の密度が空気の密度よりも小さく、前記基体表面を前記インクジェットヘッドよりも鉛直方向の上側に配置し、前記インクジェットヘッドは鉛直方向上側に向けてインクを吐出する、
ことを特徴とする請求項1乃至3の中のいずれか1項に記載のインクジェット装置。 - 前記基体がセットされる基台を有し、
前記蒸気供給部は、前記基体表面を平面視する方向で視たとき、前記基台と前記包囲部の間、前記基体表面の外側または前記基体表面の周囲に配置されている、
ことを特徴とする請求項1乃至6の中のいずれか1項に記載のインクジェット装置。 - 前記蒸気供給部は、前記液体で湿潤した多孔質体を有する、
ことを特徴とする請求項1乃至7の中のいずれか1項に記載のインクジェット装置。 - 前記蒸気供給部は、前記液体を貯留するプールを有する、
ことを特徴とする請求項1乃至7の中のいずれか1項に記載のインクジェット装置。 - 前記蒸気供給部は、前記液体のミストを噴霧する噴霧器を有する、
ことを特徴とする請求項1乃至7の中のいずれか1項に記載のインクジェット装置。 - 前記液体は、前記インクに含まれる溶媒の成分と同一材料を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至10の中のいずれか1項に記載のインクジェット装置。 - 前記走査機構は、前記インクジェットヘッドと前記基体表面とを主走査方向に相対的に往復移動させ、前記往復移動の往路と復路の切り替え時に、前記インクジェットヘッドと前記基体表面とが副走査方向に相対的に移動させる、
ことを特徴とする請求項1乃至11の中のいずれか1項に記載のインクジェット装置。 - 前記基体表面を平面視する方向で視たとき、前記包囲部で囲まれた範囲に、前記インクジェットヘッドのノズル面をクリーニングするクリーニング部材が配置されている、
ことを特徴とする請求項1乃至12の中のいずれか1項に記載のインクジェット装置。 - 前記基体表面を平面視する方向で視たとき、前記包囲部で囲まれた範囲に、前記蒸気の濃度を計測する計測手段を有し、
前記計測手段の計測結果に応じて、前記蒸気供給部が供給する蒸気の量を制御する、
ことを特徴とする請求項1乃至13の中のいずれか1項に記載のインクジェット装置。 - 前記計測手段は、前記走査機構により移動する前記インクジェットヘッドに連れ動くように前記走査機構に支持されている、
ことを特徴とする請求項14に記載のインクジェット装置。 - 前記計測手段は、前記基体表面を平面視する方向で視たとき、前記基体表面の外側で、かつ前記包囲部に囲まれた範囲に設けられている、
ことを特徴とする請求項14に記載のインクジェット装置。 - 前記計測手段は、前記インクジェットヘッドのノズル面の高さにおける雰囲気中の前記蒸気の濃度を計測する、
ことを特徴とする請求項14乃至16の中のいずれか1項にインクジェット装置。 - 請求項1乃至17の中のいずれか1項に記載のインクジェット装置により、前記基体表面に機能素子の材料を含むインクを塗布する、
ことを特徴とする機能素子の製造方法。 - 前記インクは、有機EL素子の発光層または電子輸送層または電子注入層または正孔輸送層または正孔注入層または電極の材料を含むインクである、
ことを特徴とする請求項18に記載の機能素子の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2019/006255 WO2019167741A1 (ja) | 2018-02-28 | 2019-02-20 | インクジェット装置、およびそれを用いた機能素子の製造方法 |
US17/002,972 US11446941B2 (en) | 2018-02-28 | 2020-08-26 | Inkjet apparatus and method for manufacturing functional element using the same |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018035078 | 2018-02-28 | ||
JP2018035078 | 2018-02-28 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019150817A JP2019150817A (ja) | 2019-09-12 |
JP2019150817A5 JP2019150817A5 (ja) | 2022-02-08 |
JP7237616B2 true JP7237616B2 (ja) | 2023-03-13 |
Family
ID=67947653
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019017046A Active JP7237616B2 (ja) | 2018-02-28 | 2019-02-01 | インクジェット装置、およびそれを用いた機能素子の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11446941B2 (ja) |
JP (1) | JP7237616B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112588536B (zh) * | 2020-12-05 | 2022-08-23 | 九江福莱克斯有限公司 | 一种涂覆机的烘干机构 |
TW202348448A (zh) * | 2022-02-22 | 2023-12-16 | 美商凱特伊夫公司 | 列印頭管理配件 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003145783A (ja) | 2001-11-16 | 2003-05-21 | Hitachi Printing Solutions Ltd | インクジェット装置 |
JP2004000942A (ja) | 2003-04-04 | 2004-01-08 | Seiko Epson Corp | 描画装置、有機el装置の製造方法および製造装置、並びに有機el装置および電子機器 |
JP2006260778A (ja) | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Seiko Epson Corp | 基板処理装置 |
WO2009051036A1 (ja) | 2007-10-17 | 2009-04-23 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 薄膜形成方法及び有機エレクトロニクス素子 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6130854Y2 (ja) * | 1979-11-15 | 1986-09-09 | ||
JPS6471760A (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-16 | Canon Kk | Liquid jet recorder |
JP5073509B2 (ja) * | 2008-01-17 | 2012-11-14 | 株式会社リコー | 画像形成装置、着弾位置ずれ補正方法 |
US8322808B2 (en) * | 2008-08-21 | 2012-12-04 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Liquid droplet jetting apparatus |
JP2016215096A (ja) | 2015-05-18 | 2016-12-22 | 東レエンジニアリング株式会社 | インク乾燥防止装置 |
-
2019
- 2019-02-01 JP JP2019017046A patent/JP7237616B2/ja active Active
-
2020
- 2020-08-26 US US17/002,972 patent/US11446941B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003145783A (ja) | 2001-11-16 | 2003-05-21 | Hitachi Printing Solutions Ltd | インクジェット装置 |
JP2004000942A (ja) | 2003-04-04 | 2004-01-08 | Seiko Epson Corp | 描画装置、有機el装置の製造方法および製造装置、並びに有機el装置および電子機器 |
JP2006260778A (ja) | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Seiko Epson Corp | 基板処理装置 |
WO2009051036A1 (ja) | 2007-10-17 | 2009-04-23 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 薄膜形成方法及び有機エレクトロニクス素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200391527A1 (en) | 2020-12-17 |
JP2019150817A (ja) | 2019-09-12 |
US11446941B2 (en) | 2022-09-20 |
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